JP2002012895A - 洗浄用組成物 - Google Patents
洗浄用組成物Info
- Publication number
- JP2002012895A JP2002012895A JP2000196906A JP2000196906A JP2002012895A JP 2002012895 A JP2002012895 A JP 2002012895A JP 2000196906 A JP2000196906 A JP 2000196906A JP 2000196906 A JP2000196906 A JP 2000196906A JP 2002012895 A JP2002012895 A JP 2002012895A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- viscosity
- cst
- cleaning
- present
- less
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Detergent Compositions (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 フロン、代替フロン、塩素系溶剤あるいはト
ルエン、キシレンなどの炭化水素に代わり、オゾン層を
破壊せず人体にも安全で、廃水処理に難点がなく、かつ
極性のものから非極性のものまで広い範囲に至って高い
洗浄能力を発揮できる電子部品、機械、精密部品などの
洗浄に適した洗浄用組成物の提供。 【解決手段】 （Ａ）２０℃における粘度が８ｃｓｔ以
下で、炭素数１〜９のグリコールエーテル系化合物と
（Ｂ）２０℃における粘度が４ｃｓｔ以下で、炭素数５
〜１６の脂肪族および／または脂環族の炭化水素とから
なることを特徴とする洗浄用組成物。
ルエン、キシレンなどの炭化水素に代わり、オゾン層を
破壊せず人体にも安全で、廃水処理に難点がなく、かつ
極性のものから非極性のものまで広い範囲に至って高い
洗浄能力を発揮できる電子部品、機械、精密部品などの
洗浄に適した洗浄用組成物の提供。 【解決手段】 （Ａ）２０℃における粘度が８ｃｓｔ以
下で、炭素数１〜９のグリコールエーテル系化合物と
（Ｂ）２０℃における粘度が４ｃｓｔ以下で、炭素数５
〜１６の脂肪族および／または脂環族の炭化水素とから
なることを特徴とする洗浄用組成物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＬＳＩ、精密機
械、精密機械部品、ガラス、プラスチック表面などのフ
ラックス、油脂汚れ、金属粉末や塩による汚れなどの洗
浄に適した新規洗浄用組成物に関する。
械、精密機械部品、ガラス、プラスチック表面などのフ
ラックス、油脂汚れ、金属粉末や塩による汚れなどの洗
浄に適した新規洗浄用組成物に関する。
【０００２】
【従来技術】前記技術分野の洗浄にさいしては、従来、
環境や人体に問題のあるフロン、代替フロン、トリクロ
ロエタンあるいはトルエン、キシレンなどの芳香族炭化
水素などが洗浄剤として用いられてきた。しかしなが
ら、これらの溶剤は、人体に有害であるだけではなく、
オゾン層を破壊するなど地球環境を悪化させるおそれが
あり、その代替品の出現が強く求められている。
環境や人体に問題のあるフロン、代替フロン、トリクロ
ロエタンあるいはトルエン、キシレンなどの芳香族炭化
水素などが洗浄剤として用いられてきた。しかしなが
ら、これらの溶剤は、人体に有害であるだけではなく、
オゾン層を破壊するなど地球環境を悪化させるおそれが
あり、その代替品の出現が強く求められている。
【０００３】このような状況下で、グリコールエーテル
を洗浄剤成分として使用することが提案されているが、
この場合はいずれのケースもグリコールエーテルの水溶
性である性質を利用し、界面活性剤とともに水系で利用
するものであり、その効果はまだ充分満足できるもので
はない。
を洗浄剤成分として使用することが提案されているが、
この場合はいずれのケースもグリコールエーテルの水溶
性である性質を利用し、界面活性剤とともに水系で利用
するものであり、その効果はまだ充分満足できるもので
はない。
【０００４】さらに、特開平５−１２５３９５号公報に
おいては、グリコール系溶剤、アミン類および／または
界面活性剤からなる洗浄用組成物が開示されているが、
アミン類や界面活性剤を使用すると廃液処理にいろいろ
な問題点が生じる。
おいては、グリコール系溶剤、アミン類および／または
界面活性剤からなる洗浄用組成物が開示されているが、
アミン類や界面活性剤を使用すると廃液処理にいろいろ
な問題点が生じる。
【０００５】また、特開平３−３７３００号公報には、
（ａ）炭素数５〜１０の脂肪族二価アルコールモノ低級
アルキルエーテルと（ｂ）炭素数１２〜１６のパラフィ
ン系炭化水素とからなるブレーキ装置用の非水系洗浄剤
が提案されている。しかしながら、前記（ｂ）成分の具
体例として挙げられているものはトリイソブチレンの三
量体（２，２，４，６，６−ペンタメチルヘプタン）、
トリイソブチレンの四量体（２，２，４，７，９，９−
ヘキサメチルデカン）、２−モノエチルジシクロヘキサ
ン、２−モノプロピルジシクロヘキサンであり、これら
はいずれも３００℃以上の高い沸点を有する化合物であ
るから、必然的に特開平３−３７３００号発明の洗浄剤
は高い沸点をもつとともに、高粘度のものである。ＬＳ
Ｉなどの細かい（最狭凹み幅０．２ｍｍ以下）凹部や孔
をもつ物品の洗浄が必要となってきているが、このよう
な物品の洗浄には、この種、高粘度高沸点の洗浄剤で
は、凹部の洗浄が充分できないのみではなく、高沸点の
ため洗浄剤が物品から揮発せずに残存し、絶縁不良をお
こすなどの欠陥が生じることが判ってきた。
（ａ）炭素数５〜１０の脂肪族二価アルコールモノ低級
アルキルエーテルと（ｂ）炭素数１２〜１６のパラフィ
ン系炭化水素とからなるブレーキ装置用の非水系洗浄剤
が提案されている。しかしながら、前記（ｂ）成分の具
体例として挙げられているものはトリイソブチレンの三
量体（２，２，４，６，６−ペンタメチルヘプタン）、
トリイソブチレンの四量体（２，２，４，７，９，９−
ヘキサメチルデカン）、２−モノエチルジシクロヘキサ
ン、２−モノプロピルジシクロヘキサンであり、これら
はいずれも３００℃以上の高い沸点を有する化合物であ
るから、必然的に特開平３−３７３００号発明の洗浄剤
は高い沸点をもつとともに、高粘度のものである。ＬＳ
Ｉなどの細かい（最狭凹み幅０．２ｍｍ以下）凹部や孔
をもつ物品の洗浄が必要となってきているが、このよう
な物品の洗浄には、この種、高粘度高沸点の洗浄剤で
は、凹部の洗浄が充分できないのみではなく、高沸点の
ため洗浄剤が物品から揮発せずに残存し、絶縁不良をお
こすなどの欠陥が生じることが判ってきた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、フロ
ン、代替フロン、塩素系溶剤あるいはトルエン、キシレ
ンなどの炭化水素に代わり、オゾン層を破壊せず人体に
も安全で、廃水処理に難点がなく、かつ極性のものから
非極性のものまで広い範囲に至って高い洗浄能力を発揮
できる電子部品、機械、精密部品などの洗浄に適した低
粘度、低沸点の洗浄用組成物を提供する点にある。
ン、代替フロン、塩素系溶剤あるいはトルエン、キシレ
ンなどの炭化水素に代わり、オゾン層を破壊せず人体に
も安全で、廃水処理に難点がなく、かつ極性のものから
非極性のものまで広い範囲に至って高い洗浄能力を発揮
できる電子部品、機械、精密部品などの洗浄に適した低
粘度、低沸点の洗浄用組成物を提供する点にある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の第一は、（Ａ）
２０℃における粘度が８ｃｓｔ以下、好ましくは７ｃｓ
ｔ以下、とくに好ましくは５ｃｓｔ以下で炭素数１〜９
のグリコールエーテル系化合物と（Ｂ）２０℃における
粘度が４ｃｓｔ以下、好ましくは２ｃｓｔ以下で、炭素
数５〜１６、好ましくは炭素数５〜１１の脂肪族および
／または脂環族の炭化水素とからなることを特徴とする
洗浄用組成物に関する。
２０℃における粘度が８ｃｓｔ以下、好ましくは７ｃｓ
ｔ以下、とくに好ましくは５ｃｓｔ以下で炭素数１〜９
のグリコールエーテル系化合物と（Ｂ）２０℃における
粘度が４ｃｓｔ以下、好ましくは２ｃｓｔ以下で、炭素
数５〜１６、好ましくは炭素数５〜１１の脂肪族および
／または脂環族の炭化水素とからなることを特徴とする
洗浄用組成物に関する。
【０００８】本発明の第二は、洗浄用組成物の沸点が２
６０℃以下、好ましくは１８０℃以下である前記洗浄用
組成物に関する。
６０℃以下、好ましくは１８０℃以下である前記洗浄用
組成物に関する。
【０００９】本発明で用いる炭素数１〜９のグリコール
エーテル系化合物（Ａ）は、水に対する溶解度がほぼ無
限大のものであり、イソパラフィンやシクロヘキサンな
どの炭素数５〜１６の脂肪族および／または脂環族炭化
水素（Ｂ）と自由に混合、溶解できるので、本発明にお
いては、極性が極端に異なるこれら（Ａ）成分と（Ｂ）
成分の配合割合を自由に変更して、フラックス洗浄用か
らＬＳＩあるいはオイルの洗浄にいたる極めて幅広い洗
浄用途に有効である。
エーテル系化合物（Ａ）は、水に対する溶解度がほぼ無
限大のものであり、イソパラフィンやシクロヘキサンな
どの炭素数５〜１６の脂肪族および／または脂環族炭化
水素（Ｂ）と自由に混合、溶解できるので、本発明にお
いては、極性が極端に異なるこれら（Ａ）成分と（Ｂ）
成分の配合割合を自由に変更して、フラックス洗浄用か
らＬＳＩあるいはオイルの洗浄にいたる極めて幅広い洗
浄用途に有効である。
【００１０】本発明においては、（Ａ）成分や（Ｂ）成
分の粘度および配合割合を調節して洗浄用組成物の２０
℃における粘度を７ｃｓｔ以下、好ましくは４ｃｓｔ以
下と低くすることができるので、とくに最狭凹み幅また
は最狭孔幅が０．２ｍｍ以下、好ましくは０．１ｍｍ未
満、とくに好ましくは０．０５ｍｍ以下の微細溝をもつ
電子基板や精密機械部品などの洗浄に効果を発揮する。
分の粘度および配合割合を調節して洗浄用組成物の２０
℃における粘度を７ｃｓｔ以下、好ましくは４ｃｓｔ以
下と低くすることができるので、とくに最狭凹み幅また
は最狭孔幅が０．２ｍｍ以下、好ましくは０．１ｍｍ未
満、とくに好ましくは０．０５ｍｍ以下の微細溝をもつ
電子基板や精密機械部品などの洗浄に効果を発揮する。
【００１１】また、本発明における（Ａ）成分も（Ｂ）
成分も、それぞれ沸点が８０〜２６０℃の範囲の化合物
をカバーしているので、（Ａ）成分と（Ｂ）成分のなか
からそれぞれほぼ同程度の沸点をもつ成分を選択するこ
とにより、低沸点領域はもとより８０〜２６０℃の任意
の範囲の沸点をもつ洗浄用組成物を調合することが可能
である。とくに沸点が高くなると、前述のような微細溝
にはいり込んだ洗浄組成物が充分揮発できず、電子基板
の場合には絶縁不良の原因となるので、好ましくない。
したがって電子基板のための洗浄用組成物にあっては、
組成物の沸点が８０〜２６０℃のものが、とくに８０〜
１８０℃のものが好ましい。
成分も、それぞれ沸点が８０〜２６０℃の範囲の化合物
をカバーしているので、（Ａ）成分と（Ｂ）成分のなか
からそれぞれほぼ同程度の沸点をもつ成分を選択するこ
とにより、低沸点領域はもとより８０〜２６０℃の任意
の範囲の沸点をもつ洗浄用組成物を調合することが可能
である。とくに沸点が高くなると、前述のような微細溝
にはいり込んだ洗浄組成物が充分揮発できず、電子基板
の場合には絶縁不良の原因となるので、好ましくない。
したがって電子基板のための洗浄用組成物にあっては、
組成物の沸点が８０〜２６０℃のものが、とくに８０〜
１８０℃のものが好ましい。
【００１２】印刷インキなど樹脂成分を含む材料の洗浄
には、（Ｂ）成分としてシクロヘキサンのような脂環族
炭化水素の使用がとくに効果的である。
には、（Ｂ）成分としてシクロヘキサンのような脂環族
炭化水素の使用がとくに効果的である。
【００１３】本発明組成物は、被洗浄物により、好まし
い組成範囲がやや異なってくる。本発明に用いるグリコ
ールエーテル系化合物（Ａ）はオイルも溶解するが特に
極性の物質を溶解する効果が高く、本発明の脂肪族また
は脂環族炭化水素（Ｂ）はオイル洗浄力が非常に高い。
そのため、洗浄したい汚れの種類や素材の種類によっ
て、つまり、用途によって、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の
配合比率の範囲が存在する。又、実際の汚れは単一の物
質であることの方がむしろ少なく、オイルの中にも微量
の金属粉末や塩などの極性物質が混入していたり、フラ
ックス汚れにもオイル性のものが付着していたりするの
で、両方の成分を必ず含むことが現実的な洗浄力の向上
に非常に効果的である。用途別にその範囲をまとめると
以下の表１のようになる。
い組成範囲がやや異なってくる。本発明に用いるグリコ
ールエーテル系化合物（Ａ）はオイルも溶解するが特に
極性の物質を溶解する効果が高く、本発明の脂肪族また
は脂環族炭化水素（Ｂ）はオイル洗浄力が非常に高い。
そのため、洗浄したい汚れの種類や素材の種類によっ
て、つまり、用途によって、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の
配合比率の範囲が存在する。又、実際の汚れは単一の物
質であることの方がむしろ少なく、オイルの中にも微量
の金属粉末や塩などの極性物質が混入していたり、フラ
ックス汚れにもオイル性のものが付着していたりするの
で、両方の成分を必ず含むことが現実的な洗浄力の向上
に非常に効果的である。用途別にその範囲をまとめると
以下の表１のようになる。
【００１４】
【表１】
【００１５】本発明に用いる（Ａ）成分の炭素数１〜９
のグリコールエーテル系化合物としては、エチレングリ
コールジメチルエーテル(沸点ｂｐ８５℃、引火点ＦＰ
−２℃、＠２０℃の粘度１ｃｓｔ)、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテル(ｂｐ１２１℃、ＦＰ３２℃、
＠２０℃の粘度２ｃｓｔ)、エチレングリコールモノメ
チルエーテル(ｂｐ１２５℃、ＦＰ３９℃、＠２０℃の
粘度２ｃｓｔ)、プロピレングリコールモノプロピルエ
ーテル(ｂｐ１５０℃、ＦＰ４９℃、＠２０℃の粘度２
ｃｓｔ)、エチレングリコールモノイソプロピルエーテ
ル(ｂｐ１４２℃、ＦＰ４６℃、＠２０℃の粘度３ｃｓ
ｔ)、プロピレングリコールモノブチルエーテル(ｂｐ１
７０℃、ＦＰ６２℃、＠２０℃の粘度３ｃｓｔ)、ジプ
ロピレングリコールモノメチルエーテル(ｂｐ１８７
℃、ＦＰ７６℃、＠２０℃の粘度５ｃｓｔ)、ジエチレ
ングリコールモノブチルエーテル(ｂｐ２３１℃、ＦＰ
１１７℃、＠２０℃の粘度６ｃｓｔ)、エチレングリコ
ールモノイソプロピルエーテル(ｂｐ１４２℃、ＦＰ４
６℃、＠２０℃の粘度３ｃｓｔ)、ジエチレングリコー
ルジエチルエーテル(ｂｐ１６２℃、ＦＰ７１℃、＠２
０℃の粘度２ｃｓｔ)、トリエチレングリコールモノブ
チルエーテル(ｂｐ２７１℃、ＦＰ１５６℃、＠２０℃
の粘度８ｃｓｔ)などを挙げることができ、使用にあた
ってはこれらの１種または２種以上を選択使用すること
ができる。
のグリコールエーテル系化合物としては、エチレングリ
コールジメチルエーテル(沸点ｂｐ８５℃、引火点ＦＰ
−２℃、＠２０℃の粘度１ｃｓｔ)、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテル(ｂｐ１２１℃、ＦＰ３２℃、
＠２０℃の粘度２ｃｓｔ)、エチレングリコールモノメ
チルエーテル(ｂｐ１２５℃、ＦＰ３９℃、＠２０℃の
粘度２ｃｓｔ)、プロピレングリコールモノプロピルエ
ーテル(ｂｐ１５０℃、ＦＰ４９℃、＠２０℃の粘度２
ｃｓｔ)、エチレングリコールモノイソプロピルエーテ
ル(ｂｐ１４２℃、ＦＰ４６℃、＠２０℃の粘度３ｃｓ
ｔ)、プロピレングリコールモノブチルエーテル(ｂｐ１
７０℃、ＦＰ６２℃、＠２０℃の粘度３ｃｓｔ)、ジプ
ロピレングリコールモノメチルエーテル(ｂｐ１８７
℃、ＦＰ７６℃、＠２０℃の粘度５ｃｓｔ)、ジエチレ
ングリコールモノブチルエーテル(ｂｐ２３１℃、ＦＰ
１１７℃、＠２０℃の粘度６ｃｓｔ)、エチレングリコ
ールモノイソプロピルエーテル(ｂｐ１４２℃、ＦＰ４
６℃、＠２０℃の粘度３ｃｓｔ)、ジエチレングリコー
ルジエチルエーテル(ｂｐ１６２℃、ＦＰ７１℃、＠２
０℃の粘度２ｃｓｔ)、トリエチレングリコールモノブ
チルエーテル(ｂｐ２７１℃、ＦＰ１５６℃、＠２０℃
の粘度８ｃｓｔ)などを挙げることができ、使用にあた
ってはこれらの１種または２種以上を選択使用すること
ができる。
【００１６】本発明で用いる（Ｂ）成分の脂肪族炭化水
素としては、ｎ−ペンタン（ｂｐ３６．１℃）、ジメチ
ルエチルメタン、ｎ−ヘキサン（ｂｐ６８．８℃）、２
−メチルペンタン（ｂｐ６２℃）、３−メチルペンタン
（ｂｐ６３℃）、２，２−ジメチルブタン（ｂｐ５０
℃）、２，３−ジメチルブタン（ｂｐ５８℃）、ｎ−ヘ
プタン（ｂｐ９８．５℃）、２−メチルヘキサン、３−
メチルヘキサン、２，２−ジメチルペンタン、２，３−
ジメチルペンタン、２，４−ジメチルペンタン、３，３
−ジメチルペンタン、３−エチルペンタン、２，２，３
−トリメチルブタン、あるいはｎ−オクタン（ｂｐ１２
６℃）、ｎ−ノナン（ｂｐ１５１℃）、ｎ−デカン（ｂ
ｐ１７４℃）、ｎ−ウンデカン（ｂｐ１９６℃）、ｎ−
ドデカン（ｂｐ２１７℃）、ｎ−トリデカン（ｂｐ２３
４℃）、ｎ−テトラデカン（ｂｐ２５３℃）、ｎ−ペン
タデカン（ｂｐ２７１℃）、ｎ−ヘキサデカン（ｂｐ２
８７℃）などのパラフィンあるいはこれらのイソ構造体
（イソパラフィン）を挙げることができ、使用にあたっ
ては、これらの１種または２種以上を選択使用すること
ができる。たとえば、俗にいうイソパラフィンは、Ｃ６
〜Ｃ８あるいはＣ６〜Ｃ９の混合物などの形で石油中に
存在するが、このような混合物の形であっても本発明に
おいては充分使用できるし、また安価であるので、好都
合である。これらのイソパラフィンとしては、商品名Ｉ
Ｐソルベント１０１６(ｂｐ７３〜１４０℃、ＦＰ−１
２℃、＠２０℃の粘度１ｃｓｔ)、アイソパーＥ(ｂｐ１
１３〜１３８℃、ＦＰ７℃)、アイソパーＧ(ｂｐ１５６
〜１７５℃、ＦＰ４１℃、＠２０℃の粘度１ｃｓｔ) 、
アイソパーＭ(ｂｐ２０８〜２５４℃、ＦＰ８３℃、＠
２０℃の粘度３ｃｓｔ)などがある。
素としては、ｎ−ペンタン（ｂｐ３６．１℃）、ジメチ
ルエチルメタン、ｎ−ヘキサン（ｂｐ６８．８℃）、２
−メチルペンタン（ｂｐ６２℃）、３−メチルペンタン
（ｂｐ６３℃）、２，２−ジメチルブタン（ｂｐ５０
℃）、２，３−ジメチルブタン（ｂｐ５８℃）、ｎ−ヘ
プタン（ｂｐ９８．５℃）、２−メチルヘキサン、３−
メチルヘキサン、２，２−ジメチルペンタン、２，３−
ジメチルペンタン、２，４−ジメチルペンタン、３，３
−ジメチルペンタン、３−エチルペンタン、２，２，３
−トリメチルブタン、あるいはｎ−オクタン（ｂｐ１２
６℃）、ｎ−ノナン（ｂｐ１５１℃）、ｎ−デカン（ｂ
ｐ１７４℃）、ｎ−ウンデカン（ｂｐ１９６℃）、ｎ−
ドデカン（ｂｐ２１７℃）、ｎ−トリデカン（ｂｐ２３
４℃）、ｎ−テトラデカン（ｂｐ２５３℃）、ｎ−ペン
タデカン（ｂｐ２７１℃）、ｎ−ヘキサデカン（ｂｐ２
８７℃）などのパラフィンあるいはこれらのイソ構造体
（イソパラフィン）を挙げることができ、使用にあたっ
ては、これらの１種または２種以上を選択使用すること
ができる。たとえば、俗にいうイソパラフィンは、Ｃ６
〜Ｃ８あるいはＣ６〜Ｃ９の混合物などの形で石油中に
存在するが、このような混合物の形であっても本発明に
おいては充分使用できるし、また安価であるので、好都
合である。これらのイソパラフィンとしては、商品名Ｉ
Ｐソルベント１０１６(ｂｐ７３〜１４０℃、ＦＰ−１
２℃、＠２０℃の粘度１ｃｓｔ)、アイソパーＥ(ｂｐ１
１３〜１３８℃、ＦＰ７℃)、アイソパーＧ(ｂｐ１５６
〜１７５℃、ＦＰ４１℃、＠２０℃の粘度１ｃｓｔ) 、
アイソパーＭ(ｂｐ２０８〜２５４℃、ＦＰ８３℃、＠
２０℃の粘度３ｃｓｔ)などがある。
【００１７】本発明に用いるもう１つの（Ｂ）成分であ
る脂環族炭化水素としては、シクロペンタン（ｂｐ５０
℃）、シクロヘキサン（ｂｐ８１℃）あるいはこれらの
アルキル基置換体を挙げることができる。勿論、本発明
においては脂環族炭化水素同士の混合物として使用する
ことができるが、脂環族炭化水素と脂肪族炭化水素との
混合物の形でも使用することができる。
る脂環族炭化水素としては、シクロペンタン（ｂｐ５０
℃）、シクロヘキサン（ｂｐ８１℃）あるいはこれらの
アルキル基置換体を挙げることができる。勿論、本発明
においては脂環族炭化水素同士の混合物として使用する
ことができるが、脂環族炭化水素と脂肪族炭化水素との
混合物の形でも使用することができる。
【００１８】なお、本発明における（Ｂ）成分は、単一
品の場合炭素数が１２以上になると急激に高粘度となる
ので、混合物の一成分として使用する場合でもその含有
量には注意が必要である。
品の場合炭素数が１２以上になると急激に高粘度となる
ので、混合物の一成分として使用する場合でもその含有
量には注意が必要である。
【００１９】一方、銀あるいは銀メッキしたものの表面
は、着色しやすく、また光沢を失ってくもりやすいの
で、洗浄剤の選択が重要である。水道水、アルコール類
あるいはグリコールエーテル類をそれぞれ単独で使用し
て洗浄すると、銀表面にくもりや着色が生じるが、本発
明の（Ａ）成分と（Ｂ）成分を併用した洗浄剤を用いる
場合には、このような欠陥は生じにくい。
は、着色しやすく、また光沢を失ってくもりやすいの
で、洗浄剤の選択が重要である。水道水、アルコール類
あるいはグリコールエーテル類をそれぞれ単独で使用し
て洗浄すると、銀表面にくもりや着色が生じるが、本発
明の（Ａ）成分と（Ｂ）成分を併用した洗浄剤を用いる
場合には、このような欠陥は生じにくい。
【００２０】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれにより何等限定するものではない。なお、
以下の実施例における％は、いずれも重量％である。
本発明はこれにより何等限定するものではない。なお、
以下の実施例における％は、いずれも重量％である。
【００２１】実施例１ （１）本発明の洗浄用組成物は、下記の組成割合により
調整した。
調整した。
【表２】
【００２２】（２）試験片の作製 （ｉ）鉄製テストパネルに切削加工油を塗布して、切削
加工油用試験片とした。 （ii）基盤上でハンダ付けしたチップを、ハンダフラッ
クス用試験片とした。 （３）洗浄方法 各試験片を洗浄剤に５分間浸漬して引き上げ、汚れ落ち
効果を観察し、その結果を下記表に示す。
加工油用試験片とした。 （ii）基盤上でハンダ付けしたチップを、ハンダフラッ
クス用試験片とした。 （３）洗浄方法 各試験片を洗浄剤に５分間浸漬して引き上げ、汚れ落ち
効果を観察し、その結果を下記表に示す。
【表３】
【００２３】実施例２ 試験片 ：電子基板（最狭幅０．１ｍｍの穴を有するも
の） 洗浄方法：洗浄液１〜５にそれぞれ５分間づつ浸漬後引
き上げ、ついで同じ洗浄液を３０秒スプレー噴霧し、６
５℃の温風で１５分間乾燥した。
の） 洗浄方法：洗浄液１〜５にそれぞれ５分間づつ浸漬後引
き上げ、ついで同じ洗浄液を３０秒スプレー噴霧し、６
５℃の温風で１５分間乾燥した。
【表４】 評価方法は、洗浄後にリーク検査をし、１０ｎＡを超え
たものについて不良とした。
たものについて不良とした。
【００２４】
【発明の効果】（１）本発明により、無極性のものから
極性の強いものまでを広く洗浄することのできる新規洗
浄用組成物を提供することができた。 （２）本発明の洗浄用組成物は、環境や人体に問題があ
るフロン、代替フロン、トリクロロエタンあるいはトル
エン、キシレンなどの芳香族炭化水素を用いないので、
地球環境に極めて優しい組成物である。 （３）粘度や沸点が低いので、微細な溝や孔のあるもの
でも効率よく洗浄でき、かつ洗浄剤が残留するおそれも
ない。
極性の強いものまでを広く洗浄することのできる新規洗
浄用組成物を提供することができた。 （２）本発明の洗浄用組成物は、環境や人体に問題があ
るフロン、代替フロン、トリクロロエタンあるいはトル
エン、キシレンなどの芳香族炭化水素を用いないので、
地球環境に極めて優しい組成物である。 （３）粘度や沸点が低いので、微細な溝や孔のあるもの
でも効率よく洗浄でき、かつ洗浄剤が残留するおそれも
ない。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大前 吉則 兵庫県神戸市中央区東川崎町１丁目３番３ 号 ケミプロ化成株式会社内 Ｆターム(参考） 4H003 BA12 DA14 DA15 ED03 ED29 FA01 FA03 FA30 FA45 4K053 QA04 QA07 RA32 RA41 ZA10
Claims (4)
- 【請求項１】 （Ａ）２０℃における粘度が８ｃｓｔ以
下で、炭素数１〜９のグリコールエーテル系化合物と
（Ｂ）２０℃における粘度が４ｃｓｔ以下で、炭素数５
〜１６の脂肪族および／または脂環族の炭化水素とから
なることを特徴とする洗浄用組成物。 - 【請求項２】 （Ａ）２０℃における粘度が５ｃｓｔ以
下で、炭素数１〜９のグリコールエーテル系化合物と
（Ｂ）２０℃における粘度が２ｃｓｔ以下で、炭素数５
〜１６の脂肪族および／または脂環族の炭化水素とから
なることを特徴とする洗浄用組成物。 - 【請求項３】 洗浄用組成物の沸点が２６０℃以下であ
る請求項１または２記載の洗浄用組成物。 - 【請求項４】 洗浄用組成物の沸点が１８０℃以下であ
る請求項３記載の洗浄用組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000196906A JP2002012895A (ja) | 2000-06-29 | 2000-06-29 | 洗浄用組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000196906A JP2002012895A (ja) | 2000-06-29 | 2000-06-29 | 洗浄用組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002012895A true JP2002012895A (ja) | 2002-01-15 |
Family
ID=18695328
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000196906A Pending JP2002012895A (ja) | 2000-06-29 | 2000-06-29 | 洗浄用組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002012895A (ja) |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61293274A (ja) * | 1985-04-02 | 1986-12-24 | Ricoh Co Ltd | 印刷機用インキ洗浄剤 |
| JPH0337300A (ja) * | 1989-07-05 | 1991-02-18 | Three Bond Co Ltd | ブレーキ装置の洗浄剤 |
| JPH0465495A (ja) * | 1990-07-05 | 1992-03-02 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | ロジン系ハンダフラックスの洗浄剤および該洗浄剤を用いてなるロジン系ハンダフラックスの洗浄方法 |
| JPH05239495A (ja) * | 1992-02-27 | 1993-09-17 | Asahi Chem Ind Co Ltd | ペースト用洗浄剤 |
| JPH0649493A (ja) * | 1991-03-01 | 1994-02-22 | Nippon Baazu Kk | 洗浄剤組成物 |
| JPH09169997A (ja) * | 1995-12-20 | 1997-06-30 | Japan Energy Corp | 洗浄剤およびその回収方法 |
| JPH09272898A (ja) * | 1996-04-02 | 1997-10-21 | Nitto Chem Ind Co Ltd | インキおよびペースト用洗浄剤組成物 |
| JPH1025495A (ja) * | 1996-07-10 | 1998-01-27 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 液晶セル用洗浄剤 |
-
2000
- 2000-06-29 JP JP2000196906A patent/JP2002012895A/ja active Pending
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61293274A (ja) * | 1985-04-02 | 1986-12-24 | Ricoh Co Ltd | 印刷機用インキ洗浄剤 |
| JPH0337300A (ja) * | 1989-07-05 | 1991-02-18 | Three Bond Co Ltd | ブレーキ装置の洗浄剤 |
| JPH0465495A (ja) * | 1990-07-05 | 1992-03-02 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | ロジン系ハンダフラックスの洗浄剤および該洗浄剤を用いてなるロジン系ハンダフラックスの洗浄方法 |
| JPH0649493A (ja) * | 1991-03-01 | 1994-02-22 | Nippon Baazu Kk | 洗浄剤組成物 |
| JPH05239495A (ja) * | 1992-02-27 | 1993-09-17 | Asahi Chem Ind Co Ltd | ペースト用洗浄剤 |
| JPH09169997A (ja) * | 1995-12-20 | 1997-06-30 | Japan Energy Corp | 洗浄剤およびその回収方法 |
| JPH09272898A (ja) * | 1996-04-02 | 1997-10-21 | Nitto Chem Ind Co Ltd | インキおよびペースト用洗浄剤組成物 |
| JPH1025495A (ja) * | 1996-07-10 | 1998-01-27 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 液晶セル用洗浄剤 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA2096426C (en) | Process and composition for cleaning contaminants with terpene and monobasic ester | |
| EP0717129B1 (en) | Cleaning method | |
| JP2015178599A (ja) | 洗浄剤組成物原液、洗浄剤組成物および洗浄方法 | |
| CN104845768B (zh) | 一种线路板用中性水基清洗剂组合物 | |
| KR20050099502A (ko) | 불소화 탄화수소 및 산화 용매를 함유하는 조성물 | |
| JPH0551599A (ja) | 洗浄剤組成物 | |
| JP2002012895A (ja) | 洗浄用組成物 | |
| CN109517677B (zh) | 洗涤剂组合物原液、以及包含该洗涤剂组合物原液的洗涤剂组合物 | |
| PT91380A (pt) | Processo de preparacao de uma composicao solvente nao toxica, biodegradavel e nao perigosa, a base de para-mentadienos | |
| US5783551A (en) | Paraffinic cleaning solutions | |
| CN109706008A (zh) | 一种含八氟戊基烯烃醚的卤代烃组合溶剂及其应用 | |
| CN108085168A (zh) | 一种柔性线路板专用清洗剂及其制备方法与应用 | |
| JP3089089B2 (ja) | 洗浄剤組成物 | |
| JP2002012893A (ja) | 洗浄用組成物 | |
| JPH0925497A (ja) | ワックス及び水溶性加工液の洗浄剤 | |
| WO1991019831A1 (en) | Cycloparaffins containing cleaning composition and method of using them | |
| US5958857A (en) | Thixotropic low-solvent, non-hap wheel well cleaner | |
| JPH0881698A (ja) | 洗浄剤組成物 | |
| JP2000008080A (ja) | 工業用洗浄剤組成物、及びこれを用いた洗浄方法 | |
| US5308550A (en) | Cleaning, wetting agent and solvent | |
| JP3319930B2 (ja) | 各種物質と水との界面張力を著しく低下させるアルキルスルフォサクシネート含有組成物 | |
| JP3164656B2 (ja) | 洗浄剤組成物 | |
| JP2881335B2 (ja) | 洗浄剤組成物 | |
| JPH06254519A (ja) | アルコール系洗浄剤 | |
| JPH06234999A (ja) | 洗浄、湿潤剤及び溶媒 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070529 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091228 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100119 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100601 |