JPH06346092A - 洗浄剤組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 一般式（１）で表わされる化合物を含有す
る、精密部品用又はその組立加工工程に使用される冶工
具類用洗浄剤組成物。 【化１】 【効果】 洗浄性及び安全性に優れ、しかも環境汚染性
のないものであり、特に精密部品又はその組立加工工程
に用いられる冶工具類の洗浄剤として有用なものであ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は洗浄剤組成物に関し、更
に詳細には、精密部品又はその組立加工工程に使用され
る冶工具類の固体表面に存在する汚れの除去性に優れた
洗浄剤組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
精密部品、冶工具類等の固体表面に存在する油脂等の有
機物を主体とする汚れの除去には、ケロシン、ベンゼ
ン、キシレン等の炭化水素系溶剤；トリクロロエチレ
ン、テトラクロロエチレン等の塩素系溶剤；トリクロロ
トリフルオロエタン等のフロン系溶剤；オルソケイ酸ソ
ーダや苛性ソーダに界面活性剤やビルダーを配合した水
系の洗浄剤等が使用されている。特に電子、電気、機械
等の部品にはその高洗浄性、難燃性という特性を生かし
てフロン系溶剤又は塩素系溶剤が使用されている。

【０００３】しかしながら、塩素系及びフロン系の溶剤
を用いる洗浄剤は、安全性、毒性、環境汚染性等に大き
な問題を有している。また、炭化水素系溶剤、特にベン
ゼン、キシレン等は毒性が高く、労働安全衛生法上の有
害物に指定されている化合物であって、これを取り扱う
作業の危険性及び煩雑さを考慮すると、洗浄剤として用
いることは好ましくない。一方、水系洗浄剤は、溶剤系
洗浄剤に比較して危険性と毒性が低い点では好ましいも
のの、洗浄力において数段劣っている。

【０００４】そこで、近年、環境汚染が少なくかつ安全
性の高い洗浄剤として、米国特許第４，５１１，４８８
号明細書、同第４，６４０，７１９号明細書、同第４，
７４０，２４７号明細書等に見られるようなリモネン、
ピネン、ジペンテン等のテルペン類が提案されている。
これらリモネンに代表されるテルペン類は、安全性と洗
浄性を両立させ得る化合物であるが、引火点が低く、使
用時の設備が大がかりとなるという問題がある。又、天
然物由来のために安定品質のものが得難く、供給量に限
界があり、工業用洗浄剤として実際的なものではなかっ
た。

【０００５】従って、洗浄性及び安全性に優れ、しかも
環境汚染性がなく、精密部品、冶工具類等の固体表面に
存在する汚れ成分を除去することができる洗浄剤組成物
が望まれていた。

【０００６】

【課題を解決するための手段】かかる実情において、本
発明者らは鋭意研究を行った結果、後記一般式（１）で
表わされる化合物を用いれば洗浄性及び安全性に優れ、
しかも環境汚染性のない、精密部品又は冶工具類用とし
て有用な洗浄剤組成物が得られることを見出し、本発明
を完成した。

【０００７】すなわち、本発明は一般式（１）

【０００８】

【化２】

【０００９】〔式中、Ｒ¹ は炭素数１〜１８の炭化水素
基を示す〕で表わされる化合物を含有する、精密部品用
又はその組立加工工程に使用される冶工具類用洗浄剤組
成物を提供するものである。

【００１０】一般式（１）中、Ｒ¹ で示される炭素数１
〜１８の炭化水素基としては、直鎖又は分岐鎖のアルキ
ル基、アルキルフェニル基等の芳香族炭化水素基、シク
ロアルキル基等の脂環式炭化水素基などが挙げられ、具
体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、ブチル基、イソブチル基、ヘキシル基、ヘプチ
ル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、１−メチル
プロピル基、１，３−ジメチルブチル基、１−ペンチル
ヘキシル基、１−イソプロピル−２−メチルプロピル
基、１−イソブチル−３−メチルブチル基、ラウリル
基、オレイル基、ステアリル基、フェニル基、ベンジル
基、オクチルフェニル基、シクロヘキシル基、４−メチ
ルシクロヘキシル基、３−メチルシクロヘキシル基、２
−メチルシクロヘキシル基等が挙げられる。これらのＲ
¹ のうち、特に炭素数が１〜１３の炭化水素基が好まし
い。

【００１１】Ｒ¹ が炭化水素基以外の基であると、化合
物（１）の親水性が高くなりすぎて油性汚れに対する洗
浄力を得ることができない。また、Ｒ¹ の炭素数が１８
を超えると化合物（１）の親油性が高くなりすぎ、極性
の高い汚れに対する洗浄力が低下すると共に、水による
すすぎ性も低くなる。

【００１２】かかる化合物（１）は種々の公知の製法に
より製造することができ、例えばＲ ¹ に対応するアルコ
ール化合物とエピクロルヒドリンから合成されるアルキ
ルグリシジルエーテル（米国特許第３０２４２７３号明
細書、特公昭５７−３６２６０号公報）を中間体として
１，３−ジオキソランを経由して加水分解する方法（特
開昭５６−１３３２８１号公報）、及び直接加水分解す
る方法（特開昭４９−８６３０７号公報）等により製造
することができる。

【００１３】化合物（１）は全組成中に１０〜１００重
量％（以下、単に％で示す）、特に２５〜１００％配合
するのが好ましい。

【００１４】本発明の洗浄剤組成物には、更に非イオン
界面活性剤を配合すると、汚れの液中保持力、水による
すすぎ性がより向上し、洗浄力が上がるので好ましい。
かかる非イオン界面活性剤としては、平均ＨＬＢ４〜１
８のものが好ましく、例えばポリオキシアルキレンアル
キルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルフェノー
ルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキル脂肪酸エス
テル、ポリオキシアルキレンアリルフェノールエーテ
ル、ポリオキシアルキレンソルビタン脂肪酸エステル、
ポリオキシアルキレンアルキルアミン、ソルビタン脂肪
酸エステル、ポリオキシアルキレン等が挙げられ、特に
平均ＨＬＢ４〜１５のものが好ましい。なお、ポリオキ
シアルキレンとしては、エチレンオキサイド、プロピレ
ンオキサイド、ブチレンオキサイドの重合体が好まし
い。

【００１５】これらの非イオン界面活性剤は、全組成中
に０．１〜３０％配合するのが好ましい。

【００１６】本発明の洗浄剤組成物には、水溶性、油溶
性汚れなど、汚れの性質に応じて、水や炭化水素類を適
宜配合することができる。炭化水素類としては、炭素数
１０〜２０のものが好ましく、例えばデカン、ドデカ
ン、テトラデカン、ヘキサデカン、オクタデカン、デセ
ン、ドデセン、テトラデセン、ヘキサデセン、オクタデ
セン等の直鎖又は分岐鎖の炭化水素；アルキルベンゼ
ン；メチルナフタレン、ジメチルナフタレン等のナフタ
レン化合物；シクロデカン、シクロドデセン等のシクロ
系化合物などが挙げられる。これらのうち、安全性、毒
性、臭い等を考慮すると、炭素数１２〜１８の直鎖及び
分岐鎖の炭化水素、シクロ系炭化水素が好ましく、更に
洗浄性、ハンドリング等を考慮すると、オレフィン系炭
化水素が特に好ましい。

【００１７】本発明の洗浄剤組成物において、水を配合
する場合、その配合量は５〜９０％、特に５〜３０％で
あるのが好ましく、また、化合物（１）及び非イオン界
面活性剤の合計量が１０〜９５％、特に４０〜９５％で
あるのが好ましい。このように水を配合すると、特に無
機塩等の水溶性汚れの除去性に優れ、しかも引火性が低
下するので、性能面、安全面からも好ましい。

【００１８】また、本発明の洗浄剤組成物において、炭
化水素類を配合する場合には、その配合量は１〜６０
％、特に１〜５０％であるのが好ましく、また、化合物
（１）及び炭化水素類の合計量が１０〜９９％、特に４
０〜９９％であるのが好ましい。このように炭化水素類
を配合すると、特に鉱油や油脂等の油性汚れの除去性が
著しく向上する。

【００１９】更に、本発明の洗浄剤組成物には、通常の
洗浄剤に用いられる成分、例えば陰イオン界面活性剤、
両性界面活性剤等の非イオン界面活性剤以外の界面活性
剤；エタノール、ブチルジグリコール、ヘキシルグリコ
ール等の各種アルコール；クエン酸、酒石酸、フタル酸
等の有機酸；トリエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン等のアルカノールアミン；その他防錆剤、防腐剤、消
泡剤、酸化防止剤などを、本発明の効果を妨げない範囲
で適宜配合することができる。

【００２０】本発明の洗浄剤組成物は、精密部品及びそ
の組立加工工程に使用される冶工具類の洗浄に特に優れ
た効果を有する。本発明において精密部品とは、例えば
電子部品、電機部品、精密機械部品、樹脂加工部品、光
学部品等をいう。ここで、電子部品としては、例えば電
算機及びその周辺機器、家電機器、通信機器、ＯＡ機
器、その他電子応用機器等に用いられるプリント配線基
板；ＩＣリードフレーム、抵抗器、コンデンサー、リレ
ー等接点部材に用いられるフープ材；ＯＡ機器、時計、
電算機器、玩具、家電機器等に用いられる液晶表示器；
映像・音声記録／再生部品、その関連部品等に用いられ
る磁気記録部品；シリコンやセラミックのウエハ等の半
導体材料；水晶振動子等の電歪用部品；ＣＤ、ＰＤ、複
写機器、光記録機器等に用いられる光電変換部品などが
挙げられる。電機部品としては、例えばブラシ、ロー
タ、ステータ、ハウジング等の電動機部品；販売機や各
種機器に用いられる発券用部品；販売機、キャッシュデ
ィスヘンサ等に用いられる貨幣検査用部品などが挙げら
れる。精密機械部品としては、例えば精密駆動機器、ビ
デオレコーダー等に用いられるベアリング；超硬チップ
等の加工用部品などが挙げられる。樹脂加工部品として
は、例えばカメラ、自動車等に用いられる精密樹脂加工
部品などが挙げられる。更に、光学部品としてはカメ
ラ、眼鏡、光学機器等に用いられるレンズが挙げられ、
また、その他部品としてメガネフレーム、時計ケース、
時計ベルト等が挙げられる。

【００２１】本発明において、組立加工工程に使用され
る冶工具類とは、上述の各種部品例で示したような精密
部品を製造、成形、加工、組立、仕上げ等の各種工程に
おいて取り扱う冶具、工具の他、これらの精密部品を取
り扱う各種機器、その部品等をいう。

【００２２】本発明の洗浄剤組成物は、特に上述のう
ち、フラックスの残存したプリント配線基板に対して好
適な性能を発揮するが、本発明の対象となる精密部品類
及び治工具類は、これらの例に限られるものではなく、
組立加工工程において各種の加工油やフラックス等の後
工程の妨害物質、又は製品の特性を低下させる各種の油
性汚染物質を付着している一定形状の固体表面を持つ精
密部品類及び冶工具類であれば、本発明の洗浄剤組成物
を適用することができる。

【００２３】更に、これらの汚染物質が例えば油脂、機
械油、切削油、グリース、ロジン系フラックス、液晶、
石油ピッチ、ロウ等の、主として有機油分の汚れである
場合、本発明の洗浄剤組成物は特に有効であり、これに
金属粉、無機物粉、水分等が混入した汚れであっても十
分洗浄除去することができる。

【００２４】本発明の洗浄剤組成物は、浸漬法、超音波
洗浄法、振動法、スプレー法、蒸気洗浄法、手拭法、水
置換乾燥法等の各種の洗浄方法において使用でき、かつ
好ましい結果を得ることができる。

【００２５】本発明の洗浄剤を、フラックスの付着した
プリント基板の洗浄工程に用いる場合、例えば、まず本
発明洗浄剤組成物を入れた洗浄槽で浸漬、シャワー、液
中シャワー又は超音波洗浄し、次いで水等ですすぐこと
により、効率的に洗浄することができる。

【００２６】

【実施例】次に、実施例を挙げて本発明を更に説明する
が、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。

【００２７】実施例１ 表４、表５に示す組成の洗浄剤組成物を常法により製造
し、その洗浄性及びフラックス除去性を評価した。な
お、用いた化合物は表３に示す通りであり、結果を表
４、表５に示す。

【００２８】（１）洗浄性試験 ７０mm×１５０mmの鋼製テストピースに５００mg／m²の
割合でナフテン系鉱油（４０℃、３５０cst）を塗布す
る。また、１００mm×１００mmのガラス板上にネマティ
ック型の液晶を主成分とする液晶１ｇを塗布する。これ
らのテストピースを、４０℃に保った洗浄液に浸漬し、
超音波で５分間洗浄した。次いで３０℃のイオン交換水
に１０秒間浸漬し、乾燥した後、目視により下記基準で
その洗浄性を評価した。

【００２９】

【表１】 （評価基準） ◎：表面極めて清浄 ○：表面に鉱油、液晶残着ほとんどなし △：表面に鉱油、液晶残着わずかにあり ×：表面に鉱油、液晶残着あり

【００３０】（２）フラックス除去性試験 ＩＣチップを装着したプリント配線板をフラックス処理
し、続いてハンダ処理してテストピースとした。このテ
ストピースを５０℃に保った洗浄液に浸漬し、液中噴流
による洗浄液流動下で３分間洗浄した。次いで、３０℃
のイオン交換水でリンスし、乾燥した後、プリント配線
板からのフラックスの除去性を目視により下記基準で評
価した。

【００３１】

【表２】 （評価基準） ◎：フラックス残着なく、洗浄力極めて大 ○：フラックス残着がほとんどなく、洗浄力大 △：フラックス残着がわずかにあるが、洗浄力あり ×：フラックスが残着し、洗浄力に乏しい

【００３２】

【表３】

【００３３】

【表４】

【００３４】

【表５】

【００３５】

【発明の効果】本発明の洗浄剤組成物は、洗浄性及び安
全性に優れ、しかも環境汚染性のないものであり、特に
精密部品又はその組立加工工程に用いられる冶工具類の
洗浄剤として有用なものである。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（１） 【化１】 〔式中、Ｒ¹ は炭素数１〜１８の炭化水素基を示す〕で
   表わされる化合物を含有する、精密部品用又はその組立
   加工工程に使用される冶工具類用洗浄剤組成物。