JPH08127798A - 水系洗浄剤組成物 - Google Patents
水系洗浄剤組成物Info
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- JPH08127798A JPH08127798A JP6293725A JP29372594A JPH08127798A JP H08127798 A JPH08127798 A JP H08127798A JP 6293725 A JP6293725 A JP 6293725A JP 29372594 A JP29372594 A JP 29372594A JP H08127798 A JPH08127798 A JP H08127798A
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Abstract
有する水系洗浄剤組成物、当該アルキルリン酸エステル
の50〜100%当量が、窒素原子数が1〜5であって
分子量が50〜300であるアミン系化合物で中和され
ている水系洗浄剤組成物、及びエチレンオキサイドが付
加したリン酸エステルが同様にアミン系化合物で中和さ
れている水系洗浄剤組成物。 【効果】本発明の水系洗浄剤組成物は、金属イオンから
なる修飾酸化物を含むガラスの「焼け」を阻止し、同時
に高い洗浄性を持つ優れた性質を有するものである。
Description
る。更に詳しくは、金属イオンからなる修飾酸化物を含
むガラスとこれを使用した電機、電子、光学、精密工業
用向けの電子部品及び精密部品の固体表面に存在する、
油脂、接着剤、マスク剤、ワックス類、クリーム半田、
フラックス等の汚れを洗浄除去するための水系洗浄剤組
成物に関する。
は燐、ホウ素、珪素、ゲルマニウム等のガラス形成酸化
物とアルミニウム、ベリリウム等の中間酸化物、マグネ
シウム、亜鉛、カルシウム、鉛、ナトリウム等の修飾酸
化物から構成される。これら中間酸化物、修飾酸化物は
化学的な安定性を増強するためや光学恒数、硬度、弾性
率、熱膨張率、融点等の諸特性を調整するために配合さ
れるものである。
学ガラスや電子部品の封着、コーティング、接着に用い
られるはんだガラス、種々の光学的・電気的機能を有す
る機能性ガラスなどが挙げられる。
むガラスとこれを使用した電機、電子、光学、精密工業
向けの電子部品及び精密部品の固体表面に存在する、油
脂、接着剤、マスク剤、ワックス類、クリーム半田、フ
ラックス等の汚れの除去には、エタノール、イソプロパ
ノール等のアルコール系溶剤;ケロシン、ベンゼン、キ
シレン等の炭化水素系溶剤;トリクロロエチレン、テト
ラクロロエチレン等の塩素系溶剤;トリクロロトリフル
オロエタン等のフロン系溶剤等の溶剤系洗浄剤が使用さ
れていた。
に問題があり、また、炭化水素系溶剤、特にベンゼン、
キシレン等は毒性が強く、労働安全衛生上の有害物に指
定されている化合物であって、これを取り扱う作業の危
険性及び煩雑さを考慮すると、洗浄剤として用いること
は好ましくない。
洗浄剤は、安全性、毒性、環境汚染性等に大きな問題を
有していることが明らかにされ、国際レベルでその廃止
が進められている。
むガラスとこれを使用した電機、電子、光学、精密工業
向けの電子部品及び精密部品等の汚れの洗浄にも水系の
洗浄剤あるいは水でリンス可能な洗浄剤の使用が検討さ
れている。これらの洗浄剤は洗浄剤に使用する界面活性
剤やビルダー等を適宜選択配合することにより溶剤系洗
浄剤と同等以上の洗浄性を有すること、あるいは火災や
爆発の危険性が低い等種々の利点を有する。
属イオンからなる修飾酸化物を含むガラスとこれを使用
した電機、電子、光学、精密工業用向けの電子部品及び
精密部品等を洗浄する場合、金属イオンからなる修飾酸
化物を含むガラスの表層から修飾酸化物中の金属イオン
等の溶出、いわゆる「焼け」が起こる。それに伴って、
光学ガラスの場合、ガラスの表層部が変色したり、濁り
(曇り)を生じたりする。更に、はんだガラスの場合に
は、融点が上昇し接合剤としての使用時には接着不良を
起こすという不都合があった。
ては、これまでにも幾多の工夫がなされている。例えば
特開平5−271699号公報には、水酸化第四級アン
モニウム塩基をアルカリ基材とし、非イオン界面活性剤
とアルカノールアミンとを添加して得られる有機アルカ
リ水溶液を洗浄剤として使用することが示されている。
しかし、これらは極性の低い汚れの洗浄性が充分ではな
い。また、特開平5−302099号公報には、エチレ
ングリコールモノヘキシルエーテルと界面活性剤、補助
溶媒、水を包含する組成物を洗浄剤として使用すること
が示されている。しかし、これらは金属イオンからなる
修飾酸化物を含むガラスの「焼け」防止効果が不充分で
ある。
は、ポリオキシアルキレンリン酸エステル系界面活性剤
を含有するハンダフラックス洗浄剤に係る発明が開示さ
れており、その実施例としてリン酸エステルがアンモニ
ウム塩等を形成している例も示されている。しかし、リ
ン酸エステルが塩を形成していないものでは、当該エス
テルを洗浄剤組成物に多く添加させた時、系のpHの低
下が生じ、水に対する溶解性の悪化や洗浄液自体の粘度
の上昇が生じやすいという問題があった。また、アンモ
ニウム塩やナトリウム塩を形成しているものでは、油
脂、ワックス類、フラックス等の有機汚れとの相溶性が
劣り、良好な洗浄性が得られないばかりか、「焼け」防
止効果が不充分である。更に、残留による発錆性や電気
特性の劣化などの問題があった。
例えば窯業協会誌VOL87, No. 1, (1979 )には、アルカ
リガラスのアルカリ溶液による表面層の浸食、いわゆる
「潜傷」をCa2+、テトラメチルアンモニウムイオン
(N(CH3 )4 + )の存在により遅らせることができ
ることが開示されている。しかし、本発明で対象とする
金属イオンからなる修飾酸化物を含むガラスでは、修飾
酸化物の含有量が多いため、より激しい溶出が起こる。
また、汚れの中に含まれる成分の中には、これら修飾酸
化物の金属イオンと結合しやすいものがあり、「焼け」
を著しく促進することから、上記エッチングと異なる機
構によるものである。
決されたことのない課題を解決することにある。即ち、
従来の通常の水系洗浄剤の持つ欠点を改良し、金属イオ
ンからなる修飾酸化物を含むガラスの「焼け」を阻止
し、同時に洗浄性をも高める水系洗浄剤組成物を提供す
ることにある。
点を解決すべく鋭意研究を行った結果、金属イオンから
なる修飾酸化物を含むガラスとこれを使用した電機、電
子、光学、精密工業用向けの電子部品及び精密部品等を
水系洗浄剤で洗浄する際に、特定の化合物を含有する組
成物を洗浄剤として使用することにより、金属イオンか
らなる修飾酸化物を含むガラスの「焼け」を阻止し、か
つ洗浄性をも増大させることができることを見いだし、
本発明を完成するに至った。
式(1)
を示し、X1 は水素原子又は炭素数1〜4の炭化水素基
を示す。)で表わされるアルキルリン酸エステルを含有
してなる水系洗浄剤組成物、(b) 一般式(1)で表
わされるアルキルリン酸エステルの50〜100%当量
が、窒素原子数が1〜5であって分子量が50〜300
であるアミン系化合物で中和されている前記(a)記載
の水系洗浄剤組成物、(c) 次の一般式(2)
くは分岐鎖アルキル基、フェニル基又は炭素数8〜12
の直鎖若しくは分岐鎖アルキル基で置換されたフェニル
基を示し、qは0〜20の整数を示す。X2 は水酸基又
は次の一般式(3) R3 −O−(CH2 CH2 O)q − (3) (式中、R3 は炭素数1〜20の直鎖若しくは分岐鎖ア
ルキル基、フェニル基又は炭素数8〜12の直鎖若しく
は分岐鎖アルキル基で置換されたフェニル基を示す。q
は0〜20の整数を表す。)を示す。)で表わされるリ
ン酸エステルを含有してなる水系洗浄剤組成物であっ
て、該リン酸エステルの50〜100%当量が、窒素原
子数が1〜5であって分子量が50〜300であるアミ
ン系化合物で中和されている水系洗浄剤組成物、(d)
次の一般式(4)、(5)及び(6)
を、R5 及びR6 はそれぞれ炭素数2〜4のアルキレン
基を示す。Yは水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基
若しくはアシル基を示す。mは1〜7、nは0〜7、l
は0〜5、pは0〜5の整数を示す。)で表わされる化
合物からなる群より選ばれる1種以上のアルキレンオキ
サイド化合物をさらに含有してなる前記(a)〜(c)
いずれか記載の水系洗浄剤組成物、(e) 1種以上の
界面活性剤をさらに含有してなる前記(a)〜(d)い
ずれか記載の水系洗浄剤組成物、(f) 炭素数10〜
18の炭化水素をさらに含有してなる前記(a)〜
(e)いずれか記載の水系洗浄剤組成物、に関する。
分のうち、アルキルリン酸エステルは前記一般式(1)
で表される。一般式(1)中、R1 は炭素数1〜4の炭
化水素基であり、X1 は水素原子又は炭素数1〜4の炭
化水素基であることが必要である。R1 又はX1 の炭化
水素基の炭素数がこの範囲を超えると、pHが低下した
時に水に対する溶解性が悪くなり、洗浄液自体の粘度も
上昇するため、すすぎ性が低下する傾向がある。
しては、メチルリン酸モノエステル、エチルリン酸モノ
エステル、イソプロピルリン酸モノエステル、ブチルリ
ン酸モノエステル等のアルキルリン酸モノエステル類;
メチルリン酸ジエステル、エチルリン酸ジエステル、イ
ソプロピルリン酸ジエステル、ブチルリン酸ジエステル
等のアルキルリン酸ジエステル類;上記アルキルリン酸
モノエステルとアルキルリン酸ジエステルの混合物(以
下、この混合物をアルキルリン酸セスキエステルと称す
る。なお、ジエステルのアルキル鎖は同じであっても、
異なっていてもよい。)が挙げられる。アルキルリン酸
セスキエステルの具体例としては、メチルリン酸セスキ
エステル、エチルリン酸セスキエステル、イソプロピル
リン酸セスキエステル、ブチルリン酸セスキエステル等
が挙げられる。上記化合物のうち、メチルリン酸モノエ
ステル、エチルリン酸モノエステル、イソプロピルリン
酸モノエステル、ブチルリン酸モノエステル、メチルリ
ン酸セスキエステル、エチルリン酸セスキエステル、イ
ソプロピルリン酸セスキエステル、ブチルリン酸セスキ
エステルが特に好ましく用いることができる。
ルリン酸ジエステル及びアルキルリン酸セスキエステル
は、例えば次のようにして得ることができる。まず、炭
素数1〜4のアルコールに、五酸化二リン、オキシ塩化
リン、三塩化リン等の活性に富むリンの誘導体やオルト
リン酸、縮合リン酸(ポリリン酸)等のリン酸類を反応
せしめる方法によりアルキルリン酸セスキエステルを得
る。アルキルリン酸モノエステルを用いるには、上記の
ようにして得られたアルキルリン酸セスキエステルを例
えば、水中にて、水酸化ナトリウム等の無機アルカリや
有機アミンで中和し、塩を形成して溶解させる。これを
アセトンやエタノール等の有機溶剤中に添加し、アルキ
ルリン酸モノエステルを沈殿させる、又は、当該リン酸
セスキエステルを、加温したn−ヘキサン等の有機溶剤
中に溶解させた後、冷却してアルキルリン酸モノエステ
ルを沈殿させるなどの通常の分離方法により単離すれば
よい。また、アルキルリン酸ジエステルを用いるには、
上記のアルキルリン酸モノエステルの沈澱を取り除いた
有機溶剤溶液から濃縮乾固するなどの通常の分離方法に
より単離すればよい。
剤組成物中に0.1〜6重量%、特に0.2〜3重量%
配合するのが好ましい。この範囲未満では金属イオンか
らなる修飾酸化物を含むガラスの「焼け」防止効果が不
充分となる傾向があり、この範囲を超えるとpHが低下
し、水に対する溶解性が悪くなり、洗浄液自体の粘度も
上昇するため、すすぎ性が低下する傾向がある。更に、
特に、ガラス形成酸化物としてホウ素を含有するガラス
はpHが低いと「潜傷」と呼ばれる表面の腐食が起こり
易くなる。
記一般式(1)で表されるアルキルリン酸エステルは、
更にその50〜100%当量をアミン系化合物で中和さ
れることにより、当該エステルを洗浄剤組成物に多く添
加させた時のpHの低下を抑え、水に対する溶解性の悪
化や洗浄液自体の粘度の上昇を防ぎ、すすぎ性の低下を
抑えることができる。更に、ガラス形成酸化物としてホ
ウ素を含有するガラスの「潜傷」を防止することができ
る。中和は、上記の2成分を混合させることにより達成
される。このとき、所望の%当量の中和を行うための上
記2成分の混合比は、アルキルリン酸エステルの酸価及
びアミン系化合物の塩基価より容易に求めることができ
る。
系化合物としては、窒素原子数が1〜5であって、分子
量が50〜300の範囲のものが、好ましくは窒素原子
数が1〜2であって分子量100〜250のものが用い
られる。分子量がこの範囲未満では得られる洗浄剤組成
物の臭いが強くなる傾向があり、また、分子量がこの範
囲を超えるとアルキルリン酸エステルとの中和物の粘度
が上昇し、その結果、洗浄液自体の粘度も上昇するた
め、すすぎ性が低下する傾向がある。
次のような物質が挙げられる。 (a)モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、ト
リエタノールアミン、ジメチルエタノールアミン、ジブ
チルエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等の
アルカノールアミン類。 (b)モルホリン、エチルモルホリン等のモルホリン
類。 (c)シクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミ
ン、ポリオキシアルキレンシクロヘキシルアミン等、及
びこれらのシクロヘキシルアミン類1モルにつき、エチ
レンオキサイド、プロピレンオキサイド等を1〜20モ
ル付加重合した脂環式アミン類。 (d)ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミ
ン、ノニルアミン、デシルアミン、ウンデシルアミン、
ラウリルアミン、トリデシルアミン、ミリスチルアミ
ン、ペンタデシルアミン、セチルアミン、ヘプタデシル
アミン、ステアリルアミン、ノナデシルアミン、エイコ
シルアミン等の炭素数6〜22の直鎖アルキル基を有す
る直鎖アルキルアミン類。 (e)s−ブチルアミン、イソブチルアミン、t−ブチ
ルアミン、1−メチルブチルアミン、1−エチルプロピ
ルアミン、2−メチルブチルアミン、イソアミルアミ
ン、ジメチルプロピルアミン、t−アミルアミン、1,
3−ジメチルブチルアミン、3,3−ジメチルブチルアミ
ン、2−アミノヘプタン、3−アミノヘプタン、1−メ
チルヘプチルアミン、2−エチルヘキシルアミン、1, 5
−ジメチルヘキシルアミン、t−オクチルアミン、t−
トリデシルアミン、t−ナノデシルアミン等の炭素数4
〜22の分岐鎖アルキル基を有する分岐鎖アルキルアミ
ン類。 (f)その他、ピペラジン、トリエチレンジアミン、ペ
ンタメチルジエチレントリアミン、テトラメチルプロピ
レンジアミン等。
ン、メチルジエタノールアミン、エチルモルホリン、ピ
ペラジン、トリエチレンジアミン、シクロヘキシルアミ
ン、シクロヘキシルアミン1モルにつきにエチレンオキ
サイドを2モル付加重合させた脂環式アミン化合物(以
下、(POE)2 シクロヘキシルアミンと略記す
る。)、ヘキシルアミン、オクチルアミン、デシルアミ
ン、ラウリルアミン、ミリスチルアミン、セチルアミ
ン、ステアリルアミン、t−ブチルアミン、t−アミル
アミン、t−オクチルアミン、t−トリデシルアミン、
t−ナノデシルアミンが性能と入手のし易さの観点から
好ましく用いることができる。
酸エステルとこれらアミン系化合物の中和物は、洗浄剤
組成物中に0.2〜15重量%、特に0.5〜10重量
%配合するのが好ましい。この範囲未満では金属イオン
からなる修飾酸化物を含むガラスの「焼け」防止効果が
不充分となる傾向があり、この範囲を超えると、コスト
が高くなってしまって得策でないばかりか、洗浄剤の粘
度が上昇して、リンス工程で洗浄剤などが充分にリンス
されなくなる傾向がある。
分のうち、前記一般式(2)で表されるリン酸エステル
は、その50〜100%当量をアミン系化合物で中和さ
れることにより、当該エステルを洗浄剤組成物に多く添
加させた時のpHの低下を抑え、水に対する溶解性の悪
化や洗浄液自体の粘度の上昇を防ぎ、すすぎ性の低下を
抑えることができる。更に、ガラス形成酸化物としてホ
ウ素を含有するガラスの「潜傷」を防止することができ
る。リン酸エステルの中和に用いるアミン系化合物は、
アルキルリン酸エステルの中和に用いるアミン系化合物
と同様のものを使用できる。中和は、上記の2成分を混
合させることにより達成される。このとき、所望の%当
量の中和を行うための上記2成分の混合比は、アルキル
リン酸エステルの酸価及びアミン系化合物の塩基価より
容易に求めることができる。
直鎖若しくは分岐鎖アルキル基、フェニル基又は炭素数
8〜12の直鎖若しくは分岐鎖アルキル基で置換された
フェニル基であり、qは0〜20の整数であり、X2 は
水酸基又は一般式(3)(式中、R3 は炭素数1〜20
の直鎖若しくは分岐鎖アルキル基、フェニル基又は炭素
数8〜12の直鎖若しくは分岐鎖アルキル基で置換され
たフェニル基を示す。qは0〜20の整数である。)で
あることが必要である。したがって、本発明におけるリ
ン酸エステルは、アルキルリン酸エステルを包含するも
のである。
はR3 の炭化水素基等の炭素数が上記範囲を超えると、
水に対する溶解性が悪くなったり、洗浄液自体の粘度も
上昇するため、すすぎ性が低下する傾向がある。また、
qは0〜20の範囲の整数であるが、3〜14の範囲の
ものがより好ましい。qがこの範囲を超えると、洗浄液
の粘度が上昇する傾向があり、すすぎ性が低下する。以
下、かかるリン酸エステルを、qが0の場合とqが1〜
20の場合に分けて具体的に列挙する。
ル、イソプロピルリン酸モノエステル、ブチルリン酸モ
ノエステル、ペンチルリン酸モノエステル、ヘキシルリ
ン酸モノエステル、ヘプチルリン酸モノエステル、オク
チルリン酸モノエステル、ノニルリン酸モノエステル、
デシルリン酸モノエステル、イソデシルリン酸モノエス
テル、ウンデシルリン酸モノエステル、ラウリルリン酸
モノエステル、トリデシルリン酸モノエステル、ミリス
チルリン酸モノエステル、ペンタデシルリン酸モノエス
テル、セチルリン酸モノエステル、ヘプタデシルリン酸
モノエステル、ステアリルリン酸モノエステル、オレイ
ルリン酸モノエステル、オクチルフェニルリン酸モノエ
ステル、ノニルフェニルリン酸モノエステル、ドデシル
フェニルリン酸モノエステル等のリン酸モノエステル
類。
エステル、イソプロピルリン酸ジエステル、ブチルリン
酸ジエステル、ペンチルリン酸ジエステル、ヘキシルリ
ン酸ジエステル、ヘプチルリン酸ジエステル、オクチル
リン酸ジエステル、ノニルリン酸ジエステル、デシルリ
ン酸ジエステル、イソデシルリン酸ジエステル、ウンデ
シルリン酸ジエステル、ラウリルリン酸ジエステル、ト
リデシルリン酸ジエステル、ミリスチルリン酸ジエステ
ル、ペンタデシルリン酸ジエステル、セチルリン酸ジエ
ステル、ヘプタデシルリン酸ジエステル、ステアリルリ
ン酸ジエステル、オレイルリン酸ジエステル、オクチル
フェニルリン酸ジエステル、ノニルフェニルリン酸ジエ
ステル、ドデシルフェニルリン酸ジエステル等のリン酸
ジエステル類。
酸セスキエステル、イソプロピルリン酸セスキエステ
ル、ブチルリン酸セスキエステル、ペンチルリン酸セス
キエステル、ヘキシルリン酸セスキエステル、ヘプチル
リン酸セスキエステル、オクチルリン酸セスキエステ
ル、ノニルリン酸セスキエステル、デシルリン酸セスキ
エステル、イソデシルリン酸セスキエステル、ウンデシ
ルリン酸セスキエステル、ラウリルリン酸セスキエステ
ル、トリデシルリン酸セスキエステル、ミリスチルリン
酸セスキエステル、ペンタデシルリン酸セスキエステ
ル、セチルリン酸セスキエステル、ヘプタデシルリン酸
セスキエステル、ステアリルリン酸セスキエステル、オ
レイルリン酸セスキエステル、オクチルフェニルリン酸
セスキエステル、ノニルフェニルリン酸セスキエステ
ル、ドデシルフェニルリン酸セスキエステル等のリン酸
セスキエステル類。
般式(2)で表される化合物を、以下ポリオキシエチレ
ンリン酸エステルと称する。また、一般式(2)におい
て、R2 の炭化水素基がメチル基であってqが1である
リン酸モノエステルを(POE) 1メチルリン酸モノエ
ステルと略記する。以下、同様の化合物は、それに対応
した表現で上記と同様に略記する。また、(POE) 1
メチルリン酸モノエステル、(POE) 2メチルリン酸
モノエステル及び(POE) 3メチルリン酸モノエステ
ルをまとめて(POE) 1〜3 メチルリン酸モノエステ
ルと略記する。以下、同様の略記表現は、それに対応し
た化合物をまとめたものを意味する。) (POE)1 〜20メチルリン酸モノエステル、(PO
E)1 〜20エチルリン酸モノエステル、(POE)1 〜
20イソプロピルリン酸モノエステル、(POE)1 〜20
ブチルリン酸モノエステル、(POE)1 〜20ペンチル
リン酸モノエステル、(POE)1 〜20ヘキシルリン酸
モノエステル、(POE)1 〜20ヘプチルリン酸モノエ
ステル、(POE)1 〜20オクチルリン酸モノエステ
ル、(POE)1 〜20ノニルリン酸モノエステル、(P
OE)1 〜20デシルリン酸モノエステル、(POE)1
〜20イソデシルリン酸モノエステル、(POE)1 〜20
ウンデシルリン酸モノエステル、(POE)1 〜20ラウ
リルリン酸モノエステル、(POE)1 〜20トリデシル
リン酸モノエステル、(POE)1 〜20ミリスチルリン
酸モノエステル、(POE)1 〜20ペンタデシルリン酸
モノエステル、(POE)1 〜20セチルリン酸モノエス
テル、(POE)1 〜20ヘプタデシルリン酸モノエステ
ル、(POE)1 〜20ステアリルリン酸モノエステル、
(POE)1 〜20オレイルリン酸モノエステル、(PO
E)1 〜20オクチルフェニルリン酸モノエステル、(P
OE)1 〜20ノニルフェニルリン酸モノエステル、(P
OE)1 〜20ドデシルフェニルリン酸モノエステル等の
ポリオキシエチレンリン酸モノエステル類。
ル、(POE)1 〜20エチルリン酸ジエステル、(PO
E)1 〜20イソプロピルリン酸ジエステル、(POE)
1 〜20ブチルリン酸ジエステル、(POE)1 〜20ペン
チルリン酸ジエステル、(POE)1 〜20ヘキシルリン
酸ジエステル、(POE)1 〜20ヘプチルリン酸ジエス
テル、(POE)1 〜20オクチルリン酸ジエステル、
(POE)1 〜20ノニルリン酸ジエステル、(POE)
1 〜20デシルリン酸ジエステル、(POE)1 〜20イソ
デシルリン酸ジエステル、(POE)1 〜20ウンデシル
リン酸ジエステル、(POE)1 〜20ラウリルリン酸ジ
エステル、(POE)1 〜20トリデシルリン酸ジエステ
ル、(POE)1 〜20ミリスチルリン酸ジエステル、
(POE)1 〜20ペンタデシルリン酸ジエステル、(P
OE)1 〜20セチルリン酸ジエステル、(POE)1 〜
20ヘプタデシルリン酸ジエステル、(POE)1 〜20ス
テアリルリン酸ジエステル、(POE)1 〜20オレイル
リン酸ジエステル、(POE)1〜20オクチルフェニル
リン酸ジエステル、(POE)1 〜20ノニルフェニルリ
ン酸ジエステル、(POE)1 〜20ドデシルフェニルリ
ン酸ジエステル等のポリオキシエチレンリン酸ジエステ
ル類。なお、ジエステルのポリオキシエチレン鎖は同じ
であっても、異なっていてもよい。
テル、(POE)1 〜20エチルリン酸セスキエステル、
(POE)1 〜20イソプロピルリン酸セスキエステル、
(POE)1 〜20ブチルリン酸セスキエステル、(PO
E)1 〜20ペンチルリン酸セスキエステル、(POE)
1 〜20ヘキシルリン酸セスキエステル、(POE)1〜
20ヘプチルリン酸セスキエステル、(POE)1 〜20オ
クチルリン酸セスキエステル、(POE)1 〜20ノニル
リン酸セスキエステル、(POE)1 〜20デシルリン酸
セスキエステル、(POE)1 〜20イソデシルリン酸セ
スキエステル、(POE)1 〜20ウンデシルリン酸セス
キエステル、(POE)1 〜20ラウリルリン酸セスキエ
ステル、(POE)1 〜20トリデシルリン酸セスキエス
テル、(POE)1 〜20ミリスチルリン酸セスキエステ
ル、(POE)1 〜20ペンタデシルリン酸セスキエステ
ル、(POE)1 〜20セチルリン酸セスキエステル、
(POE)1 〜20ヘプタデシルリン酸セスキエステル、
(POE)1 〜20ステアリルリン酸セスキエステル、
(POE)1 〜20オレイルリン酸セスキエステル、(P
OE)1 〜20オクチルフェニルリン酸セスキエステル、
(POE)1 〜20ノニルフェニルリン酸セスキエステ
ル、(POE)1 〜20ドデシルフェニルリン酸セスキエ
ステル等。ここでいうセスキエステルとは、ポリオキシ
エチレンリン酸モノエステルと、ポリオキシエチレンリ
ン酸ジエステルの混合物のことをいう。
ステル、エチルリン酸モノエステル、イソプロピルリン
酸モノエステル、ブチルリン酸モノエステル、ヘキシル
リン酸モノエステル、オクチルリン酸モノエステル、デ
シルリン酸モノエステル、ラウリルリン酸モノエステ
ル、ミリスチルリン酸モノエステル、セチルリン酸モノ
エステル、ステアリルリン酸モノエステル、オレイルリ
ン酸モノエステル、ノニルフェニルリン酸モノエステ
ル、メチルリン酸セスキエステル、エチルリン酸セスキ
エステル、イソプルピルリン酸セスキエステル、ブチル
リン酸セスキエステル、ヘキシルリン酸セスキエステ
ル、オクチルリン酸セスキエステル、デシルリン酸セス
キエステル、ラウリルリン酸セスキエステル、ミリスチ
ルリン酸セスキエステル、セチルリン酸セスキエステ
ル、ステアリルリン酸セスキエステル、オレイルリン酸
セスキエステル、ノニルフェニルリン酸セスキエステ
ル、(POE)1 〜20メチルリン酸モノエステル、(P
OE)1 〜20エチルリン酸モノエステル、(POE)1
〜20イソプロピルリン酸モノエステル、(POE)1 〜
20ブチルリン酸モノエステル、(POE)1 〜20ヘキシ
ルリン酸モノエステル、(POE)1 〜20オクチルリン
酸モノエステル、(POE)1 〜20デシルリン酸モノエ
ステル、(POE)1 〜20ラウリルリン酸モノエステ
ル、(POE)1 〜20ミリスチルリン酸モノエステル、
(POE)1 〜20セチルリン酸モノエステル、(PO
E)1 〜20ステアリルリン酸モノエステル、(POE)
1 〜20オレイルリン酸モノエステル、(POE)1 〜20
オクチルフェニルリン酸モノエステル、(POE)1 〜
20ノニルフェニルリン酸モノエステル、(POE)1 〜
20メチルリン酸セスキエステル、(POE)1 〜20エチ
ルリン酸セスキエステル、(POE)1〜20イソプロピ
ルリン酸セスキエステル、(POE)1 〜20ブチルリン
酸セスキエステル、(POE)1 〜20ヘキシルリン酸セ
スキエステル、(POE)1 〜20オクチルリン酸セスキ
エステル、(POE)1 〜20デシルリン酸セスキエステ
ル、(POE)1 〜20ラウリルリン酸セスキエステル、
(POE)1 〜20ミリスチルリン酸セスキエステル、
(POE)1 〜20セチルリン酸セスキエステル、(PO
E)1 〜20ステアリルリン酸セスキエステル、(PO
E)1 〜20オレイルリン酸セスキエステル、(POE)
1 〜20オクチルフェニルリン酸セスキエステル、(PO
E)1 〜20ノニルフェニルリン酸セスキエステルが性能
と入手のし易さの観点から好ましく用いることができ
る。
おけるリン酸エステルは、アルコールの炭素数を1〜2
0にする以外は、前記一般式(1)で表されるアルキル
リン酸エステルの製造法と同様の方法で製造することが
できる。また、(b)におけるポリオキシエチレンリン
酸エステルは、炭素数1〜20の炭化水素基を有するア
ルコール、フェノール等に苛性ソーダ等の触媒の存在
下、加熱しながらエチレンオキサイドを気体状で加えて
反応させることにより、まずエチレンオキサイド化合物
を得る。得られたエチレンオキサイド化合物に五酸化リ
ン、オキシ塩化リン、三塩化リン等の活性に富むリンの
誘導体やオルトリン酸、縮合リン酸(ポリリン酸)等の
リン酸類を反応せしめる方法により求める化合物を得
る。
の中和物は、洗浄剤組成物中に0.2〜15重量%、特
に0.5〜10重量%配合するのが好ましい。この範囲
未満では金属イオンからなる修飾酸化物を含むガラスの
「焼け」防止効果が不充分であり、この範囲を超える
と、コストが高くなってしまって得策でないばかりか、
洗浄剤の粘度が上昇して、リンス工程で洗浄剤などが充
分にリンスされなくなる傾向がある。
般式(4)、(5)及び(6)で表されるアルキレンオ
キサイド化合物を併用することにより、洗浄性を向上さ
せることができる。
は炭素数1〜8の炭化水素基であることが必要である
が、特に炭素数2〜6の炭化水素基であることが好まし
い。R4 が炭化水素基でない場合、油脂、接着剤、マス
ク剤、ワックス類、クリーム半田、フラックス等の有機
系汚れとの親和性が低下する。また、R4 の炭化水素基
の炭素数がこの範囲を超えると水に対する溶解性が悪化
し、洗浄液自体の粘度も上昇する傾向があるため、金属
イオンからなる修飾酸化物を含むガラスとこれを使用し
た電機、電子、光学、精密工業用向けの電子部品及び精
密部品の洗浄には不適当である。
5、pは0〜5の整数であることが必要である。また、
m+nは1〜14の範囲であり、p+lは0〜10の範
囲となるが、特にm+nが2〜4の範囲であり、p+l
が0〜4の範囲のものが好ましい。m+nがこの範囲未
満であると水に対する溶解性が不十分となる傾向があ
り、またm+nがこの範囲を超えると水に対する親和性
が強くなりすぎる傾向があり、有機系の汚れの洗浄性が
低下する。
例としては、メタノール、エタノール、プロパノール、
ブタノール、イソブタノール、ヘキサノール、オクタノ
ール等の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を有するアルコー
ル類;フェノール、クレゾール等のフェノール類;シク
ロヘキサノール等の脂環族のアルコール類;酢酸、プロ
ピオン酸、ヘキサン酸、イソオクチル酸等の直鎖又は分
岐鎖のアルキル基を有する脂肪酸;メタクリル酸、安息
香酸等の有機カルボン酸;エチルアミン、ジエチルアミ
ン、ヘキシルアミン、ジブチルアミン、オクチルアミ
ン、ベンジルアミン、シクロヘキシルアミン等の直鎖、
分岐鎖、芳香族又は脂環族の炭化水素基を有するアミン
系化合物などにアルキレン(エチレン、プロピレン、ブ
チレン)オキサイドを単独又は配合付加させたものが挙
げられ、更に、これらのアルキレンオキサイド付加物の
末端水酸基をアルキルクロライド等によりメチル化、エ
チル化又はブチル化したり、酢酸やプロピオン酸等でエ
ステル化した化合物が挙げられる。上記アルキレンオキ
サイド化合物は、1種を単独で用いてもよく、2種以上
を併用してもよい。
る。 (a)エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレ
ングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコール
モノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチル
エーテル、エチレングリコールモノイソブチルエーテ
ル、エチレングリコールモノアリルエーテル、エチレン
グリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコール
モノ2−エチルヘキシルエーテル、エチレングリコール
モノオクチルエーテル、エチレングリコールモノフェニ
ルエーテル、エチレングリコールモノベンジルエーテル
等のモノエチレングリコールモノエーテル類。
ーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレン
グリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコール
モノイソブチルエーテル、ジエチレングリコールモノア
リルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエー
テル、ジエチレングリコールモノ2−エチルヘキシルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノオクチルエーテル、
ジエチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノベンジルエーテル等のジエチレングリ
コールモノエーテル類。
エーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、トリエチレングリコールモノプロピルエーテル、ト
リエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレ
ングリコールモノイソブチルエーテル、トリエチレング
リコールモノアリルエーテル、トリエチレングリコール
モノヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモノ2
−エチルヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモ
ノオクチルエーテル、トリエチレングリコールモノフェ
ニルエーテル、トリエチレングリコールモノベンジルエ
ーテル等のトリエチレングリコールモノエーテル類。
ルエーテル、テトラエチレングリコールモノエチルエー
テル、テトラエチレングリコールモノプロピルエーテ
ル、テトラエチレングリコールモノブチルエーテル、テ
トラエチレングリコールモノイソブチルエーテル、テト
ラエチレングリコールモノアリルエーテル、テトラエチ
レングリコールモノヘキシルエーテル、テトラエチレン
グリコールモノ2−エチルヘキシルエーテル、テトラエ
チレングリコールモノオクチルエーテル、テトラエチレ
ングリコールモノフェニルエーテル、テトラエチレング
リコールモノベンジルエーテル等のテトラエチレングリ
コールモノエーテル類。
ルエーテル、ペンタエチレングリコールモノエチルエー
テル、ペンタエチレングリコールモノプロピルエーテ
ル、ペンタエチレングリコールモノブチルエーテル、ペ
ンタエチレングリコールモノイソブチルエーテル、ペン
タエチレングリコールモノアリルエーテル、ペンタエチ
レングリコールモノヘキシルエーテル、ペンタエチレン
グリコールモノ2−エチルヘキシルエーテル、ペンタエ
チレングリコールモノオクチルエーテル、ペンタエチレ
ングリコールモノフェニルエーテル、ペンタエチレング
リコールモノベンジルエーテル等のペンタエチレングリ
コールモノエーテル類。
ル、(POE)6 〜7 モノエチルエーテル、(POE)
6 〜7 モノプロピルエーテル、(POE)6 〜7 モノブ
チルエーテル、(POE)6 〜7 モノイソブチルエーテ
ル、(POE)6 〜7 モノアリルエーテル、(POE)
6 〜7 モノヘキシルエーテル、(POE)6 〜7 モノ2
−エチルヘキシルエーテル、(POE)6 〜7 モノオク
チルエーテル、(POE)6 〜7 モノフェニルエーテ
ル、(POE)6 〜7 モノベンジルエーテル等のポリオ
キシエチレンモノエーテル類。
ル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレング
リコールジプロピルエーテル、エチレングリコールジブ
チルエーテル、エチレングリコールジアリルエーテル等
のモノエチレングリコールジエーテル類。
テル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジ
エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリ
コールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブ
チルエーテル、ジエチレングリコールブチルメチルエー
テル、ジエチレングリコール2−エチルヘキシルメチル
エーテル、ジエチレングリコールジアリルエーテル等の
ジエチレングリコールジエーテル類。
ーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル、ト
リエチレングリコールジプロピルエーテル、トリエチレ
ングリコールジブチルエーテル、トリエチレングリコー
ルジアリルエーテル等のトリエチレングリコールジエー
テル類。
エーテル、テトラエチレングリコールジエチルエーテ
ル、テトラエチレングリコールジプロピルエーテル、テ
トラエチレングリコールジブチルエーテル、テトラエチ
レングリコールジアリルエーテル等のテトラエチレング
リコールジエーテル類。
ル、(POE)6 〜7 ジエチルエーテル、(POE)6
〜7 ジプロピルエーテル、(POE)6 〜7 ジブチルエ
ーテル、(POE)6 〜7 ジアリルエーテル等のポリオ
キシエチレンジエーテル類。
ーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレン
グリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコール
モノアリルエーテル、プロピレングリコールモノヘキシ
ルエーテル、プロピレングリコールモノ2−エチルヘキ
シルエーテル、プロピレングリコールモノオクチルエー
テル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル、プ
ロピレングリコールモノベンジルエーテル等のモノプロ
ピレングリコールモノエーテル類。
エーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテ
ル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジ
プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレ
ングリコールモノアリルエーテル、ジプロピレングリコ
ールモノヘキシルエーテル、ジプロピレングリコールモ
ノ2−エチルヘキシルエーテル、ジプロピレングリコー
ルモノオクチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ
フェニルエーテル、ジプロピレングリコールモノベンジ
ルエーテル等のジプロピレングリコールモノエーテル
類。
ルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエー
テル、トリプロピレングリコールモノプロピルエーテ
ル、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル、ト
リプロピレングリコールモノアリルエーテル、トリプロ
ピレングリコールモノヘキシルエーテル、トリプロピレ
ングリコールモノ2−エチルヘキシルエーテル、トリプ
ロピレングリコールモノオクチルエーテル、トリプロピ
レングリコールモノフェニルエーテル、トリプロピレン
グリコールモノベンジルエーテル等のトリプロピレング
リコールモノエーテル類。
ル、(POP)4 〜7 モノエチルエーテル、(POP)
4 〜7 モノプロピルエーテル、(POP)4 〜7 モノブ
チルエーテル、(POP)4 〜7 モノアリルエーテル、
(POP)4 〜7 モノヘキシルエーテル、(POP)4
〜7 モノ2−エチルヘキシルエーテル、(POP)4 〜
7 モノオクチルエーテル、(POP)4 〜7 モノフェニ
ルエーテル、(POP)4 〜7 モノベンジルエーテル等
のポリオキシプロピレンモノエーテル類。なお、(PO
P)とは、エチレンをプロピレンとする以外は、(PO
E)と同様の略号である。
テル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピ
レングリコールジプロピルエーテル、プロピレングリコ
ールジブチルエーテル、プロピレングリコールジアリル
エーテル等のモノプロピレングリコールジエーテル類。
ーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジ
プロピレングリコールジプロピルエーテル、ジプロピレ
ングリコールイソプロピルメチルエーテル、ジプロピレ
ングリコールイソプロピルエチルエーテル、ジプロピレ
ングリコールジブチルエーテル、ジプロピレングリコー
ルジアリルエーテル等のジプロピレングリコールジエー
テル類。
エーテル、トリプロピレングリコールジエチルエーテ
ル、トリプロピレングリコールジプロピルエーテル、ト
リプロピレングリコールジブチルエーテル、トリプロピ
レングリコールジアリルエーテル等のトリプロピレング
リコールジエーテル類。
ル、(POP)4 〜7 ジエチルエーテル、(POP)4
〜7 ジプロピルエーテル、(POP)4 〜7 ジブチルエ
ーテル、(POP)4 〜7 ジアリルエーテル等のポリオ
キシプロピレンジエーテル類。
テルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテ
ルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル
アセテート、エチレングリコールモノアリルエーテルア
セテート、エチレングリコールモノヘキシルエーテルア
セテート、エチレングリコールモノオクチルエーテルア
セテート、エチレングリコールモノフェニルエーテルア
セテート、エチレングリコールモノベンジルエーテルア
セテート等のモノエチレングリコールモノエーテルアセ
テート類。
ーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエ
ーテルアセテート、ジエチレングリコールモノプロピル
エーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチル
エーテルアセテート、ジエチレングリコールモノアリル
エーテルアセテート、ジエチレングリコールモノヘキシ
ルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノオク
チルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノフ
ェニルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノ
ベンジルエーテルアセテート等のジエチレングリコール
モノエーテルアセテート類。
ルアセテート、(POE)3 〜7 モノエチルエーテルア
セテート、(POE)3 〜7 モノプロピルエーテルアセ
テート、(POE)3 〜7 モノブチルエーテルアセテー
ト、(POE)3 〜7 モノアリルエーテルアセテート、
(POE)3 〜7 モノヘキシルエーテルアセテート、
(POE)3 〜7 モノオクチルエーテルアセテート、
(POE)3 〜7 モノフェニルエーテルアセテート、
(POE)3 〜7 モノベンジルエーテルアセテート等の
ポリオキシエチレンモノエーテルアセテート類。
ーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエ
ーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピル
エーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチル
エーテルアセテート、プロピレングリコールモノアリル
エーテルアセテート、プロピレングリコールモノヘキシ
ルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノオク
チルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノフ
ェニルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ
ベンジルエーテルアセテート等のモノプロピレングリコ
ールモノエーテルアセテート類。
ルアセテート、(POE)2 〜7 モノエチルエーテルア
セテート、(POE)2 〜7 モノプロピルエーテルアセ
テート、(POE)2 〜7 モノブチルエーテルアセテー
ト、(POE)2 〜7 モノアリルエーテルアセテート、
(POE)2 〜7 モノヘキシルエーテルアセテート、
(POE)2 〜7 モノオクチルエーテルアセテート、
(POE)2 〜7 モノフェニルエーテルアセテート、
(POE)2 〜7 モノベンジルエーテルアセテート等の
ポリオキシプロピレンモノエーテルアセテート類。
等のモノプロピレングリコールジアセテート類。 (z)上記の炭化水素基の原料である直鎖又は分岐鎖の
アルキル基を有するアルコール類、脂環式のアルコール
類にエチレンオキサイドとプロピレンオキサイドをブロ
ック及びランダムに付加させた化合物、(POE)1 〜
7 (POP)1 〜7 モノエーテル類;(POE)1 〜7
(POP)1 〜7 ジエーテル類。
又は分岐鎖のアルキル基を有するアルコール類、脂環式
のアルコール類の代わりに酢酸、プロピオン酸、ヘキサ
ン酸、イソオクチル酸等の直鎖又は分岐鎖のアルキル基
を有する脂肪酸、メタクリル酸、安息香酸等の有機カル
ボン酸を用いた化合物。例えば、(POE)1 〜7 モノ
メチルエステル、(POE)1 〜7 モノエチルエステ
ル、メタクリル酸の(POE)1 〜7 付加物、安息香酸
の(POE)1 〜7 付加物等のグリコールモノエステル
類;(POE)1 〜7 ジメチルエステル、(POE)1
〜7 ジエチルエステル等のグリコールジエステル類。 (β)上記の炭化水素基の原料である直鎖又は分岐鎖の
アルキル基を有するアルコール類、脂環式のアルコール
類の代わりにエチルアミン、ジエチルアミン、ヘキシル
アミン、ジブチルアミン、オクチルアミン、ベンジルア
ミン、シクロヘキシルアミン等の直鎖、分岐鎖、芳香族
又は脂環式の炭化水素基を有するアミン類等を用いた化
合物。例えば、(POE)1 〜7 エチルアミン、(PO
E)1 〜7ジエチルアミン、(POE)1 〜7 ヘキシル
アミン、(POE)1 〜7 ジブチルアミン、(POE)
1 〜7 オクチルアミン、(POE)1 〜7 ベンジルアミ
ン、(POE)1 〜7 シクロヘキシルアミン等のグリコ
ールモノアミン類等が挙げられる。
が性能と入手のし易さの点から好ましく用いられる。 (a)エチレングリコール系 エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプ
ロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテ
ル、エチレングリコールモノイソブチルエーテル、エチ
レングリコールモノアリルエーテル、エチレングリコー
ルモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノ2−
エチルヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフェ
ニルエーテル、エチレングリコールモノベンジルエーテ
ル;
ル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリ
コールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ
イソブチルエーテル、ジエチレングリコールモノアリル
エーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノ2−エチルヘキシルエー
テル、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル、ジ
エチレングリコールモノベンジルエーテル;
ル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリ
エチレングリコールモノプロピルエーテル、トリエチレ
ングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコ
ールモノヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモ
ノフェニルエーテル、トリエチレングリコールモノベン
ジルエーテル;
テル、テトラエチレングリコールモノエチルエーテル、
テトラエチレングリコールモノプロピルエーテル、テト
ラエチレングリコールモノブチルエーテル、テトラエチ
レングリコールモノフェニルエーテル、テトラエチレン
グリコールモノベンジルエーテル;
テル、ペンタエチレングリコールモノエチルエーテル、
ペンタエチレングリコールモノプロピルエーテル、ペン
タエチレングリコールモノブチルエーテル、ペンタエチ
レングリコールモノフェニルエーテル、ペンタエチレン
グリコールモノベンジルエーテル;
チレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコー
ルジプロピルエーテル、エチレングリコールジブチルエ
ーテル;
ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコール
ジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエ
ーテル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、
ジエチレングリコール2−エチルヘキシルメチルエーテ
ル;トリエチレングリコールジメチルエーテル;テトラ
エチレングリコールジメチルエーテル。
グリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコール
モノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテ
ル、プロピレングリコールモノベンジルエーテル;
ル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプ
ロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレ
ングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコ
ールモノフェニルエーテル、ジプロピレングリコールモ
ノベンジルエーテル;トリプロピレングリコールモノメ
チルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエ
ーテル、トリプロピレングリコールモノプロピルエーテ
ル、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル、ト
リプロピレングリコールモノフェニルエーテル、トリプ
ロピレングリコールモノベンジルエーテル;
プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレング
リコールジプロピルエーテル、プロピレングリコールジ
ブチルエーテル;ジプロピレングリコールジメチルエー
テル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジプ
ロピレングリコールジプロピルエーテル、ジプロピレン
グリコールイソプロピルメチルエーテル、ジプロピレン
グリコールイソプロピルエチルエーテル;トリプロピレ
ングリコールジメチルエーテル。
チレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチ
レングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチ
レングリコールモノブチルエーテルアセテート;ジエチ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチ
レングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジエ
チレングリコールモノブチルエーテルアセテート;プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロ
ピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロ
ピレングリコールジアセテート。
例えば炭素数1〜8の炭化水素基を有するアルコール、
フェノール、脂肪酸、有機カルボン酸、アミン系化合物
に苛性ソーダ等の触媒の存在下、加熱しながら炭素数2
〜4のアルキレンオキサイド(エチレンオキサイド、プ
ロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド等)を液状又
は気体状で加えて反応させることにより得られる。ま
た、更にこれらのアルキレンオキサイド付加物の末端水
酸基を、アルキルクロライド等を用いてアルキル化した
ものや、有機酸等を用いてエステル化したものを用いる
ことができる。
は、2種以上のアルキレンオキサイドを混合して反応さ
せるランダム付加重合又はアルキレンオキサイドを順次
付加させるブロック付加重合を行ってもよい。
洗浄剤組成物中に5〜95重量%、特に10〜70重量
%配合するのが好ましい。配合量がこの範囲未満ではア
ルキレンオキサイド化合物を加えたことによる洗浄性及
びその持続性の効果を充分に発揮できない傾向がある。
また、この範囲を超えて配合すると引火性の危険が出て
くる。
剤を配合することにより、更に洗浄力が増大する。この
界面活性剤としては、アニオン性活性剤、カチオン性活
性剤、非イオン性活性剤、両イオン性活性剤のいずれも
使用することができる。
ール硫酸エステル塩類、液体脂肪油硫酸エステル塩類、
脂肪族アミン及び脂肪族アマイドの硫酸塩類、脂肪アル
コールリン酸エステル塩類、二塩基性脂肪酸エステルの
スルホン酸塩類、脂肪酸アミドスルホン酸塩類、アルキ
ルアリルスルホン酸塩類、ホルマリン縮合のナフタリン
スルホン酸塩類等のアニオン性活性剤;脂肪族アミン塩
類、第4級アンモニウム塩類、アルキルピリジニウム塩
類等のカチオン性活性剤;ポリオキシアルキレンアルキ
ルエーテル類、ポリオキシアルキレンアルキルフェノー
ルエーテル類、ポリオキシアルキレンアルキルアミン
類、ポリオキシアルキレンアルキルエステル類、ソルビ
タンアルキルエステル類、ポリオキシソルビタンアルキ
ルエステル類等の非イオン性活性剤;又はアルキルベタ
イン、アルキルジメチルアミンオキサイド、アルキルア
ラニン等の両イオン性活性剤等が主だった物として挙げ
られる。なお、ここでポリオキシアルキレンとはエチレ
ンオキサイド、プロピレンオキサイド又はブチレンオキ
サイドの重合体を示す。これらの界面活性剤の中でも、
特に平均HLB4〜18の非イオン性活性剤が優れた効
果を発現する。
ーテル、1量体〜40量体のエチレンオキサイドと炭素
数が12〜14の合成アルコールのエーテル((PO
E)1〜40C12〜14合成アルコールエーテルと略記す
る。)、(POE)1 〜47ラウリルエーテル、(PO
E)2 〜20セチルエーテル、(POE)2 〜30ステアリ
ルエーテル、(POE)2 〜35オレイルエーテル、(P
OE)2 〜40オクチルフェニルエーテル、(POE)2
〜45ノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンア
ルキルエーテル類;ソルビタンモノラウリルエステル、
ソルビタンモノパルミチルエステル、ソルビタンモノス
テアリルエステル、ソルビタンモノオレイルエステル等
のソルビタンモノアルキルエステル類;(POE)1 〜
25ソルビタンモノラウリルエステル、(POE)1 〜25
ソルビタンモノパルミチルエステル、(POE)1 〜30
ソルビタンモノステアリルエステル、(POE)1 〜30
ソルビタンモノオレイルエステル等のポリオキシエチレ
ンソルビタンモノアルキルエステル類;(POE)10〜
40ソルビタントリステアリルエステル、(POE)10〜
40ソルビタントリオレイルエステル等のポリオキシエチ
レンソルビタントリアルキルエステル類等が挙げられ
る。
12〜14合成アルコールエーテル、(POE)4 〜10ラウ
リルエーテル、(POE)5 〜8 セチルエーテル、(P
OE)10〜15ステアリルエーテル、(POE)5 〜15オ
レイルエーテル、(POE)6 〜10オクチルフェニルエ
ーテル、(POE)5 〜13ノニルフェニルエーテル、ソ
ルビタンモノラウリルエステル、ソルビタンモノパルミ
チルエステル、ソルビタンモノステアリルエステル、ソ
ルビタンモノオレイルエステル、(POE)5〜20ソル
ビタンモノラウリルエステル、(POE)5 〜20ソルビ
タンモノパルミチルエステル、(POE)5 〜20ソルビ
タンモノステアリルエステル、(POE)5 〜20ソルビ
タンモノオレイルエステル、(POE)15〜30ソルビタ
ントリステアリルエステル、(POE)15〜30ソルビタ
ントリオレイルエステルが好ましく用いられる。
組成物中に0.5〜35重量%、特に3〜30重量%配
合するのが好ましい。配合量がこの範囲未満では界面活
性剤を加えたことによる特別の効果は発現しない傾向が
ある。また、配合量がこの範囲を超えてもそれ以上添加
した効果は発現しない傾向がある。
を配合することにより、特に極性の小さい汚れに対する
洗浄力が増大する。
8のものであればいずれでもよく、例えばデカン、ドデ
カン、テトラデカン、ヘキサデカン、オクタデカン、デ
セン、ドデセン、テトラデセン、ヘキサデセン、オクタ
デセン等の直鎖又は分岐鎖の飽和又は不飽和の炭化水
素;ノニルベンゼン、ドデシルベンゼン等のアルキルベ
ンゼン;メチルナフタレン、ジメチルナフタレン等のナ
フタレン化合物;シクロデカン、シクロドデセン等のシ
クロ系化合物などが挙げられる。これらのうち、炭素数
12〜18の直鎖又は分岐鎖の飽和又は不飽和の炭化水
素が好ましく、特に洗浄性、ハンドリング等を考慮する
と、オレフィン系炭化水素が好ましい。
成物中に5〜80重量%、特に20〜70重量%配合す
るのが好ましい。配合量がこの範囲未満では炭化水素を
加えたことによる特別の効果は発現しない傾向がある。
また、配合量がこの範囲を超えると、リンス工程で洗浄
剤などが充分にリンスされなくなる傾向がある。
及び作業性等の観点から、適宜水を含有させることがで
きる。水は、洗浄剤組成物中に5〜30%配合するのが
好ましい。
なわない範囲で、必要に応じて、通常洗浄剤に用いられ
る他のヒドロキシエチルアミノ酢酸、ヒドロキシエチル
イミノ2酢酸、エチレンジアミンテトラ酢酸等のアミノ
カルボン酸塩等の有機系又は無機系のキレート力を持つ
化合物、防腐剤、防錆剤、シリコン等の消泡剤、アミン
系やフェノール系の酸化防止剤、ヤシ脂肪酸メチルや酢
酸ベンジル等のエステル、アミン系添加剤あるいはアル
コール類等を適宜併用することができる。
意成分等を常法により混合することにより製造すること
ができる。
からなる修飾酸化物を含むガラスとこれを使用した電
機、電子、光学、精密工業用向けの電子部品及び精密部
品を洗浄するには、例えば、本発明の洗浄剤組成物を用
いて浸漬法、超音波洗浄法、浸漬揺動法、スプレー法、
手拭き法等の各種の洗浄方法が採用でき、最後に溶剤又
は温水でリンスする等の方法を連続的に行う方法等が、
効率の良い洗浄方法として挙げられ、かつ好ましい結果
を得ることができる。
もって詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例等に
制限されるものではない。
換水1モル(18.0g)、五酸化二リン1モル(14
1.9g)を入れ、よく攪拌させながら油浴に浸し、6
5℃まで昇温した。その後、20時間反応させて、メチ
ルリン酸モノエステル80%(モル比)の反応物を得
た。
二リン1モル(141.9g)を入れ、よく攪拌させな
がら油浴に浸し、80℃まで昇温した。その後、15時
間反応させて、エチルリン酸モノエステル61%(モル
比)、エチルリン酸ジエステル39%(モル比)のエチ
ルリン酸セスキエステルを得た。
ル) 反応容器にイソプロピルアルコール2モル(120.2
g)、イオン交換水1モル(18.0g)、五酸化二リ
ン1モル(141.9g)を入れ、よく攪拌させながら
油浴に浸し、80℃まで昇温した。その後、20時間反
応させて、イソプロピルリン酸モノエステル81%(モ
ル比)の反応物を得た。
二リン1モル(141.9g)を入れ、よく攪拌させな
がら油浴に浸し、90℃まで昇温した。その後、15時
間反応させて、ブチルリン酸モノエステル62%(モル
比)、ブチルリン酸ジエステル38%(モル比)のブチ
ルリン酸セスキエステルを得た。
リン1モル(141.9g)を入れ、よく攪拌させなが
ら油浴に浸し、65℃まで昇温した。その後、20時間
反応させて、メチルリン酸モノエステル63%(モル
比)、メチルリン酸ジエステル37%(モル比)のメチ
ルリン酸セスキエステルを得た。
換水1モル(18.0g)、五酸化二リン1モル(14
1.9g)を入れ、よく攪拌させながら油浴に浸し、8
0℃まで昇温した。その後、20時間反応させて、エチ
ルリン酸モノエステル81%(モル比)の反応物を得
た。
換水0.5モル(9.0g)、五酸化二リン0.5モル
(71g)を入れ、よく攪拌させながら油浴に浸し、9
0℃まで昇温した。その後、20時間反応させて、ブチ
ルリン酸モノエステル78%(モル比)の反応物を得
た。
ル) 反応容器にヘキサノール3.2モル(330.7g)、
五酸化二リン1.1モル(153.0g)を入れ、よく
攪拌させながら油浴に浸し、90℃まで昇温した。その
後、15時間反応させて、ヘキシルリン酸モノエステル
55%(モル比)、ヘキシルリン酸ジエステル45%
(モル比)のヘキシルリン酸セスキエステルを得た。
イオン交換水0.85モル(15.24g)、五酸化二
リン0.85モル(120.1g)を入れ、よく攪拌さ
せながら油浴に浸し、90℃まで昇温した。その後、1
5時間反応させた。さらに、この反応物を50℃のヘキ
サンに溶解し20℃まで冷却しオクチルリン酸モノエス
テルを析出させ、濾別し、純度91%のオクチルリン酸
モノエステルを得た。
ル) 反応容器にステアリルアルコール1.0モル(271.
0g)、イオン交換水0.5モル(9.0g)、五酸化
二リン0.5モル(71.0g)を入れ、よく攪拌させ
ながら油浴に浸し、90℃まで昇温した。その後、15
時間反応させた。さらに、この反応物を50℃のヘキサ
ンに溶解し20℃まで冷却しステアリルリン酸モノエス
テルを析出させ、濾別し、純度92%のステアリルリン
酸モノエステルを得た。
セスキエステル) 反応容器にラウリルアルコールのエチレンオキサイド3
モル付加物(エマルゲン103:花王(株)製)1モル
(321.34g)、五酸化二リン0.33モル(4
7.3g)を入れ、よく攪拌させながら油浴に浸し、9
0℃まで昇温した。その後、15時間反応させて、モノ
エステル56%(モル比)、ジエステル44%(モル
比)の(POE)3 ラウリルリン酸セスキエステルを得
た。
セスキエステル) 反応容器にオレイルアルコールのエチレンオキサイド9
モル付加物(エマルゲン409:花王(株)製)0.5
モル(336.7g)、五酸化二リン0.17モル(2
3.7g)を入れ、よく攪拌させながら油浴に浸し、9
0℃まで昇温した。その後、15時間反応させて、モノ
エステル55%(モル比)、ジエステル45%(モル
比)の(POE)9 オレイルリン酸セスキエステルを得
た。
リン酸モノエステル) 反応容器にノニルフェノールのエチレンオキサイド6モ
ル付加物(エマルゲン906:花王(株)製)0.5モ
ル(245.2g)、イオン交換水0.25モル(4.
5g)、五酸化二リン0.25モル(35.5g)を入
れ、よく攪拌させながら油浴に浸し、90℃まで昇温し
た。その後、15時間反応させた。さらにこの反応物を
50℃のヘキサンに溶解した後、20℃まで冷却し、モ
ノエステルを析出させ、濾別し純度92%の(POE)
6 ノニルフェニルリン酸モノエステルを得た。
剤組成物を用いて洗浄することにより、洗浄試験を行っ
た。その結果を表5に示す。なお、表6及び7は表1、
2、3、及び4に示す化合物の由来を示すものである。
50mm×50mm×2mmの板に、それぞれ異なった
固定用ワックスを1g溶解させて薄く塗布した。24時
間室温で冷却、放置したものをテストピースとした。表
8にガラスの組成と使用した固定用ワックスを示す。
に保った表1、2、3及び4記載の水系洗浄剤組成物に
浸漬し、39kHz、200Wの超音波洗浄装置(シャ
ープ(株)製のSILENTSONIC UT-204) で5分間洗浄し
た。次いで、30℃のイオン交換水に浸漬し、洗浄と同
様の超音波洗浄機で1分間リンスした。そして、1分間
エアーブローした後、送風定温乾燥機にて80℃、10
分間乾燥した。
り次の基準で評価を行った。 ◎:表面にワックスの残着がなく極めて清浄、非常に良
好 ○:表面にワックスの残着がほとんどなく、良好 △:表面にワックスの残着がわずかにあり、やや悪い ×:表面にワックスの残着があり、悪い 洗浄後の光学用ガラスの「焼け」は、光学顕微鏡、倍
率100倍にて、目視により次の基準で評価を行った。 ◎:ガラス表面に変色、エッチングが観測されず、洗浄
前と変化がない。 ○:ガラス表面にまだらに茶色系の変色が少し観察され
る。 △:ガラス表面全体が茶色〜青色に変色しているのが観
測される。 ×:ガラス表面が変色しているだけではなく、エッチン
グされて光沢が無くなっているのが観測される。
浄性が良好で、「焼け」を阻止するという優れた性質を
有するものであることがわかった(実施例1〜13)。
一方、アルキルリン酸エステル及びそのアミン中和物並
びにリン酸エステルアミン中和物のいずれも含有しない
もの(比較例1、2)、アルキルリン酸エステルを無機
アルカリで中和したもの(比較例3、4)、アルキルリ
ン酸エステルの炭素数が多いもの(比較例5、6)、リ
ン酸エステルがアミン系化合物で中和されていないもの
(比較例7)、またその中和物のアミン系化合物の量が
少ないもの(比較例8、9)、アルキルリン酸エステル
及びそのアミン中和物並びにリン酸エステルアミン中和
物ではなく無機リン酸が配合されたもの(比較例10、
11)は、いずれも洗浄性が悪く、「焼け」を阻止でき
なかった。
ンからなる修飾酸化物を含むガラスの「焼け」を阻止
し、同時に高い洗浄性を持つ優れた性質を有するもので
ある。
Claims (6)
- 【請求項1】 次の一般式(1) 【化1】 (式中、R1 は炭素数1〜4の炭化水素基を示し、X1
は水素原子又は炭素数1〜4の炭化水素基を示す。)で
表わされるアルキルリン酸エステルを含有してなる水系
洗浄剤組成物。 - 【請求項2】 一般式(1)で表わされるアルキルリン
酸エステルの50〜100%当量が、窒素原子数が1〜
5であって分子量が50〜300であるアミン系化合物
で中和されている請求項1記載の水系洗浄剤組成物。 - 【請求項3】 次の一般式(2) 【化2】 (式中、R2 は炭素数1〜20の直鎖若しくは分岐鎖ア
ルキル基、フェニル基又は炭素数8〜12の直鎖若しく
は分岐鎖アルキル基で置換されたフェニル基を示し、q
は0〜20の整数を示す。X2 は水酸基又は次の一般式
(3) R3 −O−(CH2 CH2 O)q − (3) (式中、R3 は炭素数1〜20の直鎖若しくは分岐鎖ア
ルキル基、フェニル基又は炭素数8〜12の直鎖若しく
は分岐鎖アルキル基で置換されたフェニル基を示す。q
は0〜20の整数を表す。)を示す。)で表わされるリ
ン酸エステルを含有してなる水系洗浄剤組成物であっ
て、該リン酸エステルの50〜100%当量が、窒素原
子数が1〜5であって分子量が50〜300であるアミ
ン系化合物で中和されている水系洗浄剤組成物。 - 【請求項4】 次の一般式(4)、(5)及び(6) 【化3】 (式中、R4 は炭素数1〜8の炭化水素基を、R5 及び
R6 はそれぞれ炭素数2〜4のアルキレン基を示す。Y
は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基若しくはアシ
ル基を示す。mは1〜7、nは0〜7、lは0〜5、p
は0〜5の整数を示す。)で表わされる化合物からなる
群より選ばれる1種以上のアルキレンオキサイド化合物
をさらに含有してなる請求項1〜3いずれか記載の水系
洗浄剤組成物。 - 【請求項5】 1種以上の界面活性剤をさらに含有して
なる請求項1〜4いずれか記載の水系洗浄剤組成物。 - 【請求項6】 炭素数10〜18の炭化水素をさらに含
有してなる請求項1〜5いずれか記載の水系洗浄剤組成
物。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2002097493A (ja) * | 2000-09-22 | 2002-04-02 | Japan Energy Corp | 石油製品製造装置用洗浄剤組成物及び洗浄方法 |
JP2007277185A (ja) * | 2006-04-07 | 2007-10-25 | Kao Corp | 洗浄剤組成物 |
WO2007122802A1 (ja) * | 2006-04-07 | 2007-11-01 | Kao Corporation | 洗浄剤組成物 |
JP2010168465A (ja) * | 2009-01-22 | 2010-08-05 | Mitsubishi Gas Chemical Co Inc | 硫黄およびセレン原子を含む組成物の洗浄剤および洗浄方法 |
JP2015145476A (ja) * | 2014-02-03 | 2015-08-13 | 花王株式会社 | 半田フラックス残渣除去用洗浄剤組成物 |
-
1994
- 1994-11-01 JP JP6293725A patent/JP2899946B2/ja not_active Expired - Fee Related
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