JP2003073692A - 洗浄剤組成物およびそれを用いる洗浄方法 - Google Patents
洗浄剤組成物およびそれを用いる洗浄方法Info
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- JP2003073692A JP2003073692A JP2001263122A JP2001263122A JP2003073692A JP 2003073692 A JP2003073692 A JP 2003073692A JP 2001263122 A JP2001263122 A JP 2001263122A JP 2001263122 A JP2001263122 A JP 2001263122A JP 2003073692 A JP2003073692 A JP 2003073692A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 プリント基盤、精密部品、光学部品、ガラス
基盤を用いた液晶セル、金属部品、プラスチック部品な
どの表面に存在する油脂類、機械油、切削油、ワックス
類、グリース類、ロジン系ワックス、液晶残渣、樹脂類
などの汚れの除去に優れ、また安全性に優れ、かつ環境
汚染のない洗浄剤組成物を提供する。 【解決手段】 特定の比率で水溶性溶剤、フッ素系界面
活性剤および水を含有する洗浄剤組成物を用いて洗浄す
る。
基盤を用いた液晶セル、金属部品、プラスチック部品な
どの表面に存在する油脂類、機械油、切削油、ワックス
類、グリース類、ロジン系ワックス、液晶残渣、樹脂類
などの汚れの除去に優れ、また安全性に優れ、かつ環境
汚染のない洗浄剤組成物を提供する。 【解決手段】 特定の比率で水溶性溶剤、フッ素系界面
活性剤および水を含有する洗浄剤組成物を用いて洗浄す
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、洗浄剤組成物およ
びそれを用いる洗浄方法に関する。
びそれを用いる洗浄方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】プリント基盤、精密部品、光学部品、ガ
ラス基盤を用いた液晶セル、金属部品、プラスチック部
品などの表面に存在する有機物系の汚れの除去には、従
来、ワックスや油脂類の洗浄力、溶解力に優れ、難燃性
であるなどの理由でトリクロロトリフルオロエタン等の
フロン系溶剤またはトリクロロエチレン、テトラクロロ
エチレン等塩素系溶剤が各産業分野で広く使用されてい
た。しかしながら、フロン系及び塩素系の溶剤を使用し
ている洗浄剤は、安全性、毒性、環境汚染性等大きな問
題を有している。
ラス基盤を用いた液晶セル、金属部品、プラスチック部
品などの表面に存在する有機物系の汚れの除去には、従
来、ワックスや油脂類の洗浄力、溶解力に優れ、難燃性
であるなどの理由でトリクロロトリフルオロエタン等の
フロン系溶剤またはトリクロロエチレン、テトラクロロ
エチレン等塩素系溶剤が各産業分野で広く使用されてい
た。しかしながら、フロン系及び塩素系の溶剤を使用し
ている洗浄剤は、安全性、毒性、環境汚染性等大きな問
題を有している。
【０００３】前記のフロン系溶剤または塩素系溶剤の代
替品として、エタノール、イソプロピルアルコール等の
アルコール類、ケロシン、ベンゼン、キシレン等の炭化
水素類が使用されるようになった。しかしながら、アル
コール類、炭化水素類は、引火性、毒性の問題があり、
また被洗浄材の材質への影響もあるため、現在のところ
限定された用途にしか使用されていない。
替品として、エタノール、イソプロピルアルコール等の
アルコール類、ケロシン、ベンゼン、キシレン等の炭化
水素類が使用されるようになった。しかしながら、アル
コール類、炭化水素類は、引火性、毒性の問題があり、
また被洗浄材の材質への影響もあるため、現在のところ
限定された用途にしか使用されていない。
【０００４】前記溶剤の欠点を取り除くため、水により
希釈するという工夫がなされてきた。水によって希釈さ
れた洗浄剤については、例えば、特開平５−１４８４９
９号公報、特開平７−１３３４９６号公報等に記載され
ている。しかしながら、これらの溶剤は、水で希釈する
ことによりその洗浄力は低下するという問題がある。ま
た、水に相溶する溶剤だけでなく、水に不溶の溶剤を界
面活性剤を添加して水に溶け込ませた洗浄剤も使用され
るようになったが、これらに関しても洗浄力は低下する
傾向が見られる。従って、前記の問題を解決し、洗浄力
を保持した洗浄剤の開発が望まれている。
希釈するという工夫がなされてきた。水によって希釈さ
れた洗浄剤については、例えば、特開平５−１４８４９
９号公報、特開平７−１３３４９６号公報等に記載され
ている。しかしながら、これらの溶剤は、水で希釈する
ことによりその洗浄力は低下するという問題がある。ま
た、水に相溶する溶剤だけでなく、水に不溶の溶剤を界
面活性剤を添加して水に溶け込ませた洗浄剤も使用され
るようになったが、これらに関しても洗浄力は低下する
傾向が見られる。従って、前記の問題を解決し、洗浄力
を保持した洗浄剤の開発が望まれている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような背
景の下になされたものであって、本発明は、プリント基
盤、精密部品、光学部品、ガラス基盤を用いた液晶セ
ル、金属部品、プラスチック部品などの表面に存在する
油脂類、機械油、切削油、ワックス類、グリース類、ロ
ジン系ワックス、液晶残渣、樹脂類などの汚れの除去に
優れ、また安全性に優れ、かつ環境汚染のない洗浄剤組
成物を提供することを課題とする。
景の下になされたものであって、本発明は、プリント基
盤、精密部品、光学部品、ガラス基盤を用いた液晶セ
ル、金属部品、プラスチック部品などの表面に存在する
油脂類、機械油、切削油、ワックス類、グリース類、ロ
ジン系ワックス、液晶残渣、樹脂類などの汚れの除去に
優れ、また安全性に優れ、かつ環境汚染のない洗浄剤組
成物を提供することを課題とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、特定の比率で水溶
性溶剤、フッ素系界面活性剤および水を含有する洗浄剤
組成物を用いれば、前記の課題を解決できることを見出
し本発明を完成するに至った。本発明は、以下の（１）
〜（１６）に示される洗浄剤組成物およびそれを用いる
洗浄方法に関する。
を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、特定の比率で水溶
性溶剤、フッ素系界面活性剤および水を含有する洗浄剤
組成物を用いれば、前記の課題を解決できることを見出
し本発明を完成するに至った。本発明は、以下の（１）
〜（１６）に示される洗浄剤組成物およびそれを用いる
洗浄方法に関する。
【０００７】（１）水溶性溶剤を１〜９５質量％、フッ
素系界面活性剤を０．０００１〜５質量％および全組成
を１００％とするに足る量の水を含有することを特徴と
する洗浄剤組成物。 （２）水溶性溶剤がグリコールエーテルまたはＮ−メチ
ルピロリドンである上記（１）に記載の洗浄剤組成物。 （３）グリコールエーテルが、ジエチレングリコールモ
ノブチルエーテルまたはジエチレングリコールモノヘキ
シルエーテルである上記（２）に記載の洗浄剤組成物。 （４）フッ素系界面活性剤がフッ素系陰イオン性界面活
性剤であり、下記一般式（１） Ｒ1ＣＯＯＭ （１） （式中、Ｒ1は水素原子の一部または全部がフッ素原子
で置換された、炭素数が２〜２０の直鎖状または分岐鎖
状のアルキル基またはアルケニル基であり、Ｍは水素原
子、アルカリ金属原子、アンモニウム基、アルキルアン
モニウム基またはアルカノールアンモニウム基を表
す。）で表されるカルボン酸、その塩、下記一般式
（２） Ｒ2ＳＯ3Ｍ （２） （式中、Ｒ2は水素原子の一部または全部がフッ素原子
で置換された、炭素数が２〜２０の直鎖状または分岐鎖
状のアルキル基またはアルケニル基であり、Ｍは前記と
同様の意味を表す。）で表されるスルホン酸およびその
塩からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物であ
る上記（１）に記載の洗浄剤組成物。 （５）フッ素系陰イオン性界面活性剤が、パーフルオロ
カプリル酸、パーフルオロカプリン酸、パーフルオロオ
クタンスルホン酸およびそれらの塩からなる群から選ば
れる少なくとも１種の化合物である上記（４）に記載の
洗浄剤組成物。
素系界面活性剤を０．０００１〜５質量％および全組成
を１００％とするに足る量の水を含有することを特徴と
する洗浄剤組成物。 （２）水溶性溶剤がグリコールエーテルまたはＮ−メチ
ルピロリドンである上記（１）に記載の洗浄剤組成物。 （３）グリコールエーテルが、ジエチレングリコールモ
ノブチルエーテルまたはジエチレングリコールモノヘキ
シルエーテルである上記（２）に記載の洗浄剤組成物。 （４）フッ素系界面活性剤がフッ素系陰イオン性界面活
性剤であり、下記一般式（１） Ｒ1ＣＯＯＭ （１） （式中、Ｒ1は水素原子の一部または全部がフッ素原子
で置換された、炭素数が２〜２０の直鎖状または分岐鎖
状のアルキル基またはアルケニル基であり、Ｍは水素原
子、アルカリ金属原子、アンモニウム基、アルキルアン
モニウム基またはアルカノールアンモニウム基を表
す。）で表されるカルボン酸、その塩、下記一般式
（２） Ｒ2ＳＯ3Ｍ （２） （式中、Ｒ2は水素原子の一部または全部がフッ素原子
で置換された、炭素数が２〜２０の直鎖状または分岐鎖
状のアルキル基またはアルケニル基であり、Ｍは前記と
同様の意味を表す。）で表されるスルホン酸およびその
塩からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物であ
る上記（１）に記載の洗浄剤組成物。 （５）フッ素系陰イオン性界面活性剤が、パーフルオロ
カプリル酸、パーフルオロカプリン酸、パーフルオロオ
クタンスルホン酸およびそれらの塩からなる群から選ば
れる少なくとも１種の化合物である上記（４）に記載の
洗浄剤組成物。
【０００８】（６）液状炭化水素を０．１〜３０質量％
含有する上記（１）〜（５）のいずれかに記載の洗浄剤
組成物。 （７）液状炭化水素がアルファ・オレフィン、イソパラ
フィン、ｎ−パラフィンまたはリモネンである上記
（６）に記載の洗浄剤組成物。 （８）サクシネート型陰イオン性界面活性剤を０．０１
〜３０質量％含有する上記（１）〜（７）のいずれかに
記載の洗浄剤組成物。 （９）サクシネート型陰イオン性界面活性剤が下記一般
式（３）
含有する上記（１）〜（５）のいずれかに記載の洗浄剤
組成物。 （７）液状炭化水素がアルファ・オレフィン、イソパラ
フィン、ｎ−パラフィンまたはリモネンである上記
（６）に記載の洗浄剤組成物。 （８）サクシネート型陰イオン性界面活性剤を０．０１
〜３０質量％含有する上記（１）〜（７）のいずれかに
記載の洗浄剤組成物。 （９）サクシネート型陰イオン性界面活性剤が下記一般
式（３）
【化２】
（式中、Ｒ3、Ｒ4はともにアルキル基で、Ｒ3とＲ4の合
計炭素数が１０〜２０の直鎖状または分岐鎖状のアルキ
ル基を表す。Ｍは水素原子、アルカリ金属原子、アンモ
ニウム基、アルキルアンモニウム基またはアルカノール
アンモニウム基を表す。）で表されるアルキルスルフォ
サクシネート、またはその塩である上記（８）に記載の
洗浄剤組成物。 （１０）前記サクシネート型陰イオン界面活性剤がジヘ
キシルスルホコハク酸ナトリウム、ジオクチルスルホコ
ハク酸ナトリウムまたはジラウリルスルホコハク酸アン
モニウムである上記（８）または（９）に記載の洗浄剤
組成物。
計炭素数が１０〜２０の直鎖状または分岐鎖状のアルキ
ル基を表す。Ｍは水素原子、アルカリ金属原子、アンモ
ニウム基、アルキルアンモニウム基またはアルカノール
アンモニウム基を表す。）で表されるアルキルスルフォ
サクシネート、またはその塩である上記（８）に記載の
洗浄剤組成物。 （１０）前記サクシネート型陰イオン界面活性剤がジヘ
キシルスルホコハク酸ナトリウム、ジオクチルスルホコ
ハク酸ナトリウムまたはジラウリルスルホコハク酸アン
モニウムである上記（８）または（９）に記載の洗浄剤
組成物。
【０００９】（１１）非イオン系界面活性剤を０．００
０１〜３０質量％含有する上記（１）〜（１０）のいず
れかに記載の洗浄剤組成物。 （１２）非イオン系界面活性剤が下記一般式（４） Ｒ5−Ｏ−(Ｒ6−Ｏ)p−Ｈ （４） （式中、Ｒ5は炭素数が６〜２０のアルキル基、Ｒ6は炭
素数が２〜４のアルキレン基、ｐは３〜２０の整数を表
す。）で表されるポリオキシアルキレンアルキルエーテ
ル型、下記一般式（５） Ｒ7−Ｃ6Ｈ4−Ｏ−(Ｒ8−Ｏ)q−Ｈ （５） （式中、Ｒ7は炭素数が６〜２０のアルキル基、Ｒ8は炭
素数が２〜４のアルキレン基、ｑは３〜２０の整数を表
す。）で表されるポリオキシアルキレンアリールエーテ
ル型、下記一般式（６） Ｒ9−ＣＯＯ−(Ｒ10−Ｏ)r−Ｈ （６） （式中、Ｒ9は炭素数が９〜１６のアルキル基、Ｒ10は
炭素数が２〜４のアルキレン基、ｒは６〜１６の整数を
表す。）で表されるポリオキシアルキレンアルキルエス
テル型からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物
である上記（１１）に記載の洗浄剤組成物。 （１３）非イオン系界面活性剤がポリオキシエチレンア
ルキルエーテルおよび／またはポリオキシエチレンノニ
ルフェニルエーテルである上記（１１）または（１２）
に記載の洗浄剤組成物。 （１４）汚染の付着した精密加工部品を上記（１）〜
（１３）のいずれかに記載の洗浄剤組成物に浸漬または
浸漬揺動し、精密加工部品に含まれる数〜数十μｍの微
細な穴または隙間に残留する汚染物質を除去することを
特徴とする洗浄方法。 （１５）上記（１４）に記載の方法により洗浄された表
面を有する精密加工部品。 （１６）上記（１４）に記載の方法により洗浄された表
面を有する液晶パネル。
０１〜３０質量％含有する上記（１）〜（１０）のいず
れかに記載の洗浄剤組成物。 （１２）非イオン系界面活性剤が下記一般式（４） Ｒ5−Ｏ−(Ｒ6−Ｏ)p−Ｈ （４） （式中、Ｒ5は炭素数が６〜２０のアルキル基、Ｒ6は炭
素数が２〜４のアルキレン基、ｐは３〜２０の整数を表
す。）で表されるポリオキシアルキレンアルキルエーテ
ル型、下記一般式（５） Ｒ7−Ｃ6Ｈ4−Ｏ−(Ｒ8−Ｏ)q−Ｈ （５） （式中、Ｒ7は炭素数が６〜２０のアルキル基、Ｒ8は炭
素数が２〜４のアルキレン基、ｑは３〜２０の整数を表
す。）で表されるポリオキシアルキレンアリールエーテ
ル型、下記一般式（６） Ｒ9−ＣＯＯ−(Ｒ10−Ｏ)r−Ｈ （６） （式中、Ｒ9は炭素数が９〜１６のアルキル基、Ｒ10は
炭素数が２〜４のアルキレン基、ｒは６〜１６の整数を
表す。）で表されるポリオキシアルキレンアルキルエス
テル型からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物
である上記（１１）に記載の洗浄剤組成物。 （１３）非イオン系界面活性剤がポリオキシエチレンア
ルキルエーテルおよび／またはポリオキシエチレンノニ
ルフェニルエーテルである上記（１１）または（１２）
に記載の洗浄剤組成物。 （１４）汚染の付着した精密加工部品を上記（１）〜
（１３）のいずれかに記載の洗浄剤組成物に浸漬または
浸漬揺動し、精密加工部品に含まれる数〜数十μｍの微
細な穴または隙間に残留する汚染物質を除去することを
特徴とする洗浄方法。 （１５）上記（１４）に記載の方法により洗浄された表
面を有する精密加工部品。 （１６）上記（１４）に記載の方法により洗浄された表
面を有する液晶パネル。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳しく説明
する。先ず、本発明の洗浄剤組成物について説明する。
本発明の洗浄剤組成物は、水溶性溶剤を１〜９５質量
％、フッ素系界面活性剤を０．０００１〜５質量％およ
び全組成を１００％とするに足る量の水を含有すること
を特徴とする。
する。先ず、本発明の洗浄剤組成物について説明する。
本発明の洗浄剤組成物は、水溶性溶剤を１〜９５質量
％、フッ素系界面活性剤を０．０００１〜５質量％およ
び全組成を１００％とするに足る量の水を含有すること
を特徴とする。
【００１１】水溶性溶剤は、組成物全重量に対し１〜９
５質量％の割合で配合され、１〜６０質量％配合される
ことが好ましく、１〜５０質量％配合されることがさら
に好ましい。１質量％未満では洗浄性が低下し、９５質
量％より多く配合すると水の配合による非危険物化が困
難となる。また、配合の割合は使用条件に応じて適宜選
択することができる。
５質量％の割合で配合され、１〜６０質量％配合される
ことが好ましく、１〜５０質量％配合されることがさら
に好ましい。１質量％未満では洗浄性が低下し、９５質
量％より多く配合すると水の配合による非危険物化が困
難となる。また、配合の割合は使用条件に応じて適宜選
択することができる。
【００１２】本発明の洗浄剤組成物に配合される水溶性
溶剤としてはアルコール類、グリコール類、グリコール
エーテル類、ケトン類、アルキルアミン類、Ｎ、Ｎ−ジ
メチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ−メチルピロリド
ン等が挙げられ、グリコールエーテル類およびＮ−メチ
ルピロリドンが好ましい。グリコールエーテル類として
は、例えばエチレングリコールモノエチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレング
リコールモノヘキシルエーテル、プロピレングリコール
モノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ
ブチルエーテルアセテート等を挙げることができ、ジエ
チレングリコールモノブチルエーテルおよびジエチレン
グリコールモノヘキシルエーテルが好ましい。これらの
化合物はそれぞれ単独で使用してもよいが、２種類以上
を適宜に組み合わせて使用してもよい。
溶剤としてはアルコール類、グリコール類、グリコール
エーテル類、ケトン類、アルキルアミン類、Ｎ、Ｎ−ジ
メチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ−メチルピロリド
ン等が挙げられ、グリコールエーテル類およびＮ−メチ
ルピロリドンが好ましい。グリコールエーテル類として
は、例えばエチレングリコールモノエチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレング
リコールモノヘキシルエーテル、プロピレングリコール
モノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ
ブチルエーテルアセテート等を挙げることができ、ジエ
チレングリコールモノブチルエーテルおよびジエチレン
グリコールモノヘキシルエーテルが好ましい。これらの
化合物はそれぞれ単独で使用してもよいが、２種類以上
を適宜に組み合わせて使用してもよい。
【００１３】本発明の洗浄剤組成物に配合されるフッ素
系界面活性剤としては、フッ素系陰イオン性界面活性剤
であることが好ましく、下記一般式（１） Ｒ1ＣＯＯＭ （１） （式中、Ｒ1及びＭは前記と同様の意味を表す。）で表
されるカルボン酸、その塩、下記一般式（２） Ｒ2ＳＯ3Ｍ （２） （式中、Ｒ2及びＭは前記と同様の意味を表す。）で表
されるスルホン酸及びその塩からなる群から選ばれる少
なくとも１種の化合物であることが好ましい。
系界面活性剤としては、フッ素系陰イオン性界面活性剤
であることが好ましく、下記一般式（１） Ｒ1ＣＯＯＭ （１） （式中、Ｒ1及びＭは前記と同様の意味を表す。）で表
されるカルボン酸、その塩、下記一般式（２） Ｒ2ＳＯ3Ｍ （２） （式中、Ｒ2及びＭは前記と同様の意味を表す。）で表
されるスルホン酸及びその塩からなる群から選ばれる少
なくとも１種の化合物であることが好ましい。
【００１４】さらに好ましくは、前記一般式（１）で表
されるカルボン酸のＲ1が、炭素数が６〜１６の直鎖状
または分岐鎖状のパーフルオロアルキル基、ハイドロフ
ルオロアルキル基、パーフルオロアルケニル基、ハイド
ロフルオロアルケニル基であるカルボン酸、その塩、前
記一般式（２）で表されるスルホン酸のＲ2が、炭素数
が６〜１２の直鎖状または分岐鎖状のパーフルオロアル
キル基、ハイドロフルオロアルキル基、パーフルオロア
ルケニル基、ハイドロフルオロアルケニル基であるスル
ホン酸及びその塩からなる群から選ばれる少なくとも１
種の化合物である。
されるカルボン酸のＲ1が、炭素数が６〜１６の直鎖状
または分岐鎖状のパーフルオロアルキル基、ハイドロフ
ルオロアルキル基、パーフルオロアルケニル基、ハイド
ロフルオロアルケニル基であるカルボン酸、その塩、前
記一般式（２）で表されるスルホン酸のＲ2が、炭素数
が６〜１２の直鎖状または分岐鎖状のパーフルオロアル
キル基、ハイドロフルオロアルキル基、パーフルオロア
ルケニル基、ハイドロフルオロアルケニル基であるスル
ホン酸及びその塩からなる群から選ばれる少なくとも１
種の化合物である。
【００１５】具体的には、パーフルオロヘプタン酸（Ｃ
6Ｆ13ＣＯＯＨ）、パーフルオロカプリル酸（Ｃ7Ｆ15Ｃ
ＯＯＨ）、パーフルオロノナン酸（Ｃ8Ｆ17ＣＯＯ
Ｈ）、５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，９−
ウンデカフルオロノナン酸（Ｃ5Ｆ11（ＣＨ2）3ＣＯＯ
Ｈ）、パーフルオロカプリン酸（Ｃ9Ｆ19ＣＯＯＨ）、
パーフルオロドデカン酸（Ｃ11Ｆ23ＣＯＯＨ）、６，
６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１
１，１２，１２，１２−ペンタデカフルオロ−４−ドデ
セン酸（ＣＦ3（ＣＦ2）6ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ2）2ＣＯＯ
Ｈ）、パーフルオロテトラデカン酸（Ｃ13Ｆ27ＣＯＯ
Ｈ）、１２−トリフルオロメチル−１２，１３，１３，
１４，１４，１５，１５，１６，１６，１６−デカフル
オロヘキサデカン酸（ＣＦ3（ＣＦ2）3ＣＦ（ＣＦ3）
（ＣＨ2）10ＣＯＯＨ）、パーフルオロオクタンスルホ
ン酸（Ｃ8Ｆ17ＳＯ3Ｈ）、等とこれらのアンモニウム
塩、テトラメチルアンモニウム塩等を例示することがで
きる。さらに好ましくは、パーフルオロカプリル酸、パ
ーフルオロカプリン酸、パーフルオロオクタンスルホン
酸及びそれらの塩である。また、これらの化合物は単独
で用いてもよいし、２種類以上を任意の割合で組み合わ
せて用いることもできる。
6Ｆ13ＣＯＯＨ）、パーフルオロカプリル酸（Ｃ7Ｆ15Ｃ
ＯＯＨ）、パーフルオロノナン酸（Ｃ8Ｆ17ＣＯＯ
Ｈ）、５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，９−
ウンデカフルオロノナン酸（Ｃ5Ｆ11（ＣＨ2）3ＣＯＯ
Ｈ）、パーフルオロカプリン酸（Ｃ9Ｆ19ＣＯＯＨ）、
パーフルオロドデカン酸（Ｃ11Ｆ23ＣＯＯＨ）、６，
６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１
１，１２，１２，１２−ペンタデカフルオロ−４−ドデ
セン酸（ＣＦ3（ＣＦ2）6ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ2）2ＣＯＯ
Ｈ）、パーフルオロテトラデカン酸（Ｃ13Ｆ27ＣＯＯ
Ｈ）、１２−トリフルオロメチル−１２，１３，１３，
１４，１４，１５，１５，１６，１６，１６−デカフル
オロヘキサデカン酸（ＣＦ3（ＣＦ2）3ＣＦ（ＣＦ3）
（ＣＨ2）10ＣＯＯＨ）、パーフルオロオクタンスルホ
ン酸（Ｃ8Ｆ17ＳＯ3Ｈ）、等とこれらのアンモニウム
塩、テトラメチルアンモニウム塩等を例示することがで
きる。さらに好ましくは、パーフルオロカプリル酸、パ
ーフルオロカプリン酸、パーフルオロオクタンスルホン
酸及びそれらの塩である。また、これらの化合物は単独
で用いてもよいし、２種類以上を任意の割合で組み合わ
せて用いることもできる。
【００１６】また、本発明の洗浄剤組成物は次のような
化合物をフッ素系界面活性剤として用いてもよい。具体
的には、例えば、Ｃ8Ｆ17ＳＯ2Ｎ（Ｃ2Ｈ5）（Ｃ2Ｈ
4Ｏ）14Ｈ、［Ｃ8Ｆ17ＳＯ2ＮＨＣ3Ｈ6Ｎ+（ＣＨ3）3］
Ｉ-、［Ｃ7Ｆ15ＣＯＮＨＣ3Ｈ6Ｎ（ＣＨ3）3］+Ｉ-、３
Ｈ、４Ｈ、４Ｈ−パーフルオロシクロブタン、１Ｈ、２
Ｈ、３Ｈ、４Ｈ−パーフルオロブタン、２Ｈ、２Ｈ、４
Ｈ−パーフルオロペンタン、１Ｈ、２Ｈ−パーフルオロ
ヘキサン、メチルパーフルオロブチルエーテル、メチル
パーフルオロシクロヘキシルエーテル、エチルパーフル
オロイソブチルエーテル等の化合物が挙げられる。
化合物をフッ素系界面活性剤として用いてもよい。具体
的には、例えば、Ｃ8Ｆ17ＳＯ2Ｎ（Ｃ2Ｈ5）（Ｃ2Ｈ
4Ｏ）14Ｈ、［Ｃ8Ｆ17ＳＯ2ＮＨＣ3Ｈ6Ｎ+（ＣＨ3）3］
Ｉ-、［Ｃ7Ｆ15ＣＯＮＨＣ3Ｈ6Ｎ（ＣＨ3）3］+Ｉ-、３
Ｈ、４Ｈ、４Ｈ−パーフルオロシクロブタン、１Ｈ、２
Ｈ、３Ｈ、４Ｈ−パーフルオロブタン、２Ｈ、２Ｈ、４
Ｈ−パーフルオロペンタン、１Ｈ、２Ｈ−パーフルオロ
ヘキサン、メチルパーフルオロブチルエーテル、メチル
パーフルオロシクロヘキシルエーテル、エチルパーフル
オロイソブチルエーテル等の化合物が挙げられる。
【００１７】本発明の洗浄剤組成物において、このフッ
素系界面活性剤は必須成分であり、洗浄剤全体の０．０
００１〜５質量％含有し、好ましくは０．０００１〜１
質量％、さらに好ましくは０．０００１〜０．５質量％
の範囲で含有するのがよい。含有量が５質量％を越える
と泡立ちや濯ぎの問題が生じることがあるので好ましく
なく、逆に０．０００１質量％より少ないと洗浄力を向
上させる作用が十分に発揮されないことがある。
素系界面活性剤は必須成分であり、洗浄剤全体の０．０
００１〜５質量％含有し、好ましくは０．０００１〜１
質量％、さらに好ましくは０．０００１〜０．５質量％
の範囲で含有するのがよい。含有量が５質量％を越える
と泡立ちや濯ぎの問題が生じることがあるので好ましく
なく、逆に０．０００１質量％より少ないと洗浄力を向
上させる作用が十分に発揮されないことがある。
【００１８】本発明の洗浄剤組成物は０．１〜３０質量
％の範囲で液状炭化水素を含んでいてもよい。液状炭化
水素としては、オレフィン系炭化水素、パラフィン系炭
化水素、芳香族系炭化水素、テルペン類等が挙げられ、
好ましくはα−オレフィン、イソパラフィン、ｎ−パラ
フィン、及びリモネンである。これらの化合物はそれぞ
れ単独で使用してもよいが、２種類以上を適宜に組み合
わせて使用してもよい。
％の範囲で液状炭化水素を含んでいてもよい。液状炭化
水素としては、オレフィン系炭化水素、パラフィン系炭
化水素、芳香族系炭化水素、テルペン類等が挙げられ、
好ましくはα−オレフィン、イソパラフィン、ｎ−パラ
フィン、及びリモネンである。これらの化合物はそれぞ
れ単独で使用してもよいが、２種類以上を適宜に組み合
わせて使用してもよい。
【００１９】また、本発明の洗浄剤組成物は、サクシネ
ート型陰イオン界面活性剤を含んでいてもよい。本発明
の洗浄剤組成物に配合されるサクシネート型陰イオン界
面活性剤としては、一般式（３）
ート型陰イオン界面活性剤を含んでいてもよい。本発明
の洗浄剤組成物に配合されるサクシネート型陰イオン界
面活性剤としては、一般式（３）
【化３】
（式中、Ｒ3、Ｒ4およびＭは前記と同様の意味を表
す。）で表されるアルキルスルフォサクシネート、また
はその塩からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合
物である。具体的には、ジオクチルスルホコハク酸ナト
リウム、ジヘキシルスルホコハク酸ナトリウム等を例と
して挙げることができる。
す。）で表されるアルキルスルフォサクシネート、また
はその塩からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合
物である。具体的には、ジオクチルスルホコハク酸ナト
リウム、ジヘキシルスルホコハク酸ナトリウム等を例と
して挙げることができる。
【００２０】このサクシネート型陰イオン界面活性剤
は、洗浄剤全体の０．０１〜３０質量％、好ましくは
０．０１〜２０質量％の範囲で加えることができる。３
０質量％を越えて使用すると泡立ちや濯ぎの問題が生じ
ることがあり好ましくない。逆に、０．０１質量％より
少ないと液を安定に維持する作用が十分に発揮されない
ことがある。
は、洗浄剤全体の０．０１〜３０質量％、好ましくは
０．０１〜２０質量％の範囲で加えることができる。３
０質量％を越えて使用すると泡立ちや濯ぎの問題が生じ
ることがあり好ましくない。逆に、０．０１質量％より
少ないと液を安定に維持する作用が十分に発揮されない
ことがある。
【００２１】サクシネート型アニオン性界面活性剤は、
組成物の曇り点を上昇させる性能を有しているので、水
を主体とした組成で加温して洗浄を行なう際には添加し
て使用することができる。溶剤を主体とした組成で使用
する場合には、必ずしも添加する必要はない。
組成物の曇り点を上昇させる性能を有しているので、水
を主体とした組成で加温して洗浄を行なう際には添加し
て使用することができる。溶剤を主体とした組成で使用
する場合には、必ずしも添加する必要はない。
【００２２】また、本発明の洗浄剤組成物は非イオン性
の界面活性剤を加えて使用することができる。非イオン
性界面活性剤としては、下記一般式（４） Ｒ5−Ｏ−(Ｒ6−Ｏ)p−Ｈ （４） （式中、Ｒ5、Ｒ6及びｐは前記と同様の意味を表す。）
で表されるポリオキシアルキレンアルキルエーテル型、
下記一般式（５） Ｒ7−Ｃ6Ｈ4−Ｏ−(Ｒ8−Ｏ)q−Ｈ （５） （式中、Ｒ7、Ｒ8及びｑは前記と同様の意味を表す。）
で表されるポリオキシアルキレンアリールエーテル型、
及び下記一般式（６） Ｒ9−ＣＯＯ−(Ｒ10−Ｏ)r−Ｈ （６） （式中、Ｒ9、Ｒ10及びｒは前記と同様の意味を表
す。）で表されるポリオキシアルキレンアルキルエステ
ル型からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物が
好適に使用される。
の界面活性剤を加えて使用することができる。非イオン
性界面活性剤としては、下記一般式（４） Ｒ5−Ｏ−(Ｒ6−Ｏ)p−Ｈ （４） （式中、Ｒ5、Ｒ6及びｐは前記と同様の意味を表す。）
で表されるポリオキシアルキレンアルキルエーテル型、
下記一般式（５） Ｒ7−Ｃ6Ｈ4−Ｏ−(Ｒ8−Ｏ)q−Ｈ （５） （式中、Ｒ7、Ｒ8及びｑは前記と同様の意味を表す。）
で表されるポリオキシアルキレンアリールエーテル型、
及び下記一般式（６） Ｒ9−ＣＯＯ−(Ｒ10−Ｏ)r−Ｈ （６） （式中、Ｒ9、Ｒ10及びｒは前記と同様の意味を表
す。）で表されるポリオキシアルキレンアルキルエステ
ル型からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物が
好適に使用される。
【００２３】上記非イオン性界面活性剤のアルキレン基
は、−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−が好まし
く、特に好ましくは−ＣＨ2ＣＨ2−である。具体的に
は、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル型では、ポ
リオキシエチレンデカニルエーテル、ポリオキシエチレ
ンウンデカニルエーテル、ポリオキシエチレンドデカニ
ルエーテル、ポリオキシエチレンテトラデカニルエーテ
ル等を挙げることができる。ポリオキシアルキレンアリ
ールエーテル型においては、ポリオキシエチレンノニル
フェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニ
ルエーテル、ポリオキシエチレンドデシルフェニルエー
テル等を挙げることができ、また、ポリオキシアルキレ
ンアルキルエステル型においては、ポリオキシエチレン
オレイン酸エステル等を挙げることができる。しかし、
非イオン性界面活性剤はこれらに限定されるものではな
い。
は、−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−が好まし
く、特に好ましくは−ＣＨ2ＣＨ2−である。具体的に
は、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル型では、ポ
リオキシエチレンデカニルエーテル、ポリオキシエチレ
ンウンデカニルエーテル、ポリオキシエチレンドデカニ
ルエーテル、ポリオキシエチレンテトラデカニルエーテ
ル等を挙げることができる。ポリオキシアルキレンアリ
ールエーテル型においては、ポリオキシエチレンノニル
フェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニ
ルエーテル、ポリオキシエチレンドデシルフェニルエー
テル等を挙げることができ、また、ポリオキシアルキレ
ンアルキルエステル型においては、ポリオキシエチレン
オレイン酸エステル等を挙げることができる。しかし、
非イオン性界面活性剤はこれらに限定されるものではな
い。
【００２４】この非イオン性界面活性剤は、洗浄剤全体
の０．０００１〜３０質量％、好ましくは０．００１〜
１０質量％、さらに好ましくは０．０１〜５質量％の範
囲で加えることができる。５質量％を越えて使用すると
泡立ちや濯ぎの問題が生じることがあり好ましくない。
逆に、０．０００１質量％より少ないと液を安定に維持
する作用が十分に発揮されないことがある。非イオン性
界面活性剤は、洗浄剤組成物のリンス性を高める性能を
有しているので、溶剤を主体とした組成で洗浄を行なう
際には添加して使用することができる。
の０．０００１〜３０質量％、好ましくは０．００１〜
１０質量％、さらに好ましくは０．０１〜５質量％の範
囲で加えることができる。５質量％を越えて使用すると
泡立ちや濯ぎの問題が生じることがあり好ましくない。
逆に、０．０００１質量％より少ないと液を安定に維持
する作用が十分に発揮されないことがある。非イオン性
界面活性剤は、洗浄剤組成物のリンス性を高める性能を
有しているので、溶剤を主体とした組成で洗浄を行なう
際には添加して使用することができる。
【００２５】本発明の洗浄剤組成物中には、さらに低分
子量含窒素化合物を含有することができる。具体例とし
ては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、ト
リエタノールアミン等のアルカノールアミン類、モルホ
リン等のモルホリン類、ビベラジン、トリエチルアミン
等のアミン類、テトラメチルアンモニウムハイドロオキ
サイド等の第４級アンモニウム塩である。その他の任意
成分として、クエン酸塩、リン酸塩、珪酸塩、エチレン
ジアミン四酢酸塩等のビルダー、液安定性を保持するた
めのエチレングリコール、プロピレングリコール等のグ
リコール類、トルエンスルホン酸塩、キシレンスルホン
酸塩等のハイドロトロープ剤、さらに目的に応じてベン
ゾトリアゾール等の防錆剤、安息香酸塩等の防腐剤を配
合することができる。
子量含窒素化合物を含有することができる。具体例とし
ては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、ト
リエタノールアミン等のアルカノールアミン類、モルホ
リン等のモルホリン類、ビベラジン、トリエチルアミン
等のアミン類、テトラメチルアンモニウムハイドロオキ
サイド等の第４級アンモニウム塩である。その他の任意
成分として、クエン酸塩、リン酸塩、珪酸塩、エチレン
ジアミン四酢酸塩等のビルダー、液安定性を保持するた
めのエチレングリコール、プロピレングリコール等のグ
リコール類、トルエンスルホン酸塩、キシレンスルホン
酸塩等のハイドロトロープ剤、さらに目的に応じてベン
ゾトリアゾール等の防錆剤、安息香酸塩等の防腐剤を配
合することができる。
【００２６】本発明の洗浄剤を構成する成分は、水溶性
溶剤、フッ素系界面活性剤および水が基本成分である。
水の含有量は５０質量％以上であることが好ましく、使
用条件に応じて、この基本成分に液状炭化水素、サクシ
ネート型陰イオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤
等を組み合わせて使用することで、精密加工部品に付着
した汚染物質の洗浄除去を効率的に行うことができる。
本発明の洗浄剤組成物は、プリント基盤、精密部品、光
学部品、ガラス基盤を用いた液晶セル、金属部品、プラ
スチック部品などの表面に付着した有機物系の汚染の除
去に使用できる。
溶剤、フッ素系界面活性剤および水が基本成分である。
水の含有量は５０質量％以上であることが好ましく、使
用条件に応じて、この基本成分に液状炭化水素、サクシ
ネート型陰イオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤
等を組み合わせて使用することで、精密加工部品に付着
した汚染物質の洗浄除去を効率的に行うことができる。
本発明の洗浄剤組成物は、プリント基盤、精密部品、光
学部品、ガラス基盤を用いた液晶セル、金属部品、プラ
スチック部品などの表面に付着した有機物系の汚染の除
去に使用できる。
【００２７】次に本発明の洗浄剤組成物を使用した上記
精密加工部品の洗浄方法について説明する。有機物系の
汚れの付着した精密加工部品を前記洗浄剤組成物の中に
浸漬し、静置しておくだけでよいが、揺動、超音波等を
適宜併用することによって、より効率的に汚染の除去が
可能となる。
精密加工部品の洗浄方法について説明する。有機物系の
汚れの付着した精密加工部品を前記洗浄剤組成物の中に
浸漬し、静置しておくだけでよいが、揺動、超音波等を
適宜併用することによって、より効率的に汚染の除去が
可能となる。
【００２８】
【実施例】以下に実施例および比較例を用いて本発明を
より詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定
されるものではない。
より詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定
されるものではない。
【００２９】（実施例１）接触角の測定
表１に示す組成の洗浄剤組成物のガラス基板（液晶パネ
ルの材料）に対する接触角を測定し、その結果を表１に
示した。表１中の数値で０゜はほとんど０゜に近いとい
うことを意味する。
ルの材料）に対する接触角を測定し、その結果を表１に
示した。表１中の数値で０゜はほとんど０゜に近いとい
うことを意味する。
【００３０】（比較例１、２）水（比較例１）およびト
リクロロエチレン（比較例２）の接触角を実施例１と同
様にして測定し、その結果を表１に示した。
リクロロエチレン（比較例２）の接触角を実施例１と同
様にして測定し、その結果を表１に示した。
【００３１】
【表１】
【００３２】実施例１に示した組成を有する本発明の洗
浄剤組成物は、６６．９％の水を含有し、ガラスに対す
る濡れ性は、純粋な水（比較例１）よりもかなり優れて
おり、また従来から洗浄剤として使用されてきたトリク
ロロエチレン（比較例２）と比較しても同等レベルであ
ることが分かった。
浄剤組成物は、６６．９％の水を含有し、ガラスに対す
る濡れ性は、純粋な水（比較例１）よりもかなり優れて
おり、また従来から洗浄剤として使用されてきたトリク
ロロエチレン（比較例２）と比較しても同等レベルであ
ることが分かった。
【００３３】（実施例２、３）洗浄試験
２枚のガラス板（５０ｍｍ×５０ｍｍ×１ｍｍ）の間に
スペーサーを設け、接着し、１０μｍの空隙をもつセル
を作製した。この中に液晶を注入し、試験用セルとし
た。この試験用セルを室温で１０分間、表１および表２
に示す組成の洗浄剤組成物中で超音波洗浄し、純水で６
分間リンス洗浄を行なった。洗浄後のセルのガラス板上
およびセルエッジ部の液晶の残着を偏光板および偏光顕
微鏡を用いて観察し、各洗浄剤組成物の液晶洗浄性を評
価した。その結果を表２に示した。
スペーサーを設け、接着し、１０μｍの空隙をもつセル
を作製した。この中に液晶を注入し、試験用セルとし
た。この試験用セルを室温で１０分間、表１および表２
に示す組成の洗浄剤組成物中で超音波洗浄し、純水で６
分間リンス洗浄を行なった。洗浄後のセルのガラス板上
およびセルエッジ部の液晶の残着を偏光板および偏光顕
微鏡を用いて観察し、各洗浄剤組成物の液晶洗浄性を評
価した。その結果を表２に示した。
【００３４】洗浄性評価基準は、以下に示すとおりであ
る。 ◎：液晶の残着がなく、洗浄性が非常に良好。 ○：液晶の残着がほとんどなく、洗浄性が良好。 △：液晶のわずかに残着し、洗浄性がやや悪い。 ×：液晶が残着し、洗浄性が悪い。 また、以下評価基準に従いリンス性の目視評価を行っ
た。 ○：セル表面上に洗浄剤成分の残留がなく、水濡れす
る。 △：セル表面上に洗浄剤成分の残留が一部確認され、一
部水はじきをする。 ×：セル表面上に洗浄剤成分のかなりの残留が確認さ
れ、全体的に水はじきする。
る。 ◎：液晶の残着がなく、洗浄性が非常に良好。 ○：液晶の残着がほとんどなく、洗浄性が良好。 △：液晶のわずかに残着し、洗浄性がやや悪い。 ×：液晶が残着し、洗浄性が悪い。 また、以下評価基準に従いリンス性の目視評価を行っ
た。 ○：セル表面上に洗浄剤成分の残留がなく、水濡れす
る。 △：セル表面上に洗浄剤成分の残留が一部確認され、一
部水はじきをする。 ×：セル表面上に洗浄剤成分のかなりの残留が確認さ
れ、全体的に水はじきする。
【００３５】（比較例３、４）実施例３および４と同様
にして表２に示す組成の洗浄剤組成物を用いて洗浄し
た、洗浄後のセルのガラス板上およびセルエッジ部の液
晶の残着を偏光板および偏光顕微鏡を用いて観察し、各
洗浄剤組成物の液晶洗浄性を評価した。その結果を表２
に示した。
にして表２に示す組成の洗浄剤組成物を用いて洗浄し
た、洗浄後のセルのガラス板上およびセルエッジ部の液
晶の残着を偏光板および偏光顕微鏡を用いて観察し、各
洗浄剤組成物の液晶洗浄性を評価した。その結果を表２
に示した。
【００３６】
【表２】
表２に示した試験結果から、本発明による洗浄剤組成物
は液晶が付着した構造物に関し優れた洗浄効果があり、
またリンス性も良好であることが示された。
は液晶が付着した構造物に関し優れた洗浄効果があり、
またリンス性も良好であることが示された。
【００３７】
【発明の効果】本発明の洗浄剤組成物を用いれば、比較
的単時間でプリント基盤、精密部品、光学部品、ガラス
基盤を用いた液晶セル、金属部品、プラスチック部品な
どの表面に存在する有機物系の汚染を速やかに除去する
ことができる。特に本発明の洗浄剤組成物は液晶パネル
製造工程においてパネルに付着した液晶材の除去効果が
高く、洗浄処理後の表面状態も極めて良好である。
的単時間でプリント基盤、精密部品、光学部品、ガラス
基盤を用いた液晶セル、金属部品、プラスチック部品な
どの表面に存在する有機物系の汚染を速やかに除去する
ことができる。特に本発明の洗浄剤組成物は液晶パネル
製造工程においてパネルに付着した液晶材の除去効果が
高く、洗浄処理後の表面状態も極めて良好である。
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フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｃ１１Ｄ 1/70 Ｃ１１Ｄ 1/70
1/72 1/72
1/74 1/74
3/18 3/18
3/20 3/20
3/28 3/28
17/08 17/08
Ｃ２３Ｇ 5/02 Ｃ２３Ｇ 5/02
(72)発明者 田中 善雄
福島県河沼郡河東町大字東長原字長谷地
111 昭和電工株式会社東長原生産・技術
統括部内
Ｆターム(参考） 3B201 AA46 BB92 BB93 BB94 BB95
CC01
4H003 AA02 AB03 AB14 AB22 AC08
AC11 AC12 BA12 ED03 ED29
ED31
4K053 PA13 PA17 QA04 RA31 RA36
RA40 RA41 RA46 RA47 RA52
RA55 RA65 RA66 SA06 SA18
Claims (16)
- 【請求項１】 水溶性溶剤を１〜９５質量％、フッ素系
界面活性剤を０．０００１〜５質量％および全組成を１
００％とするに足る量の水を含有することを特徴とする
洗浄剤組成物。 - 【請求項２】 水溶性溶剤がグリコールエーテルまたは
Ｎ−メチルピロリドンである請求項１に記載の洗浄剤組
成物。 - 【請求項３】 グリコールエーテルが、ジエチレングリ
コールモノブチルエーテルまたはジエチレングリコール
モノヘキシルエーテルである請求項２に記載の洗浄剤組
成物。 - 【請求項４】 フッ素系界面活性剤がフッ素系陰イオン
性界面活性剤であり、下記一般式（１） Ｒ1ＣＯＯＭ （１） （式中、Ｒ1は水素原子の一部または全部がフッ素原子
で置換された、炭素数が２〜２０の直鎖状または分岐鎖
状のアルキル基またはアルケニル基であり、Ｍは水素原
子、アルカリ金属原子、アンモニウム基、アルキルアン
モニウム基またはアルカノールアンモニウム基を表
す。）で表されるカルボン酸、その塩、下記一般式
（２） Ｒ2ＳＯ3Ｍ （２） （式中、Ｒ2は水素原子の一部または全部がフッ素原子
で置換された、炭素数が２〜２０の直鎖状または分岐鎖
状のアルキル基またはアルケニル基であり、Ｍは前記と
同様の意味を表す。）で表されるスルホン酸およびその
塩からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物であ
る請求項１に記載の洗浄剤組成物。 - 【請求項５】 フッ素系陰イオン性界面活性剤が、パー
フルオロカプリル酸、パーフルオロカプリン酸、パーフ
ルオロオクタンスルホン酸およびそれらの塩からなる群
から選ばれる少なくとも１種の化合物である請求項４に
記載の洗浄剤組成物。 - 【請求項６】 液状炭化水素を０．１〜３０質量％含有
する請求項１〜５のいずれかに記載の洗浄剤組成物。 - 【請求項７】 液状炭化水素がアルファ・オレフィン、
イソパラフィン、ｎ−パラフィンまたはリモネンである
請求項６に記載の洗浄剤組成物。 - 【請求項８】 サクシネート型陰イオン性界面活性剤を
０．０１〜３０質量％含有する請求項１〜７のいずれか
に記載の洗浄剤組成物。 - 【請求項９】 サクシネート型陰イオン性界面活性剤が
下記一般式（３） 【化１】 （式中、Ｒ3、Ｒ4はともにアルキル基で、Ｒ3とＲ4の合
計炭素数が１０〜２０の直鎖状または分岐鎖状のアルキ
ル基を表す。Ｍは水素原子、アルカリ金属原子、アンモ
ニウム基、アルキルアンモニウム基またはアルカノール
アンモニウム基を表す。）で表されるアルキルスルフォ
サクシネート、またはその塩である請求項８に記載の洗
浄剤組成物。 - 【請求項１０】 前記サクシネート型陰イオン界面活性
剤がジヘキシルスルホコハク酸ナトリウム、ジオクチル
スルホコハク酸ナトリウムまたはジラウリルスルホコハ
ク酸アンモニウムである請求項８または９に記載の洗浄
剤組成物。 - 【請求項１１】 非イオン系界面活性剤を０．０００１
〜３０質量％含有する請求項１〜１０のいずれかに記載
の洗浄剤組成物。 - 【請求項１２】 非イオン系界面活性剤が下記一般式
（４） Ｒ5−Ｏ−(Ｒ6−Ｏ)p−Ｈ （４） （式中、Ｒ5は炭素数が６〜２０のアルキル基、Ｒ6は炭
素数が２〜４のアルキレン基、ｐは３〜２０の整数を表
す。）で表されるポリオキシアルキレンアルキルエーテ
ル型、下記一般式（５） Ｒ7−Ｃ6Ｈ4−Ｏ−(Ｒ8−Ｏ)q−Ｈ （５） （式中、Ｒ7は炭素数が６〜２０のアルキル基、Ｒ8は炭
素数が２〜４のアルキレン基、ｑは３〜２０の整数を表
す。）で表されるポリオキシアルキレンアリールエーテ
ル型、下記一般式（６） Ｒ9−ＣＯＯ−(Ｒ10−Ｏ)r−Ｈ （６） （式中、Ｒ9は炭素数が９〜１６のアルキル基、Ｒ10は
炭素数が２〜４のアルキレン基、ｒは６〜１６の整数を
表す。）で表されるポリオキシアルキレンアルキルエス
テル型からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物
である請求項１１に記載の洗浄剤組成物。 - 【請求項１３】 非イオン系界面活性剤がポリオキシエ
チレンアルキルエーテルおよび／またはポリオキシエチ
レンノニルフェニルエーテルである請求項１１または１
２に記載の洗浄剤組成物。 - 【請求項１４】 汚染の付着した精密加工部品を請求項
１〜１３のいずれかに記載の洗浄剤組成物に浸漬または
浸漬揺動し、精密加工部品に含まれる数〜数十μｍの微
細な穴または隙間に残留する汚染物質を除去することを
特徴とする洗浄方法。 - 【請求項１５】 請求項１４に記載の方法により洗浄さ
れた表面を有する精密加工部品。 - 【請求項１６】 請求項１４に記載の方法により洗浄さ
れた表面を有する液晶パネル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001263122A JP2003073692A (ja) | 2001-08-31 | 2001-08-31 | 洗浄剤組成物およびそれを用いる洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001263122A JP2003073692A (ja) | 2001-08-31 | 2001-08-31 | 洗浄剤組成物およびそれを用いる洗浄方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003073692A true JP2003073692A (ja) | 2003-03-12 |
Family
ID=19089924
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001263122A Pending JP2003073692A (ja) | 2001-08-31 | 2001-08-31 | 洗浄剤組成物およびそれを用いる洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003073692A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20030050809A (ko) * | 2001-12-19 | 2003-06-25 | 주식회사 엘지생활건강 | 침투력이 우수한 수계 세정제 조성물 |
| JP2006159180A (ja) * | 2004-11-15 | 2006-06-22 | Jsr Corp | 金属製容器の洗浄方法及び樹脂成形品の洗浄方法 |
| JP2007002090A (ja) * | 2005-06-23 | 2007-01-11 | Toshiba Corp | 自動分析装置用アルカリ性洗剤、自動分析装置、および自動分析装置の洗浄方法 |
| JP2008075090A (ja) * | 2002-04-18 | 2008-04-03 | Lion Corp | 液晶パネル用水系液体洗浄剤組成物 |
| JP2008140855A (ja) * | 2006-11-30 | 2008-06-19 | Lion Corp | スライスしたシリコンウエハ又はインゴット用洗浄剤組成物 |
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