JPH05306482A - 精密部品又は治工具類用洗浄剤組成物 - Google Patents

精密部品又は治工具類用洗浄剤組成物

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JPH05306482A
JPH05306482A JP4111560A JP11156092A JPH05306482A JP H05306482 A JPH05306482 A JP H05306482A JP 4111560 A JP4111560 A JP 4111560A JP 11156092 A JP11156092 A JP 11156092A JP H05306482 A JPH05306482 A JP H05306482A
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 次の成分(a)〜(c): (a)炭素数10〜18の炭化水素; (b)ポリアルキレングリコールC1〜C3アルキルエ
ーテル; (c)ポリアルキレングリコールC4〜C8アルキルエ
ーテル; を含有し、(a)/〔(b)+(c)〕が5/95〜9
5/5であり、かつ(b)/(c)が5/95〜95/
5であることを特徴とする精密部品又は治工具類用洗浄
剤組成物。 【効果】 精密部品又は治工具類の表面に存在する油
脂、機械油、切削油、グリース、液晶、ロジン系フラッ
クス等の汚れ物質の除去性及びすすぎ性に優れ、しかも
環境汚染のおそれがなく、安全性の高いものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は精密部品又は治工具類用
洗浄剤組成物に関し、更に詳細には、精密部品又は治工
具類の表面に存在する汚れ物質の除去性及びすすぎ性に
優れ、しかも安全性の高い洗浄剤組成物に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
精密部品又は組立加工工程に用いられる治工具類の表面
に存在する油脂、機械油、切削油、グリース、液晶、ロ
ジン系フラックス等の有機物を主体とする汚れ物質の除
去には、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン等
の塩素系溶剤;トリクロロトリフルオロエタン等のフロ
ン系溶剤;オルソケイ酸ソーダや苛性ソーダに界面活性
剤やビルダーを配合したアルカリ性の水系洗浄剤などが
使用されている。しかしながら、塩素系及びフロン系の
溶剤は安全性、毒性、環境汚染等に大きな問題を有して
おり、またアルカリ性の水系洗浄剤は、精密部品等に用
いる場合には、被洗浄物表面に残存するとプラスチック
部品等に悪影響を与えるという問題があった。
【0003】また、近年、このような洗浄剤として、グ
リコールエーテル類(特開平3−97792号、特開平
3−227400号)や非テルペン系炭化水素(特開平
3−243699号)等が提案されている。しかしなが
ら、グリコールエーテル類は油脂汚れの洗浄性に劣り、
非テルペン系炭化水素はすすぎ性に劣るという欠点があ
った。
【0004】従って、精密部品又は治工具類の表面に存
在する汚れ物質の除去性及びすすぎ性に優れ、しかも環
境汚染のおそれがなく、安全性の高い洗浄剤組成物が望
まれていた。
【0005】
【課題を解決するための手段】かかる実情において、本
発明者らは、鋭意研究を行った結果、特定の炭化水素及
びグリコールエーテル系化合物を組合わせて用いれば、
洗浄力及びすすぎ性に優れ、しかも環境汚染のおそれが
なく、安全性の高い精密部品又は治工具類用洗浄剤組成
物が得られることを見出し、本発明を完成した。
【0006】すなわち、本発明は、次の成分(a)〜
(c): (a)炭素数10〜18の炭化水素; (b)一般式(1)
【0007】
【化3】
【0008】(式中、R1は炭素数1〜3のアルキル基
又はアルケニル基を示し、R2は水素原子又は炭素数1
〜3のアルキル基若しくはアルケニル基を示し、nは2
〜4の数を示し、mは1〜4の数を示し、m個のCn
2nOはそれぞれ異なっていてもよい)で表わされるグリ
コールエーテル系化合物; (c)一般式(2)
【0009】
【化4】
【0010】(式中、R3は炭素数4〜8のアルキル基
又はアルケニル基を示し、R4は水素原子又は炭素数4
〜8のアルキル基若しくはアルケニル基を示し、nは2
〜4の数を示し、mは1〜4の数を示し、m個のCn
2nOはそれぞれ異なっていてもよい)で表わされるグリ
コールエーテル系化合物;を含有し、(a)/〔(b)
+(c)〕が5/95〜95/5であり、かつ(b)/
(c)が5/95〜95/5であることを特徴とする精
密部品又は治工具類用洗浄剤組成物を提供するものであ
る。
【0011】本発明で用いられる(a)成分の炭化水素
としては、炭素数10〜18のものであればいずれでも
よく、例えばデカン、ドデカン、テトラデカン、ヘキサ
デカン、オクタデカン、デセン、ドデセン、テトラデセ
ン、ヘキサデセン、オクタデセン等の直鎖又は分岐鎖の
飽和又は不飽和の炭化水素;ノニルベンゼン、ドデシル
ベンゼン等のアルキルベンゼン;メチルナフタレン、ジ
メチルナフタレン等のナフタレン化合物;シクロデカ
ン、シクロドデセン等のシクロ系化合物などが挙げられ
る。これらのうち、炭素数12〜18の直鎖又は分岐鎖
の飽和又は不飽和の炭化水素が好ましく、特に洗浄性、
ハンドリング等を考慮すると、オレフィン系炭化水素が
好ましい。これらの炭化水素は、全組成中に5〜80重
量%(以下、単に%で示す)、特に20〜70%配合す
るのが好ましい。
【0012】(b)成分のグリコールエーテル系化合物
は、前記一般式(1)で表わされるものであり、例えば
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエ
ーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエ
チレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールメチル
プロピルエーテル;これらに対応するトリ又はテトラエ
チレングリコールエーテル類;これらに対応するジ、ト
リ又はテトラプロピレングリコールエーテル類等が挙げ
られる。これらのうち、特にジエチレングリコールジメ
チルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテ
ル、及びこれらに対応するトリ又はテトラエチレングリ
コールが好ましい。
【0013】また、(c)成分のグリコールエーテル系
化合物は、前記一般式(2)で表わされるものであり、
例えばエチレングリコールモノブチルエーテル、エチレ
ングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジブチ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノペンチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジペンチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノブチルペンチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコ
ールジヘキシルエーテル、ジエチレングリコールブチル
ヘキシルエーテル、ジエチレングリコールエチルヘキシ
ルエーテル;これらに対応するトリ又はテトラエチレン
グリコールエーテル類;これらに対応するジ、トリ又は
テトラプロピレングリコールエーテル類等が挙げられ
る。
【0014】これら一般式(1)又は(2)で表わされ
るグリコールエーテル系化合物は、例えば炭素数1〜8
のアルコールに苛性ソーダ等の触媒の存在下、加熱しな
がら炭素数2〜4のアルキレンオキシド(エチレンオキ
シド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド等)を液
状又は気体状で加えて反応させることにより得られる。
また、更にこれらのアルキレンオキシド付加物の末端水
酸基をアルキルクロライド等を用いてアルキル化すれ
ば、ジアルキルエーテルを得ることができる。アルキレ
ンオキシドを付加させる場合には、2種以上のアルキレ
ンオキシドを混合して反応させるランダム付加重合又は
アルキレンオキシドを順次付加させるブロック付加重合
を行ってもよい。
【0015】このようにして得られるグリコールエーテ
ル系化合物において、一般式(1)及び(2)中、mは
1〜4の数を示すが、これが4を超えると粘度が上昇
し、洗浄液からリンス相へ移行する量が多くなり好まし
くない。更に、一般式(2)において、R3及びR4は炭
素数4〜8のアルキル基又はアルケニル基を示すが、炭
素数が8を超えると粘度が高くなり、また洗浄力及びす
すぎ性が低下する。
【0016】(b)成分及び(c)成分は、合計で全組
成中に5〜95%、好ましくは10〜70%配合され
る。また、(b)成分と(c)成分の比率(b)/
(c)は5/95〜95/5、好ましくは10/90〜
90/10であり、更に(a)成分との比率(a)/
〔(b)+(c)〕は5/95〜95/5、好ましくは
75/25〜25/75であることが必要である。これ
らの範囲外では、充分な洗浄性及びすすぎ性が得られな
い。
【0017】本発明の洗浄剤組成物は、有機系の汚れ物
質に対する溶解性に優れているが、(a)成分が多くな
ると水に対する溶解性が低くなるため、水によるリンス
時にリンス不良を生じることがある。また、本発明の洗
浄剤組成物は、水を含む場合、水に対する溶解性が低い
ことにより、製品安定性が不良となることがある。この
ような場合は、平均HLB4〜18の非イオン性界面活
性剤を添加すれば良く、かかる活性剤の添加により上記
問題が改善され、目的とする洗浄剤組成物が得られる。
【0018】上記非イオン性界面活性剤としては、ポリ
オキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキ
レンアルキルフェノールエーテル、ポリオキシアルキレ
ンアルキル脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンアリ
ルフェノールエーテル、ポリオキシアルキレンソルビタ
ン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンアルキルアミ
ン、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレン
等が好ましく用いられ、これらの中でも平均HLB4〜
18のポリオキシアルキレンオレイルエーテルが特に優
れた効果を発現する。ここで、ポリオキシアルキレンと
は、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド又はブ
チレンオキサイドの重合体のことをいう。
【0019】これらの非イオン性界面活性剤は、全組成
中に0.5〜35%、特に3〜30%配合するのが好ま
しい。35%を超えると、組成物の粘度が上がり好まし
くない。
【0020】本発明の洗浄剤組成物には、安全性及び作
業性等の観点から適宜水を含有させることができる。水
は、洗浄剤組成物中に5〜30%配合するのが好まし
い。
【0021】また、本発明の洗浄剤組成物には、その効
果を損なわない範囲で必要に応じて、他の界面活性剤、
シリコン等の消泡剤、アミン系やフェノール系の酸化防
止剤、防錆剤やアルカノールアミン等を配合することが
できる。
【0022】本発明の洗浄剤組成物は、前記(a)〜
(c)成分及び任意成分等を常法により混合することに
より製造することができる。また、このようにして得ら
れる本発明の洗浄剤組成物を用いて精密部品又は治工具
類を洗浄するには、例えば本発明の洗浄剤組成物を用い
て超音波洗浄又は浸漬洗浄し、最後に溶剤又は温水でリ
ンスする等の方法を連続的に行う方法等が、効率良い洗
浄法として挙げられる。また、振動法、スプレー法等の
各種の洗浄方法によって洗浄することもできる。
【0023】
【実施例】次に、実施例を挙げて本発明を更に説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0024】実施例1 表2及び表3に示す組成の洗浄剤組成物を常法により製
造し、各組成物について、汚れ物質の除去性(洗浄
力)、リンス性(すすぎ性)を次の方法により評価し
た。結果を表2及び表3に示す。 (評価方法)各洗浄剤組成物に、ロジン系のフラックス
処理されたプリント基板、ナフテン系鉱油が塗布された
銅板又はネマティック液晶を主成分とする液晶を塗布し
たガラス基板をそれぞれ10枚ずつ浸漬し、40℃で3
分間超音波をあてながら洗浄を行い、その際の汚れ物質
の除去性を評価した。次いで、洗浄剤組成物で洗浄した
上記のプリント基板、銅板又はガラス基板を40℃のイ
オン交換水でリンス処理を行い、リンス性の良し悪しを
目視にて評価した。汚れ物質の除去性及びリンス性の評
価基準は次の通りである。
【0025】
【表1】汚れ物質の除去性 ◎;汚れ物質(フラックス、ナフテン系鉱油又は液晶)
の残着がなく、非常に良好。 ○;汚れ物質の残着がほとんどなく、良好。 △;汚れ物質の残着がわずかにあり、やや悪い。 ×;汚れ物質が残着し、悪い。リンス性 ◎;非常に良好。 ○;良好。 △;やや劣る。 ×;悪い。
【0026】
【表2】
【0027】
【表3】
【0028】
【発明の効果】本発明の精密部品又は治工具類用洗浄剤
組成物は、油脂、機械油、切削油、グリース、液晶、ロ
ジン系フラックス等の汚れ物質の除去性及びすすぎ性に
優れ、しかも環境汚染のおそれがなく、安全性の高いも
のである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 次の成分(a)〜(c): (a)炭素数10〜18の炭化水素; (b)一般式(1) 【化1】 (式中、R1は炭素数1〜3のアルキル基又はアルケニ
    ル基を示し、R2は水素原子又は炭素数1〜3のアルキ
    ル基若しくはアルケニル基を示し、nは2〜4の数を示
    し、mは1〜4の数を示し、m個のCn2nOはそれぞ
    れ異なっていてもよい)で表わされるグリコールエーテ
    ル系化合物; (c)一般式(2) 【化2】 (式中、R3は炭素数4〜8のアルキル基又はアルケニ
    ル基を示し、R4は水素原子又は炭素数4〜8のアルキ
    ル基若しくはアルケニル基を示し、nは2〜4の数を示
    し、mは1〜4の数を示し、m個のCn2nOはそれぞ
    れ異なっていてもよい)で表わされるグリコールエーテ
    ル系化合物;を含有し、(a)/〔(b)+(c)〕が
    5/95〜95/5であり、かつ(b)/(c)が5/
    95〜95/5であることを特徴とする精密部品又は治
    工具類用洗浄剤組成物。
JP4111560A 1992-04-30 1992-04-30 精密部品又は治工具類用洗浄剤組成物 Expired - Lifetime JP2652298B2 (ja)

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