JP2003082390A - レンズ及びプリズム製造工程用洗浄剤組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 レンズ及びプリズム製造工程で使用されるピ
ッチ等の固定剤、保護膜や接着剤に優れた除去性能を発
揮し、オゾン層を破壊する塩素系溶剤等を含まず、臭気
の少ない洗浄剤組成物を提供する。 【解決手段】 （イ）、（ロ）及び（ハ）の成分を含有
するレンズ及びプリズム製造工程用洗浄剤組成物。
（イ）沸点範囲１５０℃〜２５０℃のパラフィン、イソ
パラフィン及びナフテンから選ばれる１種以上の炭化水
素系溶剤２重量％〜２５重量％、（ロ）一般式１；Ｒ_１
−（Ｏ−Ｃ_ｎＨ_２ｎ）_ｍ−Ｏ−Ｒ_２（１）のグリコール
系溶剤２０重量％〜６０重量％および（ハ）γ−ブチロ
ラクトン、ブチロラクタム、Ｎ−メチル−２−ピロリド
ン、ε−カプロラクタム、ピペコリン及びピコリンから
選択される１種以上の非プロトン性極性溶剤３０重量％
〜７０重量％。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レンズやプリズム
の製造工程において使用される固定剤（ワックスピッ
チ、アスファルトピッチ、松やに、蜜蝋）、保護膜及び
レンズを固定・接合するために用いられるシアノアクリ
レート系接着剤を除去する目的で使用される、塩素系洗
浄剤を含まないレンズ及びプリズム製造工程用洗浄剤組
成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】レンズやプリズムの製造工程の各工程で
は、レンズ等を保持台に固定するために、ワックスピッ
チやアスファルトピッチ等の固定剤が用いられている。
また、研磨工程等では、片面の研磨時にもう片面の保護
のため、マスキング剤と呼ばれるフェノール系樹脂、ア
クリル系樹脂等でできた保護膜を塗布している。また、
シアノアクリレート系接着剤はレンズ等を冶具に固定す
る為や、レンズやプリズムを接合するために用いられ
る。

【０００３】これらの固定剤、保護膜及び接着剤は次工
程へ移行する際、または工程が終了した際には除去する
必要がある。この固定剤、保護膜及び接着剤の洗浄剤と
しては、従来は塩素系溶剤、例えばトリクロルエチレ
ン、テトラクロルエチレン、1,1,1-トリクロルエタン、
ジクロルメタンやフロン系溶剤、例えばトリクロロトリ
フルオロエタン等が使用されてきた。しかしながら、近
年、これらの溶剤は、オゾン層を破壊する物質として規
制対象となったり、また、地下水汚染の問題等をおこし
ている。しかしながら完全な密閉系による使用は大変難
しい。また、これら塩素系、フロン系溶剤に変わるＨＣ
ＦＣ−１４１ｂ、ＨＣＦＣ−２２５に代表される代替フ
ロンについても、オゾン破壊係数が全く０とは言えず、
将来的には全廃する方向にあり、また地球温暖化への懸
念材料もある。

【０００４】近年これらの対策として、代替フロンや塩
素系溶剤を使用しないレンズ等製造工程用洗浄剤組成物
として次のようなものが提案されている。特開平７−２
４７４９９号公報には、ジアルキルグリコールエーテル
を配合したもの、特開平９−２５４９６号公報には、特
定のアルコールとプロピレングリコールモノアルキルエ
ーテルもしくはジプロピレングリコールモノアルキルエ
ーテルグリコールエーテルとの混合物が記載されてい
る。しかしながら、これらの洗浄剤組成物は、ワックス
ピッチの溶解性に優れるものの、他のアスファルトピッ
チ、樹脂系保護膜の溶解除去性には十分なものとは言え
ず、また、シアノアクリレート系接着剤への洗浄能力は
無い。また、特開平８−２５４６０２号公報には、特定
の芳香族化合物と脂肪族化合物とを特定の割合で混合し
た溶剤が提案されている。しかし、この組成物では、ア
スファルトピッチ及び一部の樹脂系保護膜しか溶解除去
できない。さらに、芳香族系化合物は環境的問題及び人
体への影響面での問題があり、臭気も強い。芳香族系化
合物の割合を少なくすれば、性能が不充分となる問題点
を持っている。

【０００５】以上のように、固定剤、保護膜のいずれか
には有効ではあっても、同一工程で洗浄除去する場合に
は洗浄時間をかなり要する等の問題が生じ、シアノアク
リレート系接着剤に関しては固定剤、保護膜と同時に洗
浄する洗浄剤組成物は塩素系洗浄剤以外に無かった。ま
た、ワックスピッチ、アスファルトピッチ、保護膜、接
着剤の何れかに優れた溶剤があっても、臭気の強い溶剤
が多く、臭気の少ない洗浄剤組成物が要望されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、レンズ及び
プリズム製造工程において使用されるワックスピッチ、
アスファルトピッチ等の固定剤、及び保護膜、シアノア
クリレート系接着剤のいずれにも優れた除去性能を発揮
し、オゾン層を破壊する物質である塩素系溶剤等を含ま
ず、かつ臭気の少ない洗浄剤組成物を提供することを目
的としてなされたものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、オゾン層を破
壊することなく、かつ臭気の少ないレンズ及びプリズム
製造工程用洗浄剤組成物について、鋭意検討を行った結
果、特定の炭化水素系溶剤、グリコール系溶剤及び非プ
ロトン性極性溶剤を混合することにより、ワックスピッ
チ、アスファルトピッチ、保護膜、シアノアクリレート
系接着剤の何れの除去対象物に対しても溶解、除去能力
に優れた相乗効果を得ることを見出し、本発明を完成し
た。即ち、本発明は、 （イ）沸点範囲が１５０℃〜２５０℃の範囲内にある、
パラフィン、イソパラフィン及びナフテンの中から選ば
れる少なくとも１種の炭化水素系溶剤を２重量％〜２５
重量％ （ロ）下記一般式（１）； Ｒ_１−（Ｏ−Ｃ_ｎＨ_２ｎ）_ｍ−Ｏ−Ｒ_２ （１） （Ｒ_１及びＲ_２は、アルキル基または水素を示し、Ｒ_１
とＲ_２の炭素数の合計は１〜１２の整数、ｎは、２〜
３、ｍは、１〜３の整数を表す。）で表されるグリコー
ル系溶剤を２０重量％〜６０重量％ （ハ）γ−ブチロラクトン、ブチロラクタム、Ｎ−メチ
ル−２−ピロリドン、ε−カプロラクタム、ピペコリン
及びピコリンから成る群から選択される少なくとも１種
の非プロトン性極性溶剤を３０重量％〜７０重量％を含
有するレンズ及びプリズム製造工程用洗浄剤組成物を提
供する。

【０００８】

【発明の実施の形態】本発明に用いる（イ）成分は、沸
点範囲が１５０℃〜２５０℃の範囲内にある、パラフィ
ン、イソパラフィン、ナフテンの中から選ばれる１種以
上の炭化水素系溶剤である。好ましくは、デカン、ドデ
カン、テトラデカン、イソデカン、イソドデカン、イソ
テトラデカンである。配合量は、２重量％〜２５重量％
であり、好ましくは、５重量％〜２０重量％である。配
合量が２重量％以下もしくは２５重量％以上であれば、
（ロ）、（ハ）成分との成分混合による相乗効果が得ら
れ難い。また、２５重量％以上では、液が不安定になり
分層等の不都合が生じる。２重量％以下ではワックスピ
ッチ、アスファルトピッチ等の固定剤の除去性能が不十
分となる。

【０００９】本発明に用いる（ロ）成分である一般式
（１）で表される化合物は、グリコール系溶剤であり、
Ｒ_１及びＲ_２は、アルキル基または水素を示し、Ｒ_１と
Ｒ_２の炭素数の合計は１〜１２の整数、ｎは２〜３、ｍ
は１〜３の整数を表す。例示するとエチレングリコール
モノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチル
エーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エ
チレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリ
コールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモ
ノブチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエ
ーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジ
エチレングリコールモノヘキシルエーテル、トリエチレ
ングリコールモノヘキシルエ−テル、エチレングリコー
ルモノ２−エチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノ２−エチルヘキシルエーテル、トリエチレング
リコールモノ２−エチルヘキシルエーテル、プロピレン
グリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコー
ルモノメチルエーテル、リプロピレングリコールモノメ
チルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエー
テル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、
トリプロピレングリコールモノプロピルエーテル，プロ
ピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレング
リコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコー
ルモノブチルエーテル、エチレングリコールジブチルエ
ーテル、エチレングリコールジヘキシルエーテル、ジエ
チレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチル
エーテル、ジエチレングリコールジヘキシルエーテル、
トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレ
ングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコール
ジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエ
ーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル等が
挙げられる。

【００１０】好ましくは、エチレングリコールモノヘキ
シルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエー
テル、トリエチレングリコールモノヘキシルエ−テル、
エチレングリコールモノ２−エチルヘキシルエーテル、
ジエチレングリコールモノ２−エチルヘキシルエーテル
トリエチレングリコールモノ２−エチルヘキシルエーテ
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロ
ピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレン
グリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール
モノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノプ
ロピルエーテル、トリプロピレングリコールモノプロピ
ルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、
ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレング
リコールジブチルエーテル、ジプロピレングリコールジ
メチルエーテルである。

【００１１】その配合量は、洗浄剤組成物の全体量に対
して２０重量％〜６０重量％であり、好ましくは、２５
重量％〜４５重量％である。２０重量％以下または６０
重量％以上では、洗浄能力に対して溶剤混合による相乗
効果が期待できない。また、２０重量％以下であれば、
液が不安定になり分層等の不都合が生じ、さらに、保護
膜の洗浄性が不十分になる。６０重量％以上ではワック
スピッチ、アスファルトピッチ等の固定剤に対しての洗
浄性が不十分になる。

【００１２】本発明に用いる（ハ）成分は、γ−ブチロ
ラクトン、ブチロラクタム、Ｎ−メチル−２−ピロリド
ン、ε−カプロラクタム、ピペコリン及びピコリンから
成る群から選択される１種以上の非プロトン性極性溶剤
であり、好ましくはＮ−メチル−２−ピロリドンであ
る。配合量は３０重量％〜７０重量％であり、好ましく
は４０重量％〜６５重量％である。３０重量％以下また
は７０重量％以上では、洗浄能力に対して溶剤混合によ
る相乗効果が期待できない。また、３０重量％以下であ
ればシアノアクリレート系接着剤に対しての洗浄性が不
十分になる。７０重量％以上であれば、ワックスピッ
チ、アスファルトピッチ等の固定剤や、保護膜に対して
の洗浄性が不十分になる。

【００１３】さらに必要に応じて本洗浄剤に溶解する界
面活性剤を含有してもよい。使用する界面活性剤は、洗
浄剤に用いられる公知の界面活性剤を含有させることが
できる。界面活性剤は、非イオン性界面活性剤、陰イオ
ン性界面活性剤、陽イオン性界面活性剤、両性界面活性
剤いずれでもよいが疎水性の強い界面活性剤が望まし
い。好ましくは、非イオン界面活性剤であり、例えば、
高級アルコールエチレンオキサイド付加物、脂肪酸エチ
レンオキサイド付加物、高級脂肪族アミン及び脂肪酸ア
ミドのエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリ
コールエチレンオキサイド付加物、グリセリン及びペン
タエリストリットの脂肪酸エステル、さらにそのエチレ
ンオキサイド付加物、等が挙げられる。具体的には、テ
トラオキシエチレン−２−エチルヘキシルエーテル、ト
リオキシエチレンドデシルエーテル、テトラオキシエチ
レンドデシルエーテル等が挙げられる。本発明洗浄剤組
成物に界面活性剤を含有させることにより、汚れへの浸
透力が向上し、除去能力を向上させることができる。

【００１４】

【実施例】以下に、実施例を挙げて本発明をさらに詳細
に説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限
定されるものではない。なお、実施例及び比較例におい
て、洗浄剤の評価は下記の方法により行った。

【００１５】（１）テストピースの調製 光学レンズ・プリズム製造メーカーで使用されているア
スファルトピッチ、ワックスピッチ、松やに、フェノー
ル系樹脂保護膜をスライドガラスに０．１ｇ計り取り、
１００℃のホットプレート上で２時間乾燥後、１昼夜室
内放置したものをテストピースとした。シアノアクリレ
ート系接着剤はスライドガラスの下部１cmに塗布し、乾
燥後テストピースとした。

【００１６】（２）洗浄性の評価方法 表１および表２に示す実施例及び比較例の洗浄剤組成物
１００mlを１００mlビーカーに入れ、超音波洗浄機（洗
浄条件：６００W、２８kHz）を用い、室温にてテストピ
ースを１分間洗浄処理した。洗浄性の評価は、次の基準
で評価した。結果を表１及び表２に示した。

【００１７】評価基準 ◎：スライドガラス上に汚れが全く残らない。 ○：スライドガラス上に汚れが微量残る。 △：スライドガラス上に汚れが少量残る。 ×：スライドガラス上に汚れが多く残る。

【００１８】（３）安定性の評価方法 表２および表２に示す実施例及び比較例の洗浄剤組成物
１００mlを１００mlのサンプル瓶に入れ密閉し、０℃、
４０℃で静置保存する。０℃、４０℃いずれも７日以上
分層しないものを安定（○）と判断し、０℃、４０℃両
方、もしくはどちらか一方の温度で６日以内に分層した
場合を不安定（×）と判断した。結果を表１及び表２に
示した。

【００１９】（４）臭気の評価方法 表１および表２に示す実施例及び比較例の洗浄剤組成物
を３０人に対して臭気のモニター調査を行った。臭気に
ついて不快に感じるか感じないかの回答を集計し、以下
の基準で評価した。結果を表１及び表２に示した。

【００２０】評価基準 ◎：０〜５人が不快に感じる。 ○：６人〜１５人が不快に感じる。 △：１６人〜２５人が不快に感じる。 ×：２６人〜３０人が不快に感じる。

【００２１】

【表１】

【００２２】

【表２】

【００２３】

【発明の効果】本発明の洗浄剤組成物は、レンズ及びプ
リズム製造工程において使用されるワックスピッチ、ア
スファルトピッチ等の固定剤、保護膜及びシアノアクリ
レート系接着剤の全てに対して優れた除去性能を発揮す
る。しかも、トリクロルエチレン、テトラクロルエチレ
ン、1,1,1−トリクロルエタン、ジクロルメタン等の塩
素系溶剤やフロン系溶剤を含まず、臭気も少なく、環境
面、安全面で優れている。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （イ）、（ロ）及び（ハ）の成分を含有
   するレンズ及びプリズム製造工程用洗浄剤組成物。 （イ）沸点範囲が１５０℃〜２５０℃の範囲内にある、
   パラフィン、イソパラフィン及びナフテンの中から選ば
   れる少なくとも１種の炭化水素系溶剤を２重量％〜２５
   重量％ （ロ）下記一般式（１）； Ｒ_１−（Ｏ−Ｃ_ｎＨ_２ｎ）_ｍ−Ｏ−Ｒ_２ （１） （Ｒ_１及びＲ_２は、アルキル基または水素を示し、Ｒ_１
   とＲ_２の炭素数の合計は１〜１２の整数、ｎは、２〜
   ３、ｍは、１〜３の整数を表す。）で表されるグリコー
   ル系溶剤を２０重量％〜６０重量％ （ハ）γ−ブチロラクトン、ブチロラクタム、Ｎ−メチ
   ル−２−ピロリドン、ε−カプロラクタム、ピペコリン
   及びピコリンから成る群から選択される少なくとも１種
   の非プロトン性極性溶剤を３０重量％〜７０重量％
2. 【請求項２】 請求項１に記載の（ロ）のグリコール系
   溶剤が、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジ
   エチレングリコールモノヘキシルエーテル、トリエチレ
   ングリコールモノヘキシルエ−テル、エチレングリコー
   ルモノ２−エチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコ
   ールモノ２−エチルヘキシルエーテル、トリエチレング
   リコールモノ２−エチルヘキシルエーテル、プロピレン
   グリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコー
   ルモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノ
   メチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエ
   ーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテ
   ル、トリプロピレングリコールモノプロピルエーテル、
   ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレング
   リコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブ
   チルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテ
   ルから成る群から選択される少なくとも１種である請求
   項１に記載のレンズ及びプリズム製造工程用洗浄剤組成
   物。