JPH0374338A - 弗素化炭化水素系共沸組成物 - Google Patents

弗素化炭化水素系共沸組成物

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JPH0374338A
JPH0374338A JP1207843A JP20784389A JPH0374338A JP H0374338 A JPH0374338 A JP H0374338A JP 1207843 A JP1207843 A JP 1207843A JP 20784389 A JP20784389 A JP 20784389A JP H0374338 A JPH0374338 A JP H0374338A
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浅野　昭雄
Toru Kamimura
徹 上村
Naohiro Watanabe
渡辺　直洋
Tateo Kitamura
健郎 北村
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、代替フロンとして使用できるとともに溶剤等
として優れた特性を有する新規な弗素化炭化水素系共沸
組成物に関するものである。
［従来の技術］ 弗素化炭化水素系化合物（以下単にフロンという）は、
毒性が少なく化学的に安定なものが多く、標準沸点の異
なる各種フロンが入手できることから、これらの特性を
活かして溶剤、発泡剤、プロペラントあるいは冷媒等と
して１．１．２−１−リクロロー１．２．２−トリフル
オロエタン（Ｒ１１３）が、発泡剤としてトリクロロモ
ノフルオロメタン（Ｒ１１）が、プロペラントや冷媒と
してジクロロジフルオロメタン（Ｒ１２）が使われてい
る。
［発明が解決しようとする課題］ 化学的に特に安定なＲ１１，Ｒ１２゜ Ｒ１１３は対流圏内での寿命が長く、拡散して成層圏に
達し、ここで太陽光線により分解して発生する塩素ラジ
カルがオゾンと連鎖反応を起こし、オゾン層を破壊する
との事から、これら従来のフロンの使用規制が実施され
ることとなった。このため、これらの従来のフロンに代
わり、オゾン層を破壊しにくい代替フロンの探索が活発
に行なわれている。
本発明は、従来のフロンの使用量を低減し、かつ該フロ
ンが有している優れた特性を満足しながら代替フロンと
して使用できる新規なフロン組成物を提供することを目
的とするものである。
［課題を解決するための手段］ 本発明は、１，３−ジクロロ−１，２，２，３，３−ペ
ンタフルオロプロパン（Ｒ２２５ｃｂ）、　及びエタノ
ールとからなる弗素化炭化水素系共沸組成物に関するも
のである。
本発明の組成物は、特に洗浄溶剤として従来のＲ１１３
よりも洗浄力が大きいため、Ｒ１１３代替としてきわめ
て有用なものである。
更に、リザイクルしても組成変動が少ないこと、また従
来の単一フロンと同じ使い方ができ、従来技術の大幅な
変更を要しないこと等の利点を有している。
本発明の組成物は、Ｒ２２５ｃｂ９５．６重量％、及び
エタノール４．４重量％から成る共沸組成物である。本
共沸組成物の共沸組成比は、混合するＲ２２５ｃｂ、お
よびエタノールの純度や測定誤差等の影響により±０．
５重量％程度変動しつるものである。
本発明の組成物には、用途に応じてその他の成分を更に
添加混合することができる。例えば、溶剤としての用途
においては、ペンタン、インペンタン、ヘキサン、イソ
ヘキサン、ネオヘキサン、ヘプタン、インペンタン、２
，３−ジメチルブタン、シクロペンクン等の炭化水素類
、ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロパン等のニ
トロアルカン類、ジエチルアミン、トリエチルアミン、
イソプロピルアミン、ブチルアミン、イソブチルアミン
等のアミン類、メタノール、ｎ−プロピルアルコール、
ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｉブ
チルアルコール、Ｓ−ブチルアルコール。
ｔ−ブチルアルコール等のアルコール類、メチルセロソ
ルブ、テトラヒドロフラン、１．４−ジオキサン等のエ
ーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルブチ
ルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢
酸ブチル等のエステル類、ジクロロメタン、ｔｒａｎｓ
ｌ、２−ジクロロエチレン、ｃｉｓ−１，２−ジクロロ
エチレン、２−ブロモプロパン等のハロゲン化炭化水素
類、その他、１，１−ジクロロ−２゜２２−トリフルオ
ロエタン等の本発明以外のフロン類等を適宜添加するこ
とができる。
本発明の弗素化炭化水素系共沸組成物は、従来のフロン
と同様、熱媒体や発泡剤等の各種用途に使用でき、特に
溶剤として用いた場合、従来のＲ１１３より高い溶解力
を有するため好適である。
溶剤の具体的な用途としては、フラックス、グリース、
油、ワックス、インキ等の除去剤、塗料用溶剤、抽出剤
、ガラス、セラミックス、プラスデック、ゴム、金属製
各種部品、特にＩＣ部品、電気機器、精密機械、光学レ
ンズ等の洗浄剤や水切り剤等をあげることができる。
洗浄方法としては手拭き、浸漬、スプレー揺動、超音波
洗浄、蒸気洗浄等を採用すればよい。
［実施例］ 以下に本発明の実施例を示す。
実施例１ 下記の組成からなる溶剤組成物１０００ｇを蒸留フラス
コに入れ、理論段数２０段の精留塔を用い、大気圧下で
蒸留を行なった。
（組成）　　　　　　　　　（重量％）Ｒ２２５ｃｂ　
（沸点５６，１℃）９７エタノール　（沸点７８．３°
Ｃ）　　　　　３その結果、５３．８℃において留分２
００ｇを得た。このものをガスクロマトグラフで測定し
た結果、次の組成であった。
（組成） （重量％） Ｒ２２５ｃｂ　（沸点５６．１℃）９５．６エタノール
　（沸点７８．３℃）４．４実施例２ 本発明の組成物を用いてフラックスの洗浄試験を行なっ
た。プリント基板全面にフラックス（タムラＡＬ−４、
タムラ製作所製）を塗布し、２００℃の電気炉で２分間
焼成後、本発明の組成物に１分間浸漬した。比較例とし
てＦｌｌ　１３についても同様の試験を行なった。本発
明の組成物の混合比及びフラックスの除去の度合を第１
表に示す。
第１表 実施例３ 第２表に示す本発明の組成物を用いて機械油の洗浄試験
を行なった。
５ＵＳ３０４のテストピース（２５ｍｍ　Ｘ　３０ｍｍ
Ｘ　２ｍｍ厚）を機械油（ＣＱ−３０，日本石油（株）
製）中に浸漬した後、本発明の前記組成物中に５分間浸
漬した。比較例としてＲ１１３についても同様の試験を
行なった。機械油の除去の度合を第２表に示す。
第２表 ０；良好に除去できる、　○；はぼ良好△；微量残存、
　　　　　×；かなり残量０；良好に除去できる、　○
：はぼ良好△；微量残存、　　　　　　×：かなり残量
［発明の効果］ 本発明の弗素化炭化水素系共沸組成物は、従来のフロン
が有している優れた特性を満足しながら代替フロンとし
て使用できるとともに、リサイクルしても組成変動が小
さいため、従来の単一フロンと同等の使い方ができ、従
来技術の大幅な変更を要しない等の利点がある。また、
溶剤としてよく使われているＲ１１３よりもフラックス
や油等の溶解除去性に優れるためＲ１１３に替わる洗浄
溶剤どして最適である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、１，３−ジクロロ−１，２，２，３，３−ペンタフ
    ルオロプロパン及びエタノールとからなる弗素化炭化水
    素系共沸組成物。 ２、１，３−ジクロロ−１，２，２，３，３−ペンタフ
    ルオロプロパン９５．６重量％、及びエタノール４．４
    重量％からなる請求項１に記載の組成物。
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JPH04504735A (ja) * 1989-10-06 1992-08-20 アライド―シグナル・インコーポレーテッド ジクロロペンタフルオロプロパンと６個の炭素原子を含む炭化水素との共沸混合物様組成物

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JPH02286631A (ja) * 1989-04-26 1990-11-26 Asahi Glass Co Ltd 弗素化炭化水素系共沸様組成物

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