JPH0959698A - メタルマスク用洗浄剤組成物 - Google Patents
メタルマスク用洗浄剤組成物Info
- Publication number
- JPH0959698A JPH0959698A JP7214858A JP21485895A JPH0959698A JP H0959698 A JPH0959698 A JP H0959698A JP 7214858 A JP7214858 A JP 7214858A JP 21485895 A JP21485895 A JP 21485895A JP H0959698 A JPH0959698 A JP H0959698A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- weight
- cleaning
- metal mask
- composition
- alkyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Detergent Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 一定の沸点を持つグリコールエーテル系
化合物２５〜４５重量％、一定の沸点と一定量水への溶
解性を持つ有機溶剤５〜２５重量％、アミン系化合物
０．００５〜１．０重量％及び水を加えて１００重量％
となる組成物がメタルマスク洗浄用として、格別の効果
を得る。 【効果】 本発明は、洗浄力に優れ、メタルマスクに対
する悪影響が極めて少なく、環境非汚染性の特性に優
れ、人に対しても低毒性のメタルマスク洗浄剤を提供す
る。
化合物２５〜４５重量％、一定の沸点と一定量水への溶
解性を持つ有機溶剤５〜２５重量％、アミン系化合物
０．００５〜１．０重量％及び水を加えて１００重量％
となる組成物がメタルマスク洗浄用として、格別の効果
を得る。 【効果】 本発明は、洗浄力に優れ、メタルマスクに対
する悪影響が極めて少なく、環境非汚染性の特性に優
れ、人に対しても低毒性のメタルマスク洗浄剤を提供す
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ソルダーペースト
印刷時に使用するメタルマスクの洗浄に好適な洗浄剤に
関するものである。
印刷時に使用するメタルマスクの洗浄に好適な洗浄剤に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】電子回路の接合方法としては、はんだ付
けが最も一般的に行われている。基板に部品を接合する
のに適量のはんだを供給するために、はんだ粉とフラッ
クスを混合しペースト状にしたものを、印刷すべき模様
に孔の開いた金属板（メタルマスク）を通して印刷する
方法が行われているが、印刷終了時に保管、再使用のた
め、あるいは印刷精度を確保するため、このメタルマス
クを洗浄する必要がある。従来、このメタルマスクに付
着している汚れを除去するために、不燃性で毒性が低
く、優れた溶解性を示す等多くの特徴を有することか
ら、１，１，１−トリクロロエタン等の溶剤が広く使用
されてきた。しかし、これらの溶剤は、オゾン層破壊の
問題から近い将来全廃されることが国際的に取り決めら
れている。
けが最も一般的に行われている。基板に部品を接合する
のに適量のはんだを供給するために、はんだ粉とフラッ
クスを混合しペースト状にしたものを、印刷すべき模様
に孔の開いた金属板（メタルマスク）を通して印刷する
方法が行われているが、印刷終了時に保管、再使用のた
め、あるいは印刷精度を確保するため、このメタルマス
クを洗浄する必要がある。従来、このメタルマスクに付
着している汚れを除去するために、不燃性で毒性が低
く、優れた溶解性を示す等多くの特徴を有することか
ら、１，１，１−トリクロロエタン等の溶剤が広く使用
されてきた。しかし、これらの溶剤は、オゾン層破壊の
問題から近い将来全廃されることが国際的に取り決めら
れている。
【０００３】また近年、グリコールエーテル系溶剤を主
体とした各種洗浄剤が、前述したハロゲン系溶剤の代替
洗浄剤として使用されているが、これらは汚れに対する
洗浄力は満足できるものの、乾燥しにくく、又メタルマ
スクに使用されている接着剤に影響を与えるため、数回
の洗浄で、以後メタルマスクへの繰り返し利用できなく
なる。
体とした各種洗浄剤が、前述したハロゲン系溶剤の代替
洗浄剤として使用されているが、これらは汚れに対する
洗浄力は満足できるものの、乾燥しにくく、又メタルマ
スクに使用されている接着剤に影響を与えるため、数回
の洗浄で、以後メタルマスクへの繰り返し利用できなく
なる。
【０００４】
【本発明が解決しようとする課題】本発明は、洗浄力に
すぐれ、乾燥が早く、繰り返し洗浄を行ってもメタルマ
スクに対する悪影響が極めて少なく、しかも環境非汚染
特性に優れ、人に対しても低毒性である洗浄剤を提供す
るものである。
すぐれ、乾燥が早く、繰り返し洗浄を行ってもメタルマ
スクに対する悪影響が極めて少なく、しかも環境非汚染
特性に優れ、人に対しても低毒性である洗浄剤を提供す
るものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題を
達成するために鋭意検討を重ねた結果、一定の沸点を持
つグリコールエーテル系溶剤と、一定量の水溶性を示す
有機溶剤の水溶液及び特定のアミン系化合物を一定量添
加した水性組成物にする事により、上記目的を達成する
ことができることを見いだし、この知見に基づいて本発
明を完成するに至った。
達成するために鋭意検討を重ねた結果、一定の沸点を持
つグリコールエーテル系溶剤と、一定量の水溶性を示す
有機溶剤の水溶液及び特定のアミン系化合物を一定量添
加した水性組成物にする事により、上記目的を達成する
ことができることを見いだし、この知見に基づいて本発
明を完成するに至った。
【０００６】すなわち、本発明は、（Ａ）下記一般式
（１）で表される化合物の中で常圧における沸点が１０
０℃以上２００℃以下の化合物より選ばれる１種または
２種以上の化合物を、２５〜４５重量％、 Ｒ1 Ｏ−（Ｒ2 Ｏ）n −Ｒ3 （１） （式中Ｒ1 は炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ2 は炭素数
２〜５のアルキレン基で直鎖または分枝をもつものでも
よく、Ｒ3 は水素または炭素数１〜４のアルキル基また
はアシル基を示し、ｎは１〜２の整数で示される） （Ｂ）常圧における沸点が１００℃以上２００℃以下で
あり、かつ２０℃での水への溶解量が２０重量％以下の
有機溶剤を、５〜２５重量％、 （Ｃ）下記一般式（２）で表される含窒素化合物、０．
００５〜１．０重量％ （式中Ｒ4 は炭素数６〜２０のアルキル基、ｍ＋ｎは２
〜２０で示される） （Ｄ）水、残量（２９〜６９．９９５重量％）を、含有
することを特徴とするメタルマスク用洗浄剤組成物であ
る。
（１）で表される化合物の中で常圧における沸点が１０
０℃以上２００℃以下の化合物より選ばれる１種または
２種以上の化合物を、２５〜４５重量％、 Ｒ1 Ｏ−（Ｒ2 Ｏ）n −Ｒ3 （１） （式中Ｒ1 は炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ2 は炭素数
２〜５のアルキレン基で直鎖または分枝をもつものでも
よく、Ｒ3 は水素または炭素数１〜４のアルキル基また
はアシル基を示し、ｎは１〜２の整数で示される） （Ｂ）常圧における沸点が１００℃以上２００℃以下で
あり、かつ２０℃での水への溶解量が２０重量％以下の
有機溶剤を、５〜２５重量％、 （Ｃ）下記一般式（２）で表される含窒素化合物、０．
００５〜１．０重量％ （式中Ｒ4 は炭素数６〜２０のアルキル基、ｍ＋ｎは２
〜２０で示される） （Ｄ）水、残量（２９〜６９．９９５重量％）を、含有
することを特徴とするメタルマスク用洗浄剤組成物であ
る。
【０００７】該組成物は、洗浄剤として用いた場合、洗
浄力に優れ、乾燥が早く、オゾン層を破壊する環境汚染
の心配が無く、人に対しても低毒性である性質は、気密
状況下での作業を要するメタルマスク洗浄用として適性
である。そして、メタルマスクの繰り返し洗浄にも耐え
る結果を得たので、以下本発明を詳細に説明する。本発
明の（Ａ）成分で表されるグリコールエーテル系化合物
と、（Ｂ）成分で表される有機溶剤は、合計で本発明の
洗浄剤組成物中に３０〜７０重量％配合される。好まし
くは、４０〜６０重量％である。（Ａ）と（Ｂ）合計の
配合量が、３０重量％未満では洗浄性及びその持続性が
充分ではなく、又７０重量％を超えて配合すると、従来
よりメタルマスクに使用されているゴム系接着剤に影響
を与え、メタルマスクを破損する。特殊な耐溶剤性の接
着剤の使用が必要となる。
浄力に優れ、乾燥が早く、オゾン層を破壊する環境汚染
の心配が無く、人に対しても低毒性である性質は、気密
状況下での作業を要するメタルマスク洗浄用として適性
である。そして、メタルマスクの繰り返し洗浄にも耐え
る結果を得たので、以下本発明を詳細に説明する。本発
明の（Ａ）成分で表されるグリコールエーテル系化合物
と、（Ｂ）成分で表される有機溶剤は、合計で本発明の
洗浄剤組成物中に３０〜７０重量％配合される。好まし
くは、４０〜６０重量％である。（Ａ）と（Ｂ）合計の
配合量が、３０重量％未満では洗浄性及びその持続性が
充分ではなく、又７０重量％を超えて配合すると、従来
よりメタルマスクに使用されているゴム系接着剤に影響
を与え、メタルマスクを破損する。特殊な耐溶剤性の接
着剤の使用が必要となる。
【０００８】本発明の（Ａ）成分で表されるグリコール
エーテル系化合物は、１種単独で、または、２種以上を
組み合わせて配合することができ、本発明の洗浄剤組成
物中に、２５〜４５重量％配合される。２５重量％未満
の配合では、洗浄剤組成を均一に保持することが困難と
なる。また、（Ａ）成分のグリコールエーテル系化合物
は、常圧における沸点を２００℃以下のものを選択する
ことにより乾燥を比較的低温、短時間で行うことを可能
とし、乾燥不良によるメタルマスクへの影響をなくすこ
とができる。常圧における沸点が２００℃を超えるグリ
コールエーテル系化合物を使用すると、乾燥に比較的高
温を必要とし、また乾燥に時間がかかり、実用的ではな
い。又、沸点が１００℃未満のグリコールエーテル系化
合物を使用すると引火の危険性が著しく高くなる。
エーテル系化合物は、１種単独で、または、２種以上を
組み合わせて配合することができ、本発明の洗浄剤組成
物中に、２５〜４５重量％配合される。２５重量％未満
の配合では、洗浄剤組成を均一に保持することが困難と
なる。また、（Ａ）成分のグリコールエーテル系化合物
は、常圧における沸点を２００℃以下のものを選択する
ことにより乾燥を比較的低温、短時間で行うことを可能
とし、乾燥不良によるメタルマスクへの影響をなくすこ
とができる。常圧における沸点が２００℃を超えるグリ
コールエーテル系化合物を使用すると、乾燥に比較的高
温を必要とし、また乾燥に時間がかかり、実用的ではな
い。又、沸点が１００℃未満のグリコールエーテル系化
合物を使用すると引火の危険性が著しく高くなる。
【０００９】沸点範囲が、１００〜２００℃の範囲にあ
る一般式（１）で表される化合物の具体例としては、エ
チレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロ
ピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレ
ングリコールモノアリルエーテル、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテ
ル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロ
ピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコ
ールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチル
エーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、３
−メチル−３−メトキシブタノール、３−メチル−３−
メトキシブチルアセテート等が挙げられる。
る一般式（１）で表される化合物の具体例としては、エ
チレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロ
ピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレ
ングリコールモノアリルエーテル、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテ
ル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロ
ピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコ
ールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチル
エーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、３
−メチル−３−メトキシブタノール、３−メチル−３−
メトキシブチルアセテート等が挙げられる。
【００１０】本発明の洗浄剤組成物には、常圧における
沸点が２００℃以下であり、かつ２０℃での水への溶解
量が２０重量％以下の有機溶剤（Ｂ）成分を、５〜２５
重量％含む。５重量％未満の添加ではその添加効果が明
確ではなく、２５重量％を超えて添加した場合には、組
成が均一にならない、あるいはクリームはんだ中のフラ
ックスが数％混入すると液の均一性が保てなくなり２相
に分離したりする。
沸点が２００℃以下であり、かつ２０℃での水への溶解
量が２０重量％以下の有機溶剤（Ｂ）成分を、５〜２５
重量％含む。５重量％未満の添加ではその添加効果が明
確ではなく、２５重量％を超えて添加した場合には、組
成が均一にならない、あるいはクリームはんだ中のフラ
ックスが数％混入すると液の均一性が保てなくなり２相
に分離したりする。
【００１１】常圧における沸点が２００℃以下で２０℃
での水への溶解度が２０重量％以下の溶剤の具体例とし
ては、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプ
タノール、オクタノール、１，２−ブタンジオール等の
炭素数４〜８のアルコール類（構造中に分枝、環構造が
あってもよい）、ジブチルエーテル、メチルフェニルエ
ーテル、１，２−ジエトキシエタン等のエーテル類、蟻
酸ペンチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸ペンチ
ル、３−メトキシブチルアセタート、酢酸ヘキシル、２
−エチルブチルアセタート、２−エチルヘキシルアセタ
ート、シュウ酸ジエチル、マロン酸ジエチル、乳酸ブチ
ル、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート等のエ
ステル類、プロピレングリコールモノブチルエーテル、
２−エトキシエチルアセタート、２−ブトキシエチルア
セタート等のグリコールエーテル誘導体等が挙げられ
る。
での水への溶解度が２０重量％以下の溶剤の具体例とし
ては、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプ
タノール、オクタノール、１，２−ブタンジオール等の
炭素数４〜８のアルコール類（構造中に分枝、環構造が
あってもよい）、ジブチルエーテル、メチルフェニルエ
ーテル、１，２−ジエトキシエタン等のエーテル類、蟻
酸ペンチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸ペンチ
ル、３−メトキシブチルアセタート、酢酸ヘキシル、２
−エチルブチルアセタート、２−エチルヘキシルアセタ
ート、シュウ酸ジエチル、マロン酸ジエチル、乳酸ブチ
ル、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート等のエ
ステル類、プロピレングリコールモノブチルエーテル、
２−エトキシエチルアセタート、２−ブトキシエチルア
セタート等のグリコールエーテル誘導体等が挙げられ
る。
【００１２】本発明に用いられる一般式（２）で示され
る含窒素化合物（Ｃ）成分は、本発明の洗浄剤組成物中
に、０．００５〜１．０重量％配合される。０．００５
重量％未満の添加では充分な洗浄効果が得られず、１．
０重量％を超える量の添加ではメタルマスクを洗浄後乾
燥した場合に、上述の成分が残留するために、クリーム
ハンダの印刷性を損ねる等の問題を生じる。
る含窒素化合物（Ｃ）成分は、本発明の洗浄剤組成物中
に、０．００５〜１．０重量％配合される。０．００５
重量％未満の添加では充分な洗浄効果が得られず、１．
０重量％を超える量の添加ではメタルマスクを洗浄後乾
燥した場合に、上述の成分が残留するために、クリーム
ハンダの印刷性を損ねる等の問題を生じる。
【００１３】本発明に用いられる含窒素化合物の具体例
としては、Ｎ，Ｎ−ジ（２−ヒドロキシエチル）シクロ
ヘキシルアミン等のエタノールアミン類、エチレンオキ
シドの付加モル数が１〜２０であるポリオキシエチレン
ラウリルアミン、ポリオキシエチレンステアリルアミン
等のアルキルアミンのエチレンオキシド付加物等が挙げ
られる。
としては、Ｎ，Ｎ−ジ（２−ヒドロキシエチル）シクロ
ヘキシルアミン等のエタノールアミン類、エチレンオキ
シドの付加モル数が１〜２０であるポリオキシエチレン
ラウリルアミン、ポリオキシエチレンステアリルアミン
等のアルキルアミンのエチレンオキシド付加物等が挙げ
られる。
【００１４】本発明の洗浄剤組成物には、水（Ｄ）成分
が２９〜６９．９９５重量％配合される。好ましい配合
量は４０〜６０重量％である。更に本発明の洗浄剤組成
物には、洗浄効果を高めるために界面活性剤を配合する
ことができる。本発明に使用できる界面活性剤は、公知
のアニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、ノニ
オン性界面活性剤、両イオン性界面活性剤のいずれも使
用することができる。より具体的には、脂肪酸塩類、高
級アルコール硫酸エステル塩類、液体脂肪油硫酸エステ
ル塩類、脂肪族アミン及び脂肪族アミドの硫酸塩類、脂
肪アルコールリン酸エステル塩類、二塩基性脂肪酸塩の
スルホン酸塩類、脂肪酸アミドスルホン酸塩類、アルキ
ルアリルスルホン酸塩類、ホルマリン縮合のナフタリン
スルホン酸塩類等のアニオン性界面活性剤、脂肪族アミ
ン塩類、第４級アンモニウム塩類、アルキルピリジニウ
ム塩類等のカチオン性界面活性剤、ポリオキシアルキレ
ンアルキルエーテル類、ポリオキシアルキレンアルキル
フェノールエーテル類、ポリオキシアルキレンアルキル
アミン類、ポリオキシアルキレンアルキルエステル類、
ソルビタンアルキルエステル類、ポリオキシアルキレン
ソルビタンアルキルエステル等の非イオン性界面活性
剤、あるいはアルキルベタイン、アルキルジメチルアミ
ンオキシド、アルキルアラニン等の両イオン性界面活性
剤が主だったものとして挙げられるが、これに限定され
るものではない。
が２９〜６９．９９５重量％配合される。好ましい配合
量は４０〜６０重量％である。更に本発明の洗浄剤組成
物には、洗浄効果を高めるために界面活性剤を配合する
ことができる。本発明に使用できる界面活性剤は、公知
のアニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、ノニ
オン性界面活性剤、両イオン性界面活性剤のいずれも使
用することができる。より具体的には、脂肪酸塩類、高
級アルコール硫酸エステル塩類、液体脂肪油硫酸エステ
ル塩類、脂肪族アミン及び脂肪族アミドの硫酸塩類、脂
肪アルコールリン酸エステル塩類、二塩基性脂肪酸塩の
スルホン酸塩類、脂肪酸アミドスルホン酸塩類、アルキ
ルアリルスルホン酸塩類、ホルマリン縮合のナフタリン
スルホン酸塩類等のアニオン性界面活性剤、脂肪族アミ
ン塩類、第４級アンモニウム塩類、アルキルピリジニウ
ム塩類等のカチオン性界面活性剤、ポリオキシアルキレ
ンアルキルエーテル類、ポリオキシアルキレンアルキル
フェノールエーテル類、ポリオキシアルキレンアルキル
アミン類、ポリオキシアルキレンアルキルエステル類、
ソルビタンアルキルエステル類、ポリオキシアルキレン
ソルビタンアルキルエステル等の非イオン性界面活性
剤、あるいはアルキルベタイン、アルキルジメチルアミ
ンオキシド、アルキルアラニン等の両イオン性界面活性
剤が主だったものとして挙げられるが、これに限定され
るものではない。
【００１５】本発明の洗浄剤組成物は、超音波洗浄法、
スプレー洗浄法、ブラシ洗浄法、手拭き法等の物理力を
併用することで特に好ましい洗浄結果を得ることができ
る。本発明の洗浄剤を使用する一例としては、例えば、
クリームはんだの付着したメタルマスクを、本発明の洗
浄剤組成物を入れた超音波洗浄槽を用いて超音波洗浄
し、洗浄後エアブロー、又は遠心により液切りをした後
直接乾燥すれば良い。また、場合により、本発明の洗浄
剤でメタルマスクを洗浄後、水あるいは他の有機溶剤で
仕上げすすぎをする事も可能である。
スプレー洗浄法、ブラシ洗浄法、手拭き法等の物理力を
併用することで特に好ましい洗浄結果を得ることができ
る。本発明の洗浄剤を使用する一例としては、例えば、
クリームはんだの付着したメタルマスクを、本発明の洗
浄剤組成物を入れた超音波洗浄槽を用いて超音波洗浄
し、洗浄後エアブロー、又は遠心により液切りをした後
直接乾燥すれば良い。また、場合により、本発明の洗浄
剤でメタルマスクを洗浄後、水あるいは他の有機溶剤で
仕上げすすぎをする事も可能である。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、実施例を挙げて、更に詳細
に説明するが、本発明の範囲がこれらの実施例に限定さ
れるものではない。表１に示した実施例及び比較例の各
組成の洗浄剤を用いて、評価項目である均一性、クリー
ムはんだ洗浄性、引火点、乾燥性、接着剤への影響（メ
タルマスクへの影響）を試験した。夫々の評価方法を以
下に示す。
に説明するが、本発明の範囲がこれらの実施例に限定さ
れるものではない。表１に示した実施例及び比較例の各
組成の洗浄剤を用いて、評価項目である均一性、クリー
ムはんだ洗浄性、引火点、乾燥性、接着剤への影響（メ
タルマスクへの影響）を試験した。夫々の評価方法を以
下に示す。
【００１７】均一性：表１に記載の組成物を調合し、透
明均一であれば○、濁りあるいは相分離の起こるものに
ついては×とした。洗浄性：全孔を５０倍の顕微鏡で検
査し、ハンダ粒の残存のある孔を不良孔とし、不良率２
％以下を○、不良率５％以下を△、不良率５％を超えれ
ば×とした。この評価においてクリームハンダは千住金
属工業（株）製ＳＰＡＲＫＬＥ ＰＡＳＴＥ ＯＺ ６
３−１７７Ｆ−５０−９を使用した。
明均一であれば○、濁りあるいは相分離の起こるものに
ついては×とした。洗浄性：全孔を５０倍の顕微鏡で検
査し、ハンダ粒の残存のある孔を不良孔とし、不良率２
％以下を○、不良率５％以下を△、不良率５％を超えれ
ば×とした。この評価においてクリームハンダは千住金
属工業（株）製ＳＰＡＲＫＬＥ ＰＡＳＴＥ ＯＺ ６
３−１７７Ｆ−５０−９を使用した。
【００１８】乾燥性：乾燥性の評価としては、４５℃の
温風で５分間の乾燥した後、目検査及び触れてみて完全
に乾燥状態であるものを○、溶剤のシミ、触れた場合に
べたつきがある物を×とした。 メタルマスクへの影響：１５０ｍｍ角のフレームでテス
ト用の版を作製した（ポリエステル製の紗を使用、接着
剤はゴム系接着剤、接着面の幅３０ｍｍ）。室温で各組
成物中に１分間浸漬後版を引き上げ、４５℃の温風で５
分間の乾燥を行った。この浸漬、乾燥操作を２０回繰り
返した後、２日間放置した。この試験中に接着部分に剥
離がみられた場合や版を破損した場合に×、影響がみら
れなかったものを○とした。
温風で５分間の乾燥した後、目検査及び触れてみて完全
に乾燥状態であるものを○、溶剤のシミ、触れた場合に
べたつきがある物を×とした。 メタルマスクへの影響：１５０ｍｍ角のフレームでテス
ト用の版を作製した（ポリエステル製の紗を使用、接着
剤はゴム系接着剤、接着面の幅３０ｍｍ）。室温で各組
成物中に１分間浸漬後版を引き上げ、４５℃の温風で５
分間の乾燥を行った。この浸漬、乾燥操作を２０回繰り
返した後、２日間放置した。この試験中に接着部分に剥
離がみられた場合や版を破損した場合に×、影響がみら
れなかったものを○とした。
【００１９】
【実施例１】０．５ｍｍピッチ２００ピンＱＦＰ用印刷
パターン切片の開孔部に、クリームはんだを詰め５０℃
で１時間放置した。これを、表１の実施例１の各成分の
組成からなる調製液を入れた卓上型の超音波洗浄機（槽
容量２Ｌ、超音波周波数４５ｋＨｚ、出力６０Ｗ）で、
該洗浄剤温度３０℃で１分間超音波浸漬洗浄を行った。
洗浄後４５℃の温風中で５分間乾燥を行った。結果は、
表１参照。
パターン切片の開孔部に、クリームはんだを詰め５０℃
で１時間放置した。これを、表１の実施例１の各成分の
組成からなる調製液を入れた卓上型の超音波洗浄機（槽
容量２Ｌ、超音波周波数４５ｋＨｚ、出力６０Ｗ）で、
該洗浄剤温度３０℃で１分間超音波浸漬洗浄を行った。
洗浄後４５℃の温風中で５分間乾燥を行った。結果は、
表１参照。
【００２０】
【実施例２〜１１】０．５ｍｍピッチ２００ピンＱＦＰ
用印刷パターン切片の開孔部に、クリームはんだを詰め
５０℃で１時間放置した。これを、表１の実施例２〜１
１までの各成分の組成からなる調製液を用いて実施例１
と同様に実施した。結果は、表１参照。
用印刷パターン切片の開孔部に、クリームはんだを詰め
５０℃で１時間放置した。これを、表１の実施例２〜１
１までの各成分の組成からなる調製液を用いて実施例１
と同様に実施した。結果は、表１参照。
【００２１】
【比較例１】表１に示すように、本発明の（Ｂ）成分で
ある２０℃における溶解度が２０重量％以下である化合
物を含まない組成物で、実施例１と同様に洗浄を行っ
た。洗浄性は、洗浄不良となった。結果は、表１参照。
ある２０℃における溶解度が２０重量％以下である化合
物を含まない組成物で、実施例１と同様に洗浄を行っ
た。洗浄性は、洗浄不良となった。結果は、表１参照。
【００２２】
【比較例２】表１に示すように、本発明の（Ｃ）成分で
あるアミン系化合物を含まない組成物で実施例１と同様
に洗浄を行った。洗浄性は、洗浄不良となった。結果
は、表１参照。
あるアミン系化合物を含まない組成物で実施例１と同様
に洗浄を行った。洗浄性は、洗浄不良となった。結果
は、表１参照。
【００２３】
【比較例３】表１に示すように、本発明の（Ｂ）成分で
ある２０℃における溶解度が２０重量％以下である化合
物を、過剰に含む配合では組成物は均一にならなかっ
た。（以後の試験不可）
ある２０℃における溶解度が２０重量％以下である化合
物を、過剰に含む配合では組成物は均一にならなかっ
た。（以後の試験不可）
【００２４】
【比較例４】表１に示すように、水分の配合量の低い組
成で実施例１と同様に実施した場合では、洗浄性は良好
であるものの、ダメージ評価用の試験版を２回洗浄した
時点で試験版が破損した。結果は、表１参照。
成で実施例１と同様に実施した場合では、洗浄性は良好
であるものの、ダメージ評価用の試験版を２回洗浄した
時点で試験版が破損した。結果は、表１参照。
【００２５】
【比較例５】表１に示す組成のように、水分を過剰に含
む場合で、実施例１と同様に実施した場合では、洗浄不
良となった。結果は、表１参照。
む場合で、実施例１と同様に実施した場合では、洗浄不
良となった。結果は、表１参照。
【００２６】
【比較例６】表１に示す組成のように、本発明の（Ｃ）
成分であるアミン化合物を過剰に含む組成で、実施例１
と同様に実施した場合では洗浄性には問題がみられなか
ったが、乾燥後に試験版に触れた場合にべたつきがあっ
た。結果は、表１参照。
成分であるアミン化合物を過剰に含む組成で、実施例１
と同様に実施した場合では洗浄性には問題がみられなか
ったが、乾燥後に試験版に触れた場合にべたつきがあっ
た。結果は、表１参照。
【００２７】
【比較例７】表１に示す組成のように、グリコールエー
テル系溶剤としてジエチレングリコールモノブチルエー
テル（沸点２３０．６℃）を使用し、実施例１と同様に
実施した場合、４５℃、５分間の乾燥条件では溶剤の残
留があり、また２０回の洗浄後、保存中に試験版が破損
した。結果は、表１参照。
テル系溶剤としてジエチレングリコールモノブチルエー
テル（沸点２３０．６℃）を使用し、実施例１と同様に
実施した場合、４５℃、５分間の乾燥条件では溶剤の残
留があり、また２０回の洗浄後、保存中に試験版が破損
した。結果は、表１参照。
【００２８】表１の評価結果に示したように、実施例１
〜１１ではメタルマスクに対する充分な洗浄力を有する
のみでなく、他溶媒によるすすぎを必要とせず、洗浄後
直接乾燥する事ができた。又メタルマスクを構成する接
着剤に対しても影響が極めて少ない。これに対して比較
例１〜７に挙げた組成では、組成の均一性、洗浄性、乾
燥性、接着剤に対する影響、各いずれかに、満足を得な
い結果となった。
〜１１ではメタルマスクに対する充分な洗浄力を有する
のみでなく、他溶媒によるすすぎを必要とせず、洗浄後
直接乾燥する事ができた。又メタルマスクを構成する接
着剤に対しても影響が極めて少ない。これに対して比較
例１〜７に挙げた組成では、組成の均一性、洗浄性、乾
燥性、接着剤に対する影響、各いずれかに、満足を得な
い結果となった。
【００２９】
【表１】
【００３０】
【発明の効果】実施例からも明らかなように、本発明の
洗浄剤組成物はメタルマスクに対して充分な洗浄力を有
すると共に、乾燥性が良く、メタルマスクに対するダメ
ージが極めて少ない。また、水分を多量に含むため引火
の危険性も少ない。しかもハロゲン原子を含まず、オゾ
ン層破壊の恐れがないため、１，１，１−トリクロロエ
タンの代替洗浄剤として極めて有用である。
洗浄剤組成物はメタルマスクに対して充分な洗浄力を有
すると共に、乾燥性が良く、メタルマスクに対するダメ
ージが極めて少ない。また、水分を多量に含むため引火
の危険性も少ない。しかもハロゲン原子を含まず、オゾ
ン層破壊の恐れがないため、１，１，１−トリクロロエ
タンの代替洗浄剤として極めて有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ１１Ｄ 3:43 3:30）
Claims (2)
- 【請求項１】 （Ａ）下記一般式（１）で表される化合
物の中で常圧における沸点が１００℃以上２００℃以下
の化合物より選ばれる１種または２種以上の化合物を、
２５〜４５重量％、 Ｒ1 Ｏ−（Ｒ2 Ｏ）n −Ｒ3 （１） （式中Ｒ1 は炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ2 は炭素数
２〜５のアルキレン基で直鎖または分枝をもつものでも
よく、Ｒ3 は水素または炭素数１〜４のアルキル基また
はアシル基を示し、ｎは１〜２の整数で示される） （Ｂ）常圧における沸点が１００℃以上２００℃以下で
あり、かつ２０℃での水への溶解量が２０重量％以下の
有機溶剤を、５〜２５重量％、 （Ｃ）下記一般式（２）で表される含窒素化合物、０．
００５〜１．０重量％ （式中Ｒ4 は炭素数６〜２０のアルキル基、ｍ＋ｎは２
〜２０で示される） （Ｄ）水、残量（２９〜６９．９９５重量％）を、含有
することを特徴とするメタルマスク用洗浄剤組成物。 - 【請求項２】 更に、界面活性剤を、０．００５〜１．
０重量％を含有することを特徴とする請求項１に記載の
メタルマスク用洗浄剤組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7214858A JPH0959698A (ja) | 1995-08-23 | 1995-08-23 | メタルマスク用洗浄剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7214858A JPH0959698A (ja) | 1995-08-23 | 1995-08-23 | メタルマスク用洗浄剤組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0959698A true JPH0959698A (ja) | 1997-03-04 |
Family
ID=16662726
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7214858A Withdrawn JPH0959698A (ja) | 1995-08-23 | 1995-08-23 | メタルマスク用洗浄剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0959698A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09188900A (ja) * | 1996-01-04 | 1997-07-22 | Ishihara Chem Co Ltd | 洗車機ブラシ洗浄剤 |
| JP2013194092A (ja) * | 2012-03-16 | 2013-09-30 | Bridgestone Corp | 洗浄液組成物 |
| KR20180129663A (ko) * | 2017-05-26 | 2018-12-05 | 아라까와 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 무연 납땜 용제용 세정제 조성물, 무연 납땜 용제의 세정 방법 |
| JPWO2019163465A1 (ja) * | 2018-02-26 | 2020-12-17 | 化研テック株式会社 | リンス剤及びリンス剤の使用方法 |
-
1995
- 1995-08-23 JP JP7214858A patent/JPH0959698A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09188900A (ja) * | 1996-01-04 | 1997-07-22 | Ishihara Chem Co Ltd | 洗車機ブラシ洗浄剤 |
| JP2013194092A (ja) * | 2012-03-16 | 2013-09-30 | Bridgestone Corp | 洗浄液組成物 |
| KR20180129663A (ko) * | 2017-05-26 | 2018-12-05 | 아라까와 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 무연 납땜 용제용 세정제 조성물, 무연 납땜 용제의 세정 방법 |
| JP2018199808A (ja) * | 2017-05-26 | 2018-12-20 | 荒川化学工業株式会社 | 鉛フリーはんだフラックス用洗浄剤組成物、鉛フリーはんだフラックスの洗浄方法 |
| JPWO2019163465A1 (ja) * | 2018-02-26 | 2020-12-17 | 化研テック株式会社 | リンス剤及びリンス剤の使用方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPWO2011027673A1 (ja) | 鉛フリーハンダ水溶性フラックス除去用洗浄剤、除去方法及び洗浄方法 | |
| KR100241565B1 (ko) | 송진-기재 땜납 융제 세척용 세제 및 방법 | |
| JPH03227400A (ja) | ロジン系ハンダフラックスの洗浄剤及び洗浄方法 | |
| JP2817010B2 (ja) | 印刷板洗浄用の非毒性、非引火性洗浄剤 | |
| TWI754753B (zh) | 無鉛銲料助焊劑用洗淨劑組成物、無鉛銲料助焊劑之洗淨方法 | |
| JP3025850B2 (ja) | フラックス洗浄剤 | |
| JP2004002688A (ja) | 精密部品用洗浄剤組成物 | |
| JPH0959698A (ja) | メタルマスク用洗浄剤組成物 | |
| JP2949425B2 (ja) | 洗浄剤組成物 | |
| JP2813862B2 (ja) | 洗浄剤組成物 | |
| JP4063344B2 (ja) | メタルマスク用洗浄剤組成物 | |
| JPH03162496A (ja) | 洗浄剤組成物 | |
| JPH07109493A (ja) | 洗浄剤組成物 | |
| JPH0679852A (ja) | スクリーン印刷版用洗浄剤 | |
| JPH05287300A (ja) | 洗浄剤組成物 | |
| EP0500951A1 (en) | Halogen-free detergent composition | |
| JP2604632B2 (ja) | 洗浄剤組成物 | |
| JP3444641B2 (ja) | 洗浄剤 | |
| JP7006826B1 (ja) | 鉛フリーはんだフラックス用洗浄剤組成物、鉛フリーはんだフラックスの洗浄方法 | |
| JPH07126695A (ja) | ハンダペースト除去用洗浄剤 | |
| JPH0693292A (ja) | 洗浄剤 | |
| JPH09272825A (ja) | 洗浄剤組成物 | |
| JPH10204497A (ja) | 洗浄剤組成物 | |
| JPH09241685A (ja) | レンズ洗浄用工業用洗浄剤 | |
| JPH09241686A (ja) | 工業用脱脂洗浄剤 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20021105 |