JP3281927B2 - 感光性高分子用水性現像液組成物 - Google Patents
感光性高分子用水性現像液組成物Info
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
に使用される水性現像液組成物に関する。
製版材料として、また電子部品工業における精密部品加
工のための、フォトレジスト、IC、LSI、超LSI
製造工程における電子線レジスト、X線レジスト等、あ
らゆる産業分野において幅広く利用されている。これら
感光性高分子を用いての加工工程においては、露光後に
末感光部分(あるいは感光部分)を除去する工程、すな
わち現像工程をとるのが一般的である。
工業の近年のハイテク化にともない、解像度に対する要
求品質は高まり、従ってこれらの分野で使用される感光
性高分子の種類は複雑且つ多岐にわたっている。このた
め、現像工程においてもあらゆる感光性高分子に対して
より一層高度な仕上がりが要求されており、また経済的
な観点から一定の現像液でより多く現像することが要求
されるため、従来からトリクロロエタン、パークロロエ
チレン、およびフロンあるいはアルコール等の有機溶剤
が使用されている。しかしながらこれらの溶剤は、優れ
た現像性能を発揮する反面、環境への安全性に大きな問
題を有しており、近年、水系現像液への要望が高まって
いる。
子に対して高度な現像性能を有し、しかも水系の感光性
高分子用現像剤を提供するものである。
剤組成物は、以下の(a),(b),(e)成分を含有
することを特徴とする。 (a) ノニオン界面活性剤:20〜70重量%。 (b) 下記の化5で示される化合物:10〜70重量
%。 (e) 水。
〜15の数。但し、同一のアルキレンオキシドが単独で
付加していてもよく、2種類以上のアルキレンオキシド
が混合して付加していてもよい R3:水素)
り再付着防止性能が改善され、(d)成分を含有するこ
とによりスタミナ現像性が改善される。(c) 化6で
示されるパラフィン系炭化水素。
リドン、ブチロラクトンの中から選ばれた少なくとも1
種の化合物。
が用いられ、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性
剤、両性界面活性剤を併用することもできる。ノニオン
界面活性剤としては、以下のものが例示される。ここ
で、pはアルキレンオキシドの平均付加モル数を示す。
アルキレンオキシドとしては、エチレンオキシド、プロ
ピレンオキシド、ブチレンオキシドまたはこれらの混合
付加物が用いられる。 1) ポリオキシアルキレン(p=3〜40)アルキル
またはアルケニル(C10〜C22)エーテル 2) ポリオキシアルキレン(p=3〜40)アルキル
またはアルケニル(C6〜C12)フェニルエーテル 3) ポリオキシアルキレン(p=0.5〜40)アル
キルまたはアルケニル(C10〜C22)アミン 4) ポリオキシアルキレン(p=0.5〜50)アル
キルまたはアルケニル(C10〜C22)アミド 5) エチレンオキシド/プロピレンオキシドブロック
付加物(プルロニック型界面活性剤)
のものが例示できる。 1) 平均炭素数8〜16のアルキル基を有する直鎖ア
ルキルベンゼンスルホン酸塩、 2) 平均炭素数10〜20のα−オレフィンスルホン
酸塩、 3) アルキル基またはアルケニル基の炭素数が4〜1
0のジアルキルスルホコハク酸塩、 4) 化7で表される脂肪酸低級アルキルエステルのス
ルホン酸塩または脂肪酸スルホン化物のジ塩、
酸塩、 6) 平均炭素数10〜20の直鎖または分岐鎖のアル
キル基もしくはアルケニル基を有し、平均0.5〜8モ
ルのエチレンオキサイドを付加したアルキルエーテル硫
酸塩、 7) 平均炭素数10〜22の飽和または不飽和脂肪酸
塩。
オンとしては、通常ナトリウムやカリウムなどのアルカ
リ金属塩およびアンモニウム、モノエタノールアミン、
ジエタノールアミン等のアルカノールアミン塩などが用
いられる。
明の現像液組成物中に20〜70重量%配合することが
好ましく、より好ましくは20〜50重量%である。
アルキレンオキシド付加物またはこの末端アルキルエー
テル化物であり、特にエチレンオキシドの単独付加物、
エチレンオキシドとプロピレンオキシドのブロック付加
物が好ましく、とりわけ以下の(b−2−1)または
(b−2−2)が好適に用いられる。 (b−2−1) 炭素数4〜6のアルコールにエチレン
オキシド平均1〜3モルおよびプロピレンオキシド平均
1〜5モル付加した付加物。 (b−2−2) 炭素数8〜9のアルコールにエチレン
オキシドが平均2〜10モル付加した付加物。
−1),(b−2−2)を2種以上組み合わせて用いる
ことにより、いっそう優れた現像特性が得られる。
(b)成分は、本発明の現像液組成物中に10〜70重
量%配合することが好ましく、より好ましくは20〜5
0重量%である。
鎖または分岐鎖を有する炭素数6〜22の鎖状飽和炭化
水素であり、好ましくは炭素数10〜16である。これ
らパラフィン系炭化水素は、それぞれ単独で用いても混
合物として使用してもよい。(c)成分のパラフィン系
炭化水素は、本発明の現像液組成物中に1〜70重量%
配合することが好適であり、より好ましくは5〜30重
量%である。
よび(b)成分あるいはさらに(c)成分を配合するこ
とによって優れた現像性能が得られるが、さらに、
(d)成分としてN−メチルピロリドン、2−ピロリド
ン、またはブチロラクトンを配合することにより、いっ
そう現像性能が改善され、特に、多くの溶出感光性高分
子が溶存した場合でも現像性能が劣化せず、同一の現像
液でより多くの高分子を高度に現像しうる、いわゆるス
タミナ現像性が改善される。(d)成分は、本発明の現
像剤組成物中に1〜70重量%配合することが好まし
く、より好ましくは20〜50重量%である。本願発明
の現像剤組成物は、水性組成物であり、必須成分として
(e)水を含有する。
応じて任意成分を配合することができる。これら任意成
分としては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミン;ク
エン酸塩、燐酸塩、エチレンジアミン四酢酸塩等のビル
ダー;液安定性を保持するためのエチレングリコール、
プロピレングリコール等のグリコール類、メタノール、
エタノール等の低級アルコール類、トルエンスルホン酸
塩、キシレンスルホン酸塩等のハイドロトロープ剤;さ
らに目的に応じてベンゾトリアゾール等の防錆剤、安息
香酸塩等の防腐剤を配合することが可能である。本発明
の現像液組成物は、組成物そのままの濃度で現像に使用
することができるが、通常は水で希釈し、5〜30重量
%程度の水溶液として用いる。
界面活性剤、(b)アルコールのアルキレンオキシド付
加物もしくはこの末端アルキル化物および(e)水、あ
るいはさらにパラフィン系炭化水素を用いることによ
り、感光性高分子に対して高度な現像性能を示し、しか
も、水系の現像剤であることから、フロン系溶剤や塩素
系溶剤のような環境破壊の問題が生じない。
脂(ポリウレタン系)を均一に塗布し、用意された各現
像液(30wt%水溶液)中にホルダーを用いて固定す
る。現像液温度40℃、撹拌速度500rpm、現像時
間5分の条件で現像を行ない、以後水でよくすすぎ室温
で乾燥する。現像前後の重量差から、現像力(%)を算
出する。
る。○以上が合格である。 ◎:現像力90%以上 ○:現像力80〜89% △:現像力50〜79% ×:現像力50%未満
評価方法 30×60mmのポリプロピレン樹脂板上に、感光性樹
脂(ポリウレタン系)を均一に塗布したテストピース
と、未塗布のポリプロピレンテストピースを用い、あら
かじめ感光性樹脂を添加(現像液に対して3wt%)し
た各現像液(30wt%水溶液)中にホルダーを用いて
固定する。現像液温度40℃、撹拌速度500rpm、
現像時間5分の条件で現像を行ない、以後水でよくすす
ぎ室温で乾燥する。現像前後の重量差から、現像力
(%)を算出する。また、未塗布テストピースを目視判
定し、感光性樹脂の再付着性を判定する。以下の評価点
によってスタミナ現像性能および再付着性を評価する。
いずれも○以上が合格である。
その性能を評価して表3および表4に示した。
ン酸ナトリウム AOS−Na:C14〜C18α−オレフィンスルホン
酸ナトリウム ASS−Na:ジオクチルスルホコハク酸ナトリウム APE(p=8):ポリオキシエチレン(p=8)ノニ
ルフェニルエーテル C4H9O(EO)2(PO)2H:C4H9O(C2
H4O)2(C3H6O)2HC 5 H 11 φO(EO)
8 H:化8の通り
Claims (3)
- 【請求項1】 (a) ノニオン界面活性剤:20〜70重量% (b) 化2で示される化合物:10〜70重量% 【化2】 R2O(A2O)PR3 (R2:炭素数1〜9のアルキル基またはアルケニル基 A2 :炭素数2〜4のアルキレン基 p:アルキレンオキシドの平均付加モル数を表わし、2
〜15の数。但し、同一のアルキレンオキシドが単独で
付加していてもよく、2種類以上のアルキレンオキシド
が混合して付加していてもよい R3:水素)(e) 水 を含有することを特徴とする感光性高分子用水性現像液
組成物。 - 【請求項2】 さらに、 (c) 化3で示されるパラフィン系炭化水素 【化3】 を含有する請求項1に記載の感光性高分子用水性現像液
組成物。 - 【請求項3】 さらに、N−メチルピロリドン、2−ピ
ロリドン、ブチロラクトンの中から選ばれた少なくとも
1種の化合物を含有する請求項1または2のいずれか1
項に記載の感光性高分子用水性現像液組成物。
Priority Applications (1)
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JP30952692A JP3281927B2 (ja) | 1992-10-22 | 1992-10-22 | 感光性高分子用水性現像液組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP30952692A JP3281927B2 (ja) | 1992-10-22 | 1992-10-22 | 感光性高分子用水性現像液組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH06138667A JPH06138667A (ja) | 1994-05-20 |
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Family
ID=17994077
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30952692A Expired - Lifetime JP3281927B2 (ja) | 1992-10-22 | 1992-10-22 | 感光性高分子用水性現像液組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
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KR20020090687A (ko) * | 2001-05-29 | 2002-12-05 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체소자의 미세패턴 제조방법 |
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-
1992
- 1992-10-22 JP JP30952692A patent/JP3281927B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Publication date |
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