JPH11323382A - ピッチ洗浄用液体洗浄剤組成物 - Google Patents
ピッチ洗浄用液体洗浄剤組成物Info
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- JPH11323382A JPH11323382A JP13985598A JP13985598A JPH11323382A JP H11323382 A JPH11323382 A JP H11323382A JP 13985598 A JP13985598 A JP 13985598A JP 13985598 A JP13985598 A JP 13985598A JP H11323382 A JPH11323382 A JP H11323382A
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Abstract
ニオン性界面活性剤、特定のグリコールエーテル及び炭
化水素系溶剤を必須成分として使用することによって、
従来の水系洗浄剤に替わり、洗浄力はもとより、すすぎ
性、及び安全性に優れた新規なピッチ用水系洗浄剤組成
物を提供する。 【解決手段】 ジ2−エチルヘキシルスルホコハク酸ア
ンモニウム8重量%、ジエチレングリコールモノブチル
エーテル20重量%、ジエチレングリコールモノ2−エ
チルヘキシルエーテル12重量%、ジエチレングリコー
ルジブチルエーテル5重量%、C12H2610重量%及び
水45重量%からなるピッチ洗浄用水系洗浄剤組成物を
調製する。
Description
物に関し、詳しくは光学ガラスに付着したピッチ洗浄、
更に詳しくはレンズ加工時におけるレンズ保持に用いる
ピッチ、あるいは加工面を保護する目的で使われる保護
膜の洗浄における洗浄剤に関する。
球面を形成させるために研削工程や研磨工程、芯取り工
程等がある。そのため各加工工程でレンズを保持台に固
定する際にピッチや接着剤が使用される。また、研磨工
程が終了した製品はその面を保護する目的でアスファル
ト系ピッチや特殊樹脂が保護膜として塗布される。
り、フロンや、トリクロロエタン、トリクロロエチレ
ン、テトラクロロエチレン、メチレンクロライド等の塩
素系溶剤が使用されていた。しかし、近年の環境問題を
背景にこれらの塩素系溶剤を使用しない洗浄剤の開発が
活発化し、例えば特開平6−93295号公報、特開平
6−240295号公報、特開平6−258607号公
報、特開平8−254602号公報、特開平9−241
685号公報にその技術を見ることができる。特開平6
−240295号公報、特開平6−258607号公報
及び特開平8−254602号公報に見られる技術はア
ロマティック系有機溶剤、シクロパラフィン系有機溶剤
に代表される有機溶剤の組み合わせによる非水系洗浄剤
組成物にてピッチやワックスを溶解せしめる洗浄技術で
あり、常に引火性を危惧される問題点を有した洗浄技術
である。また、特開平6−93295号公報及び特開平
9−241685号公報に見られる技術は界面活性剤を
併用することにより、水の含有を可能にし、準水系ある
いは水系の洗浄剤とし、引火点を消滅させ、洗浄力とす
すぎ性の両立を図る技術である。
成物や水系洗浄剤組成物もピッチやワックスに対して一
定の洗浄力を保持していることは明確であり、また水で
すすぐことを考慮し、非イオン性界面活性剤を用いて洗
浄剤の改質が行われ、すすぎ性に対して効果を上げてい
ることも事実である。
代替洗浄剤に対する産業界の取り組み方の活発化によっ
て、上記技術により構築された洗浄剤の、特にすすぎ性
の劣化に対しての欠点も明らかにされ、その欠点克服の
ための新たな要求品質が出てきている。
す。一般的にレンズなどの光学部品洗浄は、まず、洗浄
液中で超音波などの機械力を付加して汚れを洗浄し、続
いて清浄な水で満たされたすすぎ槽(一般的にはイオン
交換水)によって、部品に付着している洗浄剤をすすぎ
落とす。この際、部品に付着して洗浄剤がすすぎ槽に持
ち込まれる。
ッチやワックスの洗浄剤成分として用いられるのは水不
溶性あるいは水難溶性の溶剤成分である。これらの成分
は組成物中では非イオン性界面活性剤を介在して安定化
されている。しかし、すすぎ槽に持ち込まれた瞬間、こ
の洗浄液は大量の水と接することになる。その結果、安
定化されていた溶剤成分は可溶化状態を保ちきれずに、
結果としてすすぎ水表面に油膜として拡散する。
品を引き上げた際、油膜が清浄な表面に再付着し目的の
清浄度の部品を得ることが不可能になる。
ぎで行う場合でも、部品上に部分的に界面活性剤の希薄
領域が形成されるため、同様な現象が起こり部品表面が
激しく汚染される。
い非水系洗浄剤に比較して界面活性剤の効果は見られる
が、このように、すすぎ性において特異な現象を起こす
ことによって洗浄剤として使用に耐えられない商品とな
ってしまう。界面活性剤として非イオン性界面活性剤を
用いた上記洗浄剤組成物の欠点である。
び特開平8−231993号公報には、アニオン界面活
性剤と溶剤とを用いたピッチ用洗浄剤が、特定の溶剤成
分との組み合わせによる非水系洗浄剤の他に水系洗浄剤
としても開示され、液安定性や粘度低下性能を確保する
ための溶剤の安定化剤としてアニオン界面活性剤が利用
されている。
ン性界面活性剤を利用した洗浄剤組成物と同様にある一
定の洗浄力は保有している。しかしながら、特定の溶剤
成分との組み合わせである、これらの技術では、低温で
の洗浄性、より短時間での洗浄性という要求に対して満
足なものではなく、高洗浄力高すすぎ性水系洗浄剤への
技術変換が求められている。
水素系溶剤や準水系洗浄剤、従来の水系洗浄剤に替わ
り、洗浄力はもとより、すすぎ性、及び安全性に優れた
新規なピッチ用水系洗浄剤組成物を提供することを目的
とする。
な欠点を克服し、且つ液安定性の優れた高洗浄力洗浄剤
の開発に検討を重ねた結果、アニオン性界面活性剤、特
定のグリコールエーテル及び炭化水素系溶剤を必須成分
として使用することによって、すすぎ性に対して特異的
に作用し、液安定性に優れ、かつ水を含有するにもかか
わらず高洗浄力を発揮できる目的のピッチ洗浄用水系洗
浄剤組成物を得ることに成功した。
面活性剤、(B)下記の一般式(I)で表される化合物
の中から選ばれる1種以上のグリコールエーテル化合
物、(C)下記の一般式(II)で表される化合物の中か
ら選ばれる1種以上のグリコールエーテル化合物、
(D)下記の一般式(III) で表される化合物の中から選
ばれる1種以上の炭化水素化合物、及び(E)水を必須
成分として含有することを特徴とするピッチ洗浄用液体
洗浄剤組成物を提供する。
基であって、R1 は炭素数3〜9のアルキル基又はアル
ケニル基を示し、A1 は炭素数2〜4のアルキレン基を
示し、nは1〜10の数を示す。尚、nが2以上の場
合、ポリオキシアルキレン鎖は同一のアルキレンオキシ
ドが単独で付加していても、2種以上のアルキレンオキ
シドが混合して付加していてもどちらでも良く、また、
混合付加の場合の形態もランダム付加でもブロック付加
でもどちらでも良い)
1〜9の直鎖アルケニル基、フェニル基、炭素数1〜9
の直鎖アルキル基を有するフェニル基、又はベンジル基
を示し、R3 は水素原子、炭素数1〜9の直鎖アルキル
基又は炭素数1〜9の直鎖アルケニル基を示し、A2 は
炭素数2〜4のアルキレン基を示し、nは1〜20の数
を示す。尚、nが2以上の場合、ポリオキシアルキレン
鎖は同一のアルキレンオキシドが単独で付加していて
も、2種以上のアルキレンオキシドが混合して付加して
いてもどちらでも良く、また、混合付加の場合の形態も
ランダム付加でもブロック付加でもどちらでも良い)
す)
性剤が下記の一般式(IV)〜(VI)で表される化合物の
中から選ばれる1種以上のスルホコハク酸型アニオン性
界面活性剤である上記のピッチ洗浄用液体洗浄剤組成物
を提供する。
ルキル基又は炭素数3〜22のアルケニル基を示し、M
は対イオンでアルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモ
ニウム又はアミン化合物の塩を示す)
して規定される各化合物について詳細な説明を行う。
は、特に限定されないが以下に例示される一般的なアニ
オン性界面活性剤の中から選択することができる。
有する直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩 (2)平均炭素数10〜20のアルファオレフィンスル
ホン酸塩 (3)平均炭素数10〜20のアルキル硫酸塩 (4)平均炭素数10〜20の直鎖又は分岐鎖のアルキ
ル基又はアルケニル基を有し、平均0.5〜8モルのエ
チレンオキシドを付加したアルキルエーテル硫酸塩 (5)平均炭素数5〜22の飽和又は不飽和脂肪酸塩 (6)スルホコハク酸型アニオン界面活性剤
イオンとしては、アルカリ金属、アルカリ土類金属、ア
ンモニウム又はアミン化合物の塩が用いられる。
面活性剤の中でも、特に有用である界面活性剤は下記の
一般式(IV)〜(VI)で表される化合物の中から選ばれ
る1種以上のスルホコハク酸型アニオン界面活性剤であ
る。
ルキル基又は炭素数3〜22のアルケニル基を示し、M
は対イオンでアルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモ
ニウム又はアミン化合物の塩を示す)
(VI)で表される化合物の中でも、特に一般式(IV)で
表される化合物の中から選ばれる1種以上のスルホコハ
ク酸アルキルエステル型界面活性剤が望ましく、さらに
望ましくは一般式(IV)においてアルキル基又はアルケ
ニル基がジイソブチル、ジアミル、ジヘキシル、ジオク
チル(ジ2−エチルヘキシル)であるジアルキルエステ
ル型スルホコハク酸塩が望ましい。
向上させるばかりでなく、すすぎ性向上剤として特異的
に作用する。
量%、好ましくは1〜20重量%の割合で配合すること
が好ましい。この範囲を逸脱すると、液安定性効果やす
すぎ効果が失われたり、製品の粘度が上昇する等の不具
合が生じる。
れる化合物の中から選ばれる1種以上のグリコールエー
テル化合物において、アルキレンオキサイドの平均付加
モル数であるnとしては1〜4モルが特に好ましく、ア
ルキレンオキサイドはエチレンオキサイドが特に好まし
い。(B)成分としては、例えば、グリコールモノイソ
プロピルエーテル、グリコールモノイソブチルエーテ
ル、グリコールモノ−sec−ブチルエーテル、グリコ
ールモノ−tert−ブチルエーテル、グリコールモノ
イソアミルエーテル、グリコールモノ−sec−アミル
エーテル、グリコールモノ−tert−アミルエーテ
ル、グリコールモノメチルアミルエーテル、グリコール
モノ−2−エチルブチルエーテル、グリコールモノ−2
−ヘプチルエーテル、グリコールモノ−3−ヘプチルエ
ーテル、グリコールモノ−2−オクチルエーテル、グリ
コールモノ−2−エチルヘキシルエーテル、グリコール
モノ−3,5,5−トリメチルヘキシルエーテル等が挙
げられる。これらの中でも、エチレングリコールモノ−
2−エチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノ−2−エチルヘキシルエーテルが特に好ましく、さら
に、グリコールエーテル単品の引火点が100℃以上の
化合物の中から選択することにより、引火点の危惧のな
い安全性の高い水系洗浄剤とすることができる。
温安定性向上に特異的な効果を示し、組成物中に1〜4
0重量%、好ましくは5〜30重量%の割合で配合する
ことが好ましい。この範囲を逸脱すると、液安定性効果
が失われたり、洗浄力が不足したりする等の不具合が生
じる。
れる化合物の中から選ばれる1種以上のグリコールエー
テル化合物において、グリコールモノエーテル類として
は、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコ
ールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノ−n
−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−
プロピルエーテル、トリエチレングリコールモノ−n−
プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエ
ーテル、トリエチレングリコールモノ−n−ブチルエー
テル、エチレングリコールモノ−n−ヘキシルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノ−n−ヘキシルエーテル
等が挙げられる。
ングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジ
エチルエーテル、エチレングリコールジ−n−ブチルエ
ーテル、ジエチレングリコールジ−n−ブチルエーテル
等が挙げられる。
チレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレング
リコールモノフェニルエーテル、トリエチレングリコー
ルモノフェニルエーテル等が挙げられ、更にベンジルグ
リコール類としてはエチレングリコールモノベンジルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノベンジルエーテル、
プロピレングリコールモノベンジルエーテル等が挙げら
れる。
も、洗浄力を向上させるためには末端エーテル残基の合
計炭素数(R2+R3)が4〜12、好ましくは4〜8の
グリコールエーテル化合物の中から選ばれるグリコール
モノエーテル又はグリコールジエーテルが好ましい。ま
た、グリコールモノエーテルとグリコールジエーテルと
を併用することが、洗浄力及び液安定性のバランスの点
から好ましい。
の中でも、グリコールエーテル単品の引火点が100℃
以上の化合物の中から選択することが好ましく、引火点
の危惧のない安全性の高い水系洗浄剤とすることができ
る。グリコール部分はエチレンオキシド又はプロピレン
オキシドの付加により形成されることが好ましく、その
付加モル数nは1〜10が好適である。
膜の洗浄力向上に特異的な効果を示し、組成物中に1〜
70重量%、好ましくは5〜50重量%の割合で配合す
ることが好ましい。この配合量の範囲を逸脱すると洗浄
力が発揮されなかったり、経済的に不利になる。
れる化合物の中から選ばれる1種以上の炭化水素化合物
としては、パラフィン又はオレフィン系炭化水素化合
物、芳香族炭化水素化合物、アルキルベンゼン系炭化水
素化合物、アルキルナフタレン系炭化水素化合物等が挙
げられる。パラフィン系炭化水素又はオレフィン系炭化
水素は、それぞれ炭素数6〜14が好ましい。さらに、
オレフィン系炭化水素としては、特にα−オレフィンが
好ましい。アルキルベンゼン系炭化水素又はアルキルナ
フタレン系炭化水素は、アルキル基の炭素数6〜14が
好ましい。
も良いが、2種類以上を適宜に組み合わせても良い。
いのは、パラフィン系炭化水素であり、更に溶剤単品の
引火点が100℃以上の化合物の中から選択することに
より、液安定性が良好で引火点の危惧のない安全性の高
い水系洗浄剤とすることができる。
量%、好ましくは1〜20重量%の割合で配合すること
が好ましい。配合量が不足した場合は洗浄効果がみられ
ず、また、多すぎた場合は液安定性の劣化、すすぎ性の
劣化が見られるようになる。
る水を必須成分として含有する。ここで用いられる水は
清浄な水であれば特に規定されないが、一般的にはイオ
ン交換水や蒸留水が用いられる。(E)成分は、組成物
中に1〜95重量%、好ましくは20〜70重量%の割
合で配合することが好ましい。水の含有量が少ないと引
火点を発生させる危惧があり、また多すぎると洗浄性不
良を招く。
に洗浄性やすすぎ性に影響を及ぼさない範囲で任意成分
としてその他の界面活性剤や液安定化剤、洗浄ビルダー
等を配合することが可能である。
非イオン性界面活性剤、両性界面活性剤が挙げられる。
非イオン性界面活性剤の具体例を以下に例示する。ここ
で、pはアルキレンオキシドの平均付加モル数を示す。
アルキレンオキシドとしてはエチレンオキシド、プロピ
レンオキシド、ブチレンオキシド又はこれらの混合付加
物が用いられる。
0)アルキルまたはアルケニル(C10〜C22)エーテル (2)ポリオキシアルキレン(p=3〜40)アルキル
またはアルケニル(C6〜C12)フェニルエーテル (3)ポリオキシアルキレン(p=0.5〜40)アル
キルまたはアルケニル(C10〜C22)アミン (4)ポリオキシアルキレン(p=0.5〜50)アル
キルまたはアルケニル(C10〜C22)アミド (5)エチレンオキシド・プロピレンオキシドブロック
付加物(プルロニック型界面活性剤) (6)アルキル(C6〜C22)アミンオキシド (7)アルキル(C6〜C22)アミドアミンオキシド
好ましいものはポリオキシエチレン(p=10〜30)
アルキル(C10〜C16)エーテルやアルキル(C8 〜C
14)アミンオキシドである。
ベタイン、ステアリルベタイン、オクチルベタイン、ラ
ウリルベタインアミン、ラウリン酸アミドアルキルベタ
イン、ラウリルカルボキシメチルヒドロキシエチルイミ
ダゾリニウムベタイン等が挙げられる。
性剤を添加する場合は、必須成分である(A)成分との
重量比率が、(A)成分/任意成分の界面活性剤=9/
1〜2/8の範囲が望ましい。この範囲を逸脱するとす
すぎ性が極端に劣化し、当初の目的を達し得なくなる。
ンジアミン四酢酸塩等の洗浄ビルダーを配合する場合
は、0.001〜2重量%、好ましくは0.01〜0.
5重量%の割合で配合することが好ましい。この範囲を
逸脱すると添加効果が見られなかったり液分離等の不都
合が発生する。
レングリコール、プロピレングリコール等のグリコール
類、メタノール、エタノール等の低級アルコール類、ト
ルエンスルホン酸塩、キシレンスルホン酸塩等のハイド
ロトロープ剤を配合する場合は、組成物中に0.1〜5
重量%、好ましくは1〜2重量%の割合で配合すること
が好ましい。さらには目的に応じてベンゾトリアゾー
ル、t−ブチル安息香酸塩等の防錆剤を配合することが
可能であり、配合量は組成物中に0.005〜1重量%
の割合で配合することが好ましい。
溶液として使用することも可能であるが、一般的には組
成物そのままの濃度で洗浄する。
法及び判定基準を用いて各種項目について評価した。そ
の結果を表1及び表2に示す。
の評価点に従って評価する。評価は○以上が合格であ
る。 液安定性評価(曇点) ◎・・・50℃以上 ○・・・40℃以上50℃未満 △・・・30℃以上40℃未満 ×・・・30℃未満あるいは白濁又は分離
し、安定性を以下の評価点に従って評価する。評価は○
が合格である。 液安定性評価 ○・・・均一透明 ×・・・白濁又は分離が見られる
し、直径20mmの硝子製レンズ表面に付着させる。室
温に冷却しピッチを完全に固化させ、被洗浄サンプルと
する。用意した洗浄剤組成物の原液を用い、30℃、3
分間超音波洗浄を行う(超音波洗浄器:50kHz 2
00w サン電子工業製 SC−20型)。被洗浄パネ
ルを取り出し、20℃イオン交換水中で1分間、同条件
で超音波すすぎを行う。さらに、105℃恒温乾燥器で
60分乾燥を行う。乾燥終了後、光源下レンズ表面を観
察し、ピッチの残留を以下の評価基準に従って評価す
る。評価は○以上が合格である。 洗浄性評価(ピッチの残留) ◎・・・完全洗浄される。 ○・・・ほとんど洗浄される。 △・・・少し洗浄される。 ×・・・全く洗浄されない。
させ、表面に洗浄剤を付着させる。あらかじめ準備した
清浄なイオン交換水(20℃)300mlの入ったビー
カーに洗浄剤の付着したスライドグラスを浸漬し、10
回イオン交換水中を出し入れし、すすぎを行う。この時
のすすぎ性を目視で評価し、以下の評価点に従ってすす
ぎ性評価としての評価を行う。評価は○以上が合格で
ある。 すすぎ性評価(スライドグラス上の油性成分の残留) ◎・・・油性成分の残留が全く見られない。 ○・・・ 〃 ほとんど見られない。 △・・・ 〃 少し見られる。 ×・・・ 〃 激しい。
0mlの入ったビーカーに用意した各洗浄剤組成物の原
液をスポイトで一滴滴下する。この時のイオン交換水表
面を目視で観察し、油膜の生成度合いを以下の評価点に
従ってすすぎ性評価として評価を行う。評価は○以上
が合格である。 すすぎ性評価(すすぎ液表面での油膜形成) ◎・・・油膜形成が全く見られない。 ○・・・ 〃 ほとんど見られない。 △・・・ 〃 少し見られる。 ×・・・ 〃 激しい。
り、POEはポリオキシエチレンの略である(表2も同
様)。
は、ピッチやワックスに対する優れた洗浄性と、優れた
液安定性及びすすぎ性とを有する新規なピッチ洗浄用液
体洗浄剤組成物である。
Claims (2)
- 【請求項1】 (A)アニオン性界面活性剤、(B)下
記の一般式(I)で表される化合物の中から選ばれる1
種以上のグリコールエーテル化合物、(C)下記の一般
式(II)で表される化合物の中から選ばれる1種以上の
グリコールエーテル化合物、(D)下記の一般式(III)
で表される化合物の中から選ばれる1種以上の炭化水素
化合物、及び(E)水を必須成分として含有することを
特徴とするピッチ洗浄用液体洗浄剤組成物。 【化1】R1−O−(A1O)n−H (I) (式中、R1−O は分岐鎖又は第二、第三アルコール残
基であって、R1 は炭素数3〜9のアルキル基又はアル
ケニル基を示し、A1 は炭素数2〜4のアルキレン基を
示し、nは1〜10の数を示す。尚、nが2以上の場
合、ポリオキシアルキレン鎖は同一のアルキレンオキシ
ドが単独で付加していても、2種以上のアルキレンオキ
シドが混合して付加していてもどちらでも良く、また、
混合付加の場合の形態もランダム付加でもブロック付加
でもどちらでも良い) 【化2】R2−O−(A2O)n−R3 (II) (式中、R2 は炭素数1〜9の直鎖アルキル基、炭素数
1〜9の直鎖アルケニル基、フェニル基、炭素数1〜9
の直鎖アルキル基を有するフェニル基、又はベンジル基
を示し、R3 は水素原子、炭素数1〜9の直鎖アルキル
基又は炭素数1〜9の直鎖アルケニル基を示し、A2 は
炭素数2〜4のアルキレン基を示し、nは1〜20の数
を示す。尚、nが2以上の場合、ポリオキシアルキレン
鎖は同一のアルキレンオキシドが単独で付加していて
も、2種以上のアルキレンオキシドが混合して付加して
いてもどちらでも良く、また、混合付加の場合の形態も
ランダム付加でもブロック付加でもどちらでも良い) 【化3】CxHy (III) (式中、xは6〜30の数を、yは6〜50の数を示
す) - 【請求項2】 (A)アニオン性界面活性剤が下記の一
般式(IV)〜(VI)で表される化合物の中から選ばれる
1種以上のスルホコハク酸型アニオン性界面活性剤であ
る請求項1に記載のピッチ洗浄用液体洗浄剤組成物。 【化4】 【化5】 【化6】 (式中、R4 〜R8 は炭素数3〜22のアルキル基又は
炭素数3〜22のアルケニル基を示し、Mは対イオンで
アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム又はア
ミン化合物の塩を示す)
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13985598A JP4026790B2 (ja) | 1998-05-21 | 1998-05-21 | ピッチ洗浄用液体洗浄剤組成物 |
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Publication Number | Publication Date |
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JPH11323382A true JPH11323382A (ja) | 1999-11-26 |
JP4026790B2 JP4026790B2 (ja) | 2007-12-26 |
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JP (1) | JP4026790B2 (ja) |
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JP2006070259A (ja) * | 2004-08-04 | 2006-03-16 | Tokuyama Corp | 洗浄剤組成物 |
JP2008111140A (ja) * | 2003-04-08 | 2008-05-15 | Kao Corp | 液体洗浄剤組成物 |
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- 1998-05-21 JP JP13985598A patent/JP4026790B2/ja not_active Expired - Fee Related
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