JPH0331224A - 弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物 - Google Patents
弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物Info
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- JPH0331224A JPH0331224A JP1163828A JP16382889A JPH0331224A JP H0331224 A JPH0331224 A JP H0331224A JP 1163828 A JP1163828 A JP 1163828A JP 16382889 A JP16382889 A JP 16382889A JP H0331224 A JPH0331224 A JP H0331224A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、代替フロンとして使用できるとともに溶剤等
として優れた特性を有する新規な弗素化炭化水素系共沸
及び擬共沸組成物に関するものである。
として優れた特性を有する新規な弗素化炭化水素系共沸
及び擬共沸組成物に関するものである。
[従来の技術]
弗素化炭化水素系化合物(以下単にフロンという)は、
毒性が少なく化学的に安定なものが多(、標準沸点の異
なる各種フロンが入手できることから、これらの特性を
活かして溶剤、発泡剤、プロペラントあるいは冷媒等と
して1、1.2− トリクロロ−1,2,2−)リフル
オロエタン(R113)が、発泡剤としてトリクロロモ
ノフルオロメタン(R11)が、プロペラントや冷媒と
してジクロロジフルオロメタン(R12)が使われてい
る。
毒性が少なく化学的に安定なものが多(、標準沸点の異
なる各種フロンが入手できることから、これらの特性を
活かして溶剤、発泡剤、プロペラントあるいは冷媒等と
して1、1.2− トリクロロ−1,2,2−)リフル
オロエタン(R113)が、発泡剤としてトリクロロモ
ノフルオロメタン(R11)が、プロペラントや冷媒と
してジクロロジフルオロメタン(R12)が使われてい
る。
[発明が解決しようとする課題]
化学的に特に安定なR11、R12、R113は対流圏
内での寿命が長く、拡散して成層圏に達し、ここで太陽
光線により分解して発生する塩素ラジカルがオゾンと連
鎖反応を起こし、オゾン層を破壊するとのことから、こ
れら従来のフロンの使用規制が実施されることとなった
。このため、これらの従来のフロンに代わり、オゾン層
を破壊しに(い代替フロンの探索が活発に行なわれてい
る。
内での寿命が長く、拡散して成層圏に達し、ここで太陽
光線により分解して発生する塩素ラジカルがオゾンと連
鎖反応を起こし、オゾン層を破壊するとのことから、こ
れら従来のフロンの使用規制が実施されることとなった
。このため、これらの従来のフロンに代わり、オゾン層
を破壊しに(い代替フロンの探索が活発に行なわれてい
る。
本発明は、従来のフロンの使用量を低減し、且つ該フロ
ンが有している優れた特性を満足しながら代替フロンと
して使用できる新規なフロン組成物を提供することを目
的とするものである。
ンが有している優れた特性を満足しながら代替フロンと
して使用できる新規なフロン組成物を提供することを目
的とするものである。
[課題を解決するための手段1
本発明は、1.2−ジクロロ−1−フルオロエタン(R
141,沸点75.7℃)、及びトリクロロエチレン(
沸点87.2℃)とからなる弗素化炭化水素系共沸及び
擬共沸組成物に関するものである。
141,沸点75.7℃)、及びトリクロロエチレン(
沸点87.2℃)とからなる弗素化炭化水素系共沸及び
擬共沸組成物に関するものである。
本発明の組成物は共沸組成が存在し、特に洗浄溶剤とし
て従来のR113単体より洗浄力が高いため、R113
代替として極めて有用なものである。
て従来のR113単体より洗浄力が高いため、R113
代替として極めて有用なものである。
更に、リサイクルしても組成の変動が少ないこと、又、
従来の単一フロンと同じ使い方ができ、従来技術の大幅
な変更を要しないこと等の利点がある。
従来の単一フロンと同じ使い方ができ、従来技術の大幅
な変更を要しないこと等の利点がある。
本発明の組成物の混合比はR141が90〜99.9重
量%、及びトリクロロエチレンが0.1−10重量%の
擬共沸組成であり、好ましくはR141が99.4重量
%、及びトリクロロエチレンが0.6重量%である共沸
組成である。
量%、及びトリクロロエチレンが0.1−10重量%の
擬共沸組成であり、好ましくはR141が99.4重量
%、及びトリクロロエチレンが0.6重量%である共沸
組成である。
本発明の組成物には、用途に応じてその他の成分を更に
添加混合することができる。例えば、溶剤としての用途
においては、ペンタン。
添加混合することができる。例えば、溶剤としての用途
においては、ペンタン。
インペンタン、ヘキサン、イソヘキサン、ネオヘキサン
、ヘプタン、イソへブタン、2,3−ジメチルブタン、
シクロペンクン等の炭化水素類、ニトロメタン、ニトロ
エタン、ニトロプロパン等のニトロアルカン類、ジエチ
ルアミン、トリエチルアミン、イソプロピルアミン、ブ
チルアミン、イソブチルアミン等のアミン類、メタノー
ル、エタノール、n−プロピルアルコール、l−プロピ
ルアルコール、n−ブチルアルコール、i−ブチルアル
コール、S−ブチルアルコール、t−ブチルアルコール
等のアルコール類、メチルセロソルブ、テトラヒドロフ
ラン、1.4−ジオキサン等のエーテル類、アセトン、
メチルエチルケトン、メチルブチルケトン等のケトン類
、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル
類、ジクロロメタン。
、ヘプタン、イソへブタン、2,3−ジメチルブタン、
シクロペンクン等の炭化水素類、ニトロメタン、ニトロ
エタン、ニトロプロパン等のニトロアルカン類、ジエチ
ルアミン、トリエチルアミン、イソプロピルアミン、ブ
チルアミン、イソブチルアミン等のアミン類、メタノー
ル、エタノール、n−プロピルアルコール、l−プロピ
ルアルコール、n−ブチルアルコール、i−ブチルアル
コール、S−ブチルアルコール、t−ブチルアルコール
等のアルコール類、メチルセロソルブ、テトラヒドロフ
ラン、1.4−ジオキサン等のエーテル類、アセトン、
メチルエチルケトン、メチルブチルケトン等のケトン類
、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル
類、ジクロロメタン。
trans−1+ 2−ジクロロエチレン、 cis−
1,2−ジクロロエチレン、2−ブロモプロパン等のへ
ロゲン化炭化水素類、その他、1.1−ジクロロ−2,
2,2−トリフルオロエタン(R123)等の本発明以
外のフロン類等を適宜添加することができる。
1,2−ジクロロエチレン、2−ブロモプロパン等のへ
ロゲン化炭化水素類、その他、1.1−ジクロロ−2,
2,2−トリフルオロエタン(R123)等の本発明以
外のフロン類等を適宜添加することができる。
本発明の弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物は、従
来のフロンと同様、熱媒体や発泡剤等の各種用途に使用
でき、特に溶剤として用いた場合、従来のR113より
高い溶解力を有するため好適である。
来のフロンと同様、熱媒体や発泡剤等の各種用途に使用
でき、特に溶剤として用いた場合、従来のR113より
高い溶解力を有するため好適である。
溶剤の具体的な用途としては、フラックス。
グリース、油、ワックス、インキ等の除去剤。
塗料用溶剤、抽出剤、ガラス、セラミックス。
プラスチック、ゴム、金属製各種物品、特にIC部品、
電気機器、精密機械、光学レンズ等の洗浄剤や水切り剤
等を挙げることができる。
電気機器、精密機械、光学レンズ等の洗浄剤や水切り剤
等を挙げることができる。
洗浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレー揺動、超音
波洗浄、蒸気洗浄等を採用すればよい。
波洗浄、蒸気洗浄等を採用すればよい。
[実施例]
以下に本発明の実施例を示す。
実施例1
下記の組成からなる溶剤混合物1000 gを蒸留フラ
スコに入れ、理論段数20段の精留塔を用い大気圧下で
蒸留を行なった。
スコに入れ、理論段数20段の精留塔を用い大気圧下で
蒸留を行なった。
(組成) (重量%)R14199,
0 トリクロロエチレン 1.0その結果、留
出温度76.4℃にて200gの留分な得た。このもの
をガスクロマトグラフで測定した結果、次の組成であっ
た。
0 トリクロロエチレン 1.0その結果、留
出温度76.4℃にて200gの留分な得た。このもの
をガスクロマトグラフで測定した結果、次の組成であっ
た。
(組成) (重量%)R14199
,4 トリ、クロロエチレン 0.6実施例2 本発明の組成物を用いてフラックスの洗浄試験を行なっ
た。プリント基板全面にフラックス(タムラAL−4.
タムラ製作所製)を塗布し、200℃の電気炉で2分間
焼成後、本発明の組成物に5分間浸漬した。比較例とし
てR113についても同様の試験を行なった。
,4 トリ、クロロエチレン 0.6実施例2 本発明の組成物を用いてフラックスの洗浄試験を行なっ
た。プリント基板全面にフラックス(タムラAL−4.
タムラ製作所製)を塗布し、200℃の電気炉で2分間
焼成後、本発明の組成物に5分間浸漬した。比較例とし
てR113についても同様の試験を行なった。
本発明の組成物の混合比及びフラックスの除去の度合い
を第1表に示す。
を第1表に示す。
第1表
実施例3
本発明の組成物を用いて機械油の洗浄試験を行なった。
5O3−304のテストピース(25mmX 30mm
X 2n+m厚)を機械油(CQ−30,日本石油■製
)中に浸漬した後、本発明の組成物中に5分間浸漬した
。比較例としてR113についても同様の試験を行なっ
た。
X 2n+m厚)を機械油(CQ−30,日本石油■製
)中に浸漬した後、本発明の組成物中に5分間浸漬した
。比較例としてR113についても同様の試験を行なっ
た。
本発明の組成物の混合比及び機械油の除去の度合いを第
2表に示す。
2表に示す。
第2表
0:良好に除去できる Q:はぼ良好△:微量残存
×:かなり残存′o:良好に除去できる Δ:微量残存 O:はぼ良好 ×:かなり残存 [発明の効果] 本発明の弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物は、従
来のフロンが有している優れた特性を満足しながら、代
替フロンとして使用できるとともに、従来のフロンと同
様の使い方ができるため、従来技術の大幅な変更を要し
ない等の利点がある。又、溶剤としてよく使われている
R113よりもフラックスや油等の溶解除去性に優れる
ためR113に代わる洗浄溶剤として最適である。
×:かなり残存′o:良好に除去できる Δ:微量残存 O:はぼ良好 ×:かなり残存 [発明の効果] 本発明の弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物は、従
来のフロンが有している優れた特性を満足しながら、代
替フロンとして使用できるとともに、従来のフロンと同
様の使い方ができるため、従来技術の大幅な変更を要し
ない等の利点がある。又、溶剤としてよく使われている
R113よりもフラックスや油等の溶解除去性に優れる
ためR113に代わる洗浄溶剤として最適である。
Claims (4)
- (1)1,2−ジクロロ−1−フルオロエタンとトリク
ロロエチレンからなる弗素化炭化水素系共沸組成物。 - (2)1,2−ジクロロ−1−フルオロエタン99.4
重量%,及びトリクロロエチレン0.6重量%からなる
請求項1に記載の組成物。 - (3)1,2−ジクロロ−1−フルオロエタンとトリク
ロロエチレンからなる弗素化炭化水素系擬共沸組成物。 - (4)1,2−ジクロロ−1−フルオロエタン90〜9
9.9重量%,及びトリクロロエチレン0.1〜10重
量%からなる請求項3に記載の組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1163828A JPH0331224A (ja) | 1989-06-28 | 1989-06-28 | 弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1163828A JPH0331224A (ja) | 1989-06-28 | 1989-06-28 | 弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0331224A true JPH0331224A (ja) | 1991-02-12 |
Family
ID=15781517
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1163828A Pending JPH0331224A (ja) | 1989-06-28 | 1989-06-28 | 弗素化炭化水素系共沸及び擬共沸組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0331224A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5514221A (en) * | 1993-04-15 | 1996-05-07 | Elf Atochem North America, Inc. | Cold cleaning process |
US5552080A (en) * | 1993-04-15 | 1996-09-03 | Elf Atochem North America, Inc. | Cold cleaning solvents |
US6596399B2 (en) * | 2000-12-04 | 2003-07-22 | Guardian Industries Corp. | UV absorbing/reflecting silver oxide layer, and method of making same |
-
1989
- 1989-06-28 JP JP1163828A patent/JPH0331224A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5514221A (en) * | 1993-04-15 | 1996-05-07 | Elf Atochem North America, Inc. | Cold cleaning process |
US5552080A (en) * | 1993-04-15 | 1996-09-03 | Elf Atochem North America, Inc. | Cold cleaning solvents |
US6596399B2 (en) * | 2000-12-04 | 2003-07-22 | Guardian Industries Corp. | UV absorbing/reflecting silver oxide layer, and method of making same |
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