JP3444641B2 - 洗浄剤 - Google Patents

洗浄剤

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JP3444641B2
JP3444641B2 JP939394A JP939394A JP3444641B2 JP 3444641 B2 JP3444641 B2 JP 3444641B2 JP 939394 A JP939394 A JP 939394A JP 939394 A JP939394 A JP 939394A JP 3444641 B2 JP3444641 B2 JP 3444641B2
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泉 山下
省慈 松本
悟 森
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、汚れた固体表面、特に
スクリーン印刷時に使用されるインキや導電性ペースト
等を洗浄するのに好適な洗浄剤に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、スクリーン印刷法が電子工業分野
をはじめとして広く活用されているが、これは絹、ナイ
ロン、テトロンなどの繊維、あるいはステンレスの針金
などで織った布地(スクリーン)を枠に張って四周を固
定し、その上に手工的、または光化学的方法で版膜を作
って必要な画線以外の目をふさぎ、版膜のない部分のス
クリーンを通過するインキにより印刷を行なうものであ
る。印刷を終えたスクリーンは保管または再使用のた
め、スクリーンに付着、残留したインキを洗浄、除去す
る必要がある。
【0003】これらの洗浄、除去には、不燃性で毒性が
低く、優れた溶解性を示す等、多くの特徴を有すること
から、1,1,2−トリクロロ−1,2,2−トリフル
オロエタンや1,1,1−トリクロロエタンが広く使わ
れてきた。しかし、これらは洗浄剤として極めて優れた
ものであるが、化学的に安定であるため成層圏に達して
ここで強い紫外線により分解され塩素が生成してこれが
オゾン層を破壊し、地上に達する有害な紫外線を増加さ
せる結果、人類を含む地球上の生態系に深刻な影響を与
えることが近年指摘され、これらの生産と消費を規制
し、更に近い将来全廃することが国際的に取り決められ
た。
【0004】かかる状況下において、安全で環境への影
響の少ない非ハロゲン系の代替洗浄剤への期待が高まっ
ているが、すべての要求性能を満たすものは未だ得られ
ていないのが現状である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、洗浄力が優
れ、かつ、引火の危険性が低く、オゾン層破壊の恐れが
全くない洗浄剤を提供するものである。
【0006】
【課題を達成するための手段】本発明者は、上記課題を
達成するため鋭意検討を重ねた結果、二塩基酸エステ
ル、下記一般式(1)で表されるグリコールエーテル系
化合物、エポキシ化合物及び/又はカルボジイミド化合
物、及び水を組み合わせることにより上記目的が達成で
きることを見いだし、本発明を完成した。
【0007】すなわち、本発明は、(a)アジピン酸ジ
メチル、こはく酸ジメチル及びグルタル酸ジメチルから
なる群より選ばれた少なくとも一種を5〜85重量%、
(b)一般式(1)で表わされるグリコールエーテルを
5〜85重量%、(c)エポキシ化合物及び/又はカル
ボジイミド化合物を0.05〜10重量%、(d)水を
3〜25重量%の成分からなることを特徴とする洗浄剤
である。 R1 O−(R2 O)n −R3 (1) [式中、R1 は炭素数1〜4のアルキル基又はアルケニ
ル基、R2 は炭素数2〜4のアルキレン基、R3 は水素
又は炭素数1〜3のアルキル基又はアルケニル基、nは
1〜4の整数を示す] 以下にこの発明を詳細に説明する。
【0008】本発明で用いられる二塩基酸エステルは、
アジピン酸ジメチル、こはく酸ジメチル、グルタル酸ジ
メチルを単独又は混合物として使用できる。これらの二
塩基酸エステルの配合量は、全組成中に5〜85重量
%、好ましくは10〜80重量%が好適である。配合量
が5重量%未満では洗浄力が劣り、85重量%を超える
と水を均一に分散させるのが難しくなる。
【0009】本発明の一般式(1)で表されるグリコー
ルエーテル系化合物の具体例としては、エチレングリコ
ール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコールお
よびトリプロピレングリコールのモノアルキルエーテ
ル、ジアルキルエーテル等が挙げられる。アルキル基の
具体例としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、sec−ブチル、t−ブチル等が挙げら
れる。これらのグリコールエーテル系化合物は単独又は
組み合わせて使用することができるが、配合量は、全組
成中に5〜85重量%、好ましくは10〜80重量%が
好適である。配合量が5重量%未満では水を均一に分散
させるのが難しくなる。
【0010】本発明のエポキシ化合物及びカルボジイミ
ド化合物は、貯蔵中又は使用中における二塩基酸エステ
ルの加水分解を抑制するのに効果があり、単独又は組み
合わせて使用することができる。本発明のエポキシ化合
物は、1分子内にエポキシ基を1つ以上有する化合物で
あり、具体例としては、1,2−ブチレンオキサイド、
1,2−エポキシオクタン、1,2−エポキシテトラデ
カン、シクロヘキセンオキサイド、1,2−エポキシシ
クロドデカン、ブタジエンジオキサイド、メチルグリシ
ジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、2−エチル
ヘキシルグリシジルエーテル、デシルグリシジルエーテ
ル、ステアリルグリシジルエーテル、アリルグリシジル
エーテル、フェニルグリシジルエーテル、エチレングリ
コールジグリシジルエーテル、グリセリンポリグリシジ
ルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、
グリシドール等が挙げられるがこれに限定されるもので
はない。
【0011】本発明に使用されるカルボジイミド化合物
の具体例としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド、
ジフェニルカルボジイミド、ジブチルフェニルカルボジ
イミド、ジトリルカルボジイミド、ジナフチルカルボジ
イミド等を挙げることができるがこれに限定されるもの
ではない。エポキシ化合物及び/又はカルボジイミド化
合物の配合量は、0.05〜10重量%、好ましくは
0.1〜5重量%が好適である。配合量が0.05重量
%未満では殆ど効果がなく、また、10重量%以上添加
しても実用的に意味がない。
【0012】本発明の洗浄剤は、水を添加することによ
り引火点を著しく高め、場合によっては消失させること
ができる。水の添加量は、3〜25重量%、好ましくは
5〜20重量%が好適である。添加量が3重量%未満で
は殆ど効果がなく、また、25重量%を超えると洗浄力
が落ち、場合によっては水を均一に分散させるのが難し
くなる。
【0013】本発明の洗浄剤は、一般に高沸点組成物と
なり、被洗物の乾燥が問題になる場合があるが、そのよ
うな場合には、洗浄後に被洗物に付着残存する洗浄剤を
水でリンス、置換し、乾燥を容易にする目的で、本発明
の洗浄剤組成物に界面活性剤を添加することができる。
界面活性剤としては、公知のアニオン、カチオンまたは
ノニオン界面活性剤を使用できる。例えば、アルキルベ
ンゼンスルホン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエー
テル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、
ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレンアルキルエ
ーテル等を挙げることができるが、これに限定されるも
のではない。界面活性剤の添加量は、20重量%以下で
十分目的を達成することができる。
【0014】
【実施例1〜4および比較例1〜3】表1に示した組成
の洗浄剤の均一性と引火点及び洗浄性について評価し
た。引火点の測定は、JISK2265のクリーブラン
ド開放式で行った。洗浄性の評価は、各種インキやペー
スト類をテトロン製スクリーンに塗布し、10分間放置
後シャープ(株)製スクリーン版洗浄機「UC−450
0」で40℃で洗浄した。評価は下記によった。 ◎:完全に洗浄できた。○:僅かに残存した。△:かな
り残存した。×:殆ど洗浄できてない。
【0015】実施例1〜4の洗浄剤は、いずれも均一な
液で引火点がなく、すべてのインキやペースト類が洗浄
できた。比較例1、比較例2は二塩基酸エステルが85
重量%を超えたもの、及び水が30重量%を超えたもの
であるが、いずれも均一な液とならなかった。比較例3
は、水が3重量%未満のものであるが、引火点が観察さ
れた。
【0016】
【実施例5】二塩基酸エステルの加水分解に対するエポ
キシ化合物及びカルボジイミド化合物の効果を評価し
た。DBE(アジピン酸、こはく酸、グルタル酸の混合
物)(デュポン社(株)製の二塩基酸エステル)60重
量%、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル3
0重量%、水10重量%のベース溶剤に各化合物を1.
0重量部添加したものを50℃で15日間加速処理をし
た後、加水分解により生成した酸を0.01Nの水酸化
ナトリウム溶液で滴定した。滴定に要した量を表2に示
した。各化合物とも、無添加の場合と比較して加水分解
が著しく抑制されていることが確認された。
【0017】
【表1】
【0018】
【表2】
【0019】
【発明の効果】本発明の洗浄剤は優れた洗浄力を有する
とともに引火点もなく、品質の安定性も優れたものであ
る。しかも、ハロゲン原子を含まないのでオゾン層破壊
の恐れが全くないため、1,1,2−トリクロロ−1,
2,2−トリフルオロエタンや1,1,1−トリクロロ
エタンの代替洗浄剤として極めて有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平7−90297(JP,A) 特開 平6−93292(JP,A) 特開 平7−62396(JP,A) 特開 平7−173492(JP,A) 特開 平5−320693(JP,A) 特開 平5−171185(JP,A) 特開 平1−172498(JP,A) 登録実用新案3000413(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C11D 7/00

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (a)アジピン酸ジメチル、こはく酸ジ
    メチル及びグルタル酸ジメチルからなる群より選ばれた
    少なくとも一種を5〜85重量%、(b)一般式(1)
    で表わされるグリコールエーテルを5〜85重量%、
    (c)エポキシ化合物及び/又はカルボジイミド化合物
    を0.05〜10重量%、(d)水を3〜25重量%の
    成分からなることを特徴とする洗浄剤。 R1 O−(R2 O)n −R3 (1) [式中、R1 は炭素数1〜4のアルキル基又はアルケニ
    ル基、R2 は炭素数2〜4のアルキレン基、R3 は水素
    又は炭素数1〜3のアルキル基又はアルケニル基、nは
    1〜4の整数を示す]
  2. 【請求項2】 印刷スクリーンを洗浄することを特徴と
    する請求項1記載の洗浄剤。
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