JP2006070259A - 洗浄剤組成物 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】
例えば、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルやジプロピレングリコールジメチルエーテル等のアルキレングリコールアルキルエーテル75〜25重量%及びシクロデカン、シクロウンデカン、シクロドデカン等の炭素数10〜15のシクロパラフィン25〜75重量%からなる洗浄剤用組成物を使用する。
【選択図】 なし
Description
R1−(O−CnH2n)m−O−R2
(式中、R1は炭素数1〜4のアルキル基であり、R2は水素原子または炭素数1〜4のアルキル基であり、mは1〜3の整数であり、nは2又は3である。)で表されるアルキレングリコールアルキルエーテル75〜25重量%及び炭素数10〜15のシクロパラフィン25〜75重量%からなることを特徴とする洗浄剤用組成物である。
上記式において、R1は炭素数1〜4のアルキル基を意味し、R2は水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を意味する。R1又はR2としての炭素数1〜4のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、2−ブチル基およびt−ブチル基を挙げることができる。また、mは1〜3の整数であり、nは2又は3である。
・モノアルキルエーテル
DPGME:ジプロピレングリコールモノメチルエーテル
TPGME:トリプロピレングリコールモノメチルエーテル
DPGPE:ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル
PGME:プロピレングリコールモノメチルエーテル。
・ジアルキルエーテル
DPGDME:ジプロピレングリコールジメチルエーテル
DEGMEE:ジエチレングリコールメチルエチルエーテル
TEGDME:トリエチレングリコールジメチルエーテル。
・シクロパラフィン
TPS-3200:株式会社トクヤマ製 シクロパラフィン系炭化水素洗浄剤 TPS-3200
CnH2n n=11〜13 引火点 74℃
・イソパラフィン
TPS-1150:株式会社トクヤマ製 イソパラフィン系炭化水素洗浄剤 TPS-1150
CnH2n+2 n=9〜14 引火点 71℃
・ノルマルパラフィン
TPS-2250:株式会社トクヤマ製 ノルマルパラフィン系炭化水素洗浄剤 TPS-2250
CnH2n+2 n=10〜14 引火点 52.5℃。
ココノエ研磨用ピッチ 級別K級 No.8(九重電気株式会社製)を直径6mmのボタン型に整形して固着された試料を準備し、固着されたピッチの重量を測定したところその重量は56.2mgであった。次いで該試料を25℃に保たれた洗浄剤シクロパラフィン系洗浄剤TPS-3200 株式会社トクヤマ)20mlに20分間浸漬した。その後試料を取り出し、乾燥されてからガラス板に付着した残存ピッチの重量を測定したところ17.1mgであった。初期重量と残存重量との差から除去されたピッチ量は39.1mgとなる。
また目視により試料浸漬中及び浸漬後の洗浄液を観察したところピッチの剥離は見られず均一の溶液であった。このことから、ピッチは全て溶解により除去されていることが分かる。
洗浄液を、イソパラフィン系洗浄剤TPS-1150 (株式会社トクヤマ製)(参考比較例1)又はノルマルパラフィン系洗浄剤TPS-2250 (株式会社トクヤマ製)(参考比較例2)に変える他は参考例1と同様にしてピッチの除去量を求めた。また、試料浸漬中に成形されたピッチの剥離が起こっているか否かについて目視による観察を行なった。その結果を表1に示す。
表2に示す各組成の洗浄剤を用い各種除去対象物質{洗浄対象物質:ココノエ研磨用ピッチ 級別K級 No.8(九重電気株式会社製)(以下 ピッチK-8)、リセスワックス(グレード No.5 九重電気株式会社製)(以下 リセスワックス) シフトワックス(5408R 日化精工株式会社社製 以下 シフトワックス)、保護膜 LG#88 ブラック(カナエ塗料株式会社)(以下 保護膜88)}に対する溶解性評価を行なった。評価は、25℃に保たれた各洗浄剤に除去対象物質を少量入れ、5分間静置した際の溶解性を目視により確認することにより行なった。なお、除去対象物質が保護膜88であるものは評価用レンズに塗布後1日乾燥させたものを使用している。
5:完全に溶解できたもの
4:ほぼ溶解できたが、僅かに残りのみられるもの
3:量は減少しているが、完全に残っているもの(残存率50%未満)
2:量は減少しているが、完全に残っているもの(残存率50%以上)
1:ほぼそのまま残っているもの
保護膜に対して5分間の静置後に
5:拭き取ることなく全て除去できたもの
4:軽く拭き取ることで、全て除去できたもの
3:拭き取り後のレンズ表面に目視で確認困難な極僅かの保護膜残りがあるもの
2:拭き取り後のレンズ表面に目視で確認できる少量の保護膜残りがあるもの
1:除去が不十分なもの。
Claims (4)
- 下記式
R1−(O−CnH2n)m−O−R2
(式中、R1は炭素数1〜4のアルキル基であり、R2は水素原子または炭素数1〜4のアルキル基であり、mは1〜3の整数であり、nは2又は3である。)
で表されるアルキレングリコールアルキルエーテル75〜25重量%及び炭素数10〜15のシクロパラフィン25〜75重量%からなることを特徴とする洗浄剤用組成物。 - 請求項1に記載の組成物を主成分とする洗浄剤。
- 少なくとも2つの主表面を有する光学基材を基材保持台に固定剤を用いて固定する基材固定工程、基材保持台に固定された前記光学基材の露出した主表面を研磨する研磨工程、及び洗浄剤を用いて前記固定剤を除去することにより研磨された基材と基材保持台とを分離する基材分離工程を含む光学物品の製造方法において、前記洗浄剤として請求項2に記載の洗浄剤を使用することを特徴とする光学物品の製造方法。
- 前記基材固定工程において光学基材として保護膜で被覆された少なくとも1つの主表面と保護膜で被覆されない少なくとも1つの主表面を有する光学基材を用い、前記研磨工程で、保護膜で被覆されていない少なくとも1つの主表面を研磨し、前記基材分離工程において前記固定剤と共に前記保護膜を除去することを特徴とする請求項3に記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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