JPH0397792A - 半田フラックス用液体洗浄剤 - Google Patents

半田フラックス用液体洗浄剤

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JPH0397792A
JPH0397792A JP23668989A JP23668989A JPH0397792A JP H0397792 A JPH0397792 A JP H0397792A JP 23668989 A JP23668989 A JP 23668989A JP 23668989 A JP23668989 A JP 23668989A JP H0397792 A JPH0397792 A JP H0397792A
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transparent
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広俊 牛山
Kenji Yokoi
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利 }野 本発明は、半田付けに際して用いられるフラックスを洗
浄する液体洗浄剤に関する。
k来夏挟生 エレクトロニクス産業においては、プリント基板の半田
付けの際にフランクスが使用されている.このようなフ
ラックスは、プリント基板および最終製品の高品質を維
持するために、半田付け作業の終了後に、高清浄度に洗
浄することが要求されている。
フラックス用洗浄剤としては、従来から種々のものが開
示されており、例えば、特開昭59−227998号公
報、同61−37363号公報、同61−42474号
公報等に報告されている。
?かしながら、これら洗浄剤はいずれもフロン系溶剤,
塩素系溶剤を骨格とした組成物であり、近年、これら溶
剤の環境への安全性が問題となっていることから,溶剤
系に代わる水系洗浄剤の要望が高まっている。
明が  しようとする課 本発明は半田フラックスに対して優れた洗浄性能を有し
、しかも、環境への安全性に対して全く問題がない水系
の液体洗浄剤を提供するものである。
発明−Q一棒域− 本発明の半田フラックス用液体洗浄剤は、下記の一般式
(I)で表わされる化合物、あるいはさらに一般式(I
I)で表わされる化合物を含むことを特徴とする。
R1−○十C n H z n O + m H   
 ”’ ( 1 )(R■:炭素数1〜5のアルキル基
またはアルケニル基) n:2〜4の数 m:↓〜lOの数) R2一〇十C2H40−)−,H     ・・・(I
I)(R2:炭素数8〜18のアルキル基またはアルケ
ニル基もしくは炭素数12〜 25のアルキルフェニル基 Q:5〜l5の数) 以下、本発明についてさらに詳細に説明する。
上記一般式(I)の化合物は、炭素数1〜5の飽和また
は不飽和アルコールのアルキレンオキシド付加物である
。式中のC。H2oOは、オキシエチレン、オキシプロ
ピレン,オキシブチレンが単独または混合物として付加
していることを示し、特に、オキシエチレンとオキシプ
ロピレンのブロック付加物が好適である.nはアルキレ
ンオキシドの平均付加モル数を示し、1〜10、好まし
くは2〜6である。オキシエチレンとオキシプロピレン
とのブロック付加の場合,オキシエチレン1〜3モル、
オキシプロピレン1〜5モルが好適である. 一般式(II)の化合物は,炭素数8〜18の飽和また
は不飽和アルコールのエチレンオキシド付加物と、ベン
ゼン環も含めて炭素数12〜25のアルキルフェノール
のエチレンオキシド付加物とを包含する。前者の場合は
炭素数10〜16の二級アルコールが好ましく、後者の
場合はオクチルフェノール、ノニルフェノールが好まし
い。エチレンオキシドの平均付加モル数(Q)は5〜1
5である。
本発明の半田フラックス用液体洗浄剤は、般式(I)の
化合物あるいは一般式(I)と(■)の化合物の混合物
そのままでもよいが、通常、水にて希釈し5〜70重量
%の透明均一な水溶液とする. また、一般式(I)と
(II)の化合物を併用する場合は、(I):(n)=
1〜10:10〜1、好ましくは1〜5:5〜1の割合
(重量比)で配合することにより、いっそう良好な洗浄
力を示す。
本発明の液体洗浄剤は、その他必要に応じて、液安定性
を保持するためにエチレングリコール、プロピレングリ
コール、メタノール、エタノール,プロパノール等のハ
イドロトロープ剤などを配合することもできる。
見匪旦羞来 本発明の液体洗浄剤は、フロン系等の溶媒を必要とする
ことなく水系で半田フラックスに対して優れた洗浄性能
を示し、特にプリント配線板、プリント回路板のような
プリント基板の半田付けの際に使用されるロジンフラッ
クスの除去に極めて有効である。
また、透明安定性に優れ、低泡性であるので.取り扱い
も容易である。
以下,実施例により本発明の液体洗浄剤についてさらに
具体的に説明するが、それに先立って実施例で用いた評
価方法を示す。
1)JJUの゛ロ性 100m Qガラスビンに洗浄剤を入れ、25℃恒温室
内に24時間静置し、目視によって下記の基準で透明性
を評価する。Oを合格とする。
?価基準 0:透明 Δ:やや白濁 ×;沈澱・二層分離 (2)フラックスの洗浄性 ガラス板に半田フラックスを塗布し、 200℃、15分間焼成を行なって汚垢板とし、各々の
洗浄剤を水で5倍希釈した洗浄液中で40℃,5分間の
浸漬洗浄を行なう。洗浄中のブラックスの溶解状態を目
視で判定し、次の基準により評価する。O以上を合格と
する。
評価基準 ◎:溶解力が強い O:溶解力がある Δ:溶解力がやや劣る X:溶解力がない 矢−鼻舅−■洗連量−■舅−多Σ 以下の処方の各液体洗浄剤1〜13を調製した。
なお、組或中のアルキレンオキシド付加の記?で(C2
 H 4 0 )1 ( C 3 H& O )2 H
のようにあるのはその順番にブロック付加させた事を意
味し、[(c.H40)./(c■H ,○)2コはラ
ンダム付加を示す。
また、洗浄剤11は比較例であり、他は実施例である。
洗浄剤1 C4H,−0(C2H.O)、(C3N−’IGO)2
H   30wt%エチルアルコール        
   35vt%水                
      35wt%洗浄剤2 C 4 H 9 − 0 ( C 2 H a○)、(
 C ] H & O )2 H   30w t%第
2級C,.H2.−○(C2H.O),H    15
wt%エチルアルコール            5w
t%水                     5
0wt%洗浄剤3 C4Hg−0(C.H40)1 ( C 3 H , 
0 )2 H   30w t%csLs+○(C2H
40).H   15wt%エチルアルコール    
        5冒t%水            
         5ht%洗浄剤4 C4Hq   oE(czH40)./(C,H,○)
2コH  30wt%エチルアルコール       
    35νt%水               
       35wt%洗浄剤5〜11 C4H9−0(C2H.O)J(CjHGO)kH  
 30wt%(jrkの値は表−1に記戟) エチルアルコール           35izt%
水                      35
wt%表−1 ?浄剤12〜l3 C4H,−0(C.H40),(C3H,0),H第2
級C1■H2,一〇(C,H40)QH(Qの値は、表
−2中に記載) エチルアルコール 水 表−2 30讐t% l5νt% 5νt% 50νt% 実施例1で調製した各洗浄剤の性能を評価し、結果を表
−3に示した。
(以下余白)

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 1. 一般式( I )で表わされる化合物を含むことを
    特徴とする半田フラックス用液体洗浄剤。 R_1−O■CnH_2nO■_mH・・・( I )(
    R_1:炭素数1〜5のアルキル基またはアルケニル基
    ) n:2〜4の数 m:1〜10の数)
  2. 2. 一般式( I )で表わされる化合物と、一般式(
    II)で表わされる化合物とを含むことを特徴とする半田
    フラックス用液体洗浄剤。 R_1−O■CnH_2nO■_mH・・・( I )(
    R_1:炭素数1〜5のアルキル基またはアルケニル基
    ) n:2〜4の数 m:1〜10の数) R_2−O■C_2H_4O■_lH・・・(II)(R
    _2:炭素数8〜18のアルキル基またはアルケニル基
    もしくは炭素数12〜 25のアルキルフェニル基 l:5〜15の数)
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