JPH1025495A - 液晶セル用洗浄剤 - Google Patents
液晶セル用洗浄剤Info
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- JPH1025495A JPH1025495A JP18040396A JP18040396A JPH1025495A JP H1025495 A JPH1025495 A JP H1025495A JP 18040396 A JP18040396 A JP 18040396A JP 18040396 A JP18040396 A JP 18040396A JP H1025495 A JPH1025495 A JP H1025495A
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- Japan
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- ether
- cleaning agent
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- crystal cell
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 液晶セルに付着した液晶等の汚れに対し高度
な洗浄力を有し、かつ環境汚染の少ない洗浄剤を提供す
る。 【解決手段】 （ａ）沸点が１６０℃〜２８０℃の範囲
内にある飽和脂肪族炭化水素および／または飽和脂環式
炭化水素、例えばデカン、シクロドデカン等、を５重量
％〜９５重量％、および（ｂ）一般式Ｒ１−（Ｏ−Ｃn
Ｈ2n）m −Ｏ−Ｒ２〔式中、Ｒ１及びＲ２は、Ｈ、炭化
水素基、あるいはアシル基を表し、Ｒ１及びＲ２の炭素
数の合計は１〜２０、ｎ＝２と３、ｍ＝１〜３の整数を
表す。〕で表されるグリコールエーテル、例えばエチレ
ングリコールジメチルエーテル等、を９５重量％〜５重
量％含有することを特徴とする液晶セル用洗浄剤。
な洗浄力を有し、かつ環境汚染の少ない洗浄剤を提供す
る。 【解決手段】 （ａ）沸点が１６０℃〜２８０℃の範囲
内にある飽和脂肪族炭化水素および／または飽和脂環式
炭化水素、例えばデカン、シクロドデカン等、を５重量
％〜９５重量％、および（ｂ）一般式Ｒ１−（Ｏ−Ｃn
Ｈ2n）m −Ｏ−Ｒ２〔式中、Ｒ１及びＲ２は、Ｈ、炭化
水素基、あるいはアシル基を表し、Ｒ１及びＲ２の炭素
数の合計は１〜２０、ｎ＝２と３、ｍ＝１〜３の整数を
表す。〕で表されるグリコールエーテル、例えばエチレ
ングリコールジメチルエーテル等、を９５重量％〜５重
量％含有することを特徴とする液晶セル用洗浄剤。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶セル製造時に
セルに付着した液晶等の汚れの除去性に優れ、かつ環境
汚染の少ない液晶セル用洗浄剤に関するものである。
セルに付着した液晶等の汚れの除去性に優れ、かつ環境
汚染の少ない液晶セル用洗浄剤に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】液晶セルは、２枚のガラス基板をその周
縁部でシール材により１０μｍ以下のギャップで接着
し、液晶を入れるための液晶室が形成された構造になっ
ている。また、シール材で囲まれたこの液晶室の外側に
は、ガラス基板が１０μｍ以下という微少ギャップで向
かい合ったギャップ部が存在する。上記液晶室に液晶を
封入する工程において、本来液晶が入って欲しくない上
記ギャップ部にも毛細管現象で液晶が入ってしまう。上
記ギャップ部には透明電極に信号を印加するための電極
端子がある。この電極端子は絶縁されていなければなら
ないが、上記ギャップ部に液晶が入った状態では絶縁不
良を起こしてしまう。
縁部でシール材により１０μｍ以下のギャップで接着
し、液晶を入れるための液晶室が形成された構造になっ
ている。また、シール材で囲まれたこの液晶室の外側に
は、ガラス基板が１０μｍ以下という微少ギャップで向
かい合ったギャップ部が存在する。上記液晶室に液晶を
封入する工程において、本来液晶が入って欲しくない上
記ギャップ部にも毛細管現象で液晶が入ってしまう。上
記ギャップ部には透明電極に信号を印加するための電極
端子がある。この電極端子は絶縁されていなければなら
ないが、上記ギャップ部に液晶が入った状態では絶縁不
良を起こしてしまう。
【０００３】従来、このようなことを回避するための液
晶の洗浄には、トリクロロトリフルオロエタン等のフロ
ン系溶剤、トリクロロエチレン、トリクロロエタン、テ
トラクロロエチレン等の塩素系溶剤、オルソケイ酸ソー
ダ等のアルカリ物質に界面活性剤を配合した水系洗浄剤
や、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピ
レングリコールジメチルエーテル等のグリコールエーテ
ル系溶剤や、テルペンまたはナフテン等の炭化水素系溶
剤が用いられてきた。
晶の洗浄には、トリクロロトリフルオロエタン等のフロ
ン系溶剤、トリクロロエチレン、トリクロロエタン、テ
トラクロロエチレン等の塩素系溶剤、オルソケイ酸ソー
ダ等のアルカリ物質に界面活性剤を配合した水系洗浄剤
や、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピ
レングリコールジメチルエーテル等のグリコールエーテ
ル系溶剤や、テルペンまたはナフテン等の炭化水素系溶
剤が用いられてきた。
【０００４】これらの洗浄剤のうち、フロン系および塩
素系溶剤は高洗浄力かつ難燃性であるが、オゾン層破壊
等の環境汚染の原因となりその使用が問題となってい
る。また、水系洗浄剤は洗浄力不足が問題となってい
る。また、ジエチレングリコールジエチルエーテルやジ
プロピレングリコールジメチルエーテル等のグリコール
エーテル系溶剤や、テルペンまたはナフテン等の炭化水
素系溶剤はすでに液晶セル用洗浄剤として提案されてい
る。しかし、生産性の大幅改善が要求される現状では、
これらの洗浄剤単独では今一歩の洗浄力であり、洗浄力
の改善が要求されている。
素系溶剤は高洗浄力かつ難燃性であるが、オゾン層破壊
等の環境汚染の原因となりその使用が問題となってい
る。また、水系洗浄剤は洗浄力不足が問題となってい
る。また、ジエチレングリコールジエチルエーテルやジ
プロピレングリコールジメチルエーテル等のグリコール
エーテル系溶剤や、テルペンまたはナフテン等の炭化水
素系溶剤はすでに液晶セル用洗浄剤として提案されてい
る。しかし、生産性の大幅改善が要求される現状では、
これらの洗浄剤単独では今一歩の洗浄力であり、洗浄力
の改善が要求されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、液晶セルに
付着した液晶等の汚れに対し高度な洗浄力を有し、かつ
環境汚染が少ない洗浄剤を提供することを目的とするも
のである。
付着した液晶等の汚れに対し高度な洗浄力を有し、かつ
環境汚染が少ない洗浄剤を提供することを目的とするも
のである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者は、前記課題に
つき鋭意検討した結果、本発明に到達した。即ち、本発
明は、（ａ）沸点が１６０℃〜２８０℃の範囲内にある
飽和脂肪族炭化水素および／または飽和脂環式炭化水素
を５重量％〜９５重量％、および（ｂ）下記一般式
（１）で表されるグリコールエーテルを９５重量％〜５
重量％含有することを特徴とする液晶セル用洗浄剤に関
する。
つき鋭意検討した結果、本発明に到達した。即ち、本発
明は、（ａ）沸点が１６０℃〜２８０℃の範囲内にある
飽和脂肪族炭化水素および／または飽和脂環式炭化水素
を５重量％〜９５重量％、および（ｂ）下記一般式
（１）で表されるグリコールエーテルを９５重量％〜５
重量％含有することを特徴とする液晶セル用洗浄剤に関
する。
【０００７】 Ｒ１−（Ｏ−Ｃn Ｈ2n）m −Ｏ−Ｒ２ （１） （式中、Ｒ１及びＲ２は、Ｈ、炭化水素基、あるいはア
シル基を表し、かつ、Ｒ１およびＲ２の炭素数の合計は
１〜２０の整数、ｎ＝２と３、ｍ＝１〜３の整数を表
す。） 以下、本発明について詳細に説明する。
シル基を表し、かつ、Ｒ１およびＲ２の炭素数の合計は
１〜２０の整数、ｎ＝２と３、ｍ＝１〜３の整数を表
す。） 以下、本発明について詳細に説明する。
【０００８】成分（ａ）は、沸点が１６０℃〜２８０℃
の範囲内にある飽和脂肪族炭化水素および／または飽和
脂環式炭化水素であり、単独で用いても混合して用いて
もよい。飽和脂肪族炭化水素は直鎖でも、分岐を有して
もよい。また、飽和脂環式炭化水素は環のみであって
も、環に直鎖あるいは分岐を有した炭化水素基が結合し
たものであってもよい。
の範囲内にある飽和脂肪族炭化水素および／または飽和
脂環式炭化水素であり、単独で用いても混合して用いて
もよい。飽和脂肪族炭化水素は直鎖でも、分岐を有して
もよい。また、飽和脂環式炭化水素は環のみであって
も、環に直鎖あるいは分岐を有した炭化水素基が結合し
たものであってもよい。
【０００９】また、その沸点は、１６０℃〜２８０℃の
範囲内が好ましく、より好ましくは１８０℃〜２４０℃
である。この範囲であれば、通常の洗浄温度に於いては
引火の危険性が低く、しかも、洗浄剤としての適度な粘
性が維持され、液晶セルの狭いギャップ間の液晶汚れを
洗浄するのに実用的である。その沸点が１６０℃未満で
あると、引火の危険性が著しく高くなり、さらには使用
条件が極端に限定される等の理由で実用的でない。ま
た、その沸点が２８０℃を越えると洗浄剤としての粘性
が高くなるため、液晶セルの狭いギャップ間の液晶汚れ
を洗浄しにくくなるばかりでなく、洗浄後の乾燥性も悪
くなり、実用的でない。
範囲内が好ましく、より好ましくは１８０℃〜２４０℃
である。この範囲であれば、通常の洗浄温度に於いては
引火の危険性が低く、しかも、洗浄剤としての適度な粘
性が維持され、液晶セルの狭いギャップ間の液晶汚れを
洗浄するのに実用的である。その沸点が１６０℃未満で
あると、引火の危険性が著しく高くなり、さらには使用
条件が極端に限定される等の理由で実用的でない。ま
た、その沸点が２８０℃を越えると洗浄剤としての粘性
が高くなるため、液晶セルの狭いギャップ間の液晶汚れ
を洗浄しにくくなるばかりでなく、洗浄後の乾燥性も悪
くなり、実用的でない。
【００１０】本発明の洗浄剤中の成分（ａ）の含有量
は、５重量％〜９５重量％、より好ましくは３０重量％
〜７０重量％である。成分（ａ）の含有量が５重量％未
満や９５重量％を越えると、洗浄性が悪くなり実用的で
ない。成分（ａ）の具体例としては、デカン、ウンデカ
ン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカ
ン、メンタン、ビシクロヘキシル、シクロドデカン、デ
カリン、２，２，４，４，６，８，８−ヘプタメチルノ
ナン、２，６，１０，１４，−テトラメチルペンタデカ
ン等があり、商品名で言えば、商品名０号ソルベントＬ
（沸点１８２℃〜２１２℃）、０号ソルベントＭ（沸点
２１９℃〜２４７℃）、０号ソルベントＨ（２４４℃〜
２６２℃）（日本石油（株）製）、商品名フッコールハ
イソルベント１６０（沸点１６０℃〜２０２℃）、フッ
コールハイソルベント２００（沸点２０２℃〜２４０
℃）、フッコールハイソルベント２４０（沸点２４１℃
〜２６８℃）（富士興産（株）製）、商品名エクソール
Ｄ６０（沸点１８６℃〜２１６℃）、エクソールＤ８０
（沸点２０４℃〜２３２℃）、エクソールＤ１００（沸
点２３５℃〜２６２℃）（エクソン化学（株）製）等が
挙げられる。
は、５重量％〜９５重量％、より好ましくは３０重量％
〜７０重量％である。成分（ａ）の含有量が５重量％未
満や９５重量％を越えると、洗浄性が悪くなり実用的で
ない。成分（ａ）の具体例としては、デカン、ウンデカ
ン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカ
ン、メンタン、ビシクロヘキシル、シクロドデカン、デ
カリン、２，２，４，４，６，８，８−ヘプタメチルノ
ナン、２，６，１０，１４，−テトラメチルペンタデカ
ン等があり、商品名で言えば、商品名０号ソルベントＬ
（沸点１８２℃〜２１２℃）、０号ソルベントＭ（沸点
２１９℃〜２４７℃）、０号ソルベントＨ（２４４℃〜
２６２℃）（日本石油（株）製）、商品名フッコールハ
イソルベント１６０（沸点１６０℃〜２０２℃）、フッ
コールハイソルベント２００（沸点２０２℃〜２４０
℃）、フッコールハイソルベント２４０（沸点２４１℃
〜２６８℃）（富士興産（株）製）、商品名エクソール
Ｄ６０（沸点１８６℃〜２１６℃）、エクソールＤ８０
（沸点２０４℃〜２３２℃）、エクソールＤ１００（沸
点２３５℃〜２６２℃）（エクソン化学（株）製）等が
挙げられる。
【００１１】一般式（１）で表される成分（ｂ）は、単
独であっても、２種類以上混合して用いてもよい。Ｒ１
およびＲ２は、Ｈ、炭化水素基、またはアシル基を表
し、かつＲ１及びＲ２の炭素数の合計は１〜２０の整数
である。また、ｎは２あるいは３であり、ｍは１〜３の
整数である。Ｒ１及びＲ２の炭素数の合計が１より小さ
いか、または２０を越える場合、或はｎまたはｍが３を
越える場合は洗浄剤としての粘性が増すために、液晶パ
ネルの狭いギャップ間の液晶汚れに対する洗浄性が悪く
なるため実用的でない。
独であっても、２種類以上混合して用いてもよい。Ｒ１
およびＲ２は、Ｈ、炭化水素基、またはアシル基を表
し、かつＲ１及びＲ２の炭素数の合計は１〜２０の整数
である。また、ｎは２あるいは３であり、ｍは１〜３の
整数である。Ｒ１及びＲ２の炭素数の合計が１より小さ
いか、または２０を越える場合、或はｎまたはｍが３を
越える場合は洗浄剤としての粘性が増すために、液晶パ
ネルの狭いギャップ間の液晶汚れに対する洗浄性が悪く
なるため実用的でない。
【００１２】本発明の洗浄剤中の成分（ｂ）の含有量
は、９５重量％〜５重量％、より好ましくは、８０重量
％〜３０重量％である。成分（ｂ）の含有量が５重量％
未満や９５重量％を越えると、洗浄性が悪くなり実用的
でない。成分（ｂ）の具体例としては、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテ
ル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレン
グリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコール
ジブチルエーテル、エチレングリコールジヘキシルエー
テル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテー
ト、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテー
ト、エチレングリコールモノヘキシルエーテルアセテー
ト、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘ
キシルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレ
ングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコール
ジヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノメチル
エーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチル
エーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチル
エーテルアセテート、ジエチレングリコールモノヘキシ
ルエーテルアセテート、トリエチレングリコールジメチ
ルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテ
ル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリ
エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレング
リコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジ
エチルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエ
ーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルブチレ
ート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルヘキシ
レート、エチレングリコールジアセテート、ジエチレン
グリコールジアセテート、トリエチレングリコールジア
セテート、エチレングリコールジプロピオネート、ジプ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレン
グリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモ
ノイソアミルエーテル、エチレングリコールジイソアミ
ルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエー
テル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル、
トリプロピレングリコールモノブチルエーテル等が挙げ
られる。
は、９５重量％〜５重量％、より好ましくは、８０重量
％〜３０重量％である。成分（ｂ）の含有量が５重量％
未満や９５重量％を越えると、洗浄性が悪くなり実用的
でない。成分（ｂ）の具体例としては、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテ
ル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレン
グリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコール
ジブチルエーテル、エチレングリコールジヘキシルエー
テル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテー
ト、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテー
ト、エチレングリコールモノヘキシルエーテルアセテー
ト、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘ
キシルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレ
ングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコール
ジヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノメチル
エーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチル
エーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチル
エーテルアセテート、ジエチレングリコールモノヘキシ
ルエーテルアセテート、トリエチレングリコールジメチ
ルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテ
ル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリ
エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレング
リコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジ
エチルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエ
ーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルブチレ
ート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルヘキシ
レート、エチレングリコールジアセテート、ジエチレン
グリコールジアセテート、トリエチレングリコールジア
セテート、エチレングリコールジプロピオネート、ジプ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレン
グリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモ
ノイソアミルエーテル、エチレングリコールジイソアミ
ルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエー
テル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル、
トリプロピレングリコールモノブチルエーテル等が挙げ
られる。
【００１３】本発明の洗浄剤に用いられる成分（ａ）及
び成分（ｂ）は、いずれもオゾン層を破壊する等の影響
のない、環境に対して安全な化合物であり、これらの成
分（ａ）、成分（ｂ）を、当該含有率にて必須成分とし
た時に初めて優れた洗浄性が得られて、実用的な洗浄剤
と成り得るものである。本発明の洗浄剤においては、必
要に応じ、その洗浄効果を損なわない範囲で、アルコー
ル類等の液安定剤、シリコン系化合物等の消泡剤、フェ
ノール系化合物等の酸化防止剤、アルカノールアミン等
の防錆剤等を添加することができる。
び成分（ｂ）は、いずれもオゾン層を破壊する等の影響
のない、環境に対して安全な化合物であり、これらの成
分（ａ）、成分（ｂ）を、当該含有率にて必須成分とし
た時に初めて優れた洗浄性が得られて、実用的な洗浄剤
と成り得るものである。本発明の洗浄剤においては、必
要に応じ、その洗浄効果を損なわない範囲で、アルコー
ル類等の液安定剤、シリコン系化合物等の消泡剤、フェ
ノール系化合物等の酸化防止剤、アルカノールアミン等
の防錆剤等を添加することができる。
【００１４】本発明の洗浄剤を用いて液晶セルを洗浄す
る場合、例えば、本発明の洗浄剤の入った洗浄槽で洗浄
し、次に、本発明の洗浄剤を入れたすすぎ槽ですすぎ、
最後に、空気或いは窒素等の温風等により乾燥する方法
等がある。また、すすぎ槽のすすぎ液は、本発明の洗浄
剤を用いる代わりに、アルコール、例えば、メタノー
ル、エタノール、イソプロピルアルコール等を用いても
よい。すすぎ液にアルコールを用いる場合は、温風等で
乾燥してもよいが、アルコールの蒸気に被洗物をさらす
ことで乾燥してもよい。
る場合、例えば、本発明の洗浄剤の入った洗浄槽で洗浄
し、次に、本発明の洗浄剤を入れたすすぎ槽ですすぎ、
最後に、空気或いは窒素等の温風等により乾燥する方法
等がある。また、すすぎ槽のすすぎ液は、本発明の洗浄
剤を用いる代わりに、アルコール、例えば、メタノー
ル、エタノール、イソプロピルアルコール等を用いても
よい。すすぎ液にアルコールを用いる場合は、温風等で
乾燥してもよいが、アルコールの蒸気に被洗物をさらす
ことで乾燥してもよい。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、本発明を実施例によって具
体的に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定
されるものではない。なお、評価方法は下記の通りであ
る。 〔液晶洗浄性評価〕液晶セルのシール材で囲まれた、液
晶室の外側にあるギャップ部（ギャップ６μｍ）に、液
晶（ＺＬＩ−４７９２、メルクジャパン社製）を塗布
し、１０分間放置することによりギャップ部を液晶で満
たした。この液晶汚れのついた液晶セルを各洗浄剤中、
室温（２０℃）で４分間浸漬揺動洗浄した後、イソプロ
ピルアルコール中で室温（２０℃）で２分間浸漬揺動リ
ンスをした。続いて、６０℃で４分間乾燥した。以上の
操作後の液晶セルのギャップ部を偏光顕微鏡で観察し、
各洗浄剤の液晶洗浄性を評価した。評価基準は次の通り
である。 ◎：ギャップ部に液晶汚れがまったく残らない ○：ギャップ部に液晶汚れが極微量に残る △：ギャップ部に液晶汚れが少量残る ×：ギャップ部に液晶汚れが多量に残る
体的に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定
されるものではない。なお、評価方法は下記の通りであ
る。 〔液晶洗浄性評価〕液晶セルのシール材で囲まれた、液
晶室の外側にあるギャップ部（ギャップ６μｍ）に、液
晶（ＺＬＩ−４７９２、メルクジャパン社製）を塗布
し、１０分間放置することによりギャップ部を液晶で満
たした。この液晶汚れのついた液晶セルを各洗浄剤中、
室温（２０℃）で４分間浸漬揺動洗浄した後、イソプロ
ピルアルコール中で室温（２０℃）で２分間浸漬揺動リ
ンスをした。続いて、６０℃で４分間乾燥した。以上の
操作後の液晶セルのギャップ部を偏光顕微鏡で観察し、
各洗浄剤の液晶洗浄性を評価した。評価基準は次の通り
である。 ◎：ギャップ部に液晶汚れがまったく残らない ○：ギャップ部に液晶汚れが極微量に残る △：ギャップ部に液晶汚れが少量残る ×：ギャップ部に液晶汚れが多量に残る
【００１６】
【実施例１〜１０】表１に示す組成の洗浄剤を調合し、
その液晶洗浄性を評価した。その結果を表１に示す。
その液晶洗浄性を評価した。その結果を表１に示す。
【００１７】
【比較例１〜１０】表２に示す組成とすること以外は、
実施例１と同様にして洗浄剤を調合し、その液晶洗浄性
を評価した。その結果を表２に示す。
実施例１と同様にして洗浄剤を調合し、その液晶洗浄性
を評価した。その結果を表２に示す。
【００１８】
【表１】
【００１９】
【表２】
【００２０】
【発明の効果】本発明の洗浄剤は、従来のものに比べ
て、液晶セルに付着した液晶等の汚れに対する洗浄力に
優れ、かつ環境汚染が少ないという優れた効果を発揮す
る。
て、液晶セルに付着した液晶等の汚れに対する洗浄力に
優れ、かつ環境汚染が少ないという優れた効果を発揮す
る。
Claims (1)
- 【請求項１】 （ａ）沸点が１６０℃〜２８０℃の範囲
内にある飽和脂肪族炭化水素および／または飽和脂環式
炭化水素を５重量％〜９５重量％、および（ｂ）下記一
般式（１）で表されるグリコールエーテルを９５重量％
〜５重量％含有することを特徴とする液晶セル用洗浄
剤。 Ｒ１−（Ｏ−Ｃn Ｈ2n）m −Ｏ−Ｒ２ （１） （式中、Ｒ１及びＲ２は、Ｈ、炭化水素基、あるいはア
シル基を表し、かつ、Ｒ１およびＲ２の炭素数の合計は
１〜２０の整数、ｎ＝２と３、ｍ＝１〜３の整数を表
す。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18040396A JPH1025495A (ja) | 1996-07-10 | 1996-07-10 | 液晶セル用洗浄剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18040396A JPH1025495A (ja) | 1996-07-10 | 1996-07-10 | 液晶セル用洗浄剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1025495A true JPH1025495A (ja) | 1998-01-27 |
Family
ID=16082642
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18040396A Withdrawn JPH1025495A (ja) | 1996-07-10 | 1996-07-10 | 液晶セル用洗浄剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1025495A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002012895A (ja) * | 2000-06-29 | 2002-01-15 | Chemiprokasei Kaisha Ltd | 洗浄用組成物 |
| JP2006070259A (ja) * | 2004-08-04 | 2006-03-16 | Tokuyama Corp | 洗浄剤組成物 |
| WO2007073689A1 (fr) * | 2005-12-26 | 2007-07-05 | Byd Company Limited | Composition detergente soluble dans l'eau servant a nettoyer des cristaux liquides et procede de preparation afferent |
| JP2008049235A (ja) * | 2006-08-22 | 2008-03-06 | Tosoh Corp | 炭化水素系洗浄剤を用いた洗浄方法 |
| EP2829329A1 (de) | 2013-07-22 | 2015-01-28 | Hans-Michael Hangleiter GmbH | Verfahren zum Versehen einer Oberfläche eines festen Substrats bzw. Bauteils mit einer Schicht aus mindestens einer sublimierbaren Verbindung, insbesondere mit einer Cyclododecanschicht, sowie nach diesem Verfahren erhältliches Substrat bzw. Bauteil |
| EP2829328A1 (de) | 2013-07-22 | 2015-01-28 | Hans-Michael Hangleiter GmbH | Applikationsvorrichtung zur Anbringung mindestens einer sublimierbaren kondensierbaren Verbindung, insbesondere von kondensierbarem Cyclododecan, auf Oberflächen von festen Substraten bzw. Bauteilen sowie Vorrichtung zur Bestimmung der Güte, insbesondere der Oberfläche, eines festen Substrats bzw. Bauteils |
-
1996
- 1996-07-10 JP JP18040396A patent/JPH1025495A/ja not_active Withdrawn
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002012895A (ja) * | 2000-06-29 | 2002-01-15 | Chemiprokasei Kaisha Ltd | 洗浄用組成物 |
| JP2006070259A (ja) * | 2004-08-04 | 2006-03-16 | Tokuyama Corp | 洗浄剤組成物 |
| WO2007073689A1 (fr) * | 2005-12-26 | 2007-07-05 | Byd Company Limited | Composition detergente soluble dans l'eau servant a nettoyer des cristaux liquides et procede de preparation afferent |
| KR100949203B1 (ko) * | 2005-12-26 | 2010-03-24 | 비와이디 컴퍼니 리미티드 | 액정용 수용성 세제 조성물 및 이의 제조방법 |
| JP2008049235A (ja) * | 2006-08-22 | 2008-03-06 | Tosoh Corp | 炭化水素系洗浄剤を用いた洗浄方法 |
| EP2829329A1 (de) | 2013-07-22 | 2015-01-28 | Hans-Michael Hangleiter GmbH | Verfahren zum Versehen einer Oberfläche eines festen Substrats bzw. Bauteils mit einer Schicht aus mindestens einer sublimierbaren Verbindung, insbesondere mit einer Cyclododecanschicht, sowie nach diesem Verfahren erhältliches Substrat bzw. Bauteil |
| EP2829328A1 (de) | 2013-07-22 | 2015-01-28 | Hans-Michael Hangleiter GmbH | Applikationsvorrichtung zur Anbringung mindestens einer sublimierbaren kondensierbaren Verbindung, insbesondere von kondensierbarem Cyclododecan, auf Oberflächen von festen Substraten bzw. Bauteilen sowie Vorrichtung zur Bestimmung der Güte, insbesondere der Oberfläche, eines festen Substrats bzw. Bauteils |
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