JPH06346093A - 洗浄剤組成物 - Google Patents
洗浄剤組成物Info
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- JPH06346093A JPH06346093A JP13773193A JP13773193A JPH06346093A JP H06346093 A JPH06346093 A JP H06346093A JP 13773193 A JP13773193 A JP 13773193A JP 13773193 A JP13773193 A JP 13773193A JP H06346093 A JPH06346093 A JP H06346093A
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- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
- C23G5/02—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
- C23G5/032—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing oxygen-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 分子中にアセタール構造又はケタール構造を
有し、分子量が８０〜６００の範囲にあり、かつ融点が
６０℃以下である化合物を含有する、精密部品用又はそ
の組立加工工程に使用される冶工具類用洗浄剤組成物。 【効果】 洗浄性及び安全性に優れ、しかも環境汚染性
のないものであり、特に精密部品又はその組立加工工程
に用いられる冶工具類の洗浄剤として有用なものであ
る。
有し、分子量が８０〜６００の範囲にあり、かつ融点が
６０℃以下である化合物を含有する、精密部品用又はそ
の組立加工工程に使用される冶工具類用洗浄剤組成物。 【効果】 洗浄性及び安全性に優れ、しかも環境汚染性
のないものであり、特に精密部品又はその組立加工工程
に用いられる冶工具類の洗浄剤として有用なものであ
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は洗浄剤組成物に関し、更
に詳細には、精密部品又はその組立加工工程に使用され
る冶工具類の固体表面に存在する汚れの除去性に優れた
洗浄剤組成物に関する。
に詳細には、精密部品又はその組立加工工程に使用され
る冶工具類の固体表面に存在する汚れの除去性に優れた
洗浄剤組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
精密部品、冶工具類等の固体表面に存在する油脂等の有
機物を主体とする汚れの除去には、ケロシン、ベンゼ
ン、キシレン等の炭化水素系溶剤；トリクロロエチレ
ン、テトラクロロエチレン等の塩素系溶剤；トリクロロ
トリフルオロエタン等のフロン系溶剤；オルソケイ酸ソ
ーダや苛性ソーダに界面活性剤やビルダーを配合した水
系の洗浄剤等が使用されている。特に電子、電気、機械
等の部品にはその高洗浄性、難燃性という特性を生かし
てフロン系溶剤又は塩素系溶剤が使用されている。
精密部品、冶工具類等の固体表面に存在する油脂等の有
機物を主体とする汚れの除去には、ケロシン、ベンゼ
ン、キシレン等の炭化水素系溶剤；トリクロロエチレ
ン、テトラクロロエチレン等の塩素系溶剤；トリクロロ
トリフルオロエタン等のフロン系溶剤；オルソケイ酸ソ
ーダや苛性ソーダに界面活性剤やビルダーを配合した水
系の洗浄剤等が使用されている。特に電子、電気、機械
等の部品にはその高洗浄性、難燃性という特性を生かし
てフロン系溶剤又は塩素系溶剤が使用されている。
【０００３】しかながら、塩素系及びフロン系の溶剤を
用いる洗浄剤は、安全性、毒性、環境汚染性等に大きな
問題を有している。また、炭化水素系溶剤、特にベンゼ
ン、キシレン等は毒性が高く、労働安全衛生法上の有害
物に指定されている化合物であって、これを取り扱う作
業の危険性及び煩雑さを考慮すると、洗浄剤として用い
ることは好ましくない。一方、水系洗浄剤は、溶剤系洗
浄剤に比較して危険性と毒性が低い点では好ましいもの
の、洗浄力において数段劣っている。
用いる洗浄剤は、安全性、毒性、環境汚染性等に大きな
問題を有している。また、炭化水素系溶剤、特にベンゼ
ン、キシレン等は毒性が高く、労働安全衛生法上の有害
物に指定されている化合物であって、これを取り扱う作
業の危険性及び煩雑さを考慮すると、洗浄剤として用い
ることは好ましくない。一方、水系洗浄剤は、溶剤系洗
浄剤に比較して危険性と毒性が低い点では好ましいもの
の、洗浄力において数段劣っている。
【０００４】そこで、近年、環境汚染が少なくかつ安全
性の高い洗浄剤として、米国特許第４，５１１，４８８
号明細書、同第４，６４０，７１９号明細書、同第４，
７４０，２４７号明細書等に見られるようなリモネン、
ピネン、ジペンテン等のテルペン類が提案されている。
これらリモネンに代表されるテルペン類は、安全性と洗
浄性を両立させ得る化合物であるが、引火点が低く、使
用時の設備が大がかりとなるという問題がある。又、天
然物由来のために安定品質のものが得難く、供給量に限
界があり、工業用洗浄剤として実際的なものではなかっ
た。
性の高い洗浄剤として、米国特許第４，５１１，４８８
号明細書、同第４，６４０，７１９号明細書、同第４，
７４０，２４７号明細書等に見られるようなリモネン、
ピネン、ジペンテン等のテルペン類が提案されている。
これらリモネンに代表されるテルペン類は、安全性と洗
浄性を両立させ得る化合物であるが、引火点が低く、使
用時の設備が大がかりとなるという問題がある。又、天
然物由来のために安定品質のものが得難く、供給量に限
界があり、工業用洗浄剤として実際的なものではなかっ
た。
【０００５】従って、洗浄性及び安全性に優れ、しかも
環境汚染性がなく、精密部品、冶工具類等の固体表面に
存在する汚れ成分を除去することができる洗浄剤組成物
が望まれていた。
環境汚染性がなく、精密部品、冶工具類等の固体表面に
存在する汚れ成分を除去することができる洗浄剤組成物
が望まれていた。
【０００６】
【課題を解決するための手段】かかる実情において、本
発明者らは鋭意研究を行った結果、分子中にアセタール
構造又はケタール構造を有し、分子量が８０〜６００の
範囲にあり、かつ融点が６０℃以下である化合物を用い
れば、洗浄性及び安全性に優れ、しかも環境汚染性のな
い、精密部品又は冶工具類用として有用な洗浄剤組成物
が得られることを見出し、本発明を完成した。
発明者らは鋭意研究を行った結果、分子中にアセタール
構造又はケタール構造を有し、分子量が８０〜６００の
範囲にあり、かつ融点が６０℃以下である化合物を用い
れば、洗浄性及び安全性に優れ、しかも環境汚染性のな
い、精密部品又は冶工具類用として有用な洗浄剤組成物
が得られることを見出し、本発明を完成した。
【０００７】すなわち、本発明は分子中にアセタール構
造又はケタール構造を有し、分子量が８０〜６００の範
囲にあり、かつ融点が６０℃以下である化合物を含有す
る、精密部品用又はその組立加工工程に使用される冶工
具類用洗浄剤組成物を提供するものである。
造又はケタール構造を有し、分子量が８０〜６００の範
囲にあり、かつ融点が６０℃以下である化合物を含有す
る、精密部品用又はその組立加工工程に使用される冶工
具類用洗浄剤組成物を提供するものである。
【０００８】本発明に用いられる化合物は、分子中にア
セタール構造又はケタール構造を有し、分子量が８０〜
６００の範囲にあり、かつ融点が６０℃以下のものであ
る（以下、化合物Ａという）。化合物Ａは、公知の方法
により製造することができ、例えばアルキルアルデヒド
やジアルキルケトンとアルキルアルコールやポリオール
とを、パラトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫
酸、塩酸等の酸触媒を用いて脱水縮合することにより合
成することができる。
セタール構造又はケタール構造を有し、分子量が８０〜
６００の範囲にあり、かつ融点が６０℃以下のものであ
る（以下、化合物Ａという）。化合物Ａは、公知の方法
により製造することができ、例えばアルキルアルデヒド
やジアルキルケトンとアルキルアルコールやポリオール
とを、パラトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫
酸、塩酸等の酸触媒を用いて脱水縮合することにより合
成することができる。
【０００９】化合物Ａは分子量が８０〜６００の範囲、
好ましくは９０〜３５０の範囲であることが必要であ
る。分子量が８０未満では引火点が低く、作業安全上好
ましくなく、また分子量が６００を超えると高粘度化す
るため、十分な洗浄力を発揮することができない。
好ましくは９０〜３５０の範囲であることが必要であ
る。分子量が８０未満では引火点が低く、作業安全上好
ましくなく、また分子量が６００を超えると高粘度化す
るため、十分な洗浄力を発揮することができない。
【００１０】また、化合物Ａの融点は６０℃以下、好ま
しくは２０℃以下、特に好ましくは５℃以下であること
が必要である。融点が６０℃を超えると、化合物Ａ分子
間の凝集力が強くなりすぎ、洗浄時に化合物Ａが結晶化
して析出したり、製品安定性の低下を招きやすく好まし
くない。
しくは２０℃以下、特に好ましくは５℃以下であること
が必要である。融点が６０℃を超えると、化合物Ａ分子
間の凝集力が強くなりすぎ、洗浄時に化合物Ａが結晶化
して析出したり、製品安定性の低下を招きやすく好まし
くない。
【００１１】本発明において、化合物Ａとしては次の一
般式（１）又は（２）で表わされる化合物が好ましい。
般式（１）又は（２）で表わされる化合物が好ましい。
【００１２】
【化２】
【００１３】〔式中、Ｒ1 は水素原子又は炭素数１〜１
８の炭化水素基を示し、Ｒ2 は炭素数１〜１８の炭化水
素基を示し、Ｒ3 は水素原子、メチル基又はヒドロキシ
メチル基を示す〕
８の炭化水素基を示し、Ｒ2 は炭素数１〜１８の炭化水
素基を示し、Ｒ3 は水素原子、メチル基又はヒドロキシ
メチル基を示す〕
【００１４】一般式（１）及び（２）において、Ｒ1 及
びＲ2 で示される炭素数１〜１８の炭化水素基として
は、直鎖又は分岐鎖のアルキル基、アルキルフェニル基
等の芳香族炭化水素基、シクロアルキル基等の脂環式炭
化水素基などが挙げられ、具体的には、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブ
チル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エ
チルヘキシル基、１−メチルプロピル基、１，３−ジメ
チルブチル基、１−ペンチルヘキシル基、１−イソプロ
ピル−２−メチルプロピル基、１−イソブチル−３−メ
チルブチル基、ラウリル基、オレイル基、ステアリル
基、フェニル基、ベンジル基、オクチルフェニル基、シ
クロヘキシル基、４−メチルシクロヘキシル基、３−メ
チルシクロヘキシル基、２−メチルシクロヘキシル基等
が挙げられる。
びＲ2 で示される炭素数１〜１８の炭化水素基として
は、直鎖又は分岐鎖のアルキル基、アルキルフェニル基
等の芳香族炭化水素基、シクロアルキル基等の脂環式炭
化水素基などが挙げられ、具体的には、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブ
チル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エ
チルヘキシル基、１−メチルプロピル基、１，３−ジメ
チルブチル基、１−ペンチルヘキシル基、１−イソプロ
ピル−２−メチルプロピル基、１−イソブチル−３−メ
チルブチル基、ラウリル基、オレイル基、ステアリル
基、フェニル基、ベンジル基、オクチルフェニル基、シ
クロヘキシル基、４−メチルシクロヘキシル基、３−メ
チルシクロヘキシル基、２−メチルシクロヘキシル基等
が挙げられる。
【００１５】化合物Ａは、全組成中に１０〜１００重量
％（以下、単に％で示す）、特に２５〜１００％配合す
るのが好ましい。
％（以下、単に％で示す）、特に２５〜１００％配合す
るのが好ましい。
【００１６】本発明の洗浄剤組成物には、更に非イオン
界面活性剤を配合すると、汚れの液中保持力、水による
すすぎ性がより向上し、洗浄力が上がるので好ましい。
かかる非イオン界面活性剤としては、平均ＨＬＢ４〜１
８のものが好ましく、例えばポリオキシアルキレンアル
キルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルフェノー
ルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキル脂肪酸エス
テル、ポリオキシアルキレンアリルフェノールエーテ
ル、ポリオキシアルキレンソルビタン脂肪酸エステル、
ポリオキシアルキレンアルキルアミン、ソルビタン脂肪
酸エステル、ポリオキシアルキレン等が挙げられ、特に
平均ＨＬＢ４〜１５のものが好ましい。なお、ポリオキ
シアルキレンとしては、エチレンオキサイド、プロピレ
ンオキサイド、ブチレンオキサイドの重合体が好まし
い。
界面活性剤を配合すると、汚れの液中保持力、水による
すすぎ性がより向上し、洗浄力が上がるので好ましい。
かかる非イオン界面活性剤としては、平均ＨＬＢ４〜１
８のものが好ましく、例えばポリオキシアルキレンアル
キルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルフェノー
ルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキル脂肪酸エス
テル、ポリオキシアルキレンアリルフェノールエーテ
ル、ポリオキシアルキレンソルビタン脂肪酸エステル、
ポリオキシアルキレンアルキルアミン、ソルビタン脂肪
酸エステル、ポリオキシアルキレン等が挙げられ、特に
平均ＨＬＢ４〜１５のものが好ましい。なお、ポリオキ
シアルキレンとしては、エチレンオキサイド、プロピレ
ンオキサイド、ブチレンオキサイドの重合体が好まし
い。
【００１７】これらの非イオン界面活性剤は、全組成中
に０．１〜３０％配合するのが好ましい。
に０．１〜３０％配合するのが好ましい。
【００１８】本発明の洗浄剤組成物には、水溶性、油溶
性汚れなど、汚れの性質に応じて、水や炭化水素類を適
宜配合することができる。炭化水素類としては、炭素数
１０〜２０のものが好ましく、例えばデカン、ドデカ
ン、テトラデカン、ヘキサデカン、オクタデカン、デセ
ン、ドデセン、テトラデセン、ヘキサデセン、オクタデ
セン等の直鎖又は分岐鎖の炭化水素；アルキルベンゼ
ン；メチルナフタレン、ジメチルナフタレン等のナフタ
レン化合物；シクロデカン、シクロドデセン等のシクロ
系化合物などが挙げられる。これらのうち、安全性、毒
性、臭い等を考慮すると、炭素数１２〜１８の直鎖及び
分岐鎖の炭化水素、シクロ系炭化水素が好ましく、更に
洗浄性、ハンドリング等を考慮すると、オレフィン系炭
化水素が特に好ましい。
性汚れなど、汚れの性質に応じて、水や炭化水素類を適
宜配合することができる。炭化水素類としては、炭素数
１０〜２０のものが好ましく、例えばデカン、ドデカ
ン、テトラデカン、ヘキサデカン、オクタデカン、デセ
ン、ドデセン、テトラデセン、ヘキサデセン、オクタデ
セン等の直鎖又は分岐鎖の炭化水素；アルキルベンゼ
ン；メチルナフタレン、ジメチルナフタレン等のナフタ
レン化合物；シクロデカン、シクロドデセン等のシクロ
系化合物などが挙げられる。これらのうち、安全性、毒
性、臭い等を考慮すると、炭素数１２〜１８の直鎖及び
分岐鎖の炭化水素、シクロ系炭化水素が好ましく、更に
洗浄性、ハンドリング等を考慮すると、オレフィン系炭
化水素が特に好ましい。
【００１９】本発明の洗浄剤組成物において、水を配合
する場合、その配合量は５〜９０％、特に５〜３０％で
あるのが好ましく、また、化合物Ａ及び非イオン界面活
性剤の合計量が１０〜９５％、特に４０〜９５％である
のが好ましい。このように水を配合すると、特に無機塩
等の水溶性汚れの除去性に優れ、しかも引火性が低下す
るので、性能面、安全面からも好ましい。
する場合、その配合量は５〜９０％、特に５〜３０％で
あるのが好ましく、また、化合物Ａ及び非イオン界面活
性剤の合計量が１０〜９５％、特に４０〜９５％である
のが好ましい。このように水を配合すると、特に無機塩
等の水溶性汚れの除去性に優れ、しかも引火性が低下す
るので、性能面、安全面からも好ましい。
【００２０】また、本発明の洗浄剤組成物において、炭
化水素類を配合する場合には、その配合量は１〜６０
％、特に１〜５０％であるのが好ましく、また、化合物
Ａ及び炭化水素類の合計量が１０〜９９％、特に４０〜
９９％であるのが好ましい。このように炭化水素類を配
合すると、特に鉱油や油脂等の油性汚れの除去性が著し
く向上する。
化水素類を配合する場合には、その配合量は１〜６０
％、特に１〜５０％であるのが好ましく、また、化合物
Ａ及び炭化水素類の合計量が１０〜９９％、特に４０〜
９９％であるのが好ましい。このように炭化水素類を配
合すると、特に鉱油や油脂等の油性汚れの除去性が著し
く向上する。
【００２１】更に、本発明の洗浄剤組成物には、通常の
洗浄剤に用いられる成分、例えば陰イオン界面活性剤、
両性界面活性剤等の非イオン界面活性剤以外の界面活性
剤；エタノール、ブチルジグリコール、ヘキシルグリコ
ール等の各種アルコール；クエン酸、酒石酸、フタル酸
等の有機酸；トリエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン等のアルカノールアミン；その他防錆剤、防腐剤、消
泡剤、酸化防止剤などを、本発明の効果を妨げない範囲
で適宜配合することができる。
洗浄剤に用いられる成分、例えば陰イオン界面活性剤、
両性界面活性剤等の非イオン界面活性剤以外の界面活性
剤；エタノール、ブチルジグリコール、ヘキシルグリコ
ール等の各種アルコール；クエン酸、酒石酸、フタル酸
等の有機酸；トリエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン等のアルカノールアミン；その他防錆剤、防腐剤、消
泡剤、酸化防止剤などを、本発明の効果を妨げない範囲
で適宜配合することができる。
【００２２】本発明の洗浄剤組成物は、精密部品及びそ
の組立加工工程に使用される冶工具類の洗浄に特に優れ
た効果を有する。本発明において精密部品とは、例えば
電子部品、電機部品、精密機械部品、樹脂加工部品、光
学部品等をいう。ここで、電子部品としては、例えば電
算機及びその周辺機器、家電機器、通信機器、ＯＡ機
器、その他電子応用機器等に用いられるプリント配線基
板；ＩＣリードフレーム、抵抗器、コンデンサー、リレ
ー等接点部材に用いられるフープ材；ＯＡ機器、時計、
電算機器、玩具、家電機器等に用いられる液晶表示器；
映像・音声記録／再生部品、その関連部品等に用いられ
る磁気記録部品；シリコンやセラミックのウエハ等の半
導体材料；水晶振動子等の電歪用部品；ＣＤ、ＰＤ、複
写機器、光記録機器等に用いられる光電変換部品などが
挙げられる。電機部品としては、例えばブラシ、ロー
タ、ステータ、ハウジング等の電動機部品；販売機や各
種機器に用いられる発券用部品；販売機、キャッシュデ
ィスヘンサ等に用いられる貨幣検査用部品などが挙げら
れる。精密機械部品としては、例えば精密駆動機器、ビ
デオレコーダー等に用いられるベアリング；超硬チップ
等の加工用部品などが挙げられる。樹脂加工部品として
は、例えばカメラ、自動車等に用いられる精密樹脂加工
部品などが挙げられる。更に、光学部品としてはカメ
ラ、眼鏡、光学機器等に用いられるレンズが挙げられ、
また、その他部品としてメガネフレーム、時計ケース、
時計ベルト等が挙げられる。
の組立加工工程に使用される冶工具類の洗浄に特に優れ
た効果を有する。本発明において精密部品とは、例えば
電子部品、電機部品、精密機械部品、樹脂加工部品、光
学部品等をいう。ここで、電子部品としては、例えば電
算機及びその周辺機器、家電機器、通信機器、ＯＡ機
器、その他電子応用機器等に用いられるプリント配線基
板；ＩＣリードフレーム、抵抗器、コンデンサー、リレ
ー等接点部材に用いられるフープ材；ＯＡ機器、時計、
電算機器、玩具、家電機器等に用いられる液晶表示器；
映像・音声記録／再生部品、その関連部品等に用いられ
る磁気記録部品；シリコンやセラミックのウエハ等の半
導体材料；水晶振動子等の電歪用部品；ＣＤ、ＰＤ、複
写機器、光記録機器等に用いられる光電変換部品などが
挙げられる。電機部品としては、例えばブラシ、ロー
タ、ステータ、ハウジング等の電動機部品；販売機や各
種機器に用いられる発券用部品；販売機、キャッシュデ
ィスヘンサ等に用いられる貨幣検査用部品などが挙げら
れる。精密機械部品としては、例えば精密駆動機器、ビ
デオレコーダー等に用いられるベアリング；超硬チップ
等の加工用部品などが挙げられる。樹脂加工部品として
は、例えばカメラ、自動車等に用いられる精密樹脂加工
部品などが挙げられる。更に、光学部品としてはカメ
ラ、眼鏡、光学機器等に用いられるレンズが挙げられ、
また、その他部品としてメガネフレーム、時計ケース、
時計ベルト等が挙げられる。
【００２３】本発明において、組立加工工程に使用され
る冶工具類とは、上述の各種部品例で示したような精密
部品を製造、成形、加工、組立、仕上げ等の各種工程に
おいて取り扱う冶具、工具の他、これらの精密部品を取
り扱う各種機器、その部品等をいう。
る冶工具類とは、上述の各種部品例で示したような精密
部品を製造、成形、加工、組立、仕上げ等の各種工程に
おいて取り扱う冶具、工具の他、これらの精密部品を取
り扱う各種機器、その部品等をいう。
【００２４】本発明の洗浄剤組成物は、特に上述のう
ち、フラックスの残存したプリント配線基板に対して好
適な性能を発揮するが、本発明の対象となる精密部品類
及び治工具類は、これらの例に限られるものではなく、
組立加工工程において各種の加工油やフラックス等の後
工程の妨害物質、又は製品の特性を低下させる各種の油
性汚染物質を付着している一定形状の固体表面を持つ精
密部品類及び冶工具類であれば、本発明の洗浄剤組成物
を適用することができる。
ち、フラックスの残存したプリント配線基板に対して好
適な性能を発揮するが、本発明の対象となる精密部品類
及び治工具類は、これらの例に限られるものではなく、
組立加工工程において各種の加工油やフラックス等の後
工程の妨害物質、又は製品の特性を低下させる各種の油
性汚染物質を付着している一定形状の固体表面を持つ精
密部品類及び冶工具類であれば、本発明の洗浄剤組成物
を適用することができる。
【００２５】更に、これらの汚染物質が例えば油脂、機
械油、切削油、グリース、ロジン系フラックス、液晶、
石油ピッチ、ロウ等の、主として有機油分の汚れである
場合、本発明の洗浄剤組成物は特に有効であり、これに
金属粉、無機物粉、水分等が混入した汚れであっても十
分洗浄除去することができる。
械油、切削油、グリース、ロジン系フラックス、液晶、
石油ピッチ、ロウ等の、主として有機油分の汚れである
場合、本発明の洗浄剤組成物は特に有効であり、これに
金属粉、無機物粉、水分等が混入した汚れであっても十
分洗浄除去することができる。
【００２６】本発明の洗浄剤組成物は、浸漬法、超音波
洗浄法、振動法、スプレー法、蒸気洗浄法、手拭法、水
置換乾燥法等の各種の洗浄方法において使用でき、かつ
好ましい結果を得ることができる。
洗浄法、振動法、スプレー法、蒸気洗浄法、手拭法、水
置換乾燥法等の各種の洗浄方法において使用でき、かつ
好ましい結果を得ることができる。
【００２７】本発明の洗浄剤を、フラックスの付着した
プリント基板の洗浄工程に用いる場合、例えば、まず本
発明洗浄剤組成物を入れた洗浄槽で浸漬、シャワー、液
中シャワー又は超音波洗浄し、次いで水等ですすぐこと
により、効率的に洗浄することができる。
プリント基板の洗浄工程に用いる場合、例えば、まず本
発明洗浄剤組成物を入れた洗浄槽で浸漬、シャワー、液
中シャワー又は超音波洗浄し、次いで水等ですすぐこと
により、効率的に洗浄することができる。
【００２８】
【実施例】次に、実施例を挙げて本発明を更に説明する
が、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
が、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００２９】実施例１ 表４、表５に示す組成の洗浄剤組成物を常法により製造
し、その洗浄性及びフラックス除去性を評価した。な
お、用いた化合物は表３に示す通りであり、結果を表
４、表５に示す。
し、その洗浄性及びフラックス除去性を評価した。な
お、用いた化合物は表３に示す通りであり、結果を表
４、表５に示す。
【００３０】（１）洗浄性試験 ７０mm×１５０mmの鋼製テストピースに５００mg／m2の
割合でナフテン系鉱油（４０℃、３５０cst）を塗布す
る。また、１００mm×１００mmのガラス板上にネマティ
ック型の液晶を主成分とする液晶１ｇを塗布する。これ
らのテストピースを、４０℃に保った洗浄液に浸漬し、
超音波で５分間洗浄した。次いで３０℃のイオン交換水
に１０秒間浸漬し、乾燥した後、目視により下記基準で
その洗浄性を評価した。
割合でナフテン系鉱油（４０℃、３５０cst）を塗布す
る。また、１００mm×１００mmのガラス板上にネマティ
ック型の液晶を主成分とする液晶１ｇを塗布する。これ
らのテストピースを、４０℃に保った洗浄液に浸漬し、
超音波で５分間洗浄した。次いで３０℃のイオン交換水
に１０秒間浸漬し、乾燥した後、目視により下記基準で
その洗浄性を評価した。
【００３１】
【表１】 （評価基準） ◎：表面極めて清浄 ○：表面に鉱油、液晶残着ほとんどなし △：表面に鉱油、液晶残着わずかにあり ×：表面に鉱油、液晶残着あり
【００３２】（２）フラックス除去性試験 ＩＣチップを装着したプリント配線板をフラックス処理
し、続いてハンダ処理してテストピースとした。このテ
ストピースを５０℃に保った洗浄液に浸漬し、液中噴流
による洗浄液流動下で３分間洗浄した。次いで、３０℃
のイオン交換水でリンスし、乾燥した後、プリント配線
板からのフラックスの除去性を目視により下記基準で評
価した。
し、続いてハンダ処理してテストピースとした。このテ
ストピースを５０℃に保った洗浄液に浸漬し、液中噴流
による洗浄液流動下で３分間洗浄した。次いで、３０℃
のイオン交換水でリンスし、乾燥した後、プリント配線
板からのフラックスの除去性を目視により下記基準で評
価した。
【００３３】
【表２】 （評価基準） ◎：フラックス残着なく、洗浄力極めて大 ○：フラックス残着がほとんどなく、洗浄力大 △：フラックス残着がわずかにあるが、洗浄力あり ×：フラックスが残着し、洗浄力に乏しい
【００３４】
【表３】
【００３５】
【表４】
【００３６】
【表５】
【００３７】
【発明の効果】本発明の洗浄剤組成物は、洗浄性及び安
全性に優れ、しかも環境汚染性のないものであり、特に
精密部品又はその組立加工工程に用いられる冶工具類の
洗浄剤として有用なものである。
全性に優れ、しかも環境汚染性のないものであり、特に
精密部品又はその組立加工工程に用いられる冶工具類の
洗浄剤として有用なものである。
Claims (2)
- 【請求項１】 分子中にアセタール構造又はケタール構
造を有し、分子量が８０〜６００の範囲にあり、かつ融
点が６０℃以下である化合物を含有する、精密部品用又
はその組立加工工程に使用される冶工具類用洗浄剤組成
物。 - 【請求項２】 一般式（１）又は（２）： 【化１】 〔式中、Ｒ1 は水素原子又は炭素数１〜１８の炭化水素
基を示し、Ｒ2 は炭素数１〜１８の炭化水素基を示し、
Ｒ3 は水素原子、メチル基又はヒドロキシメチル基を示
す〕で表わされる化合物を含有する、精密部品用又はそ
の組立加工工程に使用される冶工具類用洗浄剤組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13773193A JP3229712B2 (ja) | 1993-06-08 | 1993-06-08 | 洗浄剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13773193A JP3229712B2 (ja) | 1993-06-08 | 1993-06-08 | 洗浄剤組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06346093A true JPH06346093A (ja) | 1994-12-20 |
| JP3229712B2 JP3229712B2 (ja) | 2001-11-19 |
Family
ID=15205520
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13773193A Expired - Fee Related JP3229712B2 (ja) | 1993-06-08 | 1993-06-08 | 洗浄剤組成物 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3229712B2 (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999055824A1 (fr) * | 1998-04-28 | 1999-11-04 | Heedae Park | Detergent hydrosoluble pour machine a blocs de mousse a basse pression |
| JP2007238780A (ja) * | 2006-03-09 | 2007-09-20 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 液晶パネル洗浄剤及びこの洗浄剤を用いた洗浄工程を含む液晶パネルの製造方法 |
| JP2008103730A (ja) * | 2006-10-19 | 2008-05-01 | Air Products & Chemicals Inc | ポストエッチングしたフォトレジスト、エッチングポリマーおよび残留物を除去するためのアセタールまたはケタールを含有するストリッパー |
| EP2196562A1 (en) * | 2008-12-12 | 2010-06-16 | Cognis IP Management GmbH | Compositions for degreasing hard surfaces |
| WO2012121475A1 (ko) * | 2011-03-08 | 2012-09-13 | 주식회사 엘지생활건강 | 물세탁 및 드라이클리닝용 친환경 용제 및 이를 포함한 세탁용 조성물 |
| WO2013032295A2 (ko) * | 2011-09-02 | 2013-03-07 | 주식회사 엘지생활건강 | 용제, 용제의 수분 제거 시스템 및 세탁 장치 |
| JP2013539487A (ja) * | 2010-08-12 | 2013-10-24 | セゲティス インコーポレーテッド | カルボキシエステルケタール除去組成物、それらの製造方法及びそれらの使用 |
| KR20140058857A (ko) * | 2012-11-07 | 2014-05-15 | 동우 화인켐 주식회사 | 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정방법 |
| WO2016097840A1 (fr) | 2014-12-18 | 2016-06-23 | Rhodia Poliamida E Especialidades Ltda | Ether-ester de cetal ou d'acetal de glycerol, procedes de preparation, utilisations et compositions le comprenant |
| JPWO2015060379A1 (ja) * | 2013-10-23 | 2017-03-09 | 荒川化学工業株式会社 | リサイクル可能な工業用共沸洗浄剤、物品の洗浄方法、工業用共沸洗浄剤の再生方法、当該再生方法により再生された工業用共沸洗浄剤、並びに洗浄再生装置 |
| WO2017064551A1 (en) * | 2015-10-15 | 2017-04-20 | Rhodia Poliamida E Especialidades Ltda | Cleaning formulations with improved performances |
| KR101956513B1 (ko) * | 2018-08-23 | 2019-03-08 | 한두희 | 무정전 통전기기용 절연세척제 조성물 |
-
1993
- 1993-06-08 JP JP13773193A patent/JP3229712B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999055824A1 (fr) * | 1998-04-28 | 1999-11-04 | Heedae Park | Detergent hydrosoluble pour machine a blocs de mousse a basse pression |
| JP2007238780A (ja) * | 2006-03-09 | 2007-09-20 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 液晶パネル洗浄剤及びこの洗浄剤を用いた洗浄工程を含む液晶パネルの製造方法 |
| JP2008103730A (ja) * | 2006-10-19 | 2008-05-01 | Air Products & Chemicals Inc | ポストエッチングしたフォトレジスト、エッチングポリマーおよび残留物を除去するためのアセタールまたはケタールを含有するストリッパー |
| EP1914296A3 (en) * | 2006-10-19 | 2009-03-04 | Air Products and Chemicals, Inc. | Stripper containing an acetal or a ketal for removing post-etched phot-resist, etch polymer and residue |
| EP2196562A1 (en) * | 2008-12-12 | 2010-06-16 | Cognis IP Management GmbH | Compositions for degreasing hard surfaces |
| JP2013539487A (ja) * | 2010-08-12 | 2013-10-24 | セゲティス インコーポレーテッド | カルボキシエステルケタール除去組成物、それらの製造方法及びそれらの使用 |
| WO2012121475A1 (ko) * | 2011-03-08 | 2012-09-13 | 주식회사 엘지생활건강 | 물세탁 및 드라이클리닝용 친환경 용제 및 이를 포함한 세탁용 조성물 |
| JP2014514373A (ja) * | 2011-03-08 | 2014-06-19 | エルジー ハウスホールド アンド ヘルス ケア エルティーディー． | 環境にやさしい水洗濯及びドライクリーニング用溶剤及びそれを含む洗濯用組成物 |
| US8882853B2 (en) | 2011-03-08 | 2014-11-11 | Lg Household & Health Care Ltd. | Environmentally-friendly solvent for washing and dry-cleaning, and laundry composition including the same |
| WO2013032295A2 (ko) * | 2011-09-02 | 2013-03-07 | 주식회사 엘지생활건강 | 용제, 용제의 수분 제거 시스템 및 세탁 장치 |
| WO2013032295A3 (ko) * | 2011-09-02 | 2013-04-25 | 주식회사 엘지생활건강 | 용제, 용제의 수분 제거 시스템 및 세탁 장치 |
| KR20140058857A (ko) * | 2012-11-07 | 2014-05-15 | 동우 화인켐 주식회사 | 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정방법 |
| JPWO2015060379A1 (ja) * | 2013-10-23 | 2017-03-09 | 荒川化学工業株式会社 | リサイクル可能な工業用共沸洗浄剤、物品の洗浄方法、工業用共沸洗浄剤の再生方法、当該再生方法により再生された工業用共沸洗浄剤、並びに洗浄再生装置 |
| WO2016097840A1 (fr) | 2014-12-18 | 2016-06-23 | Rhodia Poliamida E Especialidades Ltda | Ether-ester de cetal ou d'acetal de glycerol, procedes de preparation, utilisations et compositions le comprenant |
| WO2017064551A1 (en) * | 2015-10-15 | 2017-04-20 | Rhodia Poliamida E Especialidades Ltda | Cleaning formulations with improved performances |
| WO2017064527A1 (en) * | 2015-10-15 | 2017-04-20 | Rhodia Poliamida E Especialidades Ltda | Cleaning formulations with improved performances |
| KR101956513B1 (ko) * | 2018-08-23 | 2019-03-08 | 한두희 | 무정전 통전기기용 절연세척제 조성물 |
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| JP3229712B2 (ja) | 2001-11-19 |
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