JP2684319B2 - 半田フラックス用液体洗浄剤 - Google Patents
半田フラックス用液体洗浄剤Info
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- JP
- Japan
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- solder flux
- flux
- cleaning agent
- liquid
- liquid cleaner
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/0005—Other compounding ingredients characterised by their effect
- C11D3/0026—Low foaming or foam regulating compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/26—Organic compounds containing oxygen
- C11D7/263—Ethers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/32—Organic compounds containing nitrogen
- C11D7/3227—Ethers thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C11D7/50—Solvents
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- Extraction Or Liquid Replacement (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半田付けに際して用い
られるフラックスを洗浄する液体洗浄剤に関する。
られるフラックスを洗浄する液体洗浄剤に関する。
【０００２】
【従来の技術】エレクトロニクス産業においては、プリ
ント基板の半田付けの際にフラックスが使用されてい
る。このようなフラックスは、プリント基板および最終
製品の高品質を維持するために、半田付け作業の終了後
に、高清浄度に洗浄することが要求されている。フラッ
クス用洗浄剤としては、従来から種々のものが開示され
ており、例えば、特開昭５９−２２７９９８号公報、同
６１−３７３６３号公報、同６１−４２４７４号公報等
に報告されている。しかしながら、これら洗浄剤はいず
れもフロン系溶剤、塩素系溶剤を骨格とした組成物であ
り、近年、これら溶剤の環境への安全性が問題となって
いることから、溶剤系に代わる水系洗浄剤の要望が高ま
っている。
ント基板の半田付けの際にフラックスが使用されてい
る。このようなフラックスは、プリント基板および最終
製品の高品質を維持するために、半田付け作業の終了後
に、高清浄度に洗浄することが要求されている。フラッ
クス用洗浄剤としては、従来から種々のものが開示され
ており、例えば、特開昭５９−２２７９９８号公報、同
６１−３７３６３号公報、同６１−４２４７４号公報等
に報告されている。しかしながら、これら洗浄剤はいず
れもフロン系溶剤、塩素系溶剤を骨格とした組成物であ
り、近年、これら溶剤の環境への安全性が問題となって
いることから、溶剤系に代わる水系洗浄剤の要望が高ま
っている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は半田フラック
スに対して優れた洗浄性能を有し、しかも、環境への安
全性に対して全く問題がない水系の液体洗浄剤を提供す
るものである。
スに対して優れた洗浄性能を有し、しかも、環境への安
全性に対して全く問題がない水系の液体洗浄剤を提供す
るものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の半田フラックス
用液体洗浄剤は、下記の化２の一般式（Ｉ）で表わされ
る化合物を含み、非アルカリ性であることを特徴とす
る。
用液体洗浄剤は、下記の化２の一般式（Ｉ）で表わされ
る化合物を含み、非アルカリ性であることを特徴とす
る。
【０００５】
【化２】Ｒ1−Ｏ(ＣnＨ2nＯ)mＨ …（Ｉ） （Ｒ1 ：炭素数１〜５のアルキル基またはアルケニル基 ｎ：２〜４の数 ｍ：１〜１０の数）
【０００６】
【発明の実施態様】以下、本発明についてさらに詳細に
説明する。上記一般式（Ｉ）の化合物は、炭素数１〜５
の飽和または不飽和アルコールのアルキレンオキシド付
加物である。式中のＣnＨ2nＯ は、オキシエチレン、オ
キシプロピレン、オキシブチレンが単独または混合物と
して付加していることを示し、特に、オキシエチレンと
オキシプロピレンのブロック付加物が好適である。ｎは
アルキレンオキシドの平均付加モル数を示し、１〜１
０、好ましくは２〜６である。オキシエチレンとオキシ
プロピレンとのブロック付加の場合、オキシエチレン１
〜３モル、オキシプロピレン１〜５モルが好適である。
説明する。上記一般式（Ｉ）の化合物は、炭素数１〜５
の飽和または不飽和アルコールのアルキレンオキシド付
加物である。式中のＣnＨ2nＯ は、オキシエチレン、オ
キシプロピレン、オキシブチレンが単独または混合物と
して付加していることを示し、特に、オキシエチレンと
オキシプロピレンのブロック付加物が好適である。ｎは
アルキレンオキシドの平均付加モル数を示し、１〜１
０、好ましくは２〜６である。オキシエチレンとオキシ
プロピレンとのブロック付加の場合、オキシエチレン１
〜３モル、オキシプロピレン１〜５モルが好適である。
【０００７】本発明の半田フラックス用液体洗浄剤は、
一般式（Ｉ）の化合物そのままでもよいが、通常、水に
て希釈し５〜７０重量％の透明均一な水溶液とする。本
発明の液体洗浄剤は、その他必要に応じて、液安定性を
保持するためにエチレングリコール、プロピレングリコ
ール、メタノール、エタノール、プロパノール等のハイ
ドロトロープ剤などを配合することもできる。
一般式（Ｉ）の化合物そのままでもよいが、通常、水に
て希釈し５〜７０重量％の透明均一な水溶液とする。本
発明の液体洗浄剤は、その他必要に応じて、液安定性を
保持するためにエチレングリコール、プロピレングリコ
ール、メタノール、エタノール、プロパノール等のハイ
ドロトロープ剤などを配合することもできる。
【０００８】
【発明の効果】本発明の液体洗浄剤は、フロン系等の溶
媒を必要とすることなく非アルカリ性の水系で半田フラ
ックスに対して優れた洗浄性能を示し、特にプリント配
線板、プリント回路板のようなプリント基板の半田付け
の際に使用されるロジンフラックスの除去に極めて有効
である。また、透明安定性に優れ、低泡性であるので、
取り扱いも容易である。
媒を必要とすることなく非アルカリ性の水系で半田フラ
ックスに対して優れた洗浄性能を示し、特にプリント配
線板、プリント回路板のようなプリント基板の半田付け
の際に使用されるロジンフラックスの除去に極めて有効
である。また、透明安定性に優れ、低泡性であるので、
取り扱いも容易である。
【０００９】以下、実施例により本発明の液体洗浄剤に
ついてさらに具体的に説明するが、それに先立って実施
例で用いた評価方法を示す。 （１） 洗浄剤の透明性 １００ｍｌガラスビンに洗浄剤を入れ、２５℃恒温室内
に２４時間静置し、目視によって下記の基準で透明性を
評価する。○を合格とする。 評価基準 ○：透明 △：やや白濁 ×：沈澱・二層分離 （２） フラックスの洗浄性 ガラス板に半田フラックスを塗布し、２００℃、１５分
間焼成を行なって汚垢板とし、各々の洗浄剤を水で５倍
希釈した洗浄液中で４０℃、５分間の浸漬洗浄を行な
う。洗浄中のフラックスの溶解状態を目視で判定し、次
の基準により評価する。○以上を合格とする。 評価基準 ◎：溶解力が強い ○：溶解力がある △：溶解力がやや劣る ×：溶解力がない
ついてさらに具体的に説明するが、それに先立って実施
例で用いた評価方法を示す。 （１） 洗浄剤の透明性 １００ｍｌガラスビンに洗浄剤を入れ、２５℃恒温室内
に２４時間静置し、目視によって下記の基準で透明性を
評価する。○を合格とする。 評価基準 ○：透明 △：やや白濁 ×：沈澱・二層分離 （２） フラックスの洗浄性 ガラス板に半田フラックスを塗布し、２００℃、１５分
間焼成を行なって汚垢板とし、各々の洗浄剤を水で５倍
希釈した洗浄液中で４０℃、５分間の浸漬洗浄を行な
う。洗浄中のフラックスの溶解状態を目視で判定し、次
の基準により評価する。○以上を合格とする。 評価基準 ◎：溶解力が強い ○：溶解力がある △：溶解力がやや劣る ×：溶解力がない
【００１０】
実施例１（洗浄剤の調製） 以下の処方の各液体洗浄剤１〜９を調製した。なお、組
成中のアルキレンオキシド付加の記載で(Ｃ2Ｈ4Ｏ)1(Ｃ
3Ｈ6Ｏ)2Ｈのようにあるのはその順番にブロック付加さ
せた事を意味し、 ［（Ｃ2Ｈ4Ｏ）1／（Ｃ3Ｈ6Ｏ）2］
はランダム付加を示す。また、洗浄剤９は比較例であ
り、他は実施例である。 洗浄剤１ Ｃ4Ｈ9−Ｏ(Ｃ2Ｈ4Ｏ)1(Ｃ3Ｈ6Ｏ)2Ｈ 30wt％ エチルアルコール 35wt％ 水 35wt％ 洗浄剤２ Ｃ4Ｈ9−Ｏ[(Ｃ2Ｈ4Ｏ)1／(Ｃ3Ｈ6Ｏ)2]Ｈ 30wt％ エチルアルコール 35wt％ 水 35wt％ 洗浄剤３〜９ Ｃ4Ｈ9−Ｏ(Ｃ2Ｈ4Ｏ)j(Ｃ3Ｈ6Ｏ)kＨ 30wt％ (ｊ，ｋの値は表１に記載） エチルアルコール 35wt％ 水 35wt％
成中のアルキレンオキシド付加の記載で(Ｃ2Ｈ4Ｏ)1(Ｃ
3Ｈ6Ｏ)2Ｈのようにあるのはその順番にブロック付加さ
せた事を意味し、 ［（Ｃ2Ｈ4Ｏ）1／（Ｃ3Ｈ6Ｏ）2］
はランダム付加を示す。また、洗浄剤９は比較例であ
り、他は実施例である。 洗浄剤１ Ｃ4Ｈ9−Ｏ(Ｃ2Ｈ4Ｏ)1(Ｃ3Ｈ6Ｏ)2Ｈ 30wt％ エチルアルコール 35wt％ 水 35wt％ 洗浄剤２ Ｃ4Ｈ9−Ｏ[(Ｃ2Ｈ4Ｏ)1／(Ｃ3Ｈ6Ｏ)2]Ｈ 30wt％ エチルアルコール 35wt％ 水 35wt％ 洗浄剤３〜９ Ｃ4Ｈ9−Ｏ(Ｃ2Ｈ4Ｏ)j(Ｃ3Ｈ6Ｏ)kＨ 30wt％ (ｊ，ｋの値は表１に記載） エチルアルコール 35wt％ 水 35wt％
【００１１】
【表１】
【００１２】実施例２(洗浄剤の性能評価) 実施例１で調製した各洗浄剤の性能を評価し、結果を表
２に示した。
２に示した。
【００１３】
【表２】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ２３Ｇ 5/032 Ｃ２３Ｇ 5/032
Claims (1)
- 【請求項１】 化１の一般式（Ｉ）で表わされる化合物
を含み、非アルカリ性であることを特徴とする半田フラ
ックス用液体洗浄剤。 【化１】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5252475A JP2684319B2 (ja) | 1993-09-13 | 1993-09-13 | 半田フラックス用液体洗浄剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5252475A JP2684319B2 (ja) | 1993-09-13 | 1993-09-13 | 半田フラックス用液体洗浄剤 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23668989A Division JPH0397792A (ja) | 1989-09-11 | 1989-09-11 | 半田フラックス用液体洗浄剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06340896A JPH06340896A (ja) | 1994-12-13 |
| JP2684319B2 true JP2684319B2 (ja) | 1997-12-03 |
Family
ID=17237904
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5252475A Expired - Lifetime JP2684319B2 (ja) | 1993-09-13 | 1993-09-13 | 半田フラックス用液体洗浄剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2684319B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3523955B2 (ja) * | 1996-02-13 | 2004-04-26 | ライオン株式会社 | 洗浄剤組成物及びそれを用いた洗浄方法 |
| CN1309815C (zh) | 2000-10-17 | 2007-04-11 | 三菱化学株式会社 | 用于洗涤剂的聚甘油脂肪酸酯和含有该物质的洗涤剂 |
| JP5252853B2 (ja) * | 2007-08-10 | 2013-07-31 | 花王株式会社 | ハンダフラックス用洗浄剤組成物 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3886099A (en) | 1972-03-13 | 1975-05-27 | Griffin Bros Inc | Water soluble flux remover |
-
1993
- 1993-09-13 JP JP5252475A patent/JP2684319B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3886099A (en) | 1972-03-13 | 1975-05-27 | Griffin Bros Inc | Water soluble flux remover |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06340896A (ja) | 1994-12-13 |
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