JP2000290694A - レンズ製造工程用洗浄剤組成物 - Google Patents
レンズ製造工程用洗浄剤組成物Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、光学レンズの製造工程において使
用されるアスファルトピッチ、ワックスピッチ及び保護
膜のいずれにも優れた洗浄性を発揮し、人体や佳境に影
響の少ないレンズ製造工程用洗浄剤組成物を提供するこ
とである。 【解決手段】 下記の（イ）から（ハ）の成分を含有す
るレンズ製造工程用洗浄剤組成物を提供する。 （イ）一般式（１）で表されるジアルキルカーボネート
２０〜６０重量％ 【化１】 （式中のＲ１及びＲ２は、同一または相異なって炭素数
４〜８のアルキル基を示す） （ロ）γ-ブチロラクトン、ブチロラクタム、N-メチル-
2-ピロリドン、ε-カプロラクタム、ピペコリン及びピ
コリンから成る群から選択される１種又は２種以上の非
プロトン性極性溶剤 １０〜５０重量％、 （ハ）パラフィン系または／およびナフテン系炭化水素
溶剤 ５〜７０重量％
用されるアスファルトピッチ、ワックスピッチ及び保護
膜のいずれにも優れた洗浄性を発揮し、人体や佳境に影
響の少ないレンズ製造工程用洗浄剤組成物を提供するこ
とである。 【解決手段】 下記の（イ）から（ハ）の成分を含有す
るレンズ製造工程用洗浄剤組成物を提供する。 （イ）一般式（１）で表されるジアルキルカーボネート
２０〜６０重量％ 【化１】 （式中のＲ１及びＲ２は、同一または相異なって炭素数
４〜８のアルキル基を示す） （ロ）γ-ブチロラクトン、ブチロラクタム、N-メチル-
2-ピロリドン、ε-カプロラクタム、ピペコリン及びピ
コリンから成る群から選択される１種又は２種以上の非
プロトン性極性溶剤 １０〜５０重量％、 （ハ）パラフィン系または／およびナフテン系炭化水素
溶剤 ５〜７０重量％
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学レンズの製造
工程において使用されるアスファルトピッチ、ワックス
ピッチ及び保護膜を除去する目的で使用される非塩素系
洗浄剤を含まないレンズ製造工程用洗浄剤組成物に関す
る。
工程において使用されるアスファルトピッチ、ワックス
ピッチ及び保護膜を除去する目的で使用される非塩素系
洗浄剤を含まないレンズ製造工程用洗浄剤組成物に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】レンズの製造工程の各工程では、レンズ
を保持台に固定するために、アスファルトピッチやワッ
クスピッチ等が用いられている。また、研磨工程等で
は、片面の研磨時にもう片面の保護のため、マスキング
剤と呼ばれるフェノール系樹脂、アクリル系樹脂ででき
た保護膜を塗布している。これらのピッチ及び保護膜は
次工程へ移行する際、または工程が終了した際には洗浄
除去する必要がある。
を保持台に固定するために、アスファルトピッチやワッ
クスピッチ等が用いられている。また、研磨工程等で
は、片面の研磨時にもう片面の保護のため、マスキング
剤と呼ばれるフェノール系樹脂、アクリル系樹脂ででき
た保護膜を塗布している。これらのピッチ及び保護膜は
次工程へ移行する際、または工程が終了した際には洗浄
除去する必要がある。
【０００３】このピッチ及び保護膜の洗浄剤としては、
従来は塩素系溶剤、例えばトリクロルエチレン、テトラ
クロルエチレン、1,1,1-トリクロルエタン、ジクロルメ
タンやフロン系溶剤、例えばトリクロロトリフルオロエ
タン等が使用されてきた。しかしながら、近年、これら
の溶剤は、オゾン層を破壊する物質として規制対象とな
っていたり、地下水汚染等の環境汚染問題が発生してお
り、完全密閉系による使用以外の使用は困難な状況とな
ってきている。また、これら塩素系、フロン系溶剤に変
わるＨＣＦＣ−１４１ｂ、ＨＣＦＣ−２２５に代表され
る代替フロンについてもオゾン破壊係数が全くゼロとは
言えず将来的には全廃する方向にあり、また地球温暖化
への懸念材料もある。
従来は塩素系溶剤、例えばトリクロルエチレン、テトラ
クロルエチレン、1,1,1-トリクロルエタン、ジクロルメ
タンやフロン系溶剤、例えばトリクロロトリフルオロエ
タン等が使用されてきた。しかしながら、近年、これら
の溶剤は、オゾン層を破壊する物質として規制対象とな
っていたり、地下水汚染等の環境汚染問題が発生してお
り、完全密閉系による使用以外の使用は困難な状況とな
ってきている。また、これら塩素系、フロン系溶剤に変
わるＨＣＦＣ−１４１ｂ、ＨＣＦＣ−２２５に代表され
る代替フロンについてもオゾン破壊係数が全くゼロとは
言えず将来的には全廃する方向にあり、また地球温暖化
への懸念材料もある。
【０００４】近年これらの対策として、次のような洗浄
剤が提案されている。特開平６−３３６５９８号公報に
はグリコールエーテルエステルと環状テルペンを特定割
合で配合したもの、特開平７−１５０１９２号公報には
モノ又はジグリコールエーテル、脂肪酸あるいはそのア
ルキレンオキサイド付加物ないしはこのエーテル化物、
さらに、パラフィンあるいはオレフィンを含有するも
の、特開平８−３３３５９９号公報には炭酸エステルと
乳酸エステルとの混合物が記載されている。しかしなが
ら、これらの洗浄剤組成物は、環境及び人体への影響は
少なくなっているが、溶解性能の点ではいまだ十分なも
のとはいえない。また、アスファルトピッチ、ワック
ス、保護膜のいずれかには洗浄能力があっても、他のも
のについては洗浄効果が低く、同一工程で全てを洗浄除
去する場合に、洗浄時間が洗浄能力の低いものに律速さ
れるという問題点がある。
剤が提案されている。特開平６−３３６５９８号公報に
はグリコールエーテルエステルと環状テルペンを特定割
合で配合したもの、特開平７−１５０１９２号公報には
モノ又はジグリコールエーテル、脂肪酸あるいはそのア
ルキレンオキサイド付加物ないしはこのエーテル化物、
さらに、パラフィンあるいはオレフィンを含有するも
の、特開平８−３３３５９９号公報には炭酸エステルと
乳酸エステルとの混合物が記載されている。しかしなが
ら、これらの洗浄剤組成物は、環境及び人体への影響は
少なくなっているが、溶解性能の点ではいまだ十分なも
のとはいえない。また、アスファルトピッチ、ワック
ス、保護膜のいずれかには洗浄能力があっても、他のも
のについては洗浄効果が低く、同一工程で全てを洗浄除
去する場合に、洗浄時間が洗浄能力の低いものに律速さ
れるという問題点がある。
【０００５】
【課題を解決しようとする課題】本発明は、光学レンズ
の製造工程において使用されるアスファルトピッチ、ワ
ックスピッチ及び保護膜のいずれにも優れた除去性能を
発揮し、人体に悪影響があり、かつオゾン層を破壊する
物質である塩素系溶剤を含まない洗浄剤組成物を提供す
ることを目的としてなされたものである。
の製造工程において使用されるアスファルトピッチ、ワ
ックスピッチ及び保護膜のいずれにも優れた除去性能を
発揮し、人体に悪影響があり、かつオゾン層を破壊する
物質である塩素系溶剤を含まない洗浄剤組成物を提供す
ることを目的としてなされたものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、次の（イ）か
ら（ハ）の成分を含有するレンズ製造工程用洗浄剤組成
物を提供する。 （イ）一般式（１）で表されるジアルキルカーボネート
２０〜６０重量％
ら（ハ）の成分を含有するレンズ製造工程用洗浄剤組成
物を提供する。 （イ）一般式（１）で表されるジアルキルカーボネート
２０〜６０重量％
【０００７】
【化２】
【０００８】（式中のＲ１及びＲ２は、同一または相異
なって炭素数４〜８のアルキル基を示す） （ロ）γ-ブチロラクトン、ブチロラクタム、N-メチル-
2-ピロリドン、ε-カプロラクタム、ピペコリン及びピ
コリンから成る群から選択される１種又は２種以上の非
プロトン性極性溶剤 １０〜５０重量％ （ハ）パラフィン系または／およびナフテン系炭化水素
溶剤 ５〜７０重量％
なって炭素数４〜８のアルキル基を示す） （ロ）γ-ブチロラクトン、ブチロラクタム、N-メチル-
2-ピロリドン、ε-カプロラクタム、ピペコリン及びピ
コリンから成る群から選択される１種又は２種以上の非
プロトン性極性溶剤 １０〜５０重量％ （ハ）パラフィン系または／およびナフテン系炭化水素
溶剤 ５〜７０重量％
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明に用いる（イ）の成分であ
る一般式（１）で表される化合物は、ジアルキルカーボ
ネートであり、Ｒ１及びＲ２は、炭素原子数４〜８のア
ルキル基を示し、Ｒ１とＲ２は同時に同じであってもよ
い。例示するとジブチルカーボネート、ジヘキシルカー
ボネート、ブチルヘプチルカーボネート、ブチルオクチ
ルカーボネート等が挙げられる。好ましくはジブチルカ
ーボネート、ブチルヘプチルカーボネートである。配合
量は、洗浄剤組成物の全体量に対して２０〜６０重量％
であり、好ましくは、２５〜５０重量％である。２０重
量％以下または６０重量％以上では、洗浄能力に対して
溶剤混合による相乗効果が期待できず、また、６０重量
％以上であれば、蒸気にアルキルカーボネートの比率が
多くなるため、臭気等に問題がある。
る一般式（１）で表される化合物は、ジアルキルカーボ
ネートであり、Ｒ１及びＲ２は、炭素原子数４〜８のア
ルキル基を示し、Ｒ１とＲ２は同時に同じであってもよ
い。例示するとジブチルカーボネート、ジヘキシルカー
ボネート、ブチルヘプチルカーボネート、ブチルオクチ
ルカーボネート等が挙げられる。好ましくはジブチルカ
ーボネート、ブチルヘプチルカーボネートである。配合
量は、洗浄剤組成物の全体量に対して２０〜６０重量％
であり、好ましくは、２５〜５０重量％である。２０重
量％以下または６０重量％以上では、洗浄能力に対して
溶剤混合による相乗効果が期待できず、また、６０重量
％以上であれば、蒸気にアルキルカーボネートの比率が
多くなるため、臭気等に問題がある。
【００１０】本発明に用いる（ロ）成分は、γ-ブチロ
ラクトン、ブチロラクタム、N-メチル-2-ピロリドン、
ε-カプロラクタム、ピペコリン及びピコリンの内から
少なくとも１種含有するとよいが、２種以上含有しても
よい。特に、γ-ブチロラクトン、N-メチル-2-ピロリド
ンが好ましい。配合量は、洗浄剤組成物の全体量に対し
て１０〜５０重量％であり、好ましくは、２０〜４０重
量％である。１０重量％以下または５０重量％以上で
は、洗浄能力に対して溶剤混合による相乗効果が期待で
きず、また、１０重量％以下ではワックスピッチ及び保
護膜の除去性能が不十分であり、５０重量％以上ではア
スファルトピッチの除去性能が不十分となる。
ラクトン、ブチロラクタム、N-メチル-2-ピロリドン、
ε-カプロラクタム、ピペコリン及びピコリンの内から
少なくとも１種含有するとよいが、２種以上含有しても
よい。特に、γ-ブチロラクトン、N-メチル-2-ピロリド
ンが好ましい。配合量は、洗浄剤組成物の全体量に対し
て１０〜５０重量％であり、好ましくは、２０〜４０重
量％である。１０重量％以下または５０重量％以上で
は、洗浄能力に対して溶剤混合による相乗効果が期待で
きず、また、１０重量％以下ではワックスピッチ及び保
護膜の除去性能が不十分であり、５０重量％以上ではア
スファルトピッチの除去性能が不十分となる。
【００１１】本発明に用いる（ハ）の成分であるパラフ
ィン系およびナフテン系炭化水素の炭素数は、好ましく
は１０〜１８であり、具体的に記載すると、n-ドデカ
ン、n-テトラデカン、デカヒドロナフタレン等である。
これらの炭化水素系溶剤は、単独で用いてもよく混合し
て用いてもよい。配合量は、洗浄剤組成物の全体量に対
して５〜７０重量％であり、好ましくは、２０〜５０重
量％である。５重量％以下であればアスファルトピッチ
の除去能力が不十分であり、７０重量％以上では、保護
膜の除去性能が不十分となる。
ィン系およびナフテン系炭化水素の炭素数は、好ましく
は１０〜１８であり、具体的に記載すると、n-ドデカ
ン、n-テトラデカン、デカヒドロナフタレン等である。
これらの炭化水素系溶剤は、単独で用いてもよく混合し
て用いてもよい。配合量は、洗浄剤組成物の全体量に対
して５〜７０重量％であり、好ましくは、２０〜５０重
量％である。５重量％以下であればアスファルトピッチ
の除去能力が不十分であり、７０重量％以上では、保護
膜の除去性能が不十分となる。
【００１２】更には、パラフィン系およびナフテン系炭
化水素溶剤の一部を炭素数が９〜１２の芳香族系炭化水
素溶剤に変えてもよい。例えばトリメチルベンゼン、ト
リエチルベンゼン等である。配合量としては、洗浄剤組
成物の全体量に対して５〜２０重量％である。５重量％
以下であれば配合することによる洗浄能力向上を発揮で
きず、２０重量％以下であれば環境上好ましくない。
化水素溶剤の一部を炭素数が９〜１２の芳香族系炭化水
素溶剤に変えてもよい。例えばトリメチルベンゼン、ト
リエチルベンゼン等である。配合量としては、洗浄剤組
成物の全体量に対して５〜２０重量％である。５重量％
以下であれば配合することによる洗浄能力向上を発揮で
きず、２０重量％以下であれば環境上好ましくない。
【００１３】更に、必要に応じて疎水性グリコール系溶
剤、疎水性界面活性剤を含有してもよい。使用する疎水
性グリコール系溶剤には、ジプロピレングリコールモノ
ブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエー
テル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、エ
チレングリコールモノ-2-エチルヘキシルエーテル、ジ
エチレングリコールモノ-2-エチルヘキシルエーテル、
エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレン
グリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコー
ルジブチルエーテルが挙げられる。これらの疎水性グリ
コール系溶剤は、１種を単独で用いることができ、ある
いは２種以上を組合わせることができる。本発明洗浄剤
組成物に疎水性グリコール系溶剤を含有させることによ
り、ワックスピッチ及び保護膜の除去性能を向上させる
ことができる。本発明組成物において、疎水性グリコー
ル系溶剤の含有量は１０重量％以下であることが好まし
く、さらに５重量％以下であることが好ましい。１０重
量％以上含有しても除去能力向上は難しく不経済であ
る。
剤、疎水性界面活性剤を含有してもよい。使用する疎水
性グリコール系溶剤には、ジプロピレングリコールモノ
ブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエー
テル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、エ
チレングリコールモノ-2-エチルヘキシルエーテル、ジ
エチレングリコールモノ-2-エチルヘキシルエーテル、
エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレン
グリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコー
ルジブチルエーテルが挙げられる。これらの疎水性グリ
コール系溶剤は、１種を単独で用いることができ、ある
いは２種以上を組合わせることができる。本発明洗浄剤
組成物に疎水性グリコール系溶剤を含有させることによ
り、ワックスピッチ及び保護膜の除去性能を向上させる
ことができる。本発明組成物において、疎水性グリコー
ル系溶剤の含有量は１０重量％以下であることが好まし
く、さらに５重量％以下であることが好ましい。１０重
量％以上含有しても除去能力向上は難しく不経済であ
る。
【００１４】使用する界面活性剤は、従来より洗浄剤に
用いられる公知の界面活性剤を含有させることができ
る。界面活性剤は、非イオン性界面活性剤、陰イオン性
界面活性剤、陽イオン性界面活性剤、両性界面活性剤い
ずれでもよいが疎水性の強い界面活性剤が望ましい。好
ましくは非イオン界面活性剤であり、例えば、トリオキ
シエチレンドデシルエーテル、テトラオシキエチレン-2
-エチルヘキシルエーテル等が挙げられる。本発明洗浄
剤組成物に疎水性界面活性剤を含有させることにより、
汚れへの浸透力が向上し、除去能力を向上させることが
できる。本発明組成物において、疎水性グリコール系溶
剤の含有量は５重量％以下であることが好ましく、さら
に２重量％以下であることが好ましい。５重量％以上含
有しても除去能力向上は難しく、不経済であるだけでな
く、洗浄後のべたつき等の問題が生じる。
用いられる公知の界面活性剤を含有させることができ
る。界面活性剤は、非イオン性界面活性剤、陰イオン性
界面活性剤、陽イオン性界面活性剤、両性界面活性剤い
ずれでもよいが疎水性の強い界面活性剤が望ましい。好
ましくは非イオン界面活性剤であり、例えば、トリオキ
シエチレンドデシルエーテル、テトラオシキエチレン-2
-エチルヘキシルエーテル等が挙げられる。本発明洗浄
剤組成物に疎水性界面活性剤を含有させることにより、
汚れへの浸透力が向上し、除去能力を向上させることが
できる。本発明組成物において、疎水性グリコール系溶
剤の含有量は５重量％以下であることが好ましく、さら
に２重量％以下であることが好ましい。５重量％以上含
有しても除去能力向上は難しく、不経済であるだけでな
く、洗浄後のべたつき等の問題が生じる。
【００１５】
【実施例】以下に、実施例を挙げて本発明をさらに詳細
に説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限
定されるものではない。 ［実施例１〜１２］表１に示す配合組成の洗浄剤を調製
し、下記の方法により洗浄能力の評価を行なった。
に説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限
定されるものではない。 ［実施例１〜１２］表１に示す配合組成の洗浄剤を調製
し、下記の方法により洗浄能力の評価を行なった。
【００１６】○テストピースの調製 光学レンズ製造メーカーで使用されているアスファルト
ピッチ、パラフィンワックスピッチおよびフェノール系
樹脂保護膜のそれぞれをスライドガラス（７６×２６×
１mm）の中央に約０．１ｇ計り取り、１００℃のホット
プレート上で２時間乾燥後、１昼夜室内放置したものを
テストピースとした。
ピッチ、パラフィンワックスピッチおよびフェノール系
樹脂保護膜のそれぞれをスライドガラス（７６×２６×
１mm）の中央に約０．１ｇ計り取り、１００℃のホット
プレート上で２時間乾燥後、１昼夜室内放置したものを
テストピースとした。
【００１７】○洗浄性の評価 表１に示す実施例１〜１２の組成物の１００mlを１００
mlビーカーに取り、次いで、テストピースを液中に浸漬
し、波長２８kHzで超音波洗浄を行ない、目視にてピッ
チ及び保護膜が完全に除去される時間を測定した。その
結果を表１に示した。
mlビーカーに取り、次いで、テストピースを液中に浸漬
し、波長２８kHzで超音波洗浄を行ない、目視にてピッ
チ及び保護膜が完全に除去される時間を測定した。その
結果を表１に示した。
【００１８】［比較例１〜１６］実施例と同様に、表２
に記載した比較例１〜１６の組成物を用いて洗浄性の評
価を行なった。その結果を表２に示した。
に記載した比較例１〜１６の組成物を用いて洗浄性の評
価を行なった。その結果を表２に示した。
【００１９】
【表１】
【００２０】
【表２】
【００２１】
【発明の効果】本発明の洗浄剤組成物は、光学レンズの
製造工程において使用されるアスファルトピッチ、ワッ
クスピッチ及び保護膜の全てに対して優れた除去性能を
発揮する。しかも、トリクロルエチレン、テトラクロル
エチレン、1,1,1-トリクロルエタン、ジクロルメタン等
の塩素系溶剤やフロン系溶剤を含まないため、環境面で
優れている。
製造工程において使用されるアスファルトピッチ、ワッ
クスピッチ及び保護膜の全てに対して優れた除去性能を
発揮する。しかも、トリクロルエチレン、テトラクロル
エチレン、1,1,1-トリクロルエタン、ジクロルメタン等
の塩素系溶剤やフロン系溶剤を含まないため、環境面で
優れている。
Claims (2)
- 【請求項１】 下記の（イ）から（ハ）の成分を含有す
るレンズ製造工程用洗浄剤組成物。 （イ）一般式（１）で表されるジアルキルカーボネート
２０〜６０重量％ 【化１】 （式中のＲ１及びＲ２は、同一または相異なって炭素数
４〜８のアルキル基を示す） （ロ）γ-ブチロラクトン、ブチロラクタム、N-メチル-
2-ピロリドン、ε-カプロラクタム、ピペコリン及びピ
コリンから成る群から選択される１種又は２種以上の非
プロトン性極性溶剤 １０〜５０重量％、 （ハ）パラフィン系または／およびナフテン系炭化水素
溶剤 ５〜７０重量％ - 【請求項２】 パラフィン系または／およびナフテン系
炭化水素溶剤の一部に替えて、炭素原子数が９〜１２の
芳香族系炭化水素溶剤を含有する請求項１に記載のレン
ズ製造工程用洗浄剤組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10193199A JP4137276B2 (ja) | 1999-04-09 | 1999-04-09 | レンズ製造工程用洗浄剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10193199A JP4137276B2 (ja) | 1999-04-09 | 1999-04-09 | レンズ製造工程用洗浄剤組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000290694A true JP2000290694A (ja) | 2000-10-17 |
| JP4137276B2 JP4137276B2 (ja) | 2008-08-20 |
Family
ID=14313669
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10193199A Expired - Fee Related JP4137276B2 (ja) | 1999-04-09 | 1999-04-09 | レンズ製造工程用洗浄剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4137276B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002241794A (ja) * | 2001-02-19 | 2002-08-28 | Japan Energy Corp | 光学部品用洗浄液組成物 |
| JP2003082390A (ja) * | 2001-09-12 | 2003-03-19 | Neos Co Ltd | レンズ及びプリズム製造工程用洗浄剤組成物 |
| JP2006328212A (ja) * | 2005-05-26 | 2006-12-07 | Tokuyama Corp | ワックス用洗浄剤 |
| CN113150883A (zh) * | 2021-04-26 | 2021-07-23 | 山东京博石油化工有限公司 | 一种车用环保气雾剂及其制备方法 |
-
1999
- 1999-04-09 JP JP10193199A patent/JP4137276B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002241794A (ja) * | 2001-02-19 | 2002-08-28 | Japan Energy Corp | 光学部品用洗浄液組成物 |
| JP2003082390A (ja) * | 2001-09-12 | 2003-03-19 | Neos Co Ltd | レンズ及びプリズム製造工程用洗浄剤組成物 |
| JP2006328212A (ja) * | 2005-05-26 | 2006-12-07 | Tokuyama Corp | ワックス用洗浄剤 |
| CN113150883A (zh) * | 2021-04-26 | 2021-07-23 | 山东京博石油化工有限公司 | 一种车用环保气雾剂及其制备方法 |
| CN113150883B (zh) * | 2021-04-26 | 2023-05-05 | 山东京博石油化工有限公司 | 一种车用环保气雾剂及其制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4137276B2 (ja) | 2008-08-20 |
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