JP3953925B2

JP3953925B2 - 洗浄剤、それを用いた油類、インキ、フラックス、液晶セルの洗浄方法、およびレジストの剥離方法

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Publication number: JP3953925B2
Application number: JP2002272016A
Authority: JP
Inventors: 恭之高柳; 賢史遠藤; 直樹菅間
Original assignee: Mitsubishi Chemical Corp; Mitsubishi Rayon Co Ltd
Current assignee: Mitsubishi Chemical Corp; Mitsubishi Rayon Co Ltd
Priority date: 1993-06-15
Filing date: 2002-09-18
Publication date: 2007-08-08
Anticipated expiration: 2022-08-08
Also published as: JP2003155500A

Description

【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は洗浄剤、それを用いた油類、インキ、フラックス、液晶セルの洗浄方法、およびレジストの剥離方法に関する。
【０００２】
【従来技術およびその問題点】
溶剤の利用は化学工業の発展に重要な役割を果たしてきたが、特に近年の高分子化学工業の著しい発達に伴い塗料、接着剤、印刷インキ等の分野で使用される溶剤の重要性は益々増大してきた。一般に、塗料、接着剤、印刷インキなどは基剤である高分子化合物を使用時に操作性良く、処理面へ均一に密着塗布するために溶剤に溶解して溶液状で用いる。このため使用する溶剤は操作性の良さはもとより、基剤である高分子化合物に対する大きな溶解性や塗布面の均一性を損なわない適度な溶剤の揮発性が非常に重要となる。すなわち、塗料、接着剤、印刷インキなどの性能の良否は溶剤の選択に大きく依存するとも言える。
【０００３】
従来、塗料、接着剤、印刷インキ等の分野で常用されているセルロース樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル樹脂などのビニル樹脂、アルキッド樹脂、ポリエステル樹脂などの洗浄剤としてはグリコールエーテル系のセロソルブ類、特に酢酸セロソルブ（エチルセロソルブアセテート）がその優れた性能から賞用されてきた。しかしながら、最近では公害問題等から化学物質の安全性に対する要求が極めて大きくなり、この酢酸セロソルブも毒性問題から使用制限が強化され、労働安全衛生法により作業環境管理濃度基準が設定されている。
【０００４】
このため酢酸セロソルブに代わり得る溶解性を持ち、しかも安全性の懸念のない代替溶剤の開発が活発に行われている。例えば、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メトキシプロパノール、β−エトキシプロピオン酸エチルなどが有力代替溶媒候補として検討されているが、溶解力、安全性、臭気、操作性など必ずしも満足できる性能でないことがわかった。これらの中でも安全性の観点からは食品添加物としても認可されている乳酸エチルが最も好ましいと考えられるが、高分子化合物および各種添加剤に対する溶解性の点では十分満足できるとは言えない。また、溶解性の観点からはβ−メトキシプロピオン酸メチルやβ−エトキシプロピオン酸エチルなどのβ−アルコキシプロピオン酸アルキルエステル類が最も好ましいと考えられるが、これとても高分子化合物あるいは各種添加剤に対する溶解性や塗布後の揮発性の点では未だ満足できるとは言いがたい。このためβ−メトキシプロピオン酸メチルとβ−エトキシプロピオン酸エチルの混合物として溶剤物性を改善する提案などがなされているが（特許文献１参照）、調製が煩雑であり工業溶媒としては適当でない。このように酢酸セロソルブと同等の性能を持った実用性のある溶剤は未だ見当たらない。
【０００５】
また、溶剤は前述のような用途のほか、切削油、加工油、プレス油、防錆油、潤滑油、グリースあるいはピッチなどとして用いられている油類の洗浄用に、あるいはハンダフラックス、インキ、液晶などの洗浄用等に用いられているが、これらの洗浄剤としては、フロン１１３（１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン）、メチルクロロホルム（１，１，１−トリクロロエタン）およびトリクロロエチレンなどハロゲン系溶剤を主体にしたものが広く用いられている。特にフロン１１３は不燃性で毒性も低く、安定性も優れており、しかも金属、プラスチック、エラストマー等を侵さず、各種の汚れを選択的に溶解する性質があるため、幅広く用いられていた。しかし、フロン１１３およびメチルクロロホルムは成層圏のオゾン層を破壊し、ひいては皮膚ガンの発生を引き起こす原因となることから、その使用が急速に制限されつつある。また、トリクロロエチレンは発ガン性の疑いが持たれるなどこれも安全性の面から使用が制限されつつある。
【０００６】
このためフロン１１３等に代わり得る洗浄性を持ち、しかもオゾン層破壊の懸念のない代替フロン系洗浄剤の開発が活発に行われている。例えば、１，２−ジフルオロエタンを主成分とするもの（特許文献２参照）、１，１−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロエタンとジメトキシメタンの混合物（特許文献３参照）およびヘキサフルオロベンゼンを主成分とするもの（特許文献４参照）など多くの代替フロンが提案されている。しかし、これらの溶剤も性能的にフロン１１３に及ばないほか、将来的にはこれらのハロゲン系溶媒も環境問題と安全性の問題から全面的に使用規制される方向に進んでいるため本質的な解決にはほど遠い。
【０００７】
一方、人体への安全性が高く、また環境破壊のない脱脂用洗浄剤としてノニオン系界面活性剤と乳酸アルキルエステルを主成分とするもの（特許文献５参照）、ノニオン系界面活性剤とアジピン酸エステルを主成分とするもの（特許文献６参照）、ノニオン界面活性剤とポリアルキレングリコールジアルキルエーテルを主成分とするもの（特許文献７参照）、ノニオン界面活性剤とＮ−メチルピロリドンなどを主成分とするもの（特許文献８参照）、ノニオン系界面活性剤とグリセリンアセタート類を主成分とするもの（特許文献９参照）、アルコールと脂肪酸エステルを主成分とするもの（特許文献１０参照）などの提案がある。乳酸アルキルエステル、Ｎ−メチルピロリドンなどは低毒性であり、環境破壊、環境蓄積などもなく非常に安全性の高い溶剤ではあるが、上記特許比較例からも明らかなように溶剤単独では油脂類に対する溶解力が不十分であり、界面活性剤などの洗浄助剤の併用が不可欠であるなど脱脂用洗浄剤としては未だ満足できるものではない。
【０００８】
また、人体への安全性が高く、また環境破壊のないインキ洗浄剤として乳酸アルキルエステルを主成分とするものが提案されている（特許文献１１参照）。乳酸アルキルエステルは低毒性であり、環境破壊、環境蓄積などもなく
非常に安全性の高い溶剤ではあるが、ポリマー系のインキに対する溶解力が不十分であり、インキ洗浄剤としては未だ満足できるものではない。
【０００９】
【特許文献１】
特開平３−２８４６５１号公報
【特許文献２】
特開平１−１３２６９４号公報
【特許文献３】
特開平２−１７８３９６号公報
【特許文献４】
特開平３−１６７２９８号公報
【特許文献５】
特開平４−６８０８８号公報
【特許文献６】
特開平４−５９９８５号公報
【特許文献７】
特開平４−５９９８４号公報
【特許文献８】
特開平４−６８０９４号公報
【特許文献９】
特開平４−６８０９２号公報
【特許文献１０】
特開平４−６８０９０号公報
【特許文献１１】
特開平３−４１１７０号公報
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
このように当業技術分野では、人体に対する毒性や安全性上の問題もなく、しかも塗料、接着剤、印刷インキ等の主成分である高分子化合物、油脂、ハンダフラックス、液晶、農薬、化粧品等の有機化合物や各種添加剤に対し高い溶解力を有する酢酸セロソルブ、フロン１１３、メチルクロロホルム等の代替溶剤の開発が重要な課題になっている。
【００１１】
本発明は、前述したような従来の酢酸セロソルブ、フロン１１３、メチルクロロホルム等の代替溶媒の持つ欠点を克服し、低毒性で安全な溶媒系からなり、溶解能力が高く、環境破壊性物質の生成がなく、不快臭がなく、しかも沸点も比較的高く安全で操作性の良い洗浄剤を提供することを目的としてなされたものである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、前記の好ましい性質を有する洗浄剤を開発すべく鋭意研究を重ねた結果、α−アルコキシイソ酪酸アルキルエステル、β−アルコキシイソ酪酸アルキルエステル、およびα−ヒドロキシイソ酪酸アルキルエステルなどのオキシイソ酪酸エステル類がその目的に適合することを見いだし、本発明に到達した。
【００１３】
すなわち本発明は、下記の一般式［１］で表されるα−アルコキシイソ酪酸アルキルエステル
【化３】

および下記の一般式［２］で表されるα−ヒドロキシイソ酪酸アルキルエステル
【化４】

（ただし、前記各式中のＲ^１およびＲ^２は炭素数１〜４のアルキル基を表す。）
から選ばれた少なくとも一種のオキシイソ酪酸エステルを有効成分として含むことを特徴とする洗浄剤に関する。
【００１４】
本発明の洗浄剤は、オキシイソ酪酸アルキルエステルを含有することが重要な点である。オキシイソ酪酸エステルとしては、α−メトキシイソ酪酸メチル、α−メトキシイソ酪酸エチル、α−エトキシイソ酪酸メチル、α−エトキシイソ酪酸エチルなどのα−アルコキシイソ酪酸アルキルエステル（一般式［１］に相当）；およびα−ヒドロキシイソ酪酸メチル、α−ヒドロキシイソ酪酸エチル、α−ヒドロキシイソ酪酸イソプロピルまたはα−ヒドロキシイソ酪酸ブチルなどのα−ヒドロキシイソ酪酸アルキルエステル（一般式［２］に相当）が挙げられ、特にα−メトキシイソ酪酸メチル、α−エトキシイソ酪酸エチル、α−ヒドロキシイソ酪酸メチル、α−ヒドロキシイソ酪酸エチル、α−ヒドロキシイソ酪酸イソプロピルまたはα−ヒドロキシイソ酪酸ブチルが溶解力および揮発性などの点から好ましい。本発明組成物は脱脂、インキ、フラックス、液晶セルなどの洗浄剤、レジスト剥離剤として用いることもできる。
【００１５】
脱脂用洗浄剤用としては、特にα−メトキシイソ酪酸メチル、α−エトキシイソ酪酸エチル、α−ヒドロキシイソ酪酸メチル、α−ヒドロキシイソ酪酸エチル、α−ヒドロキシイソ酪酸イソプロピルまたはα−ヒドロキシイソ酪酸ブチルが好ましい。
インキ洗浄剤としては、特にα−メトキシイソ酪酸メチル、α−ヒドロキシイソ酪酸メチル、α−ヒドロキシイソ酪酸エチルまたはα−ヒドロキシイソ酪酸ブチルが好ましい。
【００１６】
フラックス洗浄剤としては、特にα−メトキシイソ酪酸メチル、α−エトキシイソ酪酸エチル、α−ヒドロキシイソ酪酸メチル、α−ヒドロキシイソ酪酸エチル、α−ヒドロキシイソ酪酸イソプロピルまたはα−ヒドロキシイソ酪酸ブチルが好ましい。
【００１７】
液晶セル用洗浄剤としては、特にα−メトキシイソ酪酸メチル、α−ヒドロキシイソ酪酸メチル、α−ヒドロキシイソ酪酸エチルまたはα−ヒドロキシイソ酪酸ブチルが好ましい。
【００１８】
また、レジスト剥離剤としては、特にα−メトキシイソ酪酸メチル、α−エトキシイソ酪酸エチル、α−ヒドロキシイソ酪酸メチル、α−ヒドロキシイソ酪酸エチル、α−ヒドロキシイソ酪酸イソプロピルまたはα−ヒドロキシイソ酪酸ブチルが好ましい。
【００１９】
これらのα−アルコキシイソ酪酸アルキルエステル（一般式［１］に相当）、およびα−ヒドロキシイソ酪酸アルキルエステル（一般式［２］に相当）は、単独で用いてもよいし、また２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２０】
本発明におけるα−アルコキシイソ酪酸アルキルエステルおよびα−ヒドロキシイソ酪酸アルキルエステルは、アルコール、エステル、ケトン、アミド、芳香族等の他の一般有機溶剤とも良く相溶し、通常の炭化水素系の各種油脂類はもとより、セルロース系樹脂等の天然樹脂やエポキシ樹脂、アクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル樹脂などのビニル樹脂、アルキッド樹脂、ポリエステル樹脂、ノボラック樹脂等の合成樹脂など広範囲の高分子化合物に対して極めて優れた溶解性を有している。このため、これら本発明のオキシイソ酪酸エステル類は、溶剤として単独で使用することができるが、他の有機溶媒に対する希釈剤や助溶剤としても優れた性能を発揮するので、オキシイソ酪酸エステルに有機溶媒を併用した溶剤組成物として使用することもできる。その割合は任意であるが、オキシイソ酪酸エステルの安全性、溶解性などを効果的に発現させるためには、オキシイソ酪酸エステルを５重量％以上、好ましくは１０重量％以上とするのがよい。
【００２１】
併用される水または有機溶媒は、特に制限されるものでなく、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、アミド類、脂族族または芳香族炭化水素など幅広く使用できるが、好ましいものとしては例えば、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、メチルイソブチルカルビノール、ヘプタノール、オクタノール、ノナノール、３−メチルブタノール、プロピレングリコール、３−メトキシブタノール、３−メチル−３−メトキシブタノール、３，５，５−トリメチル−１−ヘキサノール、２−エチル−１−ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、ピロリドン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−エチルヘキシルアセテート、シクロヘキシルアセテート、ベンジルアセテート、ジベンジルエーテル、ニトロメタン、ニトロエタン、アセトニトリル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トルエン、キシレン、ヘキサンおよびシクロヘキサンなどが挙げられ、好ましくは水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ヘプタノール、オクタノール、３−メチルブタノール、３−メトキシブタノール、３−メチル−３−メトキシブタノール、３，５，５−トリメチル−１−ヘキサノール、２−エチル−１−ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−エチルヘキシルアセテート、シクロヘキシルアセテート、ベンジルアセテート、ジベンジルエーテル、アセトニトリル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トルエン、キシレンなどである。
【００２２】
脱脂用洗浄剤としては、好ましくはイソプロパノール、ブタノール、ヘプタノール、オクタノール、３−メチルブタノール、３−メトキシブタノール、３−メチル−３−メトキシブタノール、３，５，５−トリメチル−１−ヘキサノール、２−エチル−１−ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−エチルヘキシルアセテート、シクロヘキシルアセテート、ベンジルアセテート、ジベンジルエーテル、アセトニトリル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トルエン、キシレンなどである。
【００２３】
インキ洗浄剤としては、好ましくは水、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ヘプタノール、オクタノール、３−メチルブタノール、３−メトキシブタノール、３−メチル−３−メトキシブタノール、３，５，５−トリメチル−１−ヘキサノール、２−エチル−１−ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−エチルヘキシルアセテート、シクロヘキシルアセテート、ベンジルアセテート、ジベンジルエーテル、アセトニトリル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トルエン、キシレンなどである。
【００２４】
フラックス洗浄剤としては、好ましくは水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ヘプタノール、オクタノール、３−メチルブタノール、３−メトキシブタノール、３−メチル−３−メトキシブタノール、３，５，５−トリメチル−１−ヘキサノール、２−エチル−１−ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−エチルヘキシルアセテート、シクロヘキシルアセテート、ベンジルアセテート、ジベンジルエーテル、アセトニトリル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ニトロメタン、ニトロエタン、トルエン、キシレンなどである。
【００２５】
液晶セル用洗浄剤としては、好ましくはイソプロパノール、ブタノール、ヘプタノール、オクタノール、３−メチルブタノール、３−メトキシブタノール、３−メチル−３−メトキシブタノール、３，５，５−トリメチル−１−ヘキサノール、２−エチル−１−ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−エチルヘキシルアセテート、シクロヘキシルアセテート、ベンジルアセテート、ジベンジルエーテル、アセトニトリル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ニトロメタン、ニトロエタン、トルエン、キシレンなどである。
【００２６】
また、レジスト剥離剤としては、好ましくはエタノール、イソプロパノール、ブタノール、３−メチルブタノール、３−メトキシブタノール、３−メチル−３−メトキシブタノール、２−エチル−１−ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−エチルヘキシルアセテート、シクロヘキシルアセテート、ベンジルアセテート、ジベンジルエーテル、アセトニトリル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トルエン、キシレンなどである。
【００２７】
これらの有機溶媒及び水は２種類以上を組み合わせて用いることもできる。これらの有機溶媒や水の併用により、洗浄性、安全性、操作性などを適宜調節し、また改善することができる。
【００２８】
本発明におけるα−アルコキシイソ酪酸アルキルエステルおよびα−ヒドロキシイソ酪酸アルキルエステルは、沸点が高く、蒸発速度が比較的遅いので、高沸点溶剤として使用される。混合溶剤に配合すると展延性の改良、塗面の平滑化、樹脂の融着などに対し作用効果を発現し、性能と作業性の向上がはかれる。
【００２９】
本発明の洗浄剤中におけるα−アルコキシイソ酪酸アルキルエステルおよびα−ヒドロキシイソ酪酸アルキルエステルの含有量（合計）は、用途により異なるが、通常は５重量％程度以上、好ましくは１０重量％以上であることが好ましい。
【００３０】
【実施例】
以下、本発明を実施例および比較例によって具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００３１】
実施例１〜４
本発明のオキシイソ酪酸アルキルエステルについて、他の溶剤との相溶性を調べるために、オキシイソ酪酸アルキルエステルと他の代表的溶剤とを容積比１／１の割合で三角フラスコに採り、混合して室温で静置して相溶性を観察した。
【００３２】
比較例１
オキシイソ酪酸アルキルエステルの代わりに従来汎用されていた酢酸セロソルブを用いて、実施例１〜４と同様の方法で酢酸セロソルブの相溶性を観察した。
【００３３】
上記の実施例１〜４および比較例１の結果を表１、２に示す。なお、相溶性の程度は目視により判定した。
○ ：完全に均一混合
△ ：白濁
× ：二相分離
【００３４】
【表１】

ただし、α−ＭＢＭ：α−メトキシイソ酪酸メチル
β−ＭＢＭ：β−メトキシイソ酪酸メチル
α−ＨＢＭ：α−ヒドロキシイソ酪酸メチル
【００３５】
【表２】

ただし、β−ＭＢＭ／α−ＨＢＭ：β−ＭＢＭ／α−ＨＢＭ混合
（重量比：３０／７０）
ＥＣＡ：酢酸セロソルブ
【００３６】
実施例５
本発明のオキシイソ酪酸アルキルエステルの蒸発速度を測定した。測定法は、Ｎｏ．４の濾紙（９５ｍｍφ）に試料０．７５ｇを平均的に塗布し、それをフード付き実験台中、２５℃で放置し、一定時間毎に重量測定して蒸発量を求め、蒸発速度を算出した。この時、酢酸ブチルをスタンダード（１００）とした。
【００３７】
比較例２
従来から溶剤として用いられている酢酸セロソルブ、乳酸エチルおよびβ−メトキシプロピオン酸メチルについて、実施例５と同様の方法で蒸発速度を測定した。
【００３８】
上記の実施例５および比較例２の結果を表３に示す。
【表３】

【００３９】
実施例６
β−メトキシイソ酪酸メチルの各種樹脂に対する溶解力を測定した。１００ｍｌの三角フラスコに樹脂２．０ｇを秤り採り、β−メトキシイソ酪酸メチル２０ｍｌを加え、２５℃に保ち撹拌しながら樹脂の溶け具合を見て溶解時間を測定した。
【００４０】
比較例３
β−メトキシイソ酪酸メチルの代わりに酢酸セロソルブを用いた以外は実施例６と同様の方法で溶解力を測定した。
【００４１】
上記の実施例６および比較例３の結果を表４に示す。
【表４】

【００４２】
実施例７〜１１
オキシイソ酪酸アルキルエステルのエポキシ樹脂に対する溶解力を測定した。１００ｍｌの三角フラスコにエポキシ樹脂（エピコート１００７：油化シェルエポキシ製）２．０ｇを秤り採り、オキシイソ酪酸アルキルエステル２０ｍｌを加えた。２５℃に保ち撹拌しながら樹脂の溶け具合を見て溶解時間を測定した。
【００４３】
比較例４〜６
オキシイソ酪酸アルキルエステルの代わりに酢酸セロソルブ、乳酸エチルまたはβ−メトキシプロピオン酸メチルを用いた以外は実施例７〜１１と同様の方法で実験を行った。
【００４４】
上記の実施例７〜１１および比較例４〜６の結果を表５に示す。
【表５】

【００４５】
【考察】
（１）本発明のオキシイソ酪酸エステルは、従来からの汎用溶剤ＥＣＡなどと同等またはそれ以上の相溶性を有し、幅広い他の溶剤との混合使用が可能なことがわかる（表１、表２）。
（２）エステル基の選択により、所望の蒸発速度が選べる。たとえば、本発明のオキシイソ酪酸エステルは、従来から多用されている酢酸セロソルブや乳酸エチルに比較して約２〜３倍の蒸発速度をもつことから、揮発性の良い溶媒系を作ることができる（表３）。
（３）塗料、接着剤等によく用いられる各種樹脂の溶解時間を比較すると、本発明のオキシイソ酪酸エステルは、従来の汎用溶剤よりも溶解時間が短く、樹脂溶解性に優れていることがわかる（表４、表５）。
【００４６】
実施例１２〜３０（脱脂用洗浄剤としての実施例）
表面を研磨したステンレス板（５０×２０×２ｍｍ）に下記Ａ〜Ｃの市販の油脂類を均一に塗布したものをテストピースとして用いた。
Ａ：切削油（出光興産製、ダフニーマーグプラスＬＡ１５）
Ｂ：プレス油（日本石油製、ユニプレスＤＰ１２０）
Ｃ：グリース（昭和シェル石油製、アルバニアグリース１）
油脂を塗布してから１時間後、本発明の組成の脱脂用洗浄剤の入った洗浄ビン中にテストピースを投入し、４０℃で５分間振盪した後、熱風乾燥してから、残存付着量を測定し評価した。
なお、残存付着量の測定は、目視および金属顕微鏡にて判定した。
○：目視および金属顕微鏡にて残存付着物なし。
△：目視では残存付着物ないが、金属顕微鏡ではあり。
×：目視にて残存付着物あり。
結果は表６、７に示した。
【００４７】
比較例７〜１０
従来組成の脱脂用洗浄剤を用いた以外は、実施例１２〜３０と同様な方法で評価試験を行った結果を表６、７に示した。
【００４８】
【表６】

【００４９】
【表７】

【００５０】
実施例３１〜４９（インキ洗浄剤の実施例）
表面を研磨したアルミ板（５０×２０×２ｍｍ）に下記Ａ〜Ｄの市販インキをバーコーダーで均一に塗布したものをテストピースとして用いた。
Ａ：計器板文字用インキ（緑色、セルロース樹脂系）
Ｂ：ソルダーレジストインキ（緑色、熱硬化タイプ）
Ｃ：マーキングインキ（白色、紫外線硬化タイプ）
Ｄ：スクリーン印刷インキ（白色、塩ビ−アクリル系）
インキ塗布してから１時間後、本発明の組成のインキ洗浄剤の入った洗浄ビン中にテストピースを投入し、室温下で３０秒間振盪し、乾燥した後、残存付着量を測定し評価した。
なお、残存付着量の測定は、目視および金属顕微鏡にて判定した。
○ ：目視および金属顕微鏡にて残存付着物なし。
△ ：目視では、残存付着物ないが、金属顕微鏡ではあり。
× ：目視にて残存不着物あり。
結果は表８，９，１０に示した。
【００５１】
比較例１１〜１４
従来組成のインキ洗浄剤を用いた以外は、実施例３１〜４９と同様な方法で評価試験を行った結果を表１０に示した。
【００５２】
【表８】

【００５３】
【表９】

【００５４】
【表１０】

【００５５】
実施例５０〜６８（フラックス洗浄剤の実施例）
プリント基板（銅張積層板）全面に市販のフラックス〔ソルダーライトフラックスＢ−１１１Ｒ，（株）タムラ製作所製〕（なお、本発明の洗浄剤が適用されるハンダおよびフラックスは特に制限されず、通常使用されているものの中から任意に選ぶことができる。）を均一に塗布した後、１００℃で予備乾燥し、ついで２２０℃で焼き付けしたものを被洗物として用いた。
洗浄試験は、被洗物の基板を表１１、１２に示す本発明の洗浄剤中に室温で５分間浸漬振盪した後、水洗、乾燥し、被洗物表面の残存付着量を測定し、洗浄力を評価した。
【００５６】
比較例１５〜１６
比較のために、フラックス洗浄剤にフロン１１３あるいは乳酸メチルを用いたこと以外は、上記実施例の方法に準じて洗浄試験を行った。
【００５７】
上記の実施例および比較例の結果を表１１，１２，１３に示す。
なお、残存付着量の測定は、目視および金属顕微鏡にて判定した。
○：目視および金属顕微鏡にて残渣なし。
△：目視では残渣ないが、金属顕微鏡ではあり。
×：目視にて残渣あり。
【００５８】
【表１１】

【００５９】
【表１２】

【００６０】
【表１３】

【００６１】
実施例６９〜８２（フラックス洗浄剤の実施例）
プリント基板（銅張積層板）全面に市販のフラックス〔タムラＦ−Ａｌ−４、（株）タムラ製作所製〕を均一に塗布した後、１００℃で予備乾燥し、ついで２２０℃で焼き付けしたものを被洗物として用いた。
洗浄試験は、被洗物の基板を表１４，１５に示す本発明の洗浄剤中に、４０℃で５分間浸漬振盪した後、水洗、乾燥し、被洗物表面の残存付着量を測定し、洗浄力を評価した。
【００６２】
比較例１７〜１８
比較のために、フラックス洗浄剤にフロン１１３あるいは乳酸メチルを用いたこと以外は、上記実施例の方法に準じて洗浄試験を行った。
【００６３】
上記の実施例および比較例の結果を表１４，１５に示す。
なお、残存付着量の測定は、目視および金属顕微鏡にて判定した。
○：目視および金属顕微鏡にて残渣なし。
△：目視では残渣ないが、金属顕微鏡ではあり。
×：目視にて残渣あり。
【００６４】
【表１４】

【００６５】
【表１５】

【００６６】
実施例８３〜１０１（液晶セル用洗浄剤の実施例）
表面を洗浄したガラス板（６０×３０×１ｍｍ）２枚とスペーサーにより空隙部１０μにしたセルの空隙部に市販の液晶（メルクジャパン社製、ＺＬＩ−１５６５）を封入し液晶セルを作成する。
この液晶セルを本発明の組成の液晶セル用洗浄剤１００ｍｌ中で、室温下１０分間浸漬洗浄を行う。ついで、セルを熱風乾燥した後、セルのガラス板上およびセルの周囲への液晶の残存付着量を測定した。
なお、残存付着量の測定は、目視および偏光顕微鏡にて判定した。
○ ：目視および偏光顕微鏡にて残存付着物なし。
△ ：目視では残存付着物ないが、偏光顕微鏡ではあり。
× ：目視にて残存不着物あり。
結果は表１６，１７，１８に示した。
【００６７】
比較例１９〜２２
従来組成の液晶セル用洗浄剤を用いた以外は、上記実施例と同様な方法で評価試験を行った結果を表１８に示した。
【００６８】
【表１６】

【００６９】
【表１７】

【００７０】
【表１８】

【００７１】
実施例１０２〜１１１（レジスト剥離剤の実施例）
シリコンウエハー上に市販の微細加工用ポジ型フォトレジスト（東京応化製、ＯＦＰＲ−８００）をスピンナー（回転数３０００ｒｐｍ）により均一に塗布した後、９０℃で３０分プレベークし、ついで紫外線を露光してパターンを焼き付ける。アルカリ現像液（東京応化製、ＮＭＤ−Ｗ）で２５℃、１分間、現像した後、純水で３０秒リンスしたものを、１３０℃、３０分ポストベークして被洗物として用いた。剥離試験は被洗物を表１９に示す本発明のレジスト剥離剤中に５分間浸漬振盪した後、水洗、乾燥し、被洗物表面の残存付着量を測定し剥離力を評価した。
【００７２】
なお、本発明のレジスト剥離剤が適用されるフォトレジストとしては、何等限定されず、通常使用されているポジ型またはネガ型の光露光用レジスト、遠紫外露光用レジスト、Ｘ線または電子線用レジストなどの中から任意に選ぶことができる。これらのレジストの材質としては主成分がノボラック樹脂系、環化ゴム系、ポリケイ皮酸系、（メタ）アクリル樹脂系、（メタ）アクリル酸共重合体系、ポリヒドロキシスチレン系など多くのものが知られているが、本発明のレジスト剥離剤は、いずれも有効である。
【００７３】
本発明のレジスト剥離剤は、レジストの剥離効果を向上させるために、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸、フェノールスルホン酸、あるいはメチル、プロピル、ヘプチル、オクチル、デシル、ドデシル等のアルキルベンゼンスルホン酸などの剥離促進剤を併用することもできる。剥離促進剤の使用量は、通常剥離剤全量の５〜３０重量％程度である。
【００７４】
また、剥離力の向上などのため、ノニオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、またはカチオン系界面活性剤などの界面活性剤や、酸性化合物または塩基性化合物を必要により併用することもできる。
【００７５】
比較例２３〜２７
比較のために、剥離剤に酢酸セロソルブ、乳酸エチルあるいはβ−メトキシプロピオン酸メチルを用いたこと以外は、上記実施例の方法に準じて剥離試験を行った。
【００７６】
上記の実施例および比較例の結果を表１９，２０に示す。
なお、残存付着量の測定は、目視および金属顕微鏡にて判定した。
【００７７】
○ ：目視および金属顕微鏡にて残存付着物なし。
△ ：目視では、残存付着物ないが、金属顕微鏡ではあり。
× ：目視にて残存不着物あり。
【００７８】
【表１９】

【００７９】
【表２０】

【００８０】
【発明の効果】
１．本発明の洗浄剤は、非常に優れた溶解性を有する上、不快臭がなく、環境保全上の問題もなく、且つ安全性も高い。また、本発明は次のような利点を有する。
（１）天然および合成高分子化合物類に対する溶解性が極めて高い。
（２）多くの有機溶剤と自由に混和する。
（３）生分解性であり、自然界への蓄積がない。
（４）低毒性であり、催奇形性などがなく、安全性が高い。
（５）沸点及び引火点が比較的高く、操作性や安全性も著しく向上する。
（６）基剤を侵さない。
【００８１】
２．本発明の脱脂用洗浄剤は、前項１の効果に加えて、きわめて洗浄性、剥離性に優れている。また、本発明は次のような利点を有する。
（１）各種油脂類に対する溶解性が極めて高く、油脂、グリースの剥離除去性に優れる。
（２）水溶性であり、水系での使用が可能である。
【００８２】
３．インキはその種類（例えば、ベースポリマーの種類あるいは紫外線硬化、熱硬化または蒸発硬化などの硬化機構の種類など）により溶剤に対する溶解性が非常に異なるため、どのインキにも適応可能な洗浄力を有するためには強力な溶解力が要求されるが、本発明のインキ洗浄剤は、前項１の効果に加えて、きわめて洗浄性、剥離性に優れている上、各種インキ類に対する溶解性が極めて高く、インキの剥離除去性に優れている。
【００８３】
４．本発明のフラックス洗浄剤は、前項１の効果に加えて、フラックスに対する溶解性が極めて高く、洗浄除去性に優れる。
【００８４】
５．液晶セルで繊細な画像表示をするためには、ガラス基板上の電極端子を高密度配線する必要がある。しかし、高密度配線された端子配線間の絶縁を維持することは容易ではなく、極微量の汚染物質が基板面上に存在するだけでも、絶縁不良による画像表示欠陥を生じたり、経時的な電触による断線を生じて液晶セルの表示機能を破壊してしまうなどの問題を生じる。特に液晶セル基板間への液晶の注入時に毛管現象により一部余分な液晶が基板間の空隙部などに付着するが、これを放置すると、鮮明な表示画像が得られないばかりでなく、付着液晶化合物が大気中の汚染物質を溶解し絶縁不良を起こし易くなる。このため余分に付着した必要のない液晶は除去しなければならないが、狭い空隙部などに付着しているため完全に除去洗浄するのは非常に困難である。ところが、本発明の液晶セル用洗浄剤はこれらの問題を一挙に解消し、前項１の効果を生かして、各種液晶類に対する溶解性が極めて高く、高い洗浄力と剥離性を発揮し、特に汚染物の剥離除去性に優れている。
【００８５】
６．本発明のレジスト剥離剤は、前項１の効果に加えて、フォトレジストに対する溶解性が極めて高く、剥離除去性に優れている。

Claims

下記の一般式［１］で表されるα−アルコキシイソ酪酸アルキルエステル

および下記の一般式［２］で表されるα−ヒドロキシイソ酪酸アルキルエステル

（ただし、前記各式中のＲ^１およびＲ^２は炭素数１〜４のアルキル基を表す。）
から選ばれた少なくとも一種のオキシイソ酪酸エステルを有効成分として含むことを特徴とする洗浄剤（ただし、酸、界面活性剤、フロン系溶剤は実質的に含有しない）。
少なくとも一種のオキシイソ酪酸エステルに、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、メチルイソブチルカルビノール、ヘプタノール、オクタノール、ノナノール、３−メチルブタノール、プロピレングリコール、３−メトキシブタノール、３−メチル−３−メトキシブタノール、３，５，５−トリメチル−１−ヘキサノール、２−エチル−１−ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、ピロリドン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−エチルヘキシルアセテート、シクロヘキシルアセテート、ベンジルアセテート、ジベンジルエーテル、ニトロメタン、ニトロエタン、アセトニトリル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トルエン、キシレン、ヘキサンおよびシクロヘキサンよりなる群から選ばれた少なくとも一種の化合物を加えてなる請求項１記載の洗浄剤。
オキシイソ酪酸エステルが、α−メトキシイソ酪酸メチル、α−メトキシイソ酪酸エチル、α−エトキシイソ酪酸メチル、α−エトキシイソ酪酸エチル、α−ヒドロキシイソ酪酸メチル、α−ヒドロキシイソ酪酸エチル、α−ヒドロキシイソ酪酸イソプロピルまたはα−ヒドロキシイソ酪酸ブチルである請求項１または２記載の洗浄剤。
請求項１、２または３記載の洗浄剤を用いることを特徴とする油類、インキまたはフラックスの洗浄方法。
請求項１、２または３記載の洗浄剤を用いることを特徴とする液晶セルの洗浄方法。
請求項１、２または３記載の洗浄剤を用いることを特徴とするレジストの剥離方法。