JPH05179289A - 電子部品用洗浄剤組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 (a) 化１のフェノールまたはＣ₁〜Ｃ₅アルキ
ルフェノールのアルキレンオキシド付加物、(b) 界面活
性剤、(c) Ｃ₆〜Ｃ₁₈ のパラフィン系炭化水素、(d) Ｃ
₁〜Ｃ₈アルコールのアルキレンオキシド付加物を含有す
る電子部品用洗浄剤。 【効果】 液晶セル、ロジン系半田フラックス等の電子
部品関連の洗浄効果に優れ、環境および作業上安全な水
系洗浄剤。 【化１】 （Ｒ₁：水素あるいは炭素数１〜５のアルキル基または
アルケニル基 ｐ：２〜４の数 ｑ：アルキレンオキシドの平均付加モル数を表わし、１
〜２０の数。但し、同一のアルキレンオキシドが単独で
付加していてもよく、２種類以上のアルキレンオキシド
が混合して付加していてもよい ｒ：１〜３の数）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、電子部品の洗浄に有用
な、フロン系溶剤や塩素系溶剤に替わる水系洗浄剤に関
する。

【０００２】

【従来の技術】液晶セル、プリント基板等に用いられる
半田フラックス、精密部品、その組立工程に使用される
治工具等の電子部品用金属部品、プリント配線、集積回
路、シャドーマスク等の腐食加工部品等の電子部品にお
いては、高度の洗浄仕上りが追求されており、また、経
済性等の観点から、一定の洗浄剤で多くの部品を高度に
洗浄することが要求される。

【０００３】例えば液晶セルの製造に際しては、透明電
極が形成された２枚の基板間に液晶を封入すべく、一部
開口を残して上下基板をその周縁部で接着剤により貼り
合わせて液晶室を形成し、空の液晶セルを作成する。こ
の空セルは、真空にした注入室内で開口部が液晶物質中
に浸され、ついで、注入室を大気に開放することによ
り、液晶物質が基板間(液晶室内)に吸引され、開口部を
シールすることにより、基板間に液晶物質の封入された
液晶セルが形成される。

【０００４】しかしながら、２枚の液晶セル基板の接着
部の外側には、液晶セル基板が微小ギャップで対向する
空隙部の生じることが避けられない。そのため、上記の
空セルへの液晶の注入時に、毛細管現象により液晶がこ
の空隙部に入り込む。この空隙部には、透明電極に信号
を印加するための電極端子が、各々絶縁を保って高密度
に形成されていることから、この部分の液晶をそのまま
にしておくと、液晶が大気中の汚染物質を溶解して絶縁
不良を起こしやすい。そこで、液晶を洗浄除去する必要
がある。しかし、この空隙部のギャップは10μm以下と
狭いため、入り込んだ液晶を洗浄除去するには高度な洗
浄性能が要求される。

【０００５】またエレクトロニクス産業においては、プ
リント基板の半田付けの際にロジン系の半田フラックス
が使用されているが、このようなフラックスは、プリン
ト基板および最終製品の高品質を維持するために、半田
付け作業の終了後に、高清浄度に洗浄することが要求さ
れている。

【０００６】さらに、電子機器の製造に使用する精密金
属部品は、その加工、処理、組立時において油脂、機械
油、グリース等の汚れが付くことがさけられない。これ
ら汚れは、最終製品の性能に大きな影響を与えることか
ら、高度な脱脂洗浄が要求される。金属部品の組立、加
工等に使用される治工具類も同様である。

【０００７】以上のような高度の洗浄能力が要求される
分野においては、従来、フロン系溶剤、塩素系溶剤が主
として用いられてきた。しかしながら、これらの溶剤は
優れた洗浄性能を有する反面、環境への安全性に大きな
問題を有しており、近年、水系の洗浄剤への要望が高ま
っている。

【０００８】特開平３−６２８９６号公報には、環式飽
和炭化水素を７０重量％以上含有する洗浄剤組成物が開
示され、さらに０．１〜３０重量％の脂肪族アルコール
および／または界面活性剤を添加しうることが記載され
ている。しかし、この洗浄剤組成物は、有機溶剤を主体
とした非水系の洗浄剤であり、安全性や作業環境の点で
問題がある。

【０００９】また、特開平３−１４６５９７号公報に
は、炭素数８〜２０の脂肪族炭化水素および極性基を有
する有機化合物を含むプリント基板用洗浄剤組成物が報
告されており、極性基を有する有機化合物としてアルコ
ール、エーテル、エステル、ケトンなどが示されてい
る。また、０．００１〜１０重量％の界面活性剤を配合
しうることも記載されている。しかし、この洗浄剤組成
物も、脂肪族炭化水素を主体とする非水系の洗浄剤であ
り、上記と同様の問題を抱えている。

【００１０】さらに、特開平３−１５３７９９号公報に
は、炭素数８〜１１の脂肪族炭化水素と、一価アルコー
ルと、脂肪族二価アルコールモノ低級アルキルエーテル
および／または脂肪族二価アルコールモノ低級アルキル
エーテルアセテートとからなるブレーキ装置の洗浄剤が
報告されている。

【００１１】以上のように脂肪族炭化水素を洗浄剤に使
用することについては従来から報告されているが、いず
れもそれ自体を主溶剤成分として利用する非水系の洗浄
剤であり、その特性をアルコールや界面活性剤などで改
善しうることを示しているにすぎない。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、液晶物質、
半田フラックス等に高度な洗浄性能を有し、しかも、水
系の電子部品用洗浄剤を提供するものである。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明の電子部品用洗浄
剤組成物は、以下の（ａ）成分を含有し、あるいはさら
に（ｂ）および／または（ｃ）成分を含有することを特
徴とする。

【００１４】（ａ） 化３で示される化合物。

【化３】 （Ｒ₁：水素あるいは炭素数１〜５のアルキル基または
アルケニル基 ｐ：２〜４の数 ｑ：アルキレンオキシドの平均付加モル数を表わし、１
〜２０の数。但し、同一のアルキレンオキシドが単独で
付加していてもよく、２種類以上のアルキレンオキシド
が混合して付加していてもよい ｒ：１〜３の数）

【００１５】（ｂ） 界面活性剤。

【００１６】（ｃ） 化４で示されるパラフィン系炭化
水素。

【化４】

【００１７】

【発明の実施態様】本発明の（ａ）成分は、フェノール
性水酸基が、ベンゼン環に１〜３個置換したフェノール
または短鎖アルキルないしアルケニルフェノールのアル
キレンオキシド付加体であり、代表的には以下の化５〜
７で表わされる化合物である。

【００１８】

【化５】 （Ｒ₁：水素あるいは炭素数１〜５のアルキル基または
アルケニル基 ｐ：２〜４の数 ｑ：アルキレンオキシドの平均付加モル数を表わし、１
〜２０の数。但し、同一のアルキレンオキシドが単独で
付加していてもよく、２種類以上のアルキレンオキシド
が混合して付加していてもよい）

【００１９】

【化６】 （Ｒ₁：水素あるいは炭素数１〜５のアルキル基または
アルケニル基 ｐ：２〜４の数 ｑ：アルキレンオキシドの平均付加モル数を表わし、１
〜２０の数。但し、同一のアルキレンオキシドが単独で
付加していてもよく、２種類以上のアルキレンオキシド
が混合して付加していてもよい）

【００２０】

【化７】 （Ｒ₁：水素あるいは炭素数１〜５のアルキル基または
アルケニル基 ｐ：２〜４の数 ｑ：アルキレンオキシドの平均付加モル数を表わし、１
〜２０の数。但し、同一のアルキレンオキシドが単独で
付加していてもよく、２種類以上のアルキレンオキシド
が混合して付加していてもよい）

【００２１】（ａ）成分を示す中の（ＣpＨ₂pＯ） はエ
チレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシ
ドが単独または混合して付加していることを示し、混合
付加の場合はブロック付加でもランダム付加でもよい。
特に、エチレンオキシドの単独付加物、エチレンオキシ
ドとプロピレンオキシドのブロック付加物が好ましい。
アルキレンオキシドの平均付加モル数ｑは、１〜２０で
あり、好ましくは１〜１０である。

【００２２】（ａ）成分は、本発明の洗浄剤組成物中に
０．１〜６０重量％配合することが好ましく、より好ま
しくは０．５〜４０重量％である。 （ｂ）成分の界面活性剤としては、アニオン界面活性
剤、ノニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界
面活性剤が単独で、あるいは２種以上併用して用いられ
るが、特にアニオン界面活性剤またはノニオン界面活性
剤が好ましい。

【００２３】アニオン界面活性剤としては、例えば以下
のものが例示できる。 １） 平均炭素数８〜１６のアルキル基を有する直鎖ア
ルキルベンゼンスルホン酸塩、

【００２４】２） 平均炭素数１０〜２０のα−オレフ
ィンスルホン酸塩、 ３） アルキル基またはアルケニル基の炭素数が４〜１
０のジアルキルスルホコハク酸塩

【００２５】４） 化８で表される脂肪酸低級アルキル
エステルのスルホン酸塩または脂肪酸スルホン化物のジ
塩

【化８】 （Ｒ：炭素数８〜２０のアルキル基またはアルケニル基 Ｙ：炭素数１〜３のアルキル基または対イオン Ｚ：対イオン）

【００２６】５） 平均炭素数１０〜２０のアルキル硫
酸塩、 ６） 平均炭素数１０〜２０の直鎖または分岐鎖のアル
キル基もしくはアルケニル基を有し、平均０．５〜８モ
ルのエチレンオキサイドを付加したアルキルエーテル硫
酸塩、 ７） 平均炭素数１０〜２２の飽和または不飽和脂肪酸
塩。

【００２７】これらのアニオン界面活性剤における対イ
オンとしては、通常ナトリウムやカリウムなどのアルカ
リ金属塩がなどが用いられる。また、ノニオン界面活性
剤としては、以下のものが例示される。ここで、ｐはア
ルキレンオキシドの平均付加モル数を示す。アルキレン
オキシドとしては、エチレンオキシド、プロピレンオキ
シド、ブチレンオキシドまたはこれらの混合付加物が用
いられる。

【００２８】１） ポリオキシアルキレン（ｐ＝３〜４
０）アルキルまたはアルケニル（Ｃ₁₀〜Ｃ₂₂）エーテル ２） ポリオキシアルキレン（ｐ＝３〜４０）アルキル
またはアルケニル（Ｃ₅〜Ｃ₁₂）フェニルエーテル

【００２９】３） ポリオキシアルキレン（ｐ＝０．５
〜４０）アルキルまたはアルケニル（Ｃ₁₀〜Ｃ₂₂）アミ
ン ４） ポリオキシアルキレン（ｐ＝０．５〜５０）アル
キルまたはアルケニル（Ｃ₁₀〜Ｃ₂₂）アミド ５） エチレンオキシド／プロピレンオキシドブロック
付加物（プルロニック型界面活性剤）

【００３０】（ｂ）成分の界面活性剤は、本発明の洗浄
剤組成物中に０．１〜６０重量％配合することが好まし
く、より好ましくは０．５〜４０重量％である。

【００３１】（ｃ）成分のパラフィン系炭化水素は、直
鎖または分岐鎖を有する炭素数６〜１８（Ｃ＝６〜１
８）の鎖状飽和炭化水素であり、好ましくは炭素数８〜
１６である。これらパラフィン系炭化水素は、それぞれ
単独で用いても混合物として使用してもよい。

【００３２】（ｃ）成分のパラフィン系炭化水素は、本
発明の洗浄剤組成物中に０．１〜６０重量％配合するこ
とが好適であり、より好ましくは０．５〜４０重量％で
ある。また、上記（ａ）成分と（ｂ）成分とは、本発明
の洗浄剤組成物中に、重量比で（ａ）／（ｂ）＝１／１
００〜１００／１の範囲で配合することが好ましく、よ
り好ましくは１／１０〜１０／１である。

【００３３】さらに、上記（ａ）成分と（ｃ）成分と
は、重量比で（ａ）／（ｃ）＝１００／１〜１／３の範
囲で、より好ましくは１０／１〜１／１で、（ａ），
（ｃ）両成分を、あるいは（ａ），（ｂ），（ｃ）三成
分を配合することが望ましい。

【００３４】これらの範囲で各成分を配合することによ
り、いっそう高度な洗浄性能を具えた水系の洗浄剤が実
現できる。

【００３５】本発明の洗浄剤組成物では、上記（ａ）あ
るいはこれに（ｂ）および／または（ｃ）成分によって
優れた洗浄性能が得られるが、さらに、（ｄ）成分とし
て下記化９の溶剤を配合することにより、いっそう洗浄
性能が改善され、特に同一の洗浄液でより多くの物品を
高度に洗浄しうる、いわゆるスタミナ洗浄性が改善され
る。

【００３６】

【化９】 （Ｒ₁：炭素数１〜８のアルキル基またはアルケニル基 ｐ：２〜４の数 ｑ：アルキレンオキシドの平均付加モル数を表わし、１
〜１０の数。但し、同一のアルキレンオキシドが単独で
付加していてもよく、２種類以上のアルキレンオキシド
が混合して付加していてもよい）

【００３７】（ｄ）成分の溶剤は、炭素数１〜８、好ま
しくは３〜６の飽和または不飽和アルコールのアルキレ
ンオキシド付加物である。化９中の（ＣpＨ₂pＯ） はエ
チレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシ
ドが単独または混合して付加していることを示し、混合
付加の場合はブロック付加でもランダム付加でもよい。
特に、エチレンオキシドの単独付加物、エチレンオキシ
ドとプロピレンオキシドのブロック付加物が好ましい。
アルキレンオキシドの平均付加モル数ｑは、１〜１０で
あり、好ましくは２〜６である。エチレンオキシドとプ
ロピレンオキシドとのブロック付加物の場合、エチレン
オキシド平均１〜３モル付加、プロピレンオキシド平均
１〜５モル付加したものが好適である。

【００３８】（ｄ）成分は、本発明の洗浄剤組成物中に
０．１〜６０重量％配合することが好ましく、より好ま
しくは０．５〜４０重量％である。

【００３９】本発明の洗浄剤組成物には、その他必要に
応じて任意成分を配合することができる。これら任意成
分としては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミン；ク
エン酸塩、燐酸塩、エチレンジアミン四酢酸塩等のビル
ダー；液安定性を保持するためのエチレングリコール、
プロピレングリコール等のグリコール類、メタノール、
エタノール等の低級アルコール類、トルエンスルホン酸
塩、キシレンスルホン酸塩等のハイドロトロープ剤；さ
らに目的に応じてベンゾトリアゾール等の防錆剤、安息
香酸塩等の防腐剤を配合することが可能である。

【００４０】本発明の洗浄剤組成物は、上記（ａ）成分
またはさらに（ｂ）および／または（ｃ）成分、（ｄ）
成分、あるいは更にこれらと任意成分と水を混合し、水
性液体洗浄剤組成物として調製することができる。

【００４１】本発明の洗浄剤組成物は、組成物そのまま
の濃度で洗浄に使用することができ、また、水で希釈し
て（例えば、５〜７０重量％の水溶液として）使用する
こともできる。

【００４２】

【発明の効果】本発明によれば、洗剤として（ａ）成分
のフェノールのアルキレンオキシド付加体を用いて洗浄
剤組成物とすることにより、電子部品に対して高度な洗
浄性能を示すことができる。

【００４３】また、さらに界面活性剤および／またはパ
ラフィン系炭化水素を用いることにより、洗浄性能をい
っそう改善できる。

【００４４】本発明の洗浄剤組成物は、水系の洗浄剤で
あり、フロン系溶剤や塩素系溶剤のような環境破壊の問
題がなく、また、脂肪族炭化水素等の有機溶剤を主体と
する非水系洗浄剤のように火炎や作業環境上の問題もな
い。

【００４５】本発明の洗浄剤組成物は、高度な洗浄性能
を要求される分野、特に電子部品用洗浄剤として好適で
あり、例えば、液晶セル用洗浄剤、ロジン系等の半田フ
ラックス用洗浄剤、金属部品、治工具等の脱脂用洗浄剤
などとして用いられる。

【００４６】実施例１：液晶セル用洗浄剤としての利用 後記表１〜４に示す組成の洗浄剤組成物（水で１００ｗ
ｔ％にバランス）を調製し、その性能を以下の通りに評
価し結果を表１〜４に示した。

【００４７】液晶セルの洗浄性評価方法 液晶セル空隙部に液晶材を塗布し、室温で１０分静置す
る。調製した各々の洗浄剤の原液中で４０℃、２分間の
超音波洗浄を行ない、純水で充分すすいだ後、偏光顕微
鏡で洗浄性を判定する。

【００４８】 洗浄性評価基準は以下に示す。○以上が合格である。 ◎：空隙部が完全に洗浄されている ○：空隙部がほとんど洗浄されている △：空隙部に液晶残りが多い ×：空隙部がほとんど洗浄されていない

【００４９】 実施例２：半田フラックス用洗浄剤としての利用 後記表１〜４に示す組成の洗浄剤組成物（水で１００ｗ
ｔ％にバランス）を調製し、その性能を以下の通りに評
価し結果を表１〜４に示した。

【００５０】プリント基板の洗浄性評価方法 銅張積層板から製造された基板上にロジン系ハンダフラ
ックスをとり、２１０℃、５分の焼結処理を行なう。

【００５１】調製した各々の洗浄剤の原液中において、
４０℃、３分間のスプレー洗浄を行なう。このスプレー
洗浄は、ラボ・スプレー洗浄器を用い、洗浄剤５リット
ル、スプレー圧１ｋｇ／ｃｍ² の条件でフルコーンタイ
プノズル１個を用いて行なう。ついで、純水で充分すす
いだ後、洗浄前・後の重量差より、フラックス洗浄率を
算出し、以下の評価基準に従い、評価する。○以上が合
格である。

【００５２】◎：洗浄率９０〜１００％ ○：洗浄率７０〜８９％ △：洗浄率５０〜６９％ ×：洗浄率５０％未満

【００５３】

【表１】 実 施 例 試料No. １ ２ ３ ４ ５ ６ ７ ８ ９ 10 11 組成(wt％)： (a)成分*¹； R₁=H,p=2,q=1 5 − − − − 2.5 − − − − − R₁=H,p=3,q=1 − 5 − − − − − − − 5 5 R₁=H,p=2,q=5 − − 5 − − − − − − − − R₁=H,p=2,q=10 − − − 5 − − − − − − − R₁=H,p=2,q=15 − − − − 5 − − − − − − R₁=H,p=3,q=2 − − − − − − 5 − − − − R₁=H,p=3,q=10 − − − − − − − 5 − − − R₁=C₄H₉,p=2,q=1 − − − − − 2.5 − − 5 − − (b)成分； LAS-Na*² 5 − − − − − − − − − − ASS-Na*³ 5 5 5 5 5 5 5 5 5 5 5 AE(p=8)*⁴ − − − − − − − − − 10 − AE(p=15)*⁵ − − − − − − − − − − 10 APE(p=8)*⁶ 5 10 10 10 10 10 10 10 10 − − APE(p=15)*⁷ 5 − − − − − − − − − − 評価： 液晶セル洗浄性 ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ プリント基板洗浄性 ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○

【００５４】＊１）（ａ）成分：化１０

【化１０】 ＊２）ＬＡＳ−Ｎａ：直鎖アルキル（Ｃ₁₂）ベンゼンス
ルホン酸ナトリウム ＊３）ＡＳＳ−Ｎａ：ジオクチルスルホコハク酸ナトリ
ウム ＊４）ＡＥ（ｐ＝８）：ポリオキシエチレン（ｐ＝８）
ドデシルエーテル ＊５）ＡＥ（ｐ＝１５）：ポリオキシエチレン（ｐ＝１
５）ドデシルエーテル ＊６）ＡＰＥ（ｐ＝８）：ポリオキシエチレン（ｐ＝
８）ノニルフェニルエーテル ＊７）ＡＰＥ（ｐ＝１５）：ポリオキシエチレン（ｐ＝
１５）ノニルフェニルエーテル

【００５５】

【表２】 実 施 例 試料No. 12 13 14 15 16 17 18 19 組成(wt％)： (a)成分*¹； R₁=H,p=3,q=1 5 5 5 5 5 5 5 5 (b)成分； ASS-Na*² 5 5 5 5 5 5 5 5 AE(p=8)*³ − − − − − − − 10 APE(p=8)*⁴ 10 10 10 10 10 10 10 − (c)成分*⁵； C=6 2 − − − − − − − C=8 − 2 − − − − − − C=10 − − 2 − − − − − C=12 − − − 2 − − − 2 C=14 − − − − 2 − − − C=16 − − − − − 2 − − C=18 − − − − − − 2 − 評価： 液晶セル洗浄性 ○ ○〜◎○〜◎○〜◎○〜◎○〜◎ ○ ○〜◎ プリント基板洗浄性 ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ＊１〜４）表１の欄外に同じ ＊５）パラフィン系炭化水素のＣ数として表示（例えばＣ₁₂はＣ₁₂Ｈ₂₅を示す）

【００５６】

【表３】 実 施 例 試料No. 20 21 22 23 24 25 26 組成(wt％)： (a)成分*¹； R₁=H,p=3,q=1 5 5 5 5 5 5 5 (b)成分； ASS-Na*² 5 5 5 5 − − − APE(p=8)*³ 10 10 10 10 − − − (c)成分*⁴； C=12 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 − 0.5 C=14 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 − 0.5 C=16 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 − 0.5 (d)成分*⁵； C₂H₅O(EO)₂H 5 − − − − − − C₄H₉O(EO)₃H − 5 − − − − − C₄H₉O(EO)₁(PO)₂H − − 5 − − − − C₈H₁₇O(EO)₃H − − − 5 5 − − 評価： 液晶セル洗浄性 ○〜◎○〜◎ ◎ ◎ ○〜◎ ○ ○〜◎ プリント基板洗浄性 ○ ○ ◎ ◎ ○ ○ ○ ＊１〜４）前述の各表の欄外に同じ ＊５）ＥＯはエチレンオキシド、ＰＯはプロピレンオキシドを示す

【００５７】

【表４】 比 較 例 試料No. 27 28 29 30 31 32 33 34 組成(wt％)： (a)成分又は類似物*¹； R₁=H,p=2,q=30 − 5 − − − − 5 5 R₁=C₈H₁₇,p=2,q=1 − − 5 5 5 5 − 5 (b)成分； LAS-Na*² 5 5 5 5 5 5 − − ASS-Na*³ 5 5 5 5 5 5 − − APE(p=8)*⁴ 5 5 5 5 5 5 − − APE(p=15)*⁵ 5 5 5 5 5 5 − − (c)成分*⁶； C=6 − − − 2 2 2 − 2 C=18 − − − − 2 2 − 2 (d)成分類似物*⁷； C₄H₉O(EO)₁₂H − − − − − 5 − 5 評価： 液晶セル洗浄性 × × × △ △ △ × △ プリント基板洗浄性 × × × × △ △ × × ＊１〜７）前述の各表の欄外に同じ

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成４年４月１６日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】請求項３

【補正方法】変更

【補正内容】

【化２】 を含有する請求項１または２に記載の電子部品用洗浄剤
組成物。

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１６

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１６】（ｃ） 化４で示されるパラフィン系炭化
水素。

【化４】

【手続補正３】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００５５

【補正方法】変更

【補正内容】

【００５５】

【表２】 実 施 例 試料No. 12 13 14 15 16 17 18 19 組成(wt％)： (a)成分*¹； R₁=H,p=3,q=1 5 5 5 5 5 5 5 5 (b)成分； ASS-Na*² 5 5 5 5 5 5 5 5 AE(p=8)*³ − − − − − − − 10 APE(p=8)*⁴ 10 10 10 10 10 10 10 − (c)成分*⁵； C=6 2 − − − − − − − C=8 − 2 − − − − − − C=10 − − 2 − − − − − C=12 − − − 2 − − − 2 C=14 − − − − 2 − − − C=16 − − − − − 2 − − C=18 − − − − − − 2 − 評価： 液晶セル洗浄性 ○ ○〜◎○〜◎○〜◎○〜◎○〜◎ ○ ○〜◎ プリント基板洗浄性 ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ＊１〜４）表１の欄外に同じ ＊５）パラフィン系炭化水素のＣ数として表示（例えばＣ₁₂はＣ₁₂Ｈ ₂₆ を示す）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ１１Ｄ 1:22 1:72 1:28 7:24 3:20） (72)発明者 増田 直子 東京都墨田区本所１丁目３番７号 ライオ ン株式会社内

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】（ａ） 化１で示される化合物 【化１】 （Ｒ₁：水素あるいは炭素数１〜５のアルキル基または
   アルケニル基 ｐ：２〜４の数 ｑ：アルキレンオキシドの平均付加モル数を表わし、１
   〜２０の数。但し、同一のアルキレンオキシドが単独で
   付加していてもよく、２種類以上のアルキレンオキシド
   が混合して付加していてもよい ｒ：１〜３の数） を含有することを特徴とする電子部品用洗浄剤組成物。
2. 【請求項２】 さらに、 （ｂ） 界面活性剤を含有する請求項１に記載の電子部
   品用洗浄剤組成物。
3. 【請求項３】 さらに、 （ｃ） 化２で示されるパラフィン系炭化水素 【化２】 を含有する請求項１または２に記載の電子部品用洗浄剤
   組成物。