JP4297521B2 - 付着水除去用溶剤組成物 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子部品、金属部品、機械部品、硝子或いはプラスチック等に付着した水を除去する為に用いられる付着水除去用溶剤組成物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
精密金属部品、光学部品、電子部品の多くが加工途中で水を使用しており、この工程の後処理として必要な、付着残留水の除去及び乾燥には、被洗浄物を腐食せずに水を洗い落とすことができ、しかもその洗浄液自体の除去が容易にできるような適当な沸点を持つ洗浄剤が用いられる。そのような洗浄剤として、これまで、クロロフルオロカーボン系洗浄剤（例えば、ＣＦＣ−１１３、沸点４８℃）に界面活性剤を混合した組成物が使用されてきた。しかし、クロロフルオロカーボンについてはオゾン層保護の観点からウィーン条約やモントリオール議定書に基づき国際的な規制が実施され、わが国でもエッセンシャルユースを除き１９９５年末に全廃された。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
そのため、ＣＦＣ−１１３等のクロロフルオロカーボン系付着水除去用溶剤組成物が有する低毒性、不燃性、低腐食性の特性を失うこと無く、水置換性能が優れ、且つオゾン層を破壊する恐れがない付着水除去用溶剤組成物の開発が望まれている。
【０００４】
炭化水素の水素原子の一部が弗素原子のみで置換したハイドロフルオロカーボン（ＨＦＣ）は塩素原子を含まないため、オゾン層を破壊する恐れがないという点では規制の対象となっていないものである。そこで、ＨＦＣの中、洗浄溶剤として適当な沸点を有するデカフルオロペンタンはクロロフルオロカーボン系に代替する溶剤としての使用が考えられるが、これに界面活性剤を配合した組成物は界面活性剤溶解能力に乏しいので、付着水除去用溶剤としての効果が充分でない。
【０００５】
しかし本発明の発明者らは、デカフロロペンタンに可溶な有機溶剤を混合することにより、活性剤溶解能力が増加すること、及び界面活性剤として特定の２種類の活性剤を使用すると、その相乗作用により水を除去する能力が格段に向上することを見いだし本発明に到達した。
【０００６】
【発明を解決するための手段】
本発明は、下記(A)、(B)、(C）及び(D)からなる付着水除去用溶剤組成物である。
(A)1,１,１,２,３,４,４,５,５,５-デカフルオロペンタン
(B)ベンジルアルコール及びトリエチレングリコールジメチルエーテルからなる群から選ばれる１種類または２種類の溶剤
(C)一般式（Ｉ）で表されるポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル型界面活性剤：
【化３】
（式中R1は炭素数5−10のアルキル基、mは4-10の整数である。）
(D)一般式(II)で表されるＮ−アルキル−Ｎ−ポリオキシエチレンパーフロロアルキルスルホンアミド型界面活性剤：
【化４】
（式中、Ｒ2は炭素数２−１０のアルキル基、Ｒｆは炭素数５−１８の完全フッ素化アルキル基、ｎは3−15の整数である。）
【０００７】
【発明の実施の形態】
本発明の付着水除去用溶剤組成物の主成分であるデカフルオロペンタン（Ａ）は、1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-デカフルオロペンタン（以下、HFC-43-10meeと呼ぶ）である。
【０００８】
デカフルオロペンタンに可溶な溶剤（Ｂ）としては、水除去の操作の際、沸騰状態にある付着水除去用溶剤組成物に浸漬する工程において、蒸気層中への有機溶剤の混入を防ぐために、沸点が１８０℃以上の溶剤が好ましい。このような溶剤として本発明においては、ベンジルアルコールまたは、トリエチレングリコールジメチルエーテルが用いられる。
【０００９】
界面活性剤(C）としては、一般式(I)で表されるポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル型界面活性剤を用いる。
【化５】
（式中R 1 は炭素数5−10のアルキル基、ｍは４−10の整数である。)
具体的にはポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルまたはポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル等を挙げることができる。
【００１０】
本発明の組成物は、上記界面活性剤(C)、のほかに界面活性剤(D)を使用する。すなわち(C)成分及び(D)成分の２種類の界面活性剤を必須成分とするものである。
【００１１】
界面活性剤(D)は、完全フッ素化アルキル基及びオキシエチレン基を有するアミドであり、一般式(II)で表されるＮ−アルキル−Ｎ−ポリオキシエチレンパーフロロアルキルスルホンアミド型界面活性剤が用いられるが、特にＮ−アルキル−Ｎ−ポリオキシエチレンパーフロロオクタンスルホンアミドが好適である。
【化６】
（但し、Ｒ 2 は炭素数２−１０のアルキル基、Ｒｆは炭素数５−１８の完全フッ素化アルキル基、ｎは3−15の整数である。）
【００１２】
本発明の付着水除去用溶剤組成物を構成する各成分の組成は、（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）（Ｄ）成分の合計を１００重量％としたときに、
（Ｂ）１−１０重量％、
（Ｃ）０．０１−３重量％、
（Ｄ）０．０１−１重量％、
残りが（Ａ）成分となるような範囲とするのが好ましい。
（Ｂ）（Ｃ）（Ｄ）の各成分が少ないと付着水除去能力が低下し、またこれらが多過ぎると被洗浄物のすすぎ不良の原因となる。
上記溶剤には必要に応じ、他の有機溶剤を添加することができる。
【００１３】
また、安定剤としてニトロ化合物、ベンゾトリアゾール等を添加することもできる。
【００１４】
部品に付着した水を除去する方法としては、沸騰状態にある本発明の付着水除去用溶剤組成物に浸漬する方法が一般的であるが、その他、超音波、スプレー、揺動等の他の方法で行うこともできる。尚、水を除去した被洗浄物には界面活性剤が付着しているが、それはデカフルオロペンタンによってすすぎ落とされる。
【００１５】
以下、実施例により本発明を詳細に説明する。
［実施例１］
２５ｍｌ（ミリリッター）メスシリンダーに純水３ｍｌを入れ、８ｍｌの標線まで直径０．４ｍｍのガラスビーズを入れた。その後、ベンジルアルコールと、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル及びＮ−アルキル−Ｎ−ポリオキシエチレンパーフロロオクタンスルホンアミドを表１に示される量で混合し、更にＨＦＣ４３−１０ｍｅｅを表１に示される量混合した。この混合溶液を２５ｍｌの標線まで注入し、注入直後から５分後迄に浮遊した水の量を測定し、下記の式により付着水除去率を求めた。結果を表１に示す。
【数１】
【００１６】
［実施例２］
実施例１において、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル及びＮ−アルキル−Ｎ−ポリオキシエチレンパーフロロオクタンスルホンアミドの添加量を表１記載の量に変えた以外は実施例１と同様にして、付着水除去率を求めた。結果を表１に示す。
【００１７】
［実施例３］
実施例２において、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルをポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテルに変えた以外は実施例２と同様にして、付着水除去率を求めた。結果を表１に示す。
【００１８】
［比較例１］
ＨＦＣ−４３−１０ｍｅｅ（Ａ）とポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル（Ｃ）及びＮ−アルキル−Ｎ−ポリオキシエチレンパーフロロオクタンスルホンアミド（Ｄ）のみを表１の混合比で配合し、ベンジルアルコール（Ｂ）を含有しない組成物について実施例１と同様にして、付着水除去率を求めた。結果を表１に示す。
【００１９】
［比較例２］
ＨＦＣ−４３−１０ｍｅｅ（Ａ）とベンジルアルコール（Ｂ）及びＮ−アルキル−Ｎ−ポリオキシエチレンパーフロロオクタンスルホンアミド（Ｄ）のみを表１の混合比で配合し、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル（Ｃ）を含有しない組成物について実施例１と同様にして、付着水除去率を求めた。結果を表１に示す。
【００２０】
［比較例３］
ＨＦＣ−４３−１０ｍｅｅ（Ａ）とベンジルアルコール（Ｂ）及びポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル（Ｃ）のみを表１の混合比で配合し、Ｎ−アルキル−Ｎ−ポリオキシエチレンパーフロロオクタンスルホンアミド（Ｄ）を含有しない組成物について実施例１と同様にして、付着水除去率を求めた。結果を表１に示す。
【００２１】
【表１】
【００２２】
表１から明らかなように、デカフルオロペンタンに可溶な有機溶剤（Ｂ成分）が含まれない場合（比較例１）、オキシエチレン基を有する界面活性剤（Ｃ成分）が含まれない場合（比較例２）、及びパーフルオロアルキル基及びオキシエチレン基を有するアミン（Ｄ成分）が含まれない場合（比較例３）には、付着水除去率が低く被洗浄物の付着水が除去されていないことがわかる。
【００２３】
【発明の効果】
本発明に用いられるデカフルオロペンタンは、塩素分子を含有していないのでオゾン層破壊の恐れが無い。
また、本発明の付着水除去用溶剤組成物は、２種類の活性剤の相乗作用により水を除去する能力が優れている。
デカフルオロペンタンの活性剤溶解能力は乏しいが、デカフロロペンタンに可能な有機溶剤を混ぜることにより、活性剤溶解能力が増加する。更に、有機溶剤の沸点を１８０℃以上にすることにより、蒸気層中への有機溶剤の混入量が極めて少ないため、デカフルオロペンタンによる蒸気すすぎが可能であり、デカフルオロペンタンは、沸点が約５５℃であり容易に蒸発するため、シミ等の恐れが無く、最終的には水及び洗浄液が完全に除去された清浄な物品が得られる。
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子部品、金属部品、機械部品、硝子或いはプラスチック等に付着した水を除去する為に用いられる付着水除去用溶剤組成物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
精密金属部品、光学部品、電子部品の多くが加工途中で水を使用しており、この工程の後処理として必要な、付着残留水の除去及び乾燥には、被洗浄物を腐食せずに水を洗い落とすことができ、しかもその洗浄液自体の除去が容易にできるような適当な沸点を持つ洗浄剤が用いられる。そのような洗浄剤として、これまで、クロロフルオロカーボン系洗浄剤（例えば、ＣＦＣ−１１３、沸点４８℃）に界面活性剤を混合した組成物が使用されてきた。しかし、クロロフルオロカーボンについてはオゾン層保護の観点からウィーン条約やモントリオール議定書に基づき国際的な規制が実施され、わが国でもエッセンシャルユースを除き１９９５年末に全廃された。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
そのため、ＣＦＣ−１１３等のクロロフルオロカーボン系付着水除去用溶剤組成物が有する低毒性、不燃性、低腐食性の特性を失うこと無く、水置換性能が優れ、且つオゾン層を破壊する恐れがない付着水除去用溶剤組成物の開発が望まれている。
【０００４】
炭化水素の水素原子の一部が弗素原子のみで置換したハイドロフルオロカーボン（ＨＦＣ）は塩素原子を含まないため、オゾン層を破壊する恐れがないという点では規制の対象となっていないものである。そこで、ＨＦＣの中、洗浄溶剤として適当な沸点を有するデカフルオロペンタンはクロロフルオロカーボン系に代替する溶剤としての使用が考えられるが、これに界面活性剤を配合した組成物は界面活性剤溶解能力に乏しいので、付着水除去用溶剤としての効果が充分でない。
【０００５】
しかし本発明の発明者らは、デカフロロペンタンに可溶な有機溶剤を混合することにより、活性剤溶解能力が増加すること、及び界面活性剤として特定の２種類の活性剤を使用すると、その相乗作用により水を除去する能力が格段に向上することを見いだし本発明に到達した。
【０００６】
【発明を解決するための手段】
本発明は、下記(A)、(B)、(C）及び(D)からなる付着水除去用溶剤組成物である。
(A)1,１,１,２,３,４,４,５,５,５-デカフルオロペンタン
(B)ベンジルアルコール及びトリエチレングリコールジメチルエーテルからなる群から選ばれる１種類または２種類の溶剤
(C)一般式（Ｉ）で表されるポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル型界面活性剤：
【化３】
(D)一般式(II)で表されるＮ−アルキル−Ｎ−ポリオキシエチレンパーフロロアルキルスルホンアミド型界面活性剤：
【化４】
【０００７】
【発明の実施の形態】
本発明の付着水除去用溶剤組成物の主成分であるデカフルオロペンタン（Ａ）は、1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-デカフルオロペンタン（以下、HFC-43-10meeと呼ぶ）である。
【０００８】
デカフルオロペンタンに可溶な溶剤（Ｂ）としては、水除去の操作の際、沸騰状態にある付着水除去用溶剤組成物に浸漬する工程において、蒸気層中への有機溶剤の混入を防ぐために、沸点が１８０℃以上の溶剤が好ましい。このような溶剤として本発明においては、ベンジルアルコールまたは、トリエチレングリコールジメチルエーテルが用いられる。
【０００９】
界面活性剤(C）としては、一般式(I)で表されるポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル型界面活性剤を用いる。
【化５】
具体的にはポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルまたはポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル等を挙げることができる。
【００１０】
本発明の組成物は、上記界面活性剤(C)、のほかに界面活性剤(D)を使用する。すなわち(C)成分及び(D)成分の２種類の界面活性剤を必須成分とするものである。
【００１１】
界面活性剤(D)は、完全フッ素化アルキル基及びオキシエチレン基を有するアミドであり、一般式(II)で表されるＮ−アルキル−Ｎ−ポリオキシエチレンパーフロロアルキルスルホンアミド型界面活性剤が用いられるが、特にＮ−アルキル−Ｎ−ポリオキシエチレンパーフロロオクタンスルホンアミドが好適である。
【化６】
【００１２】
本発明の付着水除去用溶剤組成物を構成する各成分の組成は、（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）（Ｄ）成分の合計を１００重量％としたときに、
（Ｂ）１−１０重量％、
（Ｃ）０．０１−３重量％、
（Ｄ）０．０１−１重量％、
残りが（Ａ）成分となるような範囲とするのが好ましい。
（Ｂ）（Ｃ）（Ｄ）の各成分が少ないと付着水除去能力が低下し、またこれらが多過ぎると被洗浄物のすすぎ不良の原因となる。
上記溶剤には必要に応じ、他の有機溶剤を添加することができる。
【００１３】
また、安定剤としてニトロ化合物、ベンゾトリアゾール等を添加することもできる。
【００１４】
部品に付着した水を除去する方法としては、沸騰状態にある本発明の付着水除去用溶剤組成物に浸漬する方法が一般的であるが、その他、超音波、スプレー、揺動等の他の方法で行うこともできる。尚、水を除去した被洗浄物には界面活性剤が付着しているが、それはデカフルオロペンタンによってすすぎ落とされる。
【００１５】
以下、実施例により本発明を詳細に説明する。
［実施例１］
２５ｍｌ（ミリリッター）メスシリンダーに純水３ｍｌを入れ、８ｍｌの標線まで直径０．４ｍｍのガラスビーズを入れた。その後、ベンジルアルコールと、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル及びＮ−アルキル−Ｎ−ポリオキシエチレンパーフロロオクタンスルホンアミドを表１に示される量で混合し、更にＨＦＣ４３−１０ｍｅｅを表１に示される量混合した。この混合溶液を２５ｍｌの標線まで注入し、注入直後から５分後迄に浮遊した水の量を測定し、下記の式により付着水除去率を求めた。結果を表１に示す。
【数１】
［実施例２］
実施例１において、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル及びＮ−アルキル−Ｎ−ポリオキシエチレンパーフロロオクタンスルホンアミドの添加量を表１記載の量に変えた以外は実施例１と同様にして、付着水除去率を求めた。結果を表１に示す。
【００１７】
［実施例３］
実施例２において、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルをポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテルに変えた以外は実施例２と同様にして、付着水除去率を求めた。結果を表１に示す。
【００１８】
［比較例１］
ＨＦＣ−４３−１０ｍｅｅ（Ａ）とポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル（Ｃ）及びＮ−アルキル−Ｎ−ポリオキシエチレンパーフロロオクタンスルホンアミド（Ｄ）のみを表１の混合比で配合し、ベンジルアルコール（Ｂ）を含有しない組成物について実施例１と同様にして、付着水除去率を求めた。結果を表１に示す。
【００１９】
［比較例２］
ＨＦＣ−４３−１０ｍｅｅ（Ａ）とベンジルアルコール（Ｂ）及びＮ−アルキル−Ｎ−ポリオキシエチレンパーフロロオクタンスルホンアミド（Ｄ）のみを表１の混合比で配合し、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル（Ｃ）を含有しない組成物について実施例１と同様にして、付着水除去率を求めた。結果を表１に示す。
【００２０】
［比較例３］
ＨＦＣ−４３−１０ｍｅｅ（Ａ）とベンジルアルコール（Ｂ）及びポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル（Ｃ）のみを表１の混合比で配合し、Ｎ−アルキル−Ｎ−ポリオキシエチレンパーフロロオクタンスルホンアミド（Ｄ）を含有しない組成物について実施例１と同様にして、付着水除去率を求めた。結果を表１に示す。
【００２１】
【表１】
表１から明らかなように、デカフルオロペンタンに可溶な有機溶剤（Ｂ成分）が含まれない場合（比較例１）、オキシエチレン基を有する界面活性剤（Ｃ成分）が含まれない場合（比較例２）、及びパーフルオロアルキル基及びオキシエチレン基を有するアミン（Ｄ成分）が含まれない場合（比較例３）には、付着水除去率が低く被洗浄物の付着水が除去されていないことがわかる。
【００２３】
【発明の効果】
本発明に用いられるデカフルオロペンタンは、塩素分子を含有していないのでオゾン層破壊の恐れが無い。
また、本発明の付着水除去用溶剤組成物は、２種類の活性剤の相乗作用により水を除去する能力が優れている。
デカフルオロペンタンの活性剤溶解能力は乏しいが、デカフロロペンタンに可能な有機溶剤を混ぜることにより、活性剤溶解能力が増加する。更に、有機溶剤の沸点を１８０℃以上にすることにより、蒸気層中への有機溶剤の混入量が極めて少ないため、デカフルオロペンタンによる蒸気すすぎが可能であり、デカフルオロペンタンは、沸点が約５５℃であり容易に蒸発するため、シミ等の恐れが無く、最終的には水及び洗浄液が完全に除去された清浄な物品が得られる。
Claims (3)
- 下記(A)、(B)、(C）及び(D)からなる付着水除去用溶剤組成物。
(A)1,１,１,２,３,４,４,５,５,５-デカフルオロペンタン
(B)ベンジルアルコール及びトリエチレングリコールジメチルエーテルからなる群から選ばれる１種類または２種類の溶剤
(C)一般式（Ｉ）で表されるポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル型界面活性剤：
(D)一般式(II)で表されるＮ−アルキル−Ｎ−ポリオキシエチレンパーフロロアルキルスルホンアミド型界面活性剤：
- (C)が、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルまたは、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテルであることを特徴とする請求項１記載の付着水除去用溶剤組成物。
- (D)が、Ｎ−アルキル−Ｎ−ポリオキシエチレンパーフロロオクタンスルホンアミドであることを特徴とする請求項１または２に記載の付着水除去用溶剤組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12207496A JP4297521B2 (ja) | 1996-05-16 | 1996-05-16 | 付着水除去用溶剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12207496A JP4297521B2 (ja) | 1996-05-16 | 1996-05-16 | 付着水除去用溶剤組成物 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09299706A JPH09299706A (ja) | 1997-11-25 |
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Family Applications (1)
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Country Status (1)
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|---|---|
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1996
- 1996-05-16 JP JP12207496A patent/JP4297521B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JPH09299706A (ja) | 1997-11-25 |
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