JPH11152236A - 固体表面を処理するための1,1,1,3,3−ペンタフルオロブタン、塩化メチレンおよびメタノールをベースとする擬似共沸混合物 - Google Patents
固体表面を処理するための1,1,1,3,3−ペンタフルオロブタン、塩化メチレンおよびメタノールをベースとする擬似共沸混合物Info
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- JPH11152236A JPH11152236A JP10215354A JP21535498A JPH11152236A JP H11152236 A JPH11152236 A JP H11152236A JP 10215354 A JP10215354 A JP 10215354A JP 21535498 A JP21535498 A JP 21535498A JP H11152236 A JPH11152236 A JP H11152236A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 プラスチック等の固体表面に使用できる固体
表面処理用混合物の提供。 【解決手段】 固体表面を処理(特に脱フラックス)す
るための組成物において1,1,2−トリクロロ−1,
2,2−トリフルオロエタンおよび1,1−ジクロ−1
−フルオロエタンを置き換えるために、本発明は、75
〜95重量%の1,1,1,3,3−ペンタフルオロブ
タン、1〜15重量%の塩化メチレンおよび1〜10重
量%のメタノールを含む擬似共沸混合物の使用を提案す
る。
表面処理用混合物の提供。 【解決手段】 固体表面を処理(特に脱フラックス)す
るための組成物において1,1,2−トリクロロ−1,
2,2−トリフルオロエタンおよび1,1−ジクロ−1
−フルオロエタンを置き換えるために、本発明は、75
〜95重量%の1,1,1,3,3−ペンタフルオロブ
タン、1〜15重量%の塩化メチレンおよび1〜10重
量%のメタノールを含む擬似共沸混合物の使用を提案す
る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、フッ素化炭化水素
の分野に関し、とりわけ、固体表面の処理、特に固体表
面の乾燥、洗浄、脱脂またはドライクリーニングに対す
る種々の操作で使用できる新規擬似共沸混合物に関す
る。
の分野に関し、とりわけ、固体表面の処理、特に固体表
面の乾燥、洗浄、脱脂またはドライクリーニングに対す
る種々の操作で使用できる新規擬似共沸混合物に関す
る。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】1,
1,2−トリクロロ−1,2,2−トリフルオロエタン
(F113の商品名で知られる)は、工業において、各
種固体表面(金属、ガラス、プラスチックおよび複合材
料)を洗浄し、脱脂するために広く使用されている。電
子工業において、印刷回路に付着するフラックスを除去
するために、はんだフラックスを洗浄するための適用の
他に、その用途としては、大きい金属部品の脱脂および
高品質で高精度の機械部品(例えば、ジャイロスコープ
および軍事、航空宇宙または医療用機器など)の洗浄が
挙げられる。その各種用途において、F113は、他の
有機溶媒(例えば、メタノール)としばしば組合わさ
れ、好ましくは、分離しないし、脱フラックスにおいて
使用する場合は、気相での組成物が液相での組成物と実
質的に同じである、共沸または擬似共沸混合物の形態で
組合わされる。
1,2−トリクロロ−1,2,2−トリフルオロエタン
(F113の商品名で知られる)は、工業において、各
種固体表面(金属、ガラス、プラスチックおよび複合材
料)を洗浄し、脱脂するために広く使用されている。電
子工業において、印刷回路に付着するフラックスを除去
するために、はんだフラックスを洗浄するための適用の
他に、その用途としては、大きい金属部品の脱脂および
高品質で高精度の機械部品(例えば、ジャイロスコープ
および軍事、航空宇宙または医療用機器など)の洗浄が
挙げられる。その各種用途において、F113は、他の
有機溶媒(例えば、メタノール)としばしば組合わさ
れ、好ましくは、分離しないし、脱フラックスにおいて
使用する場合は、気相での組成物が液相での組成物と実
質的に同じである、共沸または擬似共沸混合物の形態で
組合わされる。
【0003】F113は、工業において、各種固体基板
の水性媒体で洗浄した後の乾燥または脱水に対しても使
用されている。この用途では、洗浄した基板の表面に残
っている水を除去する目的で、F113に1つ以上の界
面活性剤を補充することが多い(例えば、FR2353
625、FR2527625、EP90677およびE
P189436の特許ならびにこれらの特許で引用され
ている文献を参照)。
の水性媒体で洗浄した後の乾燥または脱水に対しても使
用されている。この用途では、洗浄した基板の表面に残
っている水を除去する目的で、F113に1つ以上の界
面活性剤を補充することが多い(例えば、FR2353
625、FR2527625、EP90677およびE
P189436の特許ならびにこれらの特許で引用され
ている文献を参照)。
【0004】F113は、成層圏のオゾンを攻撃し、ま
たは分解する疑いがあるクロロフルオロ炭素(CFC)
に属するので、これらの各種用途では、それを1,1−
ジクロロ−1−フルオロエタン(F141bの商品名で
知られている)で置き換えることが提案されている。
たは分解する疑いがあるクロロフルオロ炭素(CFC)
に属するので、これらの各種用途では、それを1,1−
ジクロロ−1−フルオロエタン(F141bの商品名で
知られている)で置き換えることが提案されている。
【0005】F141bのオゾン破壊能(ODP)はF
113よりもかなり小さいが、それでもゼロではなく、
この物質の使用はすでに規制されている。
113よりもかなり小さいが、それでもゼロではなく、
この物質の使用はすでに規制されている。
【0006】この問題を解決するために、米国特許第5
350534号では、F113またはF141bを、3
0〜69重量%の1,1,1,3,3−ペンタフルオロ
ブタン(F365mfc)、30〜60重量%の塩化メ
チレンおよび1〜10重量%のメタノールから成る共沸
混合物で置き換えることが提案されている。しかし、こ
の混合物の高い塩化メチレン含量(最少30%)は、全
体または部分的に脆いプラスチックから成る固体表面の
処理の場合、これらの材料にひび割れまたは亀裂を引き
起し、および/またはそれらを粘着性にするので、その
混合物は使用できない。
350534号では、F113またはF141bを、3
0〜69重量%の1,1,1,3,3−ペンタフルオロ
ブタン(F365mfc)、30〜60重量%の塩化メ
チレンおよび1〜10重量%のメタノールから成る共沸
混合物で置き換えることが提案されている。しかし、こ
の混合物の高い塩化メチレン含量(最少30%)は、全
体または部分的に脆いプラスチックから成る固体表面の
処理の場合、これらの材料にひび割れまたは亀裂を引き
起し、および/またはそれらを粘着性にするので、その
混合物は使用できない。
【0007】
【課題を解決するための手段】そこで、15重量%以下
の塩化メチレンを含み、残りは75〜95重量%の純粋
なF365mfcおよび1〜10重量%のメタノールか
ら成り、塩化メチレンの最少含量が1重量%である混合
物を使用することにより、この欠点が克服でき、上記の
共沸混合物の利点が本質的に全て保持できることが見い
だされた。
の塩化メチレンを含み、残りは75〜95重量%の純粋
なF365mfcおよび1〜10重量%のメタノールか
ら成り、塩化メチレンの最少含量が1重量%である混合
物を使用することにより、この欠点が克服でき、上記の
共沸混合物の利点が本質的に全て保持できることが見い
だされた。
【0008】
【発明の実施の形態】この混合物により、アクリロニト
リル−ブタジエン−スチレンコポリマー(ABS)、ポ
リカーボネート(PC)およびポリメチルメタクリレー
ト(PMMA)などの感受性材料の問題のない洗浄が可
能である。さらに、この混合物は、標準的測定条件(A
STM規格D3828)下では引火点を示さず、従っ
て、全く安全に作用させることができる。
リル−ブタジエン−スチレンコポリマー(ABS)、ポ
リカーボネート(PC)およびポリメチルメタクリレー
ト(PMMA)などの感受性材料の問題のない洗浄が可
能である。さらに、この混合物は、標準的測定条件(A
STM規格D3828)下では引火点を示さず、従っ
て、全く安全に作用させることができる。
【0009】本発明に係る特に好ましい混合物は、85
〜90重量%のF365mfc、5〜10重量%の塩化
メチレンおよび2〜5重量%のメタノールを含む。
〜90重量%のF365mfc、5〜10重量%の塩化
メチレンおよび2〜5重量%のメタノールを含む。
【0010】F113またはF141bをベースとする
公知組成物と同様に、本発明に係る混合物は、所望なら
ば、洗浄工程中に起こる可能性がある加水分解および/
またはラジカル攻撃に対して安定化させることができ
る。この目的のためには、例えばニトロアルカン、アセ
タールまたはエポキシドなどの通常の安定剤を補充す
る。安定剤の割合は、混合物の総重量に対して0.01
〜5%の範囲である。
公知組成物と同様に、本発明に係る混合物は、所望なら
ば、洗浄工程中に起こる可能性がある加水分解および/
またはラジカル攻撃に対して安定化させることができ
る。この目的のためには、例えばニトロアルカン、アセ
タールまたはエポキシドなどの通常の安定剤を補充す
る。安定剤の割合は、混合物の総重量に対して0.01
〜5%の範囲である。
【0011】本発明に係る混合物は、F113またはF
141bをベースとする公知組成物と同じ条件下、同じ
方法に従って使用することができる。
141bをベースとする公知組成物と同じ条件下、同じ
方法に従って使用することができる。
【0012】本発明に係る混合物は、シリコーン製品、
特にシリコーングリースを溶解する。従って、表面上に
シリコーン誘導体のある部品の洗浄またはこの種の誘導
体のこれらの部品への付着に使用でき、例えば、本発明
に係る混合物におけるシリコーンの溶液にこれらの部品
を浸漬することにより使用する。
特にシリコーングリースを溶解する。従って、表面上に
シリコーン誘導体のある部品の洗浄またはこの種の誘導
体のこれらの部品への付着に使用でき、例えば、本発明
に係る混合物におけるシリコーンの溶液にこれらの部品
を浸漬することにより使用する。
【0013】本発明に係る混合物は難燃性であり、素早
く蒸発する。従って、高速レーザープリンターにおい
て、全く安全に使用することができる。
く蒸発する。従って、高速レーザープリンターにおい
て、全く安全に使用することができる。
【0014】
【実施例】下記実施例により本発明を説明するが、本発
明は以下の実施例に限定されるものではない。
明は以下の実施例に限定されるものではない。
【0015】実施例1 89重量%のF365mfc、3.5重量%のメタノー
ル、7重量%の塩化メチレンおよび0.5重量%のニト
ロメタン(安定剤)を含む混合物150gを超音波洗浄
器に導入した。
ル、7重量%の塩化メチレンおよび0.5重量%のニト
ロメタン(安定剤)を含む混合物150gを超音波洗浄
器に導入した。
【0016】その系を1時間脱フラックスした後、気相
の一部をサンプリングした。これをガスクロマトグラフ
ィーにより分析すると(下記表を参照)、混合物の組成
物は本質的に不変であり、気相において安定化されてい
ることが分かった。
の一部をサンプリングした。これをガスクロマトグラフ
ィーにより分析すると(下記表を参照)、混合物の組成
物は本質的に不変であり、気相において安定化されてい
ることが分かった。
【0017】
【表1】
【0018】実施例2 5個の試験回路(IPC−B−25標準モデル)にcolo
phane をベースとするフラックス(ALPHAMETAL社製のフ
ラックスR8F)を塗布し、220℃で30秒間焼き付
けた。
phane をベースとするフラックス(ALPHAMETAL社製のフ
ラックスR8F)を塗布し、220℃で30秒間焼き付
けた。
【0019】これらの回路は、実施例1の擬似共沸混合
物を使用して、小さい超音波機器中で3分間浸漬するこ
とにより洗浄し、3分間気相においた。
物を使用して、小さい超音波機器中で3分間浸漬するこ
とにより洗浄し、3分間気相においた。
【0020】洗浄を、精密な電導度分析計により、IP
C2.3.26標準手法に従って評価した。得られた値
(2.2μg/cm2eq.NaCl)は、専門的に許
容されるイオン不純物閾値(2.5μg/cm2eq.
NaCl)より小さい。
C2.3.26標準手法に従って評価した。得られた値
(2.2μg/cm2eq.NaCl)は、専門的に許
容されるイオン不純物閾値(2.5μg/cm2eq.
NaCl)より小さい。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C11D 7/60 C11D 7/60 C23G 5/02 C23G 5/02 F26B 21/00 F26B 21/00 G G02C 13/00 G02C 13/00 H05K 3/26 H05K 3/26 E //(C11D 7/60 7:26 7:30)
Claims (6)
- 【請求項1】 75〜95重量%の1,1,1,3,3
−ペンタフルオロブタン、1〜15重量%の塩化メチレ
ンおよび1〜10重量%のメタノールから成る擬似共沸
混合物。 - 【請求項2】 85〜90重量%の1,1,1,3,3
−ペンタフルオロブタン、5〜10重量%の塩化メチレ
ンおよび2〜5重量%のメタノール含む、請求項1に記
載の混合物。 - 【請求項3】 さらに少なくとも1種の安定剤を含む、
請求項1または2に記載の混合物。 - 【請求項4】 安定剤の割合が混合物の総重量に対して
0.01〜5%である、請求項3に記載の混合物。 - 【請求項5】 請求項1〜4のいずれか一項に記載の混
合物の、固体表面の処理、特に印刷回路の脱フラックス
および機械部品の脱脂への適用。 - 【請求項6】 請求項1〜4のいずれか一項に記載の混
合物の、固体表面の乾燥または脱水への適用。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR9709775 | 1997-07-31 | ||
FR9709775A FR2766836B1 (fr) | 1997-07-31 | 1997-07-31 | Melange quasi azeotropique a base de 1,1,1,3,3- pentafluorobutane, de chlorure de methylene et de methanol pour le traitement de surfaces solides |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11152236A true JPH11152236A (ja) | 1999-06-08 |
Family
ID=9509856
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10215354A Pending JPH11152236A (ja) | 1997-07-31 | 1998-07-30 | 固体表面を処理するための1,1,1,3,3−ペンタフルオロブタン、塩化メチレンおよびメタノールをベースとする擬似共沸混合物 |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6489277B1 (ja) |
EP (1) | EP0894851B1 (ja) |
JP (1) | JPH11152236A (ja) |
KR (1) | KR100523435B1 (ja) |
CN (1) | CN1198966C (ja) |
AU (1) | AU739671B2 (ja) |
CA (1) | CA2242726C (ja) |
DE (1) | DE69814993T2 (ja) |
ES (1) | ES2200285T3 (ja) |
FR (1) | FR2766836B1 (ja) |
MY (1) | MY118798A (ja) |
TW (1) | TW432109B (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7053036B2 (en) | 2002-10-30 | 2006-05-30 | Poly Systems Usa, Inc. | Compositions comprised of normal propyl bromide and 1,1,1,3,3-pentafluorobutane and uses thereof |
US7067468B2 (en) | 2003-06-20 | 2006-06-27 | Degroot Richard J | Azeotrope compositions containing a fluorocyclopentane |
US7091170B2 (en) | 2001-02-14 | 2006-08-15 | Kaneko Chemical Co., Ltd. | Solvent composition for washing |
US7320954B2 (en) | 2004-03-09 | 2008-01-22 | Kaneko Chemical Co., Ltd. | Pentafluorobutane composition and cleaning solvent composition |
JP2016186077A (ja) * | 2008-12-17 | 2016-10-27 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド | 洗浄組成物及び方法 |
Families Citing this family (5)
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---|---|---|---|---|
US6951835B1 (en) | 1999-03-22 | 2005-10-04 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Azeotrope-like compositions of 1,1,1,3,3-pentafluorobutane |
FR2792647B1 (fr) * | 1999-04-22 | 2001-06-08 | Atochem Elf Sa | COMPOSITIONS DE NETTOYAGE OU DE SECHAGE A BASE DE F365 mfc, CH2CL2, CH3OH ET 43-10mee |
FR2829773A1 (fr) * | 2001-09-17 | 2003-03-21 | Atofina | COMPOSITION DE NETTOYAGE OU DE SECHAGE A BASE DE N-PERFLUOROBUTYL-ETHYLENE ET DE HFC 365 mfc |
FR2873689B1 (fr) * | 2004-07-29 | 2006-10-13 | Arkema Sa | Composition a base de 1,1,1,3,3,-pentafluorobutane |
CN103385865B (zh) * | 2013-07-04 | 2015-08-05 | 浙江工业大学 | 10-芳甲烯基蒽酮类化合物在制备抗肿瘤药物中的应用 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR90677E (fr) | 1966-08-02 | 1968-01-26 | Serbi Ag Studiengesellschaft F | Cellule d'immeuble préfabriquée, et dispositif pour son transport et sa mise en place |
FR2353625A1 (fr) | 1976-06-04 | 1977-12-30 | Rhone Poulenc Ind | Nouvelles compositions a base de trichlorotrifluoroethane et leur application au traitement de surface |
FR2527625A1 (fr) | 1982-05-27 | 1983-12-02 | Chloe Chemie | Composition a base de fluorochlorohydrocarbure, d'ester phosphorique et d'acide carboxylique |
FR2566788A1 (fr) | 1984-06-29 | 1986-01-03 | Atochem | Composition de demouillage a base de fluorochlorohydrocarbure de tensio-actif et d'acide carboxylique |
JPH02222495A (ja) * | 1989-02-23 | 1990-09-05 | Asahi Glass Co Ltd | 塩素化弗素化炭化水素系フラックス洗浄剤 |
FR2676067B1 (fr) | 1991-05-02 | 1993-07-23 | Atochem | Composition a base de 1,1,1,3,3-pentafluorobutane et de methanol, pour le nettoyage et/ou le sechage de surfaces solides. |
JPH05171190A (ja) * | 1991-12-25 | 1993-07-09 | Asahi Glass Co Ltd | 洗浄用の溶剤組成物 |
JPH05168805A (ja) * | 1991-12-25 | 1993-07-02 | Asahi Glass Co Ltd | 付着水除去用の溶剤組成物 |
FR2694942B1 (fr) | 1992-08-21 | 1994-10-14 | Atochem Elf Sa | Composition à base de 1,1,1,3,3-pentafluorobutane et de chlorure de méthylène, pour le nettoyage et/ou le séchage de surfaces solides. |
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