JP3277240B2 - ピッチ洗浄用液体洗浄剤組成物 - Google Patents
ピッチ洗浄用液体洗浄剤組成物Info
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Classifications
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- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
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- C11D3/0078—Compositions for cleaning contact lenses, spectacles or lenses
-
- C11D2111/10—
Description
関し、詳しくは光学ガラスに付着したピッチ洗浄、さら
に詳しくはレンズ加工時におけるレンズ保持に用いるピ
ッチの洗浄に係わるものである。
球面を形成させるために研削工程や、研磨工程、心取り
工程等がある。
に固定する必要があり、現在ではやに貼り式やリセス貼
り式の固定方法が採用され、また固定材としてピッチや
接着剤が用いられている。
熱器で加熱し、その上にレンズを貼り付け、研磨を行
い、研磨工程終了後、再度高周波加熱器を用いて剥離さ
せることから、研磨終了したレンズの回りに多量のピッ
チが残存することになる。このピッチは、そのまま放置
すると固着化し除去しにくくなるばかりか、いわゆるヤ
ケの生成の原因ともなり、また例えば研磨面にピッチ、
保護膜等に由来する汚れが存在する状態で心取りを行っ
た場合には、心取り精度が低下するといった現象が起き
る。従って、各工程で発生した汚れはできる限り早い時
期に洗浄除去する事が重要である。
化炭化水素系溶剤、例えばトリクロロエチレン、パーク
ロロエチレン、1−1−1−トリクロロエタン、メチレ
ンクロライド、フロン等が用いられている。
境に対する悪影響が問題となり、今後洗浄剤として使用
する事が不可能となってきていると同時に、地球環境に
対して全く悪影響を及ぼさない新しい洗浄剤の開発が望
まれていた。
の開発が進められてきており、文献によると例えば『ガ
ラス洗浄剤の選定・開発と最適洗浄技術・洗浄設計の実
際−総合資料集−』ソフト技研出版部、昭和59年3月
15日発行(p233〜250)には、界面活性剤とア
ルカリビルダーとの組み合わせによるピッチ用のアルカ
リ洗浄剤組成物が示されている。
的であるピッチの主成分が松脂であるため、洗浄剤中の
アルカリビルダーが松脂の主成分であるアビエチン酸に
代表される各種ロジン酸に対してケン化作用を示し、洗
浄効果を発現したものである。しかし、現在のピッチは
ほとんどがコールタールを主成分とした強固な固体状ピ
ッチであり、コールタールは数百種の炭化水素を主とし
た化合物の混合体であるため松脂の場合と大きく事情が
異なり、上記文献に例示されているアルカリ洗浄剤では
全く洗浄性を示さない。
42号公報にみられるような高分子複合多糖類の醗酵液
を主成分とした洗浄液も開示されている。
際の装置に対応した洗浄速度と充分な洗浄性能を発揮す
るに至っていないのが現状である。
結びつくハロゲン化炭化水素系溶剤に替り、かつ多種多
様な種類のピッチや接着剤に対しても優れた洗浄性能を
発揮する洗浄剤を提供するものである。
体洗浄剤組成物は、化5の一般式(I)、化6の一般式
(II)、化7の一般式(III)および一般式(I
V)で示される化合物の1種または2種以上、およびア
ニオン性界面活性剤を含有することを特徴とする。
はアルキルフェニル基 R2 :水素原子または炭素数1〜9のアルキル基ないし
はアルケニル基 A1 :炭素数2〜4のアルキレン基 m:アルキレンオキシドA1 Oの平均付加モル数を表
し、1〜20の数。但し、同一のアルキレンオキシドが
単独で付加していてもよく、2種類以上のアルキレンオ
キシドが混合して付加していてもよい。)
基 R4 :水素原子または炭素数1〜18のアルキル基ない
しはアルケニル基 A2 :炭素数2〜4のアルキレン基 n:アルキレンオキシドA2 Oの平均付加モル数を表
し、0〜20の数。但し、同一のアルキレンオキシドが
単独で付加していてもよく、2種類以上のアルキレンオ
キシドが混合して付加していてもよい。)
成物は、一般式(I)、(II)、(III)または
(IV)で表わされる化合物の少なくとも1種を合む。
以下、これら各化合物を順次説明する。
コールのモノエーテルまたはジエーテルであり、以下の
化8で示される。
はアルキルフェニル基 R2 :水素原子または炭素数1〜9のアルキル基ないし
はアルケニル基 A1 :炭素数2〜4のアルキレン基 m:アルキレンオキシドA1 Oの平均付加モル数を表
し、1〜20の数。但し、同一のアルキレンオキシドが
単独で付加していてもよく、2種類以上のアルキレンオ
キシドが混合して付加していてもよい。)
としては、エチレングリコールモノメチルエーテル(C
1E1)、ジエチレングリコールモノメチルエーテル
(C1E2)、トリエチレングリコールモノメチルエー
テル(C1E3)、エチレングリコールモノプロピルエ
ーテル(C3E1)、ジエチレングリコールモノプロピ
ルエーテル(C3E2)、トリエチレングリコールモノ
プロピルエーテル(C3E3)、エチレングリコールモ
ノブチルエーテル(C4E1)、ジエチレングリコール
モノブチルエーテル(C4E2)、トリエチレングリコ
ールモノブチルエーテル(C4E3)、エチレングリコ
ールモノヘキシルエーテル(C6E1)、ジエチレング
リコールモノヘキシルエーテル(C6E2)、エチレン
グリコールモノ−2−エチルヘキシルエーテル(C2C
6E1)、ジエチレングリコールモノ−2−エチルヘキ
シルエーテル(C2C6E2)等が挙げられる。
ングリコールジメチルエーテル(C1E1C1)、エチ
レングリコールジエチルエーテル(C2E1C2)、エ
チレングリコールジブチルエーテル(C4E1C4)、
ジエチレングリコールジメチルエーテル(C1E2C
1)、ジエチレングリコールジエチルエーテル(C2E
2C2)、ジエチレングリコールジブチルエーテル(C
4E2C4)、トリエチレングリコールジメチルエーテ
ル(C1E3C1)等が挙げられる。
よいが、2種類以上適宜組み合わせて使用しても良い。
の中でも、末端エーテル残基の合計炭素数(R1+R2の
合計炭素数)が4以上のものが好ましく、また、グリコ
ール部分はエチレンオキシドまたはプロピレンオキシド
の付加により形成されることが好ましく、その付加モル
数mは1〜4が好適である。
そのアルキレンオキシド付加物あるいはこれらの末端エ
ーテル化物であり、以下の化9で規定することができ
る。
基 R4 :水素原子または炭素数1〜18のアルキル基ない
しはアルケニル基 A2 :炭素数2〜4のアルキレン基 n:アルキレンオキシドA2 Oの平均付加モル数を表
し、0〜20の数。但し、同一のアルキレンオキシドが
単独で付加していてもよく、2種類以上のアルキレンオ
キシドが混合して付加していてもよい。)
18の化合物が、A2 は炭素数2の化合物が、n=0〜
8の化合物が、R4 は水素または炭素数1〜12のアル
キル基である化合物がそれぞれ好ましい。
の化合物は、炭素数6〜22のパラフィン系炭化水素で
あり、好ましくは炭素数8〜16である。
V)の化合物は、炭素数6〜22のオレフィン系炭化水
素であり、好ましくは炭素数8〜16のα−オレフィン
である。
I)または(IV)で示される化合物は、単独で使用す
ることも可能であるが、2種以上併用して使用すること
も可能である。また、これら化合物の洗浄剤組成物中へ
の配合量は1〜70重量%が適当であり、好ましくは5
〜70重量%である。
〜(IV)の化合物に加え、アニオン性界面活性剤を配
合して洗浄性能を改善する。また、水溶液ないし水分剤
液として使用可能な水系の洗浄剤とすることもできる。
界面活性剤としては、アニオン性界面活性剤、非イオン
性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤
が、単独であるいは2種以上併用して用いられるが、特
にアニオン性界面活性剤が好ましい。
下のものが例示できる。 1) 平均炭素数8〜16のアルキル基を有する直鎖ア
ルキルベンゼンスルホン酸塩、 2) 平均炭素数10〜20のα−オレフィンスルホン
酸塩、
素数が4〜10のジアルキルスルホ琥珀酸塩 4) 化11の一般式(IV)で表される脂肪酸低級ア
ルキルエステルのスルホン酸塩または脂肪酸スルホン化
物のジ塩
酸塩、 6) 平均炭素数10〜20の直鎖または分岐鎖のアル
キル基もしくはアルケニル基を有し、平均0.5〜8モ
ルのエチレンオキシドを付加したアルキルエーテル硫酸
塩、 7) 平均炭素数10〜22の飽和または不飽和脂肪酸
塩。
イオンとしては、通常ナトリウムやカリウムなどのアル
カリ金属塩などが用いられる。
下のものが例示される。ここで、pはアルキレンオキシ
ドの平均付加モル数を示す。アルキレンオキシドとして
は、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレン
オキシドまたはこれらの混合付加物が用いられる。
0)アルキルまたはアルケニル(C10〜C22)エーテル 2) ポリオキシアルキレン(p=3〜40)アルキル
またはアルケニル(C6〜C12)フェニルエーテル
〜40)アルキルまたはアルケニル(C10〜C22)アミ
ン 4) ポリオキシアルキレン(p=0.5〜50)アル
キルまたはアルケニル(C10〜C22)アミド
シドブロック付加物(プルロニック型界面活性剤)
一般式(V)に示した非イオン性界面活性剤が本発明に
好適である。
またはアルキルフェニル基 A3:炭素数2〜4のアルキレン基 p:アルキレンオキシドA3Oの平均付加モル数を表
し、3〜20の数。但し、同一のアルキレンオキシドが
単独で付加していてもよく、2種類以上のアルキレンオ
キシドが混合して付加していてもよい。)
いが、2種類以上を適宜に組み合わせてもよい。
1〜70重量%配合することが好ましく、より好ましく
は5〜50重量%である。
応じて任意成分を配合することができる。これら任意成
分としては、クエン酸塩、燐酸塩、エチレンジアミン四
酢酸塩等の洗浄ビルダー;液安定性を保持するためのエ
チレングリコール、プロピレングリコール等のグリコー
ル類、メタノール、エタノール等の低級アルコール類、
トルエンスルホン酸塩、キシレンスルホン酸塩等のハイ
ドロトロープ剤;さらに目的に応じてベンゾトリアゾー
ル等の防錆剤、安息香酸塩等の防腐剤を配合することが
可能である。
の濃度で洗浄に使用することができ、また、水で希釈し
て水溶液として使用することも可能である。
溶剤を用いることがなくても、光学レンズの加工工程な
どで用いられるピッチや接着剤を高度に洗浄除去するこ
とができる。
の基準で洗浄性能を評価し、その結果を同表に示した。
を、用意した各洗浄剤原液中に浸漬し、40℃、3分間
の超音波洗浄を行う。
行い、室温で自然乾燥したのち、以下に示す評価点に従
って洗浄性を目視判定する。○以上が合格である。 ◎:ほとんど洗浄されている。 ○:かなり洗浄されている。 △:ほとんど洗浄されない。 ×:全く洗浄されない。
酸ナトリウム AOS−Na:C14〜C18α−オレフィンスルホン酸ナ
トリウム ASS−Na:ジオクチルスルホ琥珀酸ナトリウム APE(p=8):ポリオキシエチレン(p=8)ノニ
ルフェニルエーテル C4H9O(EO) 3 H:C4H9O(C2H4O) 3 H
Claims (2)
- 【請求項1】 化1の一般式(I)、化2の一般式(I
I)、化3の一般式(III)および一般式(IV)で
示される化合物の1種または2種以上、およびアニオン
性界面活性剤を含有することを特徴とするピッチ洗浄用
液体洗浄剤組成物。 【化1】 R1−O−(A1O)m−R2 …(I) (R1:炭素数1〜9のアルキル基、アルケニル基また
はアルキルフェニル基 R2:水素原子または炭素数1〜9のアルキル基ないし
はアルケニル基 A1:炭素数2〜4のアルキレン基 m:アルキレンオキシドA1Oの平均付加モル数を表
し、1〜20の数。但し、同一のアルキレンオキシドが
単独で付加していてもよく、2種類以上のアルキレンオ
キシドが混合して付加していてもよい。) 【化2】 R3−COO−(A2O)n−R4 …(II) (R3:炭素数3〜21のアルキル基またはアルケニル
基 R4:水素原子または炭素数1〜18のアルキル基ない
しはアルケニル基 A2:炭素数2〜4のアルキレン基 n:アルキレンオキシドA2Oの平均付加モル数を表
し、0〜20の数。但し、同一のアルキレンオキシドが
単独で付加していてもよく、2種類以上のアルキレンオ
キシドが混合して付加していてもよい。) 【化3】 - 【請求項2】 アニオン性界面活性剤がアルキル基また
はアルケニル基の炭素数が4〜10のジアルキルスルホ
琥珀酸である請求項1に記載のピッチ洗浄用液体洗浄剤
組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32139493A JP3277240B2 (ja) | 1993-11-26 | 1993-11-26 | ピッチ洗浄用液体洗浄剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32139493A JP3277240B2 (ja) | 1993-11-26 | 1993-11-26 | ピッチ洗浄用液体洗浄剤組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07150192A JPH07150192A (ja) | 1995-06-13 |
JP3277240B2 true JP3277240B2 (ja) | 2002-04-22 |
Family
ID=18132062
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32139493A Expired - Lifetime JP3277240B2 (ja) | 1993-11-26 | 1993-11-26 | ピッチ洗浄用液体洗浄剤組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP3277240B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
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---|---|---|---|---|
JP7417990B2 (ja) * | 2019-12-13 | 2024-01-19 | 株式会社片山化学工業研究所 | コークス炉ガス流通路への汚れの付着堆積抑制方法 |
-
1993
- 1993-11-26 JP JP32139493A patent/JP3277240B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Publication date |
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JPH07150192A (ja) | 1995-06-13 |
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