JPH03258734A - フッ素化塩素化炭化水素系混合溶剤組成物 - Google Patents

フッ素化塩素化炭化水素系混合溶剤組成物

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JPH03258734A
JPH03258734A JP5277190A JP5277190A JPH03258734A JP H03258734 A JPH03258734 A JP H03258734A JP 5277190 A JP5277190 A JP 5277190A JP 5277190 A JP5277190 A JP 5277190A JP H03258734 A JPH03258734 A JP H03258734A
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Tateo Kitamura
健郎 北村
Yoko Usami
宇佐見 陽子
Toru Kamimura
徹 上村
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、プリント基板、IC等の電子部品、精密機械
部品、ガラス基板等のフラックス洗浄や付着水除去等に
用いられる混合溶剤組成物に関するものである。
[従来の技術] フラックス洗浄や付着水除去等には、不燃性。
低毒性、安定性に優れる等の特徴を有する1、 1.2
トリクロロ−1,2,2−hリフルオロプロパン(以下
R113という)とアルコールとの混合溶剤組成物が広
く使用されている。さらに、R113は金属、プラスチ
ック、エラストマー等の基材を侵さず、各種の汚れを選
択的に溶解する特徴を有するため、金属、プラスチック
、エラストマー等からなる各種電子部品を実装したプリ
ント基板のフラックス洗浄には最適であった。
[発明が解決しようとする課題] 従来使用されていたR113は、種々の利点を有するに
もかかわらず、化学的に特に安定なため、対流圏内での
寿命が長く、拡散して成層圏に達し、ここで太陽光線に
より分解して発生する塩素ラジカルがオゾンと連鎖反応
を起こし、オゾン層を破壊するとのことから、その使用
規制が実施されることとなった。このため、従来のR1
13に替わり、オゾン層を破壊しにくい代替溶剤の探索
が活発に行なわれている。
本発明は、従来のR113が有している優れた特性を満
足しながら代替溶剤として使用できる新規なフッ素化塩
素化炭化水素系混合溶剤組成物を提供することを目的と
するものである。
[課題を解決するための手段] 本発明は前述の目的を達成すべくなされたものであり、
炭素数が3である特定のフッ素化塩素化炭化水素とアル
コール類からなる混合溶剤組成物、を提供するものであ
る。
本発明のフッ素化塩素化炭化水素としては、3.3−ジ
クロロ−1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパン
(CFsCFzCHClz :以下R225ca) 、
及び/又は1.3−ジクロロ−1,1,2,2,3−ペ
ンタフルオロプロパン(CCIF、CF、C)ICIF
 : 以下R225cb)であり、R225caとR2
25cbとの組成比は特に限定されることはないが、好
ましくは、R225caがO,[]I〜99、99重量
%、R225cbが0.01〜99.99重量%である
アルコール類としては、メタノール、エタノール、2−
プロパノールの1種又は、2種以上、であり、2種以上
の混合組成は、特に限定されず、メタノールが0.01
〜99.99重量%、エタノールが0.O1〜99.9
9重量%、2−プロパノールが0.O1〜99.99重
量%である。
フッ素化塩素化炭化水素とアルコール類との混合組成比
は、特に限定されることはないが、好ましくは、フッ素
化塩素化炭化水素50〜99重量%とアルール類1〜5
0重量%である。
洗浄性を考えると、アルコール類の含有量は多い方が高
くなるが、アルコールの種類にもよるが、アルコール類
の含有量が50重量%をこえると混合溶剤組成物が可燃
性となり、好ましくない。
本発明の組成物には、必要に応じてその他の成分を更に
添加混合することができる。例えば、溶剤Iとしての用
途においては、ペンタン、インペンタン、ヘキサン、イ
ソヘキサン、ネオヘキサン、ヘプタン、イソへブタン、
23−ジメチルブタン、シクロペンタン等の炭化水素類
n−プロピルアルコール、n−ブチルアルコール、i−
ブチルアルコール、S−ブチルアルコール、t−ブチル
アルコール、プロパルギルアルコール等のアルコール類
、フェノール、0−クレゾール、m−クレゾール、p−
クレゾール、26−ジーt−ブチル−p−クレゾール、
4,4−ジヒドロキシフェニル−2,2−プロパン等の
フェノール類、メチルセロソルブ、テトラヒドロフラン
、1.4−ジオキサン、ブチルグリシジルエーテル、1
.2−ジメトキシメタン等のエーテル類、アセトン、メ
チルエチルケトン、メチルブチルケトン等のケトン類、
ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロパン等のニト
ロアルカン類、ジエチルアミン、トリエチルアミン、イ
ソプロピルアミン、ブチルアミン、イソブチルアミン、
ジイソプロピルアミン、ジアリルアミン等のアミン類、
酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、サリチル酸メ
チル等のエステル類、α−アミレン、β−アミレン等の
アミシン類、トリフェニルホスファイト、トリブチルホ
スファイト等の有機ホスファイト類、1.2−ブチレン
オキサイド、エピクロルヒドリン等のエポキサイド類、
1.2.3−ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロ
キシ−5′−メチル−フェニル)ベンゾトリアゾール等
のベンゾトリアゾール類、ジクロロメタン、trans
−1,2−ジクロロエチレン、cis−12−ジクロロ
エチレン、2−ブロモプロパン等のハロゲン化炭化水素
類、その他、1.1−ジクロロ−1−フルオロエクン、
1.1−ジクロロ−1,22,3,3−ペンタフルオロ
プロパン、1.2−ジクロロ−1,1,3,3,3−ペ
ンタフルオロプロパン、1.1−ジクロロ−2,3,3
,3テトラフルオロプロペン−1、trans−3−ク
ロロ−1,1,1,2,4,4,5,5,5−ノナフル
オロペンテン−2、cis−3−クロロ−1,1,1,
2,4,4,5,5,5−ノナフルオロペンテン−2,
1,1,1,2,2,5,5,6,6,6−ゾカフルオ
ロヘキサン等の本発明以外のフロン類等を適宜添加する
ことができる。これらの成分の添加量は、特に限定され
ることはないが、溶解力を調整する場合には、好ましく
は、1〜50重量%、さらに好ましくは、1〜40重量
%程度であり、叉、安定剤として添加する場合には、好
ましくは、l ppm〜10重量%、さらに好ましくは
、1 ppm〜3重量%程度である。
本発明のフッ素化塩素化炭化水素系混合溶剤組成物は、
従来のR113/アルコール系と同程度の溶解力を有す
るため、溶剤等の各種用途に好適に使用でる。溶剤の具
体的な用途としては、フラックス、グリース、油、ワッ
クス、インキ等の除去剤、塗料用溶剤、抽出剤、ガラス
、セラミックス、プラスチック、ゴム、金属製各種物品
、特にIC部品、電気機器、精密機械、光学レンズ等の
洗浄剤や水切り剤等を挙げることができる。洗浄方法と
しては、手拭き、浸漬、スプレー、揺動、超音波洗浄、
蒸気洗浄等を採用すればよい。
[実施例] 以下に本発明の実施例を示す。
実施例 1〜38 下記第1表に示す混合溶剤組成物を用いてフラックスの
洗浄試験を行なった。
ガラスエポキシ製のプリント基板(50mm xloo
 mmX 1.6mm)全面にフラックス(スピーデイ
フラックスAGF−J−1:アサヒ化学研究所製)を塗
布し、250℃の電気炉で2分間焼成後、本発明の混合
溶剤組成物に1分間浸漬した。フラックスの除去の度合
を第1表に示す。
第1表 0:良好に除去可 △:微量残存 ×:かなり残存第1
表(続き) 第1表(続き) 0: 良好に除去可 △ 微量残存 ×:かなり残存 0: 良好に除去可 △: 微量残存 X:かなり残存 第1表(続き) 第1表(続き) 良好に除去可 △: 微量残存 かなり残存 0: 良好に除去可 △: 微量残存 ×:かなり残存 第1表(続き) 第1表(続き) O: 良好に除去可 △: 微量残存 ×:かなり残存 実施例 42〜82 下記第2表に示す混合溶剤組成物を用いて付着の除去試
験を行なった。30mmX 18mmX 5mmのガラ
ス板を純水に浸漬後、発明の混合溶剤組成物中に20秒
浸漬して水切りを行ない、取り出したガラス板を無水メ
タノール中に浸漬してその分増加量から付着水の除去状
況を調べた。付着水の除去の度合を表2に示す。
第2表 第2表 (続き) 0: 良好に除去可 △: 微量残存 X : かなり残 0: 良好に除去可 △: 微量残存 ×:かなり残存 第2表(続き) 第2表 (続き) 0: 良好に除去可 △: 微量残存 × : かなり残存 0: 良好に除去可 △: 微量残存 × かなり残存 第2表 (続き) 第2表 (続き) 良好に除去可 △: 微量残存 ×:かなり残存 良好に除去可 △: 微量残存 × : かなり残存 実施例 83〜123 下記第3表に示す混合溶剤組成物を用いて機第3表 (続き) 械油の洗浄試験を行なった。
5tlS−304 のテストピース(25mm X 30mmX 2mm1 を機械油 (日本石油製CQ− 30)中に浸漬し た後、 本発明の混合溶剤組成物中に5分浸漬した。
機械油の除去の度合を表3に示す。
第3表 0: 良好に洗浄可 △: 微量残存 ×:かなり残存 0: 良好に洗浄可 △: 微量残存 ×:かなり残存 第3表 (続き) 第3表 (続き) 0: 良好に洗浄可 △: 微量残存 × : かなり残存 0: 良好に洗浄可 △; 微量残存 ×;かなり残存 第3表 (続き) 第3表 (続き) 0: 良好に洗浄可 △: 微量残存 ×:かなり残存 0: 良好に除去可 △: 微量残存 × かなり残存 第3表(続き) 実施例 124 R225ca/ 2−プロパノール ついてタグ式引火点測定装置(JIS K 2265)
を用いて、引火点を測定した。その結果、本発明の混合
溶剤組成物は引火点がなく、不燃であることが確認され
た。
実施例 125 R225cb/2−フ゛ロバノール=65 重量%/3
5重量%についてタグ式引火点測定装置(JIS K 
2265)を用いて、引火点を測定した。その結果、本
発明の混合溶剤組成物は引火点がな(、不燃であること
が確認された。
実施例 126 R225ca/ R225cb/ 2−)゛ロバノール
=30 重量%/35重量%/35重量%についてタグ
式引火点測定装置(JIS K 2’265)を用いて
、引火点を測定した。その結果、本発明の混合溶剤組成
物は引火点がなく、不燃であることが確認された。
[発明の効果] 本発明のフッ素化塩素化炭化水素系混合溶剤組成物は、
従来のR113/アルコ一ル系混合溶剤組成物が有して
いる優れた特性を満足し、従来のR113/アルコ一ル
系混合溶剤組成物と同じ使い方でき、従来技術の大幅な
変更を要しない等の利点がある。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、3,3−ジクロロ−1,1,1,2,2−ペンタフ
    ルオロプロパン(CF_3CF_2CHCl_2:以下
    R225ca)及び/又は、1,3−ジクロロ−1,1
    ,2,2,3−ペンタフルオロプロパン(CClF_2
    CF_2CHClF:以下R225cb)を50〜99
    重量%とメタノール、エタノール、2−プロパノールの
    群から選ばれる少なくとも1種以上を1〜50重量%と
    からなるフッ素化塩素化炭化水素系混合溶剤組成物。
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