JPH09272898A - インキおよびペースト用洗浄剤組成物 - Google Patents
インキおよびペースト用洗浄剤組成物Info
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- JPH09272898A JPH09272898A JP10206996A JP10206996A JPH09272898A JP H09272898 A JPH09272898 A JP H09272898A JP 10206996 A JP10206996 A JP 10206996A JP 10206996 A JP10206996 A JP 10206996A JP H09272898 A JPH09272898 A JP H09272898A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/26—Cleaning or polishing of the conductive pattern
Landscapes
- Detergent Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来のハロゲン系洗浄剤を用いる方法に比べ
て、環境保全性に優れ、低毒性で安全性が高く、操作性
が良く、各種インキ、ペースト類の溶解性、剥離性に優
れた洗浄剤組成物の提供。 【解決手段】 下記の一般式で表されるプロピレングリ
コールアルキルエーテル１０〜９０重量％と常圧での沸
点が８０℃以上１６０℃未満のノルマルパラフィン、イ
ソパラフィンおよびナフテンから選ばれた少なくとも一
種の炭化水素１０〜９０重量％とを必須成分として含有
することを特徴とするインキおよびペースト用洗浄剤組
成物。 一般式 Ｒ1 Ｏ−Ｃ3 Ｈ6 Ｏ−Ｒ2 （ただし、式中Ｒ1 は炭素数１〜３のアルキル基、Ｒ2
は炭素数１〜３のアルキル基または水素原子を表す。）
て、環境保全性に優れ、低毒性で安全性が高く、操作性
が良く、各種インキ、ペースト類の溶解性、剥離性に優
れた洗浄剤組成物の提供。 【解決手段】 下記の一般式で表されるプロピレングリ
コールアルキルエーテル１０〜９０重量％と常圧での沸
点が８０℃以上１６０℃未満のノルマルパラフィン、イ
ソパラフィンおよびナフテンから選ばれた少なくとも一
種の炭化水素１０〜９０重量％とを必須成分として含有
することを特徴とするインキおよびペースト用洗浄剤組
成物。 一般式 Ｒ1 Ｏ−Ｃ3 Ｈ6 Ｏ−Ｒ2 （ただし、式中Ｒ1 は炭素数１〜３のアルキル基、Ｒ2
は炭素数１〜３のアルキル基または水素原子を表す。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はインキおよびペース
トの洗浄剤組成物に関するものであり、更に詳しくはレ
ジストインキ、オフセットインキ、ＵＶインキ、グラビ
アインキ、スクリーン印刷用インキ、フレキソインキ等
の各種インキやソルダーペースト、カーボンペースト、
メタルペースト等の各種ペーストの洗浄、剥離に適した
洗浄剤組成物に関する。本発明のインキおよびペースト
用洗浄剤組成物は印刷工業、塗料工業あるいは電子工業
など多くの場面で用いることが出来る。
トの洗浄剤組成物に関するものであり、更に詳しくはレ
ジストインキ、オフセットインキ、ＵＶインキ、グラビ
アインキ、スクリーン印刷用インキ、フレキソインキ等
の各種インキやソルダーペースト、カーボンペースト、
メタルペースト等の各種ペーストの洗浄、剥離に適した
洗浄剤組成物に関する。本発明のインキおよびペースト
用洗浄剤組成物は印刷工業、塗料工業あるいは電子工業
など多くの場面で用いることが出来る。
【０００２】
【従来の技術およびその問題点】従来、各種印刷、電子
回路板製造、あるいは計器板製造など幅広い分野でイン
キ、ペーストが使用されているが、耐候性、作業性ある
いは精度の向上を図るため、種々のインキ、ペーストが
開発され、使い分けられている。
回路板製造、あるいは計器板製造など幅広い分野でイン
キ、ペーストが使用されているが、耐候性、作業性ある
いは精度の向上を図るため、種々のインキ、ペーストが
開発され、使い分けられている。
【０００３】通常、各種インキ、ペーストを用いた印刷
で、インキ、ペーストの種類あるいは色替え、版替えお
よび中断後に再開する際などに、インキ壷、インキ供給
ローラーなどのインキ供給系や各種印刷用スクリーン
版、メタルマスク版、グラビア版などに付着したイン
キ、ペーストを洗浄除去する必要がある。しかし、イン
キ、ペーストはその種類、例えばベースポリマーの種
類、あるいは紫外線硬化、熱硬化または蒸気硬化などの
硬化機構の種類などにより、溶剤に対する溶解性が非常
に異なるため、どのインキ、ペーストにも適応可能な洗
浄力を有するためには強力な溶解力が要求される。
で、インキ、ペーストの種類あるいは色替え、版替えお
よび中断後に再開する際などに、インキ壷、インキ供給
ローラーなどのインキ供給系や各種印刷用スクリーン
版、メタルマスク版、グラビア版などに付着したイン
キ、ペーストを洗浄除去する必要がある。しかし、イン
キ、ペーストはその種類、例えばベースポリマーの種
類、あるいは紫外線硬化、熱硬化または蒸気硬化などの
硬化機構の種類などにより、溶剤に対する溶解性が非常
に異なるため、どのインキ、ペーストにも適応可能な洗
浄力を有するためには強力な溶解力が要求される。
【０００４】このため従来は、上記用途のインキ、ペー
スト洗浄剤としては、溶解力の大きな１，１，１ートリ
クロルエタンやトリクロルエチレンなどのハロゲン化炭
化水素を主剤としたものが広く用いられている（例え
ば、特開昭６０ー２３８３９８号公報、特開昭６２ー１
５８７９８号公報、特開平２ー７３８９９号公報）。し
かし、これらのハロゲン化炭化水素系の溶剤は人体に対
する毒性が懸念されるうえ、オゾン層破壊という地球環
境保全面での問題も生じ、その使用が規制されつつあ
る。
スト洗浄剤としては、溶解力の大きな１，１，１ートリ
クロルエタンやトリクロルエチレンなどのハロゲン化炭
化水素を主剤としたものが広く用いられている（例え
ば、特開昭６０ー２３８３９８号公報、特開昭６２ー１
５８７９８号公報、特開平２ー７３８９９号公報）。し
かし、これらのハロゲン化炭化水素系の溶剤は人体に対
する毒性が懸念されるうえ、オゾン層破壊という地球環
境保全面での問題も生じ、その使用が規制されつつあ
る。
【０００５】このため、人体への安全性が高く、また環
境破壊のないインキ、ペースト洗浄剤として乳酸アルキ
ルエステルを主成分とするものが提案されている（特開
平３ー４１１７０号公報）。乳酸アルキルエステルは低
毒性であり、環境破壊、環境蓄積などもなく非常に安全
性の高い溶剤ではあるが、ポリマー系のインキに対する
溶解力が不十分であり、インキやペーストの洗浄剤とし
ては未だ満足できるものではない。
境破壊のないインキ、ペースト洗浄剤として乳酸アルキ
ルエステルを主成分とするものが提案されている（特開
平３ー４１１７０号公報）。乳酸アルキルエステルは低
毒性であり、環境破壊、環境蓄積などもなく非常に安全
性の高い溶剤ではあるが、ポリマー系のインキに対する
溶解力が不十分であり、インキやペーストの洗浄剤とし
ては未だ満足できるものではない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】このように、当業技術
分野では、非ハロゲン系溶剤を主成分とし、人体に対す
る毒性や安全性上の問題がなく、環境破壊物質の大気お
よび水系への排出がなく、環境への蓄積もなく、乾燥性
の良好な、しかも各種印刷インキ、ペースト類に対し高
い溶解力を有する洗浄剤の開発が重要な課題になってい
る。
分野では、非ハロゲン系溶剤を主成分とし、人体に対す
る毒性や安全性上の問題がなく、環境破壊物質の大気お
よび水系への排出がなく、環境への蓄積もなく、乾燥性
の良好な、しかも各種印刷インキ、ペースト類に対し高
い溶解力を有する洗浄剤の開発が重要な課題になってい
る。
【０００７】本発明は、前述したような従来のハロゲン
系洗浄剤や、乳酸アルキルエステル系の代替洗浄剤の持
つ欠点を克服し、低毒性で安全な溶媒系からなり、各種
インキやペーストに対する洗浄能力が高く、環境破壊物
質の大気および水系への排出が無く、環境への蓄積もな
く、不快臭も無く、しかも沸点も比較的高く安全で操作
性の良いインキおよびペースト用洗浄剤組成物を提供す
ることを目的としてなされたものである。
系洗浄剤や、乳酸アルキルエステル系の代替洗浄剤の持
つ欠点を克服し、低毒性で安全な溶媒系からなり、各種
インキやペーストに対する洗浄能力が高く、環境破壊物
質の大気および水系への排出が無く、環境への蓄積もな
く、不快臭も無く、しかも沸点も比較的高く安全で操作
性の良いインキおよびペースト用洗浄剤組成物を提供す
ることを目的としてなされたものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の好
ましい性質を有するインキおよびペースト用洗浄剤を開
発すべく鋭意研究を重ねた結果、特定のプロピレングリ
コールアルキルエーテルと特定の炭化水素とからなる組
成物が各種印刷インキ、ペースト類に対し高い溶解力を
有し、著しく良好な洗浄、剥離作用を示し、かつ不快臭
も無く、乾燥性に優れており、その目的に適合すること
を見いだし、本発明に到達した。
ましい性質を有するインキおよびペースト用洗浄剤を開
発すべく鋭意研究を重ねた結果、特定のプロピレングリ
コールアルキルエーテルと特定の炭化水素とからなる組
成物が各種印刷インキ、ペースト類に対し高い溶解力を
有し、著しく良好な洗浄、剥離作用を示し、かつ不快臭
も無く、乾燥性に優れており、その目的に適合すること
を見いだし、本発明に到達した。
【０００９】すなわち、本発明は、下記の一般式（１）
で表されるプロレングリコールアルキルエーテル１０〜
９０重量％と常圧での沸点が８０℃以上１６０℃未満で
あるノルマルパラフィン、イソパラフィンおよびナフテ
ンから選ばれた少なくとも１種の炭化水素１０〜９０重
量％とを必須成分として含むことを特徴とするインキお
よびペースト用洗浄剤組成物に関する。
で表されるプロレングリコールアルキルエーテル１０〜
９０重量％と常圧での沸点が８０℃以上１６０℃未満で
あるノルマルパラフィン、イソパラフィンおよびナフテ
ンから選ばれた少なくとも１種の炭化水素１０〜９０重
量％とを必須成分として含むことを特徴とするインキお
よびペースト用洗浄剤組成物に関する。
【化５】 Ｒ1 Ｏ−Ｃ3 Ｈ6 Ｏ−Ｒ2 ・・・（１） （ただし、式中Ｒ1 は炭素数１〜３のアルキル基、Ｒ2
は炭素数１〜３のアルキル基または水素原子を表す。）
は炭素数１〜３のアルキル基または水素原子を表す。）
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明のインキおよびペースト用洗浄剤組成物は、プロ
ピレングリコールアルキルエーテルと特定の炭化水素と
を含有することが重要な点である。
本発明のインキおよびペースト用洗浄剤組成物は、プロ
ピレングリコールアルキルエーテルと特定の炭化水素と
を含有することが重要な点である。
【００１１】プロピレングリコールアルキルエーテル
（一般式（１）に相当）としては、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノノルマルプロピ
ルエーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルエ
ーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロ
ピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコ
ールジイソプロピルエーテル、プロピレングリコールメ
チルエチルエーテル、プロピレングリコールメチルノル
マルプロピルエーテル、プロピレングリコールエチルノ
ルマルプロピルエーテルなどが挙げられる。これらの中
で、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピ
レングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコ
ールモノノルマルプロピルエーテル、プロピレングリコ
ールモノイソプロピルエーテルが洗浄性、乾燥性の点か
ら好ましい。特にプロピレングリコールモノメチルエー
テル、プロピレングリコールモノノルマルプロピルエー
テルが好ましい。これらのプロピレングリコールアルキ
ルエーテルは単独で用いてもよいし、また２種類以上を
組み合わせて用いてもよい。
（一般式（１）に相当）としては、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノノルマルプロピ
ルエーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルエ
ーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロ
ピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコ
ールジイソプロピルエーテル、プロピレングリコールメ
チルエチルエーテル、プロピレングリコールメチルノル
マルプロピルエーテル、プロピレングリコールエチルノ
ルマルプロピルエーテルなどが挙げられる。これらの中
で、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピ
レングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコ
ールモノノルマルプロピルエーテル、プロピレングリコ
ールモノイソプロピルエーテルが洗浄性、乾燥性の点か
ら好ましい。特にプロピレングリコールモノメチルエー
テル、プロピレングリコールモノノルマルプロピルエー
テルが好ましい。これらのプロピレングリコールアルキ
ルエーテルは単独で用いてもよいし、また２種類以上を
組み合わせて用いてもよい。
【００１２】上記一般式（１）のプロピレングリコール
アルキルエーテルにおいて、Ｒ1 またはＲ2 が炭素数４
以上のアルキル基の場合、またはプロピレングリコール
アルキルエーテルの代わりにジプロピレングリコールア
ルキルエーテル類やトリプロピレングリコールアルキル
エーテル類を用いた場合には、洗浄剤組成物の乾燥性が
著しく悪化するので好ましくない。
アルキルエーテルにおいて、Ｒ1 またはＲ2 が炭素数４
以上のアルキル基の場合、またはプロピレングリコール
アルキルエーテルの代わりにジプロピレングリコールア
ルキルエーテル類やトリプロピレングリコールアルキル
エーテル類を用いた場合には、洗浄剤組成物の乾燥性が
著しく悪化するので好ましくない。
【００１３】本発明で用いる炭化水素は、常圧での沸点
が８０℃以上１６０℃未満であるノルマルパラフィン、
イソパラフィンまたはナフテンである。具体例として
は、ノルマルヘプタン、ノルマルオクタン、ノルマルノ
ナン、イソヘプタン、イソオクタン、イソノナン、イソ
デカン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等があ
げられる。また、リグロイン、石油ナフサ等のノルマル
パラフィン、イソパラフィン、ナフテンを主成分とする
石油留分も用いられる。これらの中で、ノルマルオクタ
ン、ノルマルノナン、イソオクタン、イソノナン、イソ
デカンまたはこれらを主成分とする石油留分が乾燥性の
点から好ましい。特にイソオクタン、イソノナンが好ま
しい。これらの炭化水素は単独で用いてもよいし、また
２種類以上を組み合わせて用いてもよい。炭化水素の沸
点が８０℃以下の場合には引火点が低くなること、また
１６０℃以上の場合には乾燥性が悪くなるので好ましく
ない。
が８０℃以上１６０℃未満であるノルマルパラフィン、
イソパラフィンまたはナフテンである。具体例として
は、ノルマルヘプタン、ノルマルオクタン、ノルマルノ
ナン、イソヘプタン、イソオクタン、イソノナン、イソ
デカン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等があ
げられる。また、リグロイン、石油ナフサ等のノルマル
パラフィン、イソパラフィン、ナフテンを主成分とする
石油留分も用いられる。これらの中で、ノルマルオクタ
ン、ノルマルノナン、イソオクタン、イソノナン、イソ
デカンまたはこれらを主成分とする石油留分が乾燥性の
点から好ましい。特にイソオクタン、イソノナンが好ま
しい。これらの炭化水素は単独で用いてもよいし、また
２種類以上を組み合わせて用いてもよい。炭化水素の沸
点が８０℃以下の場合には引火点が低くなること、また
１６０℃以上の場合には乾燥性が悪くなるので好ましく
ない。
【００１４】本発明のインキおよびペースト用洗浄剤組
成物におけるプロピレングリコールアルキルエーテルの
割合は、その用途や配合などにより異なるが、通常は１
０〜９０重量％、好ましくは２０〜９０重量％、特に好
ましくは３０〜９０重量％である。
成物におけるプロピレングリコールアルキルエーテルの
割合は、その用途や配合などにより異なるが、通常は１
０〜９０重量％、好ましくは２０〜９０重量％、特に好
ましくは３０〜９０重量％である。
【００１５】本発明のインキおよびペースト用洗浄剤組
成物における炭化水素の割合は、その用途や配合などに
より異なるが、通常は１０〜９０重量％、好ましくは１
０〜８０重量％、特に好ましくは１０〜７０重量％であ
る。
成物における炭化水素の割合は、その用途や配合などに
より異なるが、通常は１０〜９０重量％、好ましくは１
０〜８０重量％、特に好ましくは１０〜７０重量％であ
る。
【００１６】本発明におけるプロピレングリコールアル
キルエーテルと炭化水素を含有する洗浄剤組成物は、下
記の一般式（２）、（３）または（４）で表されるオキ
シイソ酪酸エステルを併用することができる。これによ
り洗浄効果が一層向上する。
キルエーテルと炭化水素を含有する洗浄剤組成物は、下
記の一般式（２）、（３）または（４）で表されるオキ
シイソ酪酸エステルを併用することができる。これによ
り洗浄効果が一層向上する。
【化５】
【化６】
【化７】 （ただし、前記各式中、Ｒ3 およびＲ4 は炭素数１〜４
のアルキル基を表す。）
のアルキル基を表す。）
【００１７】オキシイソ酪酸アルキルエステルとして
は、αーメトキシイソ酪酸メチル、αーメトキシイソ酪
酸エチル、αーエトキシイソ酪酸メチル、αーエトキシ
イソ酪酸エチルなどのαーアルコシイソ酪酸アルキルエ
ステル（一般式（２）に相当）、βーメトキシイソ酪酸
メチル、βーメトキシイソ酪酸エチル、βーエトキシイ
ソ酪酸メチル、βーエトキシイソ酪酸エチルなどのβー
アルコシイソ酪酸アルキルエステル（一般式（３）に相
当）、αーヒドロキシイソ酪酸メチルまたはαーヒドロ
キシイソ酪酸エチルなどのαーヒドロシイソ酪酸アルキ
ルエステル（一般式（４）に相当）が挙げられる。特に
βーメトキシイソ酪酸メチルまたはαーヒドロキシイソ
酪酸メチルが洗浄力の点から好ましい。これらのオキシ
イソ酪酸アルキルエステルとしては単独で用いてもよい
し、また２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
は、αーメトキシイソ酪酸メチル、αーメトキシイソ酪
酸エチル、αーエトキシイソ酪酸メチル、αーエトキシ
イソ酪酸エチルなどのαーアルコシイソ酪酸アルキルエ
ステル（一般式（２）に相当）、βーメトキシイソ酪酸
メチル、βーメトキシイソ酪酸エチル、βーエトキシイ
ソ酪酸メチル、βーエトキシイソ酪酸エチルなどのβー
アルコシイソ酪酸アルキルエステル（一般式（３）に相
当）、αーヒドロキシイソ酪酸メチルまたはαーヒドロ
キシイソ酪酸エチルなどのαーヒドロシイソ酪酸アルキ
ルエステル（一般式（４）に相当）が挙げられる。特に
βーメトキシイソ酪酸メチルまたはαーヒドロキシイソ
酪酸メチルが洗浄力の点から好ましい。これらのオキシ
イソ酪酸アルキルエステルとしては単独で用いてもよい
し、また２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【００１８】前記洗浄剤組成物にオキシイソ酪酸アルキ
ルエステル類を併用する場合、その含有量は用途や配合
などにより異なるが、前記洗浄剤組成物５０〜９９重量
部に対してオキシイソ酪酸アルキルエステル類が１〜５
０重量部の範囲とするのがよい。
ルエステル類を併用する場合、その含有量は用途や配合
などにより異なるが、前記洗浄剤組成物５０〜９９重量
部に対してオキシイソ酪酸アルキルエステル類が１〜５
０重量部の範囲とするのがよい。
【００１９】また、本発明における洗浄剤組成物は、水
やアルコール類、エステル類、エーテル類、ケトン類、
アミド類などの他の有機溶剤とも良く相溶するし、各種
のインキ、ペースト類に対して優れた洗浄作用や、水リ
ンス性能の付与など優れた性能を発揮することがある。
このため、本発明における洗浄剤組成物は、水や他の有
機溶剤と混合して用いることもできる。
やアルコール類、エステル類、エーテル類、ケトン類、
アミド類などの他の有機溶剤とも良く相溶するし、各種
のインキ、ペースト類に対して優れた洗浄作用や、水リ
ンス性能の付与など優れた性能を発揮することがある。
このため、本発明における洗浄剤組成物は、水や他の有
機溶剤と混合して用いることもできる。
【００２０】本発明の洗浄剤組成物は、レジストイン
キ、オフセットインキ、ＵＶインキ、グラビアインキ、
シルクスクリーンインキ、フレキソインキ等の各種イン
キ、ソルダーペースト、カーボンペースト、メタルペー
スト等の各種ペーストに対して有効に適用できる。ま
た、本発明の洗浄剤組成物により洗浄する被洗浄物とし
ては、例えば印刷工程で使用されるインキ壷、インキ供
給ローラー等のインキ供給部品、印刷用スクリーン版、
メタルマスク版、グラビア版等の各種印刷版およびスキ
ージ等のスクリーン印刷時に使用される付属品等が挙げ
られる。
キ、オフセットインキ、ＵＶインキ、グラビアインキ、
シルクスクリーンインキ、フレキソインキ等の各種イン
キ、ソルダーペースト、カーボンペースト、メタルペー
スト等の各種ペーストに対して有効に適用できる。ま
た、本発明の洗浄剤組成物により洗浄する被洗浄物とし
ては、例えば印刷工程で使用されるインキ壷、インキ供
給ローラー等のインキ供給部品、印刷用スクリーン版、
メタルマスク版、グラビア版等の各種印刷版およびスキ
ージ等のスクリーン印刷時に使用される付属品等が挙げ
られる。
【００２１】本発明の洗浄剤組成物を用いてインキ、ペ
ーストを洗浄する場合、その洗浄方法としては、超音波
洗浄、スプレー洗浄、液中噴流洗浄、浸漬洗浄や、洗浄
剤を染み込ませたウエス等での拭き取りによる洗浄等の
方法が用いられる。
ーストを洗浄する場合、その洗浄方法としては、超音波
洗浄、スプレー洗浄、液中噴流洗浄、浸漬洗浄や、洗浄
剤を染み込ませたウエス等での拭き取りによる洗浄等の
方法が用いられる。
【００２２】
【実施例】以下、本発明を実施例および比較例によって
具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定
されるものではない。
具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定
されるものではない。
【００２３】（１）インキまたはペーストの洗浄性評価
試験 表面を研磨したステンレス（ＳＵＳ−３０４）板（５０
×２０×２ｍｍ）に下記Ａ〜Ｅの市販インキまたはペー
ストをバーコーダーで均一に塗布したものを被洗物とし
て用いた。 Ａ ： 計器板文字用インキ（緑色、セルロース系） Ｂ ： ソルダーレジストインキ（緑色、２液型） Ｃ ： グラビアインキ（包装紙用、溶剤型） Ｄ ： ソルダーペースト（ＲＭＡタイプ） Ｅ ： カーボンペースト（フェノール系） インキまたはペーストを塗布してから１時間後、本発明
の組成の洗浄剤（液温２０℃）の入った超音波洗浄機中
に被洗物を投入し、３０秒間超音波洗浄し、乾燥した
後、残存付着量を測定し評価した。なお、残存付着量の
測定は目視および光学顕微鏡にて判定した。 ： 目視及び光学顕微鏡にて残存付着物なし △ ： 目視では残存付着物はないが、光学顕微鏡では
あり × ： 目視にて残存付着物あり
試験 表面を研磨したステンレス（ＳＵＳ−３０４）板（５０
×２０×２ｍｍ）に下記Ａ〜Ｅの市販インキまたはペー
ストをバーコーダーで均一に塗布したものを被洗物とし
て用いた。 Ａ ： 計器板文字用インキ（緑色、セルロース系） Ｂ ： ソルダーレジストインキ（緑色、２液型） Ｃ ： グラビアインキ（包装紙用、溶剤型） Ｄ ： ソルダーペースト（ＲＭＡタイプ） Ｅ ： カーボンペースト（フェノール系） インキまたはペーストを塗布してから１時間後、本発明
の組成の洗浄剤（液温２０℃）の入った超音波洗浄機中
に被洗物を投入し、３０秒間超音波洗浄し、乾燥した
後、残存付着量を測定し評価した。なお、残存付着量の
測定は目視および光学顕微鏡にて判定した。 ： 目視及び光学顕微鏡にて残存付着物なし △ ： 目視では残存付着物はないが、光学顕微鏡では
あり × ： 目視にて残存付着物あり
【００２４】（２）洗浄剤の乾燥性評価試験 直径９ｃｍのシャーレ中に直径６ｃｍのＮｏ．４濾紙を
１枚敷き、濾紙上に本発明の洗浄剤０．５ｇを平均的に
塗布した。これをフード付き実験台（気温２０℃）に置
き、洗浄剤が完全に蒸発するまでの時間を測定した。 ： ５分未満で完全に蒸発した △ ： ５分以上１０分未満で完全に蒸発した × ： 完全に蒸発するまでに１０分以上要した
１枚敷き、濾紙上に本発明の洗浄剤０．５ｇを平均的に
塗布した。これをフード付き実験台（気温２０℃）に置
き、洗浄剤が完全に蒸発するまでの時間を測定した。 ： ５分未満で完全に蒸発した △ ： ５分以上１０分未満で完全に蒸発した × ： 完全に蒸発するまでに１０分以上要した
【００２５】実施例１〜１２ 本発明の洗浄剤組成物について、インキまたはペースト
用としての洗浄性評価試験並びに洗浄剤の乾燥性評価試
験を行った。試験に使用した洗浄剤組成物を表１に、ま
た評価試験の結果を表２に示す。
用としての洗浄性評価試験並びに洗浄剤の乾燥性評価試
験を行った。試験に使用した洗浄剤組成物を表１に、ま
た評価試験の結果を表２に示す。
【００２６】
【００２７】
【００２８】比較例１〜６ 従来、インキまたはペースト用として使用されている洗
浄剤を用いた以外は上記実施例と同様な方法で洗浄性評
価試験並びに乾燥性評価試験を行った。試験に使用した
洗浄剤組成物を表３に、また評価試験の結果を表４に示
す。
浄剤を用いた以外は上記実施例と同様な方法で洗浄性評
価試験並びに乾燥性評価試験を行った。試験に使用した
洗浄剤組成物を表３に、また評価試験の結果を表４に示
す。
【００２９】
【００３０】
【００３１】
【発明の効果】本発明のインキおよびペースト洗浄剤組
成物は次のような利点を有する。 （１）各種インキ、ペースト類に対する溶解性が極めて
高い。 （２）不快臭がない。 （３）乾燥性に優れている。 （４）低毒性であり、安全性が高い。 （５）生分解性があり、自然界への蓄積がない。 （６）各種印刷版や印刷関連部品などに使用される部材
を侵さない。 （７）所要の各成分を単に混合するだけで、容易に調製
できる。
成物は次のような利点を有する。 （１）各種インキ、ペースト類に対する溶解性が極めて
高い。 （２）不快臭がない。 （３）乾燥性に優れている。 （４）低毒性であり、安全性が高い。 （５）生分解性があり、自然界への蓄積がない。 （６）各種印刷版や印刷関連部品などに使用される部材
を侵さない。 （７）所要の各成分を単に混合するだけで、容易に調製
できる。
Claims (2)
- 【請求項１】 下記の一般式（１）で表されるプロレン
グリコールアルキルエーテル１０〜９０重量％と常圧で
の沸点が８０℃以上１６０℃未満であるノルマルパラフ
ィン、イソパラフィンおよびナフテンから選ばれた少な
くとも１種の炭化水素１０〜９０重量％とを必須成分と
して含むことを特徴とするインキおよびペースト用洗浄
剤組成物。 【化１】 Ｒ1 Ｏ−Ｃ3 Ｈ6 Ｏ−Ｒ2 ・・・（１） （ただし、式中Ｒ1 は炭素数１〜３のアルキル基、Ｒ2
は炭素数１〜３のアルキル基または水素原子を表す。） - 【請求項２】 請求項１記載の洗浄剤組成物に、下記の
一般式（２）、（３）および（４）で表されるオキシイ
ソ酪酸エステルより選ばれた少なくとも１種の化合物を
加えてなる請求項１記載のインキおよびペースト用洗浄
剤組成物。 【化２】 【化３】 【化４】 （ただし、前記各式中、Ｒ3 およびＲ4 は炭素数１〜４
のアルキル基を表す。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10206996A JP3586512B2 (ja) | 1996-04-02 | 1996-04-02 | インキおよびペースト用洗浄剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10206996A JP3586512B2 (ja) | 1996-04-02 | 1996-04-02 | インキおよびペースト用洗浄剤組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09272898A true JPH09272898A (ja) | 1997-10-21 |
| JP3586512B2 JP3586512B2 (ja) | 2004-11-10 |
Family
ID=14317485
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10206996A Expired - Lifetime JP3586512B2 (ja) | 1996-04-02 | 1996-04-02 | インキおよびペースト用洗浄剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3586512B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6290732B1 (en) | 1999-11-09 | 2001-09-18 | Ecolab Inc. | Laundry process with enhanced ink soil removal |
| JP2001329296A (ja) * | 2000-05-24 | 2001-11-27 | Neos Co Ltd | レンズ製造工程用洗浄剤組成物 |
| JP2002012895A (ja) * | 2000-06-29 | 2002-01-15 | Chemiprokasei Kaisha Ltd | 洗浄用組成物 |
| US6569252B1 (en) * | 2000-06-30 | 2003-05-27 | International Business Machines Corporation | Semi-aqueous solvent cleaning of paste processing residue from substrates |
| WO2023008356A1 (ja) * | 2021-07-30 | 2023-02-02 | 三菱瓦斯化学株式会社 | シンナー組成物、及び該シンナー組成物を用いた半導体デバイスの製造方法 |
-
1996
- 1996-04-02 JP JP10206996A patent/JP3586512B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6290732B1 (en) | 1999-11-09 | 2001-09-18 | Ecolab Inc. | Laundry process with enhanced ink soil removal |
| JP2001329296A (ja) * | 2000-05-24 | 2001-11-27 | Neos Co Ltd | レンズ製造工程用洗浄剤組成物 |
| JP2002012895A (ja) * | 2000-06-29 | 2002-01-15 | Chemiprokasei Kaisha Ltd | 洗浄用組成物 |
| US6569252B1 (en) * | 2000-06-30 | 2003-05-27 | International Business Machines Corporation | Semi-aqueous solvent cleaning of paste processing residue from substrates |
| WO2023008356A1 (ja) * | 2021-07-30 | 2023-02-02 | 三菱瓦斯化学株式会社 | シンナー組成物、及び該シンナー組成物を用いた半導体デバイスの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3586512B2 (ja) | 2004-11-10 |
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