JP2007238780A - 液晶パネル洗浄剤及びこの洗浄剤を用いた洗浄工程を含む液晶パネルの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】導電率が低く、液晶を容易に溶解することが可能な高い洗浄能を有し、さらには金属に腐食を与えることのない洗浄剤を提供すること。
【解決手段】液晶パネルの製造工程において使用される液晶パネル洗浄剤であって、（Ａ）炭化水素溶剤、（Ｂ）界面活性剤、及び（Ｃ）水溶性有機溶剤を含む。さらに上記液晶パネル洗浄剤には、防食剤（Ｄ）を含む。液晶パネル洗浄剤の希釈方法として、１０質量％から７０質量％の水（Ｅ）を配合する。
【選択図】なし

Description

液晶パネルの製造工程において使用される液晶パネル洗浄剤であって、（Ａ）炭化水素溶剤、（Ｂ）界面活性剤、及び（Ｃ）水溶性有機溶剤を含む液晶パネル洗浄剤に関する。

液晶パネルは、透明電極が形成された２枚の基板を、適切な間隔を保って、内部が中空になるように２枚の基板を張り合わせ、液晶を充填するための空間を形成し、この空間へ液晶を封入し、注入口を封止して、上下の基板間の電極に電圧を印加して、液晶の配向方向の変化や、相変換等を利用して画像表示を行うものである。

この液晶パネルの製造工程において、二枚の基板の隙間や外周部等に付着した液晶を洗浄して除去する。液晶が注入された基板を洗浄するのは、液晶の残渣をそのまま放置すると、絶縁不良を起こしたり、残渣の液晶が離型剤として作用することから、その後の工程において、偏向板が剥がれたりすることがあるからである。そのため、残渣の液晶を除去するための、高度な洗浄能を有した洗浄剤が要求されている。

分極化合物である液晶分子は、分子間相互作用が強く、疎水性を示すことから、水系への分散や、溶解は困難であることが知られている。このため、残渣の液晶を洗浄するために、イオン性の活性剤、イオン性乳化剤等が添加された洗浄剤が使用されている（特許文献１，２参照）。

特許文献１には、アンモニウムカチオン及び燐酸エステルアニオン等からなる塩を含有する洗浄剤が開示されている。この塩により、洗浄後の液晶パネルの電食を防止することが可能となっている。また、特許文献２には、親油性の高いノニオン系界面活性剤を含有する洗浄剤が開示されている。ノニオン系界面活性剤を含有したことにより、環境汚染を防止することが可能となっている。
特開２０００−３１３８９９号公報 特許第２９８２９７５号

液晶パネルの製造工程において、特許文献１に開示されているようなアンモニウムカチオン及び燐酸エステルアニオン等からなる塩を含有する洗浄剤については、一般的に導電率が高いことが知られており、このような構成の洗浄剤が残ってしまうと、液晶パネルの動作速度を低くしてしまったり、消費電力を高くしてしまったりする場合があり、さらには電極となる金属（特に、モリブデン）への腐食が発生する場合がある。そのため、低い導電率を有する洗浄剤が望まれている。

また、特許文献２に開示されている洗浄剤では、界面活性剤と水溶性有機溶剤を構成成分とするものであることから、液晶を容易に溶解できない。

以上の課題に鑑み、本発明は導電率が低く、かつ、液晶を容易に溶解することが可能な高い洗浄能を有した洗浄液を提供することを目的とする。

本発明者らは、洗浄剤に炭化水素溶剤を含有させることにより、液晶を容易に溶解し得る洗浄液を提供することが可能となることを見出し、本発明を完成するに至った。

即ち本発明は、液晶パネルの製造工程において使用される液晶パネル洗浄剤であって、（Ａ）炭化水素溶剤、（Ｂ）界面活性剤、及び（Ｃ）水溶性有機溶剤を含む液晶パネル洗浄剤を提供する。

また本発明は、上記液晶パネル洗浄剤に、１０質量％から７０質量％の（Ｅ）水を配合してなる液晶パネル洗浄剤の希釈方法を提供する。

更に本発明は、上記液晶パネル洗浄剤を用いた洗浄工程を含む液晶パネルの製造方法を提供する。

本発明によれば、液晶を容易に溶解できるという高い洗浄能を有し、導電率が低く、さらには液晶パネル構成部材に対するダメージが低い洗浄剤を提供することが可能となった。また、このような洗浄剤に、所定量の水を配合することによって、洗浄剤の洗浄能を調整することが可能となった。従って、本発明に係る洗浄剤を使用することにより、洗浄不良、リンス不良、金属の腐食などが生じにくく、極めて信頼性の高い液晶パネルを製造することが可能となる。

以下、本発明の実施形態について説明する。本発明に係る洗浄剤は、（Ａ）炭化水素溶剤、（Ｂ）界面活性剤、及び（Ｃ）水溶性有機溶剤を含む。ここで、本発明における「洗浄剤」とは、水を加えて希釈する前の原液、希釈後の希釈液の両方をいう。

［（Ａ）炭化水素溶剤］
本発明に係る洗浄剤は、（Ａ）炭化水素溶剤を含む。この（Ａ）炭化水素溶剤を含有したことにより、疎水性である液晶を容易に溶解することが可能となる。これによって、優れた洗浄能を付与することが可能となる。

（Ａ）炭化水素溶剤としては、テルペン系溶剤、炭素数８から１６の飽和炭化水素溶剤、炭素数８から１６の不飽和炭化水素溶剤からなる群から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。中でも安全性が高く、取り扱いが容易であるなどの点から、炭素数８から１６の不飽和炭化水素溶剤を用いることが好ましい。

テルペン系溶剤には、モノテルペン類として、ゲラニオール、ネロール、リナロール、シトラール、シトロネロール、ｐ−メンタン、ジフェニルメンタン、メントール、イソメントール、ネオメントール、リモネン、ジペンテン、テルピネロール、カルボン、ヨノン、ツヨン、カンファー、ボルナン、ボルネオール、ノルボルナン、ピナン、α−ピネン、β−ピネン、ツジャン、α−ツジョン、β−ツジョン、カラン、ショウノウ、α−テルピネン、β−テルピネン、γ−テルピネン；ジテルペン類として、アビエタン、アビエチン酸；セスキテルペン類として、ファネソール、ネロリドール、フムレン、カリオフィレン、エレメン、カジノール、カジネン、ツチン、幼若ホルモン；セスタテルペン類として、ゲラニルファネソール；トリテルペン類として、スクアレン、リモニン、カメリアゲニン、ホパン、ラノステロール；テトラテルペン類として、カロテノイド等が挙げられるが、中でもモノテルペン類が入手の容易さから好ましく、その中でもリモネン又はピネンが、高い洗浄性能を有することから好ましい。これらは単独又は２種以上組み合わせて用いてもよい。

炭素数８から１６の飽和炭化水素溶剤及び不飽和炭化水素溶剤は、直鎖状、分岐状、及び環状のいずれかであってもよい。具体的には、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、オクテン、ノネン、デセン、ドデセン等が挙げられる。これらは一般的に市販されるものであるが、中でも洗浄能や乾燥速度の観点からドデセン及びテトラデセンを用いることが好ましい。これらは単独又は２種類以上を組み合わせて用いてもよい。

このような（Ａ）炭化水素溶剤の含有量は、洗浄剤中、０．０１質量％から２０質量％とすることが好ましく、特に０．１質量％から１０質量％とすることが好ましい。炭化水素溶剤の配合量をこのような範囲とすることにより、洗浄剤の保存安定性が優れ、高い洗浄性能が得られる。

［（Ｂ）界面活性剤］
本発明に係る洗浄剤は、更に（Ｂ）界面活性剤を含有する。この（Ｂ）界面活性剤を含有したことにより、相分離することなく、各成分を均一に可溶化させることが可能となる。

（Ｂ）界面活性剤としては、ノニオン性界面活性剤を用いることが好ましい。ノニオン性界面活性剤を用いることにより、洗浄剤の金属に対する耐腐食性を向上させるだけでなく、導電率を低下させることが可能となる。

このノニオン性界面活性剤として、平均ＨＬＢ値が８以上の（ｂ１）親水性界面活性剤、及び平均ＨＬＢ値が８以下の（ｂ２）親油性界面活性剤を単独又は組み合わせて用いることができる。これらを組み合わせて用いることにより、より相分離しにくく、より安定な洗浄剤を提供することが可能となる。

ノニオン性界面活性剤としては、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキル脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンアリルフェニルエーテル、ポリオキシアルキレンソルビタン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、及びポリオキシアルキレンからなる群から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。

ポリオキシアルキレンとしては、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、及びポリブチレンオキシド等が挙げられる。その付加モル数は、一定の分散度を有するものであるが、その平均付加モル数を１モルから５０モルの範囲に調整することが好ましい。

ポリオキシアルキレンの末端エーテル化物を構成するアルキル基としては、炭素原子数を６から１８の範囲とすることが好ましい。具体的には、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基等が挙げられる。また、このようなアルキル基は前記炭素原子数の範囲内であれば、分岐状のアルキル基であってもよく、環状アルキル基（単環であっても複合環であっても良い）であってもよく、不飽和結合を有してもよく、さらには水素原子の一部がアルコール性水酸基により置換されても良い。

脂肪酸としては、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、ドデカン酸、テトラデカン酸、ペンタデカン酸、ヘキサデカン酸、ヘプタデカン酸、オクタデカン酸等が挙げられる。

炭素原子数１から１８のアシル基の具体例としては、例えば、ホルミル基、アセチル基、アクリロイル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ヘキサノイル基、オクチノイル基、ベンゾイル基、２−ナフトイル基等が挙げられる。

ノニオン性界面活性剤は、市販の活性剤を用いることができるが、その一例としてニューコールシリーズ（商品名：日本乳化剤社製）、ソフタノールシリーズ（商品名：日本触媒社製）などが挙げられる。

上述のように、本発明に係る洗浄剤は（ｂ１）親水性界面活性剤、及び（ｂ２）親油性界面活性剤を組み合わせて用いることが最も好ましい。

（ｂ１）親水性界面活性剤としては、上記のノニオン性界面活性剤のうち、ＨＬＢ値が８以上のものを用いることが好ましい。

一方、（ｂ２）親油性界面活性剤としては、上記のノニオン性界面活性剤のうち、ＨＬＢ値が８以下のものを用いることが好ましい。

また、（Ｂ）界面活性剤として、（ｂ１）親水性界面活性剤、及び（ｂ２）親油性界面活性剤を組み合わせて用いる場合には、（ｂ１）親水性界面活性剤の含有量が高い方が好ましい。

このような（Ｂ）界面活性剤の含有量は、洗浄剤中、１質量％から８０質量％とすることが好ましく、特には３質量％から６０質量％とすることが好ましい。界面活性剤の配合量をこのような範囲とすることにより、効果的に洗浄剤の分離等による不具合を回避しつつ、洗浄能を維持させることが可能となる。

更に、導電率を極端に上げない範囲であれば、前記（Ｂ）界面活性剤に対して、下記イオン性界面活性剤を適宜添加することも可能である。このようなイオン性界面活性剤としては、公知の陽イオン性界面活性剤、陰イオン性界面活性剤及び両性界面活性剤等が挙げられる。

陽イオン性界面活性剤としては、例えばアルキルベタイン系界面活性剤、アミドベタイン系界面活性剤、スルホベタイン系界面活性剤、ヒドロキシスルホベタイン系界面活性剤、アミドスルホベタイン系界面活性剤、ホスホベタイン系界面活性剤、イミダゾリニウムベタイン系界面活性剤、アミノプロピオン酸系界面活性剤、アミノ酸系界面活性剤等が挙げられる。より具体的には、アルキルベタイン、アミドプロピルベタイン、ラウリルヒドロキシスルホベタイン、２−アルキル−Ｎ−カルボキシメチル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、ラウリルイミノジプロピオン酸等が挙げられる。

陰イオン界面活性剤としては、例えば、アルキルスルホン酸塩、アルキル硫酸塩、アシル化アミノ酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、Ｎ−アシル−Ｎ−メチルタウリン塩、α−オレフィンスルホン酸塩、高級脂肪酸エステルスルホン酸塩、アルキルエーテル酢酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル酢酸塩、脂肪酸石ケン、アルキルリン酸エステル塩等が挙げられる。なお、ここで用いられる塩としては、ナトリウム、カリウム、マグネシウム等の金属塩；アンモニウム塩；モノエタノールアンモニウム、ジエタノールアンモニウム、トリエタノールアンモニウム塩等の有機アンモニウム塩等が好ましい。

両性界面活性剤としては、上述の陽イオン性界面活性剤と同様に、アラニン系界面活性剤、イミダゾニウムベタイン系界面活性剤、アミドプロピルベタイン系界面活性剤、アミノジプロピオン酸塩界面活性剤等が挙げられる。

［（Ｃ）水溶性有機溶剤］
本発明に係る洗浄剤は、更に（Ｃ）水溶性有機溶剤を含有する。この（Ｃ）水溶性有機溶剤を含有したことにより、洗浄剤の水へ溶解性を向上させることができる。

このような水溶性有機溶剤としては、アルカノールアミン類、アルキルアミン類、ポリアルキレンポリアミン類、グリコール類、エーテル類、ケトン類、アセテート類、及びカルボン酸エステル類からなる群から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。

アルカノールアミン類としては、具体的には、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、２−（２−アミノエトキシ）エタノール〔＝ジグリコールアミン〕、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルエタノールアミン、Ｎ−メチルエタノールアミン、Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ−ブチルエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン等が挙げられる。

アルキルアミン類としては、具体的には、２−エチル−ヘキシルアミン、ジオクチルアミン、トリブチルアミン、トリプロピルアミン、トリアリルアミン、ヘプチルアミン、シクロヘキシルアミン等が挙げられる。

ポリアルキレンポリアミン類としては、具体的には、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、プロピレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジエチルエチレンジアミン、１，４−ブタンジアミン、Ｎ−エチル−エチレンジアミン、１，２−プロパンジアミン、１，３−プロパンジアミン、１，６−ヘキサンジアミン等が挙げられる。

グリコール類としては、具体的には、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、１，２−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、２，３−ブチレングリコール、ポリオキシアルキレングリコール等が挙げられる。

エーテル類としては、具体的には、エチレングリコールモノメチルエーテル〔＝メチルセロソルブ〕、エチレングリコールモノエチルエーテル〔＝エチルセロソルブ〕、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル〔＝ブチルジグリコール〕、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル等が挙げられる。

ケトン類としては、具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン、ジ−イソ−プロピルケトン、シクロブタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等が挙げられる。

アセテート類としては、具体的には、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート〔＝メチルセロソルブアセテート〕、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート〔＝エチルセロソルブアセテート〕、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート〔＝ｎ−ブチルセロソルブアセテート〕、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が挙げられる。

カルボン酸エステル類としては、具体的には、アルキル基−又は脂肪族−カルボン酸エステル、モノオキシカルボン酸エステル等が挙げられ、具体的には、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸イソアミル等が挙げられる。

このうち、水への溶解性が高いことから、ポリオキシアルキレングリコールや、ブチルジグリコール、エチルジグリコール、ブチルグリコール、エチルグリコール等を用いることが好ましい。

このような（Ｃ）水溶性有機溶剤の含有量は、洗浄剤中、１０質量％から８０質量％とすることが好ましく、特には１５質量％から７０質量％とすることが好ましい。水溶性有機溶剤の配合量をこのような範囲とすることにより、効果的に洗浄剤の分離等による不具合を回避しつつ、洗浄能を維持することが可能となる。

［（Ｄ）防食剤］
本発明に係る洗浄剤は、電極となる金属の腐食を防止するために、防食剤（防腐剤）を含有していてもよい。このような防食剤として、キシリトール、グルコース、マンノース、ガラクトース、ソルビトール、マンニトール、ベンゾトリアゾール、チオグリセロール、３−（２−アミノフェニルチオ）−２−ヒドロキシプロピルメルカプタン、３−（２−ヒドロキシエチルチオ）−２−ヒドロキシプロピルメルカプタン、２−メルカプトプロピオン酸、３−メルカプトプロピオン酸、カテコール、ピロガロール、及び没食子酸等を用いることができる。このうち、キシリトールやチオグリセロールを用いることが好ましい。これらは単独又は組み合わせて用いることが可能である。

このような（Ｄ）防食剤の含有量は、洗浄剤中、１０質量％未満であることが好ましく、特には５質量％未満とすることが好ましい。防食剤の配合量をこのような範囲とすることにより、効果的に腐食を防止することができる。

［その他］
本発明に係る洗浄剤は、例えば、消泡剤や安定剤等必要に応じて任意の成分を含有することができる。消泡剤としては、アセチレノール系の界面活性剤や、アセチレンアルコール、アセチレングリコール等が挙げられる。この消泡剤の含有量は、洗浄剤中、３質量％未満であることが好ましい。

前記アセチレンアルコール系の界面活性剤としては、例えば下記一般式（１）（但し、Ｒ_１は水素原子又は下記式（２）で表される基を示し；Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５はそれぞれ独立して水素原子、炭素原子数１から１８のアルキル基を示す）で表される化合物が好ましく用いられる。

このアセチレンアルコール系の界面活性剤は、例えば「サーフィノール」、「オルフィン」（以上商品名、いずれもエアープロダクト・アンド・ケミカルズ社製）等のシリーズとして市販されている。中でも、その物性面から「サーフィノール１０４」、「サーフィノール８２」、あるいはこれらの混合物を用いることが好ましい。他に「オルフィンＢ」、「オルフィンＰ」、「オルフィンＹ」等も用いることができる。

また上記アセチレンアルコールに、アルキレンオキシドを付加した化合物も用いることができる。上記アセチレンアルコールに付加されるアルキレンオキシドとしては、エチレンオキシド、プロピレンオキシドあるいはその混合物を用いることが好ましい。

上記アセチレンアルコール・アルキレンオキシド付加物として下記一般式（３）で表される基（式中、Ｒ_７、Ｒ_８、Ｒ_９、Ｒ_１０はそれぞれ独立に水素原子、炭素原子数１から６のアルキル基を示す）で表される化合物を用いることが好ましい。ここで（ｎ＋ｍ）は１から３０までの整数を表す。

アセチレンアルコール・アルキレンオキシド付加物は、界面活性剤としてそれ自体は公知の物質である。これらは「サーフィノール」（Ａｉｒ Ｐｒｏｄｕｃｔ ａｎｄ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｉｎｃ．製）のシリーズ、あるいは「アセチレノール」（川研ファインケミカル（株）製）のシリーズ等として市販されており、好適に用いられる。中でもエチレンオキシドの付加数による水への溶解性、表面張力等の特性の変化等を考慮すると、「サーフィノール４２０」、「サーフィノール４４０」、「サーフィノール４６５」、「サーフィノール４８５」、「アセチレノールＥＬ」、「アセチレノールＥＨ」、あるいはそれらの混合物が好適に用いられる。

更に、この洗浄剤を（Ｅ）水で希釈する場合には、水の添加量は１０質量％から７０質量％であることが好ましい。

（Ｅ）水の添加量をこのような範囲とすることによって、洗浄剤の洗浄能を調整することが可能となる。また、水を添加することによって、より均一な洗浄剤を提供することが可能となる。

希釈方法としては、水以外の組成物を混合して洗浄剤を調製した後、所望の濃度になるよう水を添加する方法が挙げられる。

本発明に係る洗浄剤を使用することができる液晶は、特に限定されるものではなく、ＴＦＴ液晶、ＳＴＮ液晶、ＴＮ液晶などいずれの液晶も洗浄することができる。

［液晶パネルの製造方法］
液晶パネルは、公知の製法により液晶が注入された液晶パネルを、本発明に係る洗浄剤を用いた洗浄工程を経て製造される。洗浄工程としては特に限定されるものではなく、浸漬洗浄、シャワー洗浄方法等が挙げられ、さらにはこれらと超音波や揺動を合わせた洗浄方法等を適用することができる。

例えば、本発明に係る洗浄剤中に、液晶パネルを浸漬させ超音波処理を行い洗浄し、洗浄液をリンス液により洗い流す等の方法により、液晶パネルを洗浄する方法が挙げられる。

洗浄温度としては、装置の設定により適宜決定されるが、通常１０℃から７０℃である。洗浄時間も装置の設定により適宜決定されるが、通常２分から１０分である。

洗浄後のリンス方法としては、純水（イオン交換水）による浸漬リンスや、スプレーリンス、超音波リンス、揺動リンス等が挙げられる。このようなリンス方法としては、通常１０℃から７０℃である。液晶パネルは、リンス処理した後、２０℃から７０℃の温度範囲で加熱乾燥され、液晶パネルとなる。

以下、実施例により本発明を詳細に説明するが本発明はこれに限定されるものではない。

［実施例１〜４、比較例１〜２］
表１に示すような組成で洗浄剤を調製し、それぞれ試料１から６とした。なお、試料１から４の洗浄剤は、本発明に係る組成の洗浄剤であり、試料５から６の洗浄剤は比較対照の洗浄剤である。
また、表１中、（ｂ１）成分であるソフタノールは、ソフタノール１２０（商品名：日本触媒社製；ポリオキシエチレンアルキルアルコールエーテル）であり、（ｂ２）成分であるＥ−２０２は、ノニオンＥ−２０２（商品名：日本油脂社製；ポリオキシエチレンオレイルエーテル）であり、Ａ３２Ｂ（商品名：竹本油脂社製；アニオン系界面活性剤）であり、ＢＤＧはブチルジグリコールであり、表中の括弧内の数値は全て質量％である。

これらの試料１から６を用いて、洗浄剤の腐食試験、及び液晶の洗浄性及び溶解性試験を行った。なお、腐食試験は、ガラス基板上に１５０ｎｍのモリブデン蒸着膜が形成された基板を、５０℃の温度下で試料１から６に１０分間浸漬させ、モリブデンの膜厚の減少量を測定することにより評価した。また、液晶の洗浄性及び溶解性試験は、試料１から６中に液晶成分を溶解させ、液晶の洗浄性及び溶解性を目視で観察することにより評価した。それぞれの結果を表１に示す。

なお、表１中の記号は以下の通りである。
〔液晶の洗浄性及び溶解性〕
○：良好な洗浄性能又は溶解性能を有する
△：液晶の洗浄性能又は溶解性能が不足している

これらの結果から、本発明に係る洗浄剤は、金属に対する腐食が少なく、かつ液晶の洗浄性及び溶解性に優れ、さらには低導電率であることから液晶表示素子の電気特性にも悪影響を与えないものであることが分かった。

Claims (12)

1. 液晶パネルの製造工程において使用される液晶パネル洗浄剤であって、（Ａ）炭化水素溶剤、（Ｂ）界面活性剤、及び（Ｃ）水溶性有機溶剤を含む液晶パネル洗浄剤。
2. 前記（Ｂ）界面活性剤は、ノニオン性界面活性剤である請求項１に記載の液晶パネル洗浄剤。
3. 前記（Ｂ）ノニオン性界面活性剤は、（ｂ１）平均ＨＬＢ値が８以上の親水性界面活性剤を含む請求項２に記載の液晶パネル洗浄剤。
4. 前記ノニオン性界面活性剤は、（ｂ２）平均ＨＬＢ値が８以下の親油性界面活性剤を更に含む請求項２又は３に記載の液晶パネル洗浄剤。
5. 前記（Ａ）炭化水素溶剤は、テルペン系溶剤、炭素数８から１６の飽和炭化水素溶剤、炭素数８から１６の不飽和炭化水素溶剤からなる群から選ばれる少なくとも１種である請求項１から４いずれかに記載の液晶パネル洗浄剤。
6. 前記（Ｃ）水溶性有機溶剤は、アルカノールアミン類、アルキルアミン類、ポリアルキレンポリアミン類、グリコール類、エーテル類、ケトン類、アセテート類、及びカルボン酸エステル類からなる群から選ばれる少なくとも１種である請求項１から５いずれかに記載の液晶パネル洗浄剤。
7. 前記（Ａ）炭化水素溶剤の含有量は０．０１質量％から２０質量％であり、前記（Ｂ）界面活性剤の含有量は１質量％から８０質量％であり、前記（Ｃ）水溶性有機溶剤の含有量は１０質量％から８０質量％である請求項１から６いずれかに記載の液晶パネル洗浄剤。
8. さらに（Ｄ）防食剤を含む請求項１から７いずれかに記載の液晶パネル洗浄剤。
9. さらに（Ｅ）水を含む請求項１から８いずれかに記載の液晶パネル洗浄剤。
10. 前記（Ｅ）水の含有量は、１０質量％から７０質量％である請求項９に記載の液晶パネル洗浄剤。
11. 請求項１から８いずれかに記載の液晶パネル洗浄剤に、１０質量％から７０質量％の（Ｅ）水を配合してなる液晶パネル洗浄剤の希釈方法。
12. 請求項１から１１に記載の液晶パネル洗浄剤を用いた洗浄工程を含む液晶パネルの製造方法。