JP2010168465A - 硫黄およびセレン原子を含む組成物の洗浄剤および洗浄方法 - Google Patents
硫黄およびセレン原子を含む組成物の洗浄剤および洗浄方法 Download PDFInfo
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Abstract
【課題】
高屈折率化を可能とする硫黄原子および/またはセレン原子を有する無機化合物を使用した光学材料用組成物用の洗浄剤および洗浄方法を提供すること。
【解決手段】
硫黄原子および/またはセレン原子を有する無機化合物を含む光学材料用組成物を洗浄する洗浄剤であって、ラクタムを有する化合物と酸性化合物を含有することを特徴とする光学材料用組成物の洗浄剤および該洗浄剤で硫黄原子および/またはセレン原子を有する無機化合物を含む光学材料用組成物を洗浄する洗浄方法であり、さらには洗浄後の廃液の安定性が高く、一般的な廃液処理が可能となった。
【選択図】なし
Description
1.硫黄原子および/またはセレン原子を有する無機化合物を含む光学材料用組成物を洗浄する洗浄剤であって、(A)ラクタムを有する化合物と(B)酸性化合物を含有することを特徴とする光学材料用組成物の洗浄剤。
2.(A)ラクタムを有する化合物がN−アルキルピロリドンであることを特徴とする第1項記載の光学材料用組成物の洗浄剤。
3.(A)ラクタムを有する化合物がN−メチルピロリドン、N−エチルピロリドンおよびN−プロピルピロリドンから選ばれる1種以上であることを特徴とする第1項記載の光学材料用組成物の洗浄剤。
4.(B)酸性化合物が、酸性有機化合物であることを特徴とする第1項記載の光学材料用組成物の洗浄剤。
5.(B)酸性化合物が、酸性リン酸エステル類および/または酸性亜リン酸エステル類であることを特徴とする第1項記載の光学材料用組成物の洗浄剤。
6.(A)ラクタムを有する化合物と(B)酸性化合物とを含有する洗浄剤で硫黄原子および/またはセレン原子を有する無機化合物を含む光学材料用組成物を洗浄する洗浄方法。
7.(A)ラクタムを有する化合物がN−アルキルピロリドンであることを特徴とする第6項記載の光学材料用組成物の洗浄方法。
8.(A)ラクタムを有する化合物がN−メチルピロリドン、N−エチルピロリドン、およびN−プロピルピロリドンから選ばれる1種以上であることを特徴とする第6項記載の光学材料用組成物の洗浄方法。
9.(B)酸性化合物が酸性有機化合物であることを特徴とする第6項記載の光学材料用組成物の洗浄方法。
10.(B)酸性化合物が、酸性リン酸エステル類および/または酸性亜リン酸エステル類であることを特徴とする第6項記載の光学材料用組成物の洗浄方法。
A;完全に溶解して洗浄剤が透明になったもの
B;ほとんど溶解したが洗浄剤に濁りが見えたもの
C;少ししか溶解せず溶け残りが見えたもの
D;全く溶けなかったもの
A;廃液が透明なもの
B;若干不透明なもの
C;明らかに不透明だが沈降物のないもの
D;明らかに不透明かつ沈降物の見られるもの
硫黄原子および/またはセレン原子を有する無機化合物を含む光学材料用組成物の調製
500mlのガラスフラスコに硫黄50gとビス(チオグリシジル)スルフィド450gを30℃で混合攪拌した。約3時間後、均一な組成物を得た。
光学材料用組成物の調製例に記した光学材料用組成物の調製時に使用したガラスフラスコから、大部分の組成物を取り出したのち、洗浄剤としてN−メチルピロリドン(NMP)100重量部と亜リン酸ジフェニル2重量部からなる洗浄液を室温(25℃)で吹き付けた。組成物は、完全に溶解して洗浄剤が透明になり、フラスコはきれいに洗浄できた。組成物の溶解した洗浄剤の廃液を30℃で保管したところ、30日間透明であった。結果を表1に示す。
表1に示す洗浄剤として用いる以外、実施例1と同様の操作を繰り返した。結果を表1および表2に示す。
Claims (10)
- 硫黄原子および/またはセレン原子を有する無機化合物を含む光学材料用組成物を洗浄する洗浄剤であって、(A)ラクタムを有する化合物と(B)酸性化合物を含有することを特徴とする光学材料用組成物の洗浄剤。
- (A)ラクタムを有する化合物がN−アルキルピロリドンであることを特徴とする請求項1記載の光学材料用組成物の洗浄剤。
- (A)ラクタムを有する化合物がN−メチルピロリドン、N−エチルピロリドンおよびN−プロピルピロリドンから選ばれる1種以上であることを特徴とする請求項1記載の光学材料用組成物の洗浄剤。
- (B)酸性化合物が酸性有機化合物であることを特徴とする請求項1記載の光学材料用組成物の洗浄剤。
- (B)酸性化合物が、酸性リン酸エステル類および/または酸性亜リン酸エステル類であることを特徴とする請求項1記載の光学材料用組成物の洗浄剤。
- (A)ラクタムを有する化合物と(B)酸性化合物とを含有する洗浄剤で硫黄原子および/またはセレン原子を有する無機化合物を含む光学材料用組成物を洗浄する洗浄方法。
- (A)ラクタムを有する化合物がN−アルキルピロリドンであることを特徴とする請求項6記載の光学材料用組成物の洗浄方法。
- (A)ラクタムを有する化合物がN−メチルピロリドン、N−エチルピロリドン、およびN−プロピルピロリドンから選ばれる1種以上であることを特徴とする請求項6記載の光学材料用組成物の洗浄方法。
- (B)酸性化合物が酸性有機化合物であることを特徴とする請求項6記載の光学材料用組成物の洗浄方法。
- (B)酸性化合物が酸性リン酸エステル類および/または酸性亜リン酸エステル類であることを特徴とする請求項6記載の光学材料用組成物の洗浄方法。
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Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS49128908A (ja) * | 1973-04-12 | 1974-12-10 | ||
JPH08127798A (ja) * | 1994-11-01 | 1996-05-21 | Kao Corp | 水系洗浄剤組成物 |
JPH09194892A (ja) * | 1996-01-24 | 1997-07-29 | Olympus Optical Co Ltd | 洗浄組成物 |
JPH1068000A (ja) * | 1996-08-29 | 1998-03-10 | Hakuto Co Ltd | 塗料配管の洗浄組成物およびその洗浄方法 |
JPH11217594A (ja) * | 1998-01-30 | 1999-08-10 | Neos Co Ltd | 塗料移送配管内洗浄剤組成物及び洗浄方法 |
JP2003082390A (ja) * | 2001-09-12 | 2003-03-19 | Neos Co Ltd | レンズ及びプリズム製造工程用洗浄剤組成物 |
JP2006016496A (ja) * | 2004-07-01 | 2006-01-19 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | リフローハンダ付け装置に配設されたラジエーター用の洗浄剤、及び洗浄廃液の処理方法 |
JP2006342282A (ja) * | 2005-06-10 | 2006-12-21 | Japan Energy Corp | 光学部品用樹脂洗浄液組成物 |
-
2009
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Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS49128908A (ja) * | 1973-04-12 | 1974-12-10 | ||
JPH08127798A (ja) * | 1994-11-01 | 1996-05-21 | Kao Corp | 水系洗浄剤組成物 |
JPH09194892A (ja) * | 1996-01-24 | 1997-07-29 | Olympus Optical Co Ltd | 洗浄組成物 |
JPH1068000A (ja) * | 1996-08-29 | 1998-03-10 | Hakuto Co Ltd | 塗料配管の洗浄組成物およびその洗浄方法 |
JPH11217594A (ja) * | 1998-01-30 | 1999-08-10 | Neos Co Ltd | 塗料移送配管内洗浄剤組成物及び洗浄方法 |
JP2003082390A (ja) * | 2001-09-12 | 2003-03-19 | Neos Co Ltd | レンズ及びプリズム製造工程用洗浄剤組成物 |
JP2006016496A (ja) * | 2004-07-01 | 2006-01-19 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | リフローハンダ付け装置に配設されたラジエーター用の洗浄剤、及び洗浄廃液の処理方法 |
JP2006342282A (ja) * | 2005-06-10 | 2006-12-21 | Japan Energy Corp | 光学部品用樹脂洗浄液組成物 |
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