JP3444641B2 - 洗浄剤 - Google Patents
洗浄剤Info
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Description
スクリーン印刷時に使用されるインキや導電性ペースト
等を洗浄するのに好適な洗浄剤に関するものである。
をはじめとして広く活用されているが、これは絹、ナイ
ロン、テトロンなどの繊維、あるいはステンレスの針金
などで織った布地(スクリーン)を枠に張って四周を固
定し、その上に手工的、または光化学的方法で版膜を作
って必要な画線以外の目をふさぎ、版膜のない部分のス
クリーンを通過するインキにより印刷を行なうものであ
る。印刷を終えたスクリーンは保管または再使用のた
め、スクリーンに付着、残留したインキを洗浄、除去す
る必要がある。
低く、優れた溶解性を示す等、多くの特徴を有すること
から、1,1,2−トリクロロ−1,2,2−トリフル
オロエタンや1,1,1−トリクロロエタンが広く使わ
れてきた。しかし、これらは洗浄剤として極めて優れた
ものであるが、化学的に安定であるため成層圏に達して
ここで強い紫外線により分解され塩素が生成してこれが
オゾン層を破壊し、地上に達する有害な紫外線を増加さ
せる結果、人類を含む地球上の生態系に深刻な影響を与
えることが近年指摘され、これらの生産と消費を規制
し、更に近い将来全廃することが国際的に取り決められ
た。
響の少ない非ハロゲン系の代替洗浄剤への期待が高まっ
ているが、すべての要求性能を満たすものは未だ得られ
ていないのが現状である。
れ、かつ、引火の危険性が低く、オゾン層破壊の恐れが
全くない洗浄剤を提供するものである。
達成するため鋭意検討を重ねた結果、二塩基酸エステ
ル、下記一般式(1)で表されるグリコールエーテル系
化合物、エポキシ化合物及び/又はカルボジイミド化合
物、及び水を組み合わせることにより上記目的が達成で
きることを見いだし、本発明を完成した。
メチル、こはく酸ジメチル及びグルタル酸ジメチルから
なる群より選ばれた少なくとも一種を5〜85重量%、
(b)一般式(1)で表わされるグリコールエーテルを
5〜85重量%、(c)エポキシ化合物及び/又はカル
ボジイミド化合物を0.05〜10重量%、(d)水を
3〜25重量%の成分からなることを特徴とする洗浄剤
である。 R1 O−(R2 O)n −R3 (1) [式中、R1 は炭素数1〜4のアルキル基又はアルケニ
ル基、R2 は炭素数2〜4のアルキレン基、R3 は水素
又は炭素数1〜3のアルキル基又はアルケニル基、nは
1〜4の整数を示す] 以下にこの発明を詳細に説明する。
アジピン酸ジメチル、こはく酸ジメチル、グルタル酸ジ
メチルを単独又は混合物として使用できる。これらの二
塩基酸エステルの配合量は、全組成中に5〜85重量
%、好ましくは10〜80重量%が好適である。配合量
が5重量%未満では洗浄力が劣り、85重量%を超える
と水を均一に分散させるのが難しくなる。
ルエーテル系化合物の具体例としては、エチレングリコ
ール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコールお
よびトリプロピレングリコールのモノアルキルエーテ
ル、ジアルキルエーテル等が挙げられる。アルキル基の
具体例としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、sec−ブチル、t−ブチル等が挙げら
れる。これらのグリコールエーテル系化合物は単独又は
組み合わせて使用することができるが、配合量は、全組
成中に5〜85重量%、好ましくは10〜80重量%が
好適である。配合量が5重量%未満では水を均一に分散
させるのが難しくなる。
ド化合物は、貯蔵中又は使用中における二塩基酸エステ
ルの加水分解を抑制するのに効果があり、単独又は組み
合わせて使用することができる。本発明のエポキシ化合
物は、1分子内にエポキシ基を1つ以上有する化合物で
あり、具体例としては、1,2−ブチレンオキサイド、
1,2−エポキシオクタン、1,2−エポキシテトラデ
カン、シクロヘキセンオキサイド、1,2−エポキシシ
クロドデカン、ブタジエンジオキサイド、メチルグリシ
ジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、2−エチル
ヘキシルグリシジルエーテル、デシルグリシジルエーテ
ル、ステアリルグリシジルエーテル、アリルグリシジル
エーテル、フェニルグリシジルエーテル、エチレングリ
コールジグリシジルエーテル、グリセリンポリグリシジ
ルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、
グリシドール等が挙げられるがこれに限定されるもので
はない。
の具体例としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド、
ジフェニルカルボジイミド、ジブチルフェニルカルボジ
イミド、ジトリルカルボジイミド、ジナフチルカルボジ
イミド等を挙げることができるがこれに限定されるもの
ではない。エポキシ化合物及び/又はカルボジイミド化
合物の配合量は、0.05〜10重量%、好ましくは
0.1〜5重量%が好適である。配合量が0.05重量
%未満では殆ど効果がなく、また、10重量%以上添加
しても実用的に意味がない。
り引火点を著しく高め、場合によっては消失させること
ができる。水の添加量は、3〜25重量%、好ましくは
5〜20重量%が好適である。添加量が3重量%未満で
は殆ど効果がなく、また、25重量%を超えると洗浄力
が落ち、場合によっては水を均一に分散させるのが難し
くなる。
なり、被洗物の乾燥が問題になる場合があるが、そのよ
うな場合には、洗浄後に被洗物に付着残存する洗浄剤を
水でリンス、置換し、乾燥を容易にする目的で、本発明
の洗浄剤組成物に界面活性剤を添加することができる。
界面活性剤としては、公知のアニオン、カチオンまたは
ノニオン界面活性剤を使用できる。例えば、アルキルベ
ンゼンスルホン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエー
テル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、
ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレンアルキルエ
ーテル等を挙げることができるが、これに限定されるも
のではない。界面活性剤の添加量は、20重量%以下で
十分目的を達成することができる。
の洗浄剤の均一性と引火点及び洗浄性について評価し
た。引火点の測定は、JISK2265のクリーブラン
ド開放式で行った。洗浄性の評価は、各種インキやペー
スト類をテトロン製スクリーンに塗布し、10分間放置
後シャープ(株)製スクリーン版洗浄機「UC−450
0」で40℃で洗浄した。評価は下記によった。 ◎:完全に洗浄できた。○:僅かに残存した。△:かな
り残存した。×:殆ど洗浄できてない。
液で引火点がなく、すべてのインキやペースト類が洗浄
できた。比較例1、比較例2は二塩基酸エステルが85
重量%を超えたもの、及び水が30重量%を超えたもの
であるが、いずれも均一な液とならなかった。比較例3
は、水が3重量%未満のものであるが、引火点が観察さ
れた。
キシ化合物及びカルボジイミド化合物の効果を評価し
た。DBE(アジピン酸、こはく酸、グルタル酸の混合
物)(デュポン社(株)製の二塩基酸エステル)60重
量%、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル3
0重量%、水10重量%のベース溶剤に各化合物を1.
0重量部添加したものを50℃で15日間加速処理をし
た後、加水分解により生成した酸を0.01Nの水酸化
ナトリウム溶液で滴定した。滴定に要した量を表2に示
した。各化合物とも、無添加の場合と比較して加水分解
が著しく抑制されていることが確認された。
とともに引火点もなく、品質の安定性も優れたものであ
る。しかも、ハロゲン原子を含まないのでオゾン層破壊
の恐れが全くないため、1,1,2−トリクロロ−1,
2,2−トリフルオロエタンや1,1,1−トリクロロ
エタンの代替洗浄剤として極めて有用である。
Claims (2)
- 【請求項1】 (a)アジピン酸ジメチル、こはく酸ジ
メチル及びグルタル酸ジメチルからなる群より選ばれた
少なくとも一種を5〜85重量%、(b)一般式(1)
で表わされるグリコールエーテルを5〜85重量%、
(c)エポキシ化合物及び/又はカルボジイミド化合物
を0.05〜10重量%、(d)水を3〜25重量%の
成分からなることを特徴とする洗浄剤。 R1 O−(R2 O)n −R3 (1) [式中、R1 は炭素数1〜4のアルキル基又はアルケニ
ル基、R2 は炭素数2〜4のアルキレン基、R3 は水素
又は炭素数1〜3のアルキル基又はアルケニル基、nは
1〜4の整数を示す] - 【請求項2】 印刷スクリーンを洗浄することを特徴と
する請求項1記載の洗浄剤。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP939394A JP3444641B2 (ja) | 1994-01-31 | 1994-01-31 | 洗浄剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP939394A JP3444641B2 (ja) | 1994-01-31 | 1994-01-31 | 洗浄剤 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH07216398A JPH07216398A (ja) | 1995-08-15 |
JP3444641B2 true JP3444641B2 (ja) | 2003-09-08 |
Family
ID=11719192
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP939394A Expired - Lifetime JP3444641B2 (ja) | 1994-01-31 | 1994-01-31 | 洗浄剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
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Families Citing this family (3)
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JP4707409B2 (ja) * | 2005-02-24 | 2011-06-22 | 株式会社Adeka | 樹脂用除去剤 |
JP5382922B2 (ja) * | 2009-04-20 | 2014-01-08 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | シール剤吐出部品の洗浄方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3000413U (ja) | 1994-01-25 | 1994-08-09 | 有限会社ケントス | トナー除去ペン |
-
1994
- 1994-01-31 JP JP939394A patent/JP3444641B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP3000413U (ja) | 1994-01-25 | 1994-08-09 | 有限会社ケントス | トナー除去ペン |
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Publication number | Publication date |
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