JPH0673399A - 洗浄剤組成物 - Google Patents
洗浄剤組成物Info
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- JPH0673399A JPH0673399A JP23000392A JP23000392A JPH0673399A JP H0673399 A JPH0673399 A JP H0673399A JP 23000392 A JP23000392 A JP 23000392A JP 23000392 A JP23000392 A JP 23000392A JP H0673399 A JPH0673399 A JP H0673399A
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Abstract
0のエーテル結合を有し、水酸基価が200以下である
化合物を含有する洗浄剤組成物。特に式1又は2の化合
物を含有する洗浄剤組成物。 〔R1は水素原子又はエーテル結合を含んでいてもよい
炭素数1〜18の炭化水素基を示し、Aは炭素数2〜4
のアルキレン基を示し、mは1〜30の数を示し、Xは
エーテル結合を含んでいてもよい炭素数1〜18の炭化
水素基又は-(AO)n-O-R3(R3は水素原子又はエーテル
結合を含んでいてもよい炭素数1〜18の炭化水素基を
示し、Aは前記と同じ意味を示し、nは1以上の数を示
し、n+m≦30である)を示し、R2はエーテル結合
を含んでいてもよい炭素数1〜18の炭化水素基を示
す〕 【効果】 洗浄性及び安全性に優れ、しかも環境汚染性
がなく、特に精密部品又はその組立加工工程に用いられ
る治工具類の洗浄剤として有用である。
Description
に詳細には、精密部品又はその組立加工工程に使用され
る治工具類の固体表面に存在する汚れの除去性に優れた
洗浄剤組成物に関する。
精密部品、治工具類等の固体表面に存在する油脂等の有
機物を主体とする汚れの除去には、ケロシン、ベンゼ
ン、キシレン等の炭化水素系溶剤;トリクロロエチレ
ン、テトラクロロエチレン等の塩素系溶剤;トリクロロ
トリフルオロエタン等のフロン系溶剤;オルソケイ酸ソ
ーダや苛性ソーダに界面活性剤やビルダーを配合した水
系の洗浄剤等が使用されている。特に電子、電気、機械
等の部品にはその高洗浄性、難燃性という特性を生かし
てフロン系溶剤又は塩素系溶剤が使用されている。
用いる洗浄剤は、安全性、毒性、環境汚染性等に大きな
問題を有している。また、炭化水素系溶剤、特にベンゼ
ン、キシレン等は毒性が高く、労働安全衛生法上の有害
物に指定されている化合物であって、これを取り扱う作
業の危険性及び煩雑さを考慮すると、洗浄剤として用い
ることは好ましくない。一方、水系洗浄剤は、溶剤系洗
浄剤に比較して危険性と毒性が低い点では好ましいもの
の、洗浄力において数段劣っている。
性の高い洗浄剤として、米国特許第4,511,488
号明細書、同第4,640,719号明細書、同第4,
740,247号明細書等に見られるようなリモネン、
ピネン、ジペンテン等のテルペン類が提案されている。
これらリモネンに代表されるテルペン類は、安全性と洗
浄性を両立させ得る化合物であるが、引火点が低く、使
用時の設備が大がかりとなるという問題がある。又、天
然物由来のために安定品質のものが得難く、供給量に限
界があり、工業用洗浄剤として実際的なものではなかっ
た。
リコールやそれらとアルキル脂肪酸のエステル化合物を
含有する洗浄剤も提案されている。しかし、ブチルグリ
コール等の短鎖アルキルのグリコールは分子末端に水酸
基を有するために極性が大きく、水溶性汚れ等の極性の
大きな汚れの洗浄には有効であるものの、油性の強い汚
れの洗浄性に劣るという問題があった。一方、アルキル
鎖長を長くして極性を下げようとすると、水酸基間の水
素結合等の親和力にアルキル基間のファンデアワールス
力等の親和力が加わり、分子間の集合力が増大し、系が
増粘して洗浄性を妨げるという問題が生じる。更に、水
酸基をアルキル脂肪酸でエステル化し、分子間集合力の
低減と適度な親油性を持たせる試みがなされているが、
該化合物は経時的に加水分解するため、洗浄性が低下し
たり、分野により生じたアルキル脂肪酸等の有機酸が洗
浄液のpH低下や金属腐食を引き起すという問題があっ
た。
環境汚染性がなく、精密部品、治工具類等の固体表面に
存在する汚れ成分を除去することができる洗浄剤組成物
が望まれていた。
発明者らは鋭意研究を行った結果、分子中に1〜6の炭
酸エステル残基と1〜30のエーテル結合を有し、水酸
基価が200以下である化合物を用いれば、洗浄性及び
安全性に優れ、しかも環境汚染性のない洗浄剤組成物が
得られることを見出し、本発明を完成した。
酸エステル残基と1〜30のエーテル結合を有し、水酸
基価が200以下である化合物を含有する洗浄剤組成物
を提供するものである。
〜6の炭酸エステル残基と1〜30のエーテル結合を有
し、水酸基価が200以下のものである(以下、化合物
Aという)。分子中の炭酸エステル残基は、例えばポリ
アルキレングリコールとジアルキルカーボネート等の炭
酸エステル化剤を反応させることにより導入することが
できる。化合物Aは、分子中に1〜6、好ましくは1〜
3の炭酸エステル残基を有していることが必要であり、
この範囲の数の炭酸エステル残基を有することにより適
度な極性を確保し、極性の高い汚れから油性汚れまで、
広範囲の汚れの洗浄に有効なものとなる。ただし、炭酸
エステル残基が6を超えると、極性が強くなりすぎて、
系が増粘したり固化したりして、洗浄性や作業性が低下
するので好ましくない。
しくは1〜20のエーテル結合を有していることが必要
である。このエーテル結合により、極性汚れとの親和性
を確保することができる。ただし、分子中のエーテル結
合が30を超えると、分子量が大きくなって粘度が上が
り、洗浄性が低下する。
好ましくは100以下であることが必要である。水酸基
価が200を超えると、極性が大きくなり、油性の強い
汚れの洗浄性に劣る。
子中に1〜6個水酸基を有するポリアルキレングリコー
ルとジアルキルカーボネート等の炭酸エステル化剤との
反応物などが挙げられる。ここで、ポリアルキレングリ
コールとしては、分子内に1又は2以上の活性水素を有
する化合物、例えば1価のアルキルアルコール、アルキ
ルフェノール、水、エチレングリコール、アルキルアミ
ン、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリ
スリトール、ポリグリセリン、ソルビトール、ジエタノ
ールアミン等に、エチレンオキサイド、プロピレンオキ
サイド、ブチレンオキサイドを単独又は2組以上組合わ
せて重合させたものなどが挙げられる。また、ジアルキ
ルカーボネートとしては、ジメチルカーボネート、ジエ
チルカーボネート、ジフェニルカーボネート等が挙げら
れる。
で表わされるものが好ましい。
を含んでいてもよい炭素数1〜18の炭化水素基を示
し、Aは炭素数2〜4のアルキレン基を示し、mは1〜
30の数を示し、Xはエーテル結合を含んでいてもよい
炭素数1〜18の炭化水素基又は-(AO)n-O-R3(R3 は
水素原子又はエーテル結合を含んでいてもよい炭素数1
〜18の炭化水素基を示し、Aは前記と同じ意味を示
し、nは1以上の数を示し、n+m≦30である)を示
し、R2 はエーテル結合を含んでいてもよい炭素数1〜
18の炭化水素基を示す〕
炭素数1〜18の炭化水素基としては、直鎖又は分岐鎖
のアルキル基、アルキルフェニル基等の芳香族炭化水素
基、シクロアルキル基等の脂環式炭化水素基などが挙げ
られ、具体的には、メチル基、エチル基、イソプロピル
基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、2−エチルヘ
キシル基、ラウリル基、オレイル基、ステアリル基、フ
ェニル基、オクチルフェニル基、シクロヘキシル基、フ
ルフリル基等が挙げられる。また、式中、Aで示される
炭素数2〜4のアルキレン基としては、例えばエチレン
基、プロピレン基、ブチレン基等が挙げられる。
%(以下、単に%で示す)、特に25〜100%配合す
るのが好ましい。
界面活性剤を配合すると、汚れの液中保持力、水による
すすぎ性がより向上し、洗浄力が上がるので好ましい。
かかる非イオン界面活性剤としては、平均HLB4〜1
8のものが好ましく、例えばポリオキシアルキレンアル
キルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルフェノー
ルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキル脂肪酸エス
テル、ポリオキシアルキレンアリルフェノールエーテ
ル、ポリオキシアルキレンソルビタン脂肪酸エステル、
ポリオキシアルキレンアルキルアミン、ソルビタン脂肪
酸エステル、ポリオキシアルキレン等が挙げられ、特に
平均HLB4〜15のものが好ましい。なお、ポリオキ
シアルキレンとしては、エチレンオキサイド、プロピレ
ンオキサイド、ブチレンオキサイドの重合体が好まし
い。
に0.1〜30%配合するのが好ましい。
性汚れなど、汚れの性質に応じて、水や炭化水素類を適
宜配合することができる。炭化水素類としては、炭素数
10〜20のものが好ましく、例えばデカン、ドデカ
ン、テトラデカン、ヘキサデカン、オクタデカン、デセ
ン、ドデセン、テトラデセン、ヘキサデセン、オクタデ
セン等の直鎖又は分岐鎖の炭化水素;炭素数 のアルキ
ルベンゼン;メチルナフタレン、ジメチルナフタレン等
のナフタレン化合物;シクロデカン、シクロドデセン等
のシクロ系化合物などが挙げられる。これらのうち、安
全性、毒性、臭い等を考慮すると、炭素数12〜18の
直鎖及び分岐鎖の炭化水素、シクロ系炭化水素が好まし
く、更に洗浄性、ハンドリング等を考慮すると、オレフ
ィン系炭化水素が特に好ましい。
する場合、その配合量は5〜90%、特に5〜30%で
あるのが好ましく、また、化合物A及び非イオン界面活
性剤の合計量が10〜95%、特に40〜95%である
のが好ましい。このように水を配合すると、特に無機塩
等の水溶性汚れの除去性に優れ、しかも引火性が低下す
るので、性能面、安全面からも好ましい。
化水素類を配合する場合には、その配合量は1〜60
%、特に1〜50%であるのが好ましく、また、化合物
A及び炭化水素類の合計量が10〜99%、特に40〜
99%であるのが好ましい。このように炭化水素類を配
合すると、特に鉱油や油脂等の油性汚れの除去性が著し
く向上する。
洗浄剤に用いられる成分、例えば陰イオン界面活性剤、
両性界面活性剤等の非イオン界面活性剤以外の界面活性
剤;エタノール、ブチルジグリコール、ヘキシルグリコ
ール等の各種アルコール;クエン酸、酒石酸、フタル酸
等の有機酸;トリエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン等のアルカノールアミン;その他防錆剤、防腐剤、消
泡剤、酸化防止剤などを、本発明の効果を妨げない範囲
で適宜配合することができる。
の組立加工工程に使用される治工具類の洗浄に特に優れ
た効果を有する。本発明において精密部品とは、例えば
電子部品、電機部品、精密機械部品、樹脂加工部品、光
学部品等をいう。ここで、電子部品としては、例えば電
算機及びその周辺機器、家電機器、通信機器、OA機
器、その他電子応用機器等に用いられるプリント配線基
板;ICリードフレーム、抵抗器、コンデンサー、リレ
ー等接点部材に用いられるフープ材;OA機器、時計、
電算機器、玩具、家電機器等に用いられる液晶表示器;
映像・音声記録/再生部品、その関連部品等に用いられ
る磁気記録部品;シリコンやセラミックのウエハ等の半
導体材料;水晶振動子等の電歪用部品;CD、PD、複
写機器、光記録機器等に用いられる光電変換部品などが
挙げられる。電機部品としては、例えばブラシ、ロー
タ、ステータ、ハウジング等の電動機部品;販売機や各
種機器に用いられる発券用部品;販売機、キャッシュデ
ィスヘンサ等に用いられる貨幣検査用部品などが挙げら
れる。精密機械部品としては、例えば精密駆動機器、ビ
デオレコーダー等に用いられるベアリング;超硬チップ
等の加工用部品などが挙げられる。樹脂加工部品として
は、例えばカメラ、自動車等に用いられる精密樹脂加工
部品などが挙げられる。更に、光学部品としてはカメ
ラ、眼鏡、光学機器等に用いられるレンズが挙げられ、
また、その他部品としてメガネフレーム、時計ケース、
時計ベルト等が挙げられる。
る治工具類とは、上述の各種部品例で示したような精密
部品を製造、成形、加工、組立、仕上げ等の各種工程に
おいて取り扱う治具、工具の他、これらの精密部品を取
り扱う各種機器、その部品等をいう。
ち、フラックスの残存したプリント配線基板に対して好
適な性能を発揮するが、本発明の対象となる精密部品類
及び治工具類は、これらの例に限られるものではなく、
組立加工工程において各種の加工油やフラックス等の後
工程の妨害物質、又は製品の特性を低下させる各種の油
性汚染物質を付着している一定形状の固体表面を持つ精
密部品類及び治工具類であれば、本発明の洗浄剤組成物
を適用することができる。
械油、切削油、グリース、ロジン系フラックス、液晶、
石油ピッチ、ロウ等の、主として有機油分の汚れである
場合、本発明の洗浄剤組成物は特に有効であり、これに
金属粉、無機物粉、水分等が混入した汚れであっても十
分洗浄除去することができる。
洗浄法、振動法、スプレー法、蒸気洗浄法、手拭法、水
置換乾燥法等の各種の洗浄方法において使用でき、かつ
好ましい結果を得ることができる。
プリント基板の洗浄工程に用いる場合、例えば、まず本
発明洗浄剤組成物を入れた洗浄槽で浸漬、シャワー、液
中シャワー又は超音波洗浄し、次いで水等ですすぐこと
により、効率的に洗浄することができる。
が、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
の洗浄性及びフラックス除去性を評価した。なお、用い
た化合物は表3に示す通りであり、結果を表4、表5に
示す。
割合でナフテン系鉱油(40℃、350cst)を塗布す
る。また、100mm×100mmのガラス板上にネマティ
ック型の液晶を主成分とする液晶1gを塗布する。これ
らのテストピースを、40℃に保った洗浄液に浸漬し、
超音波で5分間洗浄した。次いで30℃のイオン交換水
に10秒間浸漬し、乾燥した後、目視により下記基準で
その洗浄性を評価した。
し、続いてハンダ処理してテストピースとした。このテ
ストピースを50℃に保った洗浄液に浸漬し、液中噴流
による洗浄液流動下で3分間洗浄した。次いで、30℃
のイオン交換水でリンスし、乾燥した後、プリント配線
板からのフラックスの除去性を目視により下記基準で評
価した。
全性に優れ、しかも環境汚染性のないものであり、特に
精密部品又はその組立加工工程に用いられる治工具類の
洗浄剤として有用なものである。
Claims (2)
- 【請求項1】 分子中に1〜6の炭酸エステル残基と1
〜30のエーテル結合を有し、水酸基価が200以下で
ある化合物を含有する洗浄剤組成物。 - 【請求項2】 式(1)又は(2): 【化1】 〔式中、R1 は水素原子又はエーテル結合を含んでいて
もよい炭素数1〜18の炭化水素基を示し、Aは炭素数
2〜4のアルキレン基を示し、mは1〜30の数を示
し、Xはエーテル結合を含んでいてもよい炭素数1〜1
8の炭化水素基又は-(AO)n-O-R3(R3 は水素原子又は
エーテル結合を含んでいてもよい炭素数1〜18の炭化
水素基を示し、Aは前記と同じ意味を示し、nは1以上
の数を示し、n+m≦30である)を示し、R2 はエー
テル結合を含んでいてもよい炭素数1〜18の炭化水素
基を示す〕で表わされる化合物を含有する洗浄剤組成
物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4230003A JP2651643B2 (ja) | 1992-08-28 | 1992-08-28 | 洗浄剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4230003A JP2651643B2 (ja) | 1992-08-28 | 1992-08-28 | 洗浄剤組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0673399A true JPH0673399A (ja) | 1994-03-15 |
JP2651643B2 JP2651643B2 (ja) | 1997-09-10 |
Family
ID=16901082
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4230003A Expired - Fee Related JP2651643B2 (ja) | 1992-08-28 | 1992-08-28 | 洗浄剤組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2651643B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004034451A1 (ja) * | 2002-10-11 | 2004-04-22 | Wako Pure Chemical Industries, Ltd. | 基板洗浄剤 |
JP2007238780A (ja) * | 2006-03-09 | 2007-09-20 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 液晶パネル洗浄剤及びこの洗浄剤を用いた洗浄工程を含む液晶パネルの製造方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56106919A (en) * | 1980-01-29 | 1981-08-25 | Shizuoka Daigaku | Production of polyethercarbonate surfactant |
JPS58206692A (ja) * | 1982-05-18 | 1983-12-01 | ザ・ダウ・ケミカル・カンパニ− | エチレンカ−ボネ−トと1価アルコ−ルとからのポリカ−ボネ−ト型界面活性剤の製造法 |
-
1992
- 1992-08-28 JP JP4230003A patent/JP2651643B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56106919A (en) * | 1980-01-29 | 1981-08-25 | Shizuoka Daigaku | Production of polyethercarbonate surfactant |
JPS58206692A (ja) * | 1982-05-18 | 1983-12-01 | ザ・ダウ・ケミカル・カンパニ− | エチレンカ−ボネ−トと1価アルコ−ルとからのポリカ−ボネ−ト型界面活性剤の製造法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004034451A1 (ja) * | 2002-10-11 | 2004-04-22 | Wako Pure Chemical Industries, Ltd. | 基板洗浄剤 |
JP2007238780A (ja) * | 2006-03-09 | 2007-09-20 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 液晶パネル洗浄剤及びこの洗浄剤を用いた洗浄工程を含む液晶パネルの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2651643B2 (ja) | 1997-09-10 |
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