JPWO2016010065A1 - ポリチオール組成物およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
本発明によれば、２つ以上のメルカプト基を有するポリチオール化合物（ａ）を主成分とするポリチオール組成物であって、上記ポリチオール化合物（ａ）のメルカプト基の少なくとも一つが下記式（１）で表される基で置き換えられた含窒素化合物（ｂ）の含有率が０．５質量％以下であるポリチオール組成物を提供することができる。【化１】
Description
本発明は、浮遊物の発生を抑えたポリチオール組成物、該ポリチオール組成物を含む光学材料用組成物および該組成物を重合硬化して得られる光学材料に関する。
プラスチック材料は軽量かつ靭性に富み、また染色が容易であることから、各種光学材料に多用されている。これら光学材料は、低比重、高透明性および低黄色度、光学性能として高屈折率と高アッベ数などが求められており、これら要求を満たすために硫黄含有モノマー、特にポリチオール化合物を含んだ光学材料用組成物が多数開発されてきている（特許文献１〜２）。しかしながら、これら文献記載のポリチオール化合物は、保存中に不溶成分（浮遊物）が発生して濁りが生じることがあり、これらポリチオール化合物を用いて重合硬化して得られる樹脂に白濁が発生する事があった。
本発明の課題は、ポリチオール組成物の保存時に浮遊物の発生を抑えた光学材料用のポリチオール組成物を提供することにある。
本発明者は前記課題を解決すべく鋭意研究を行った結果、浮遊物の発生原因が、２つ以上のメルカプト基を有するポリチオール化合物（ａ）に含まれる上記メルカプト基の少なくとも一つが、下記式（１）で表される基で置き換えられた含窒素化合物（ｂ）であり、保存時にこれが分解することにより浮遊物の発生に影響を与えることを見出した。
すなわち本発明は下記である。
＜１＞ ２つ以上のメルカプト基を有するポリチオール化合物（ａ）を主成分とし、前記ポリチオール化合物（ａ）のメルカプト基の少なくとも一つが下記式（１）で表される基で置き換えられた含窒素化合物（ｂ）を０．５質量％超含むポリチオール組成物を精製して、前記含窒素化合物（ｂ）の含有率が０．５質量％以下であるポリチオール組成物を製造する方法であって、
前記精製工程が、少なくとも下記工程（１）および下記工程（２）を有することを特徴とするポリチオール組成物の製造方法である。
工程（１）：ポリチオール組成物を蒸留する工程。
工程（２）：ポリチオール組成物を蒸留以外の手段で精製する工程。
＜２＞ 工程(１)の後に工程（２）を実施する上記＜１＞に記載のポリチオール組成物の製造方法である。
＜３＞ 工程(１)の前後に工程（２）を実施する上記＜１＞に記載のポリチオール組成物の製造方法である。
＜４＞ 蒸留以外の手段が水洗および酸洗から選ばれる１つ以上の手段である上記＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載のポリチオール組成物の製造方法である。
＜５＞ ２つ以上のメルカプト基を有するポリチオール化合物（ａ）を主成分とし、前記ポリチオール化合物（ａ）のメルカプト基の少なくとも一つが下記式（１）で表される基で置き換えられた含窒素化合物（ｂ）を０．５質量％超含むポリチオール組成物を精製して、前記含窒素化合物（ｂ）の含有率が０．５質量％以下であるポリチオール組成物を製造する方法であって、
前記精製工程が、前記含窒素化合物（ｂ）を０．５質量％超含むポリチオール組成物を６規定以上の酸を用いて洗浄する工程を有することを特徴とするポリチオール組成物の製造方法である。
＜６＞ ２つ以上のメルカプト基を有するポリチオール化合物（ａ）を主成分とし、前記ポリチオール化合物（ａ）のメルカプト基の少なくとも一つが下記式（１）で表される基で置き換えられた含窒素化合物（ｂ）の含有率が０．５質量％以下であるポリチオール組成物を製造する方法であって、ポリチオール化合物（ａ）の原料であるイソチウロニウム塩の加水分解を８０℃以上で行う工程を有することを特徴とするポリチオール組成物の製造方法である。
＜７＞ ２つ以上のメルカプト基を有するポリチオール化合物（ａ）を主成分とするポリチオール組成物であって、上記ポリチオール化合物（ａ）のメルカプト基の少なくとも一つが下記式（１）で表される基で置き換えられた含窒素化合物（ｂ）の含有率が０．５質量％以下であるポリチオール組成物である。
＜８＞ 前記ポリチオール化合物（ａ）が、イソチウロニウム塩を加水分解して得られたものである、上記＜７＞に記載のポリチオール組成物である。
＜９＞ 上記＜１＞〜＜６＞のいずれかに記載の方法で製造されたポリチオール組成物である。
＜１０＞ 上記＜７＞〜＜９＞のいずれかに記載のポリチオール組成物を含有する光学材料用組成物である。
＜１１＞ 上記＜１０＞に記載の光学材料用組成物を重合硬化して得られる光学材料である。
＜１＞ ２つ以上のメルカプト基を有するポリチオール化合物（ａ）を主成分とし、前記ポリチオール化合物（ａ）のメルカプト基の少なくとも一つが下記式（１）で表される基で置き換えられた含窒素化合物（ｂ）を０．５質量％超含むポリチオール組成物を精製して、前記含窒素化合物（ｂ）の含有率が０．５質量％以下であるポリチオール組成物を製造する方法であって、
前記精製工程が、少なくとも下記工程（１）および下記工程（２）を有することを特徴とするポリチオール組成物の製造方法である。
工程（１）：ポリチオール組成物を蒸留する工程。
工程（２）：ポリチオール組成物を蒸留以外の手段で精製する工程。
＜３＞ 工程(１)の前後に工程（２）を実施する上記＜１＞に記載のポリチオール組成物の製造方法である。
＜４＞ 蒸留以外の手段が水洗および酸洗から選ばれる１つ以上の手段である上記＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載のポリチオール組成物の製造方法である。
＜５＞ ２つ以上のメルカプト基を有するポリチオール化合物（ａ）を主成分とし、前記ポリチオール化合物（ａ）のメルカプト基の少なくとも一つが下記式（１）で表される基で置き換えられた含窒素化合物（ｂ）を０．５質量％超含むポリチオール組成物を精製して、前記含窒素化合物（ｂ）の含有率が０．５質量％以下であるポリチオール組成物を製造する方法であって、
前記精製工程が、前記含窒素化合物（ｂ）を０．５質量％超含むポリチオール組成物を６規定以上の酸を用いて洗浄する工程を有することを特徴とするポリチオール組成物の製造方法である。
＜９＞ 上記＜１＞〜＜６＞のいずれかに記載の方法で製造されたポリチオール組成物である。
＜１０＞ 上記＜７＞〜＜９＞のいずれかに記載のポリチオール組成物を含有する光学材料用組成物である。
＜１１＞ 上記＜１０＞に記載の光学材料用組成物を重合硬化して得られる光学材料である。
本発明のポリチオール組成物を用いることにより、ポリチオール組成物の浮遊物の発生を抑えることが出来る。また、本発明のポリチオール組成物を含む光学材料用組成物を重合硬化させることで、色相、透明性に優れた光学材料を得ることが出来る。
本発明は、２つ以上のメルカプト基を有するポリチオール化合物（ａ）を主成分とするポリチオール組成物であって、上記ポリチオール化合物（ａ）のメルカプト基の少なくとも一つが、前記式（１）で表される基で置き換えられた含窒素化合物（ｂ）の含有率が０．５質量％以下であるポリチオール組成物に関する。本発明のポリチオール組成物中のポリチオール化合物（ａ）の含有率は通常７５質量％以上、好ましくは８０質量％以上、特に好ましくは８５質量％以上である。
本発明で使用するポリチオール化合物（ａ）（以下、「（ａ）化合物」と呼ぶことがある）は、一分子中に少なくとも２個以上のメルカプト基を有する化合物であれば特に限定されないが、その具体例としては、メタンジチオール、１，２−ジメルカプトエタン、２，２−ジメルカプトプロパン、１，３−ジメルカプトプロパン、１，２，３−トリメルカプトプロパン、１，４−ジメルカプトブタン、１，６−ジメルカプトヘキサン、ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド、１，２−ビス（２−メルカプトエチルチオ）エタン、１，５−ジメルカプト−３−オキサペンタン、１，８−ジメルカプト−３，６−ジオキサオクタン、２，２−ジメチルプロパン−１，３−ジチオール、３，４−ジメトキシブタン−１，２−ジチオール、２−メルカプトメチル−１，３−ジメルカプトプロパン、２−メルカプトメチル１，４−ジメルカプトプロパン、２−（２−メルカプトエチルチオ）−１，３−ジメルカプトプロパン、１，２−ビス（２−メルカプトエチルチオ）−３−メルカプトプロパン、１，１，１−トリス（メルカプトメチル）プロパン、テトラキス（メルカプトメチル）メタン、４、８−ジメルカプトメチル−１、１１−ジメルカプト−３、６、９−トリチアウンデカン、４、７−ジメルカプトメチル−１、１１−ジメルカプト−３、６、９−トリチアウンデカン、５、７−ジメルカプトメチル−１、１１−ジメルカプト−３、６、９−トリチアウンデカン、１、１、３、３−テトラキス（メルカプトメチルチオ）プロパン、エチレングリコールビス（２−メルカプトアセテート）、エチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、１，４−ブタンジオールビス（２−メルカプトアセテート）、１，４−ブタンジオールビス（３−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（２−メルカプトアセテート）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（２−メルカプトアセテート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、１，１−ジメルカプトシクロヘキサン、１，２−ジメルカプトシクロヘキサン、１，３−ジメルカプトシクロヘキサン、１，４−ジメルカプトシクロヘキサン、１，３−ビス（メルカプトメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（メルカプトメチル）シクロヘキサン、２，５−ビス（メルカプトメチル）−１，４−ジチアン、２，５−ビス（メルカプトエチル）−１，４−ジチアン、１，２−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，３−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン（別名：ｍ−キシリレンジチオール）、１，４−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、ビス（４−メルカプトフェニル）スルフィド、ビス（４−メルカプトフェニル）エーテル、２，２−ビス（４−メルカプトフェニル）プロパン、ビス（４−メルカプトメチルフェニル）スルフィド、ビス（４−メルカプトメチルフェニル）エーテル、２，２−ビス（４−メルカプトメチルフェニル）プロパン等を挙げることができる。
本発明で使用するポリチオール化合物（ａ）（以下、「（ａ）化合物」と呼ぶことがある）は、一分子中に少なくとも２個以上のメルカプト基を有する化合物であれば特に限定されないが、その具体例としては、メタンジチオール、１，２−ジメルカプトエタン、２，２−ジメルカプトプロパン、１，３−ジメルカプトプロパン、１，２，３−トリメルカプトプロパン、１，４−ジメルカプトブタン、１，６−ジメルカプトヘキサン、ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド、１，２−ビス（２−メルカプトエチルチオ）エタン、１，５−ジメルカプト−３−オキサペンタン、１，８−ジメルカプト−３，６−ジオキサオクタン、２，２−ジメチルプロパン−１，３−ジチオール、３，４−ジメトキシブタン−１，２−ジチオール、２−メルカプトメチル−１，３−ジメルカプトプロパン、２−メルカプトメチル１，４−ジメルカプトプロパン、２−（２−メルカプトエチルチオ）−１，３−ジメルカプトプロパン、１，２−ビス（２−メルカプトエチルチオ）−３−メルカプトプロパン、１，１，１−トリス（メルカプトメチル）プロパン、テトラキス（メルカプトメチル）メタン、４、８−ジメルカプトメチル−１、１１−ジメルカプト−３、６、９−トリチアウンデカン、４、７−ジメルカプトメチル−１、１１−ジメルカプト−３、６、９−トリチアウンデカン、５、７−ジメルカプトメチル−１、１１−ジメルカプト−３、６、９−トリチアウンデカン、１、１、３、３−テトラキス（メルカプトメチルチオ）プロパン、エチレングリコールビス（２−メルカプトアセテート）、エチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、１，４−ブタンジオールビス（２−メルカプトアセテート）、１，４−ブタンジオールビス（３−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（２−メルカプトアセテート）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（２−メルカプトアセテート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、１，１−ジメルカプトシクロヘキサン、１，２−ジメルカプトシクロヘキサン、１，３−ジメルカプトシクロヘキサン、１，４−ジメルカプトシクロヘキサン、１，３−ビス（メルカプトメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（メルカプトメチル）シクロヘキサン、２，５−ビス（メルカプトメチル）−１，４−ジチアン、２，５−ビス（メルカプトエチル）−１，４−ジチアン、１，２−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，３−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン（別名：ｍ−キシリレンジチオール）、１，４−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、ビス（４−メルカプトフェニル）スルフィド、ビス（４−メルカプトフェニル）エーテル、２，２−ビス（４−メルカプトフェニル）プロパン、ビス（４−メルカプトメチルフェニル）スルフィド、ビス（４−メルカプトメチルフェニル）エーテル、２，２−ビス（４−メルカプトメチルフェニル）プロパン等を挙げることができる。
以上の中で好ましい化合物の具体例としては、ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド、ペンタエリスリトールテトラキス（２−メルカプトアセテート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、２，５−ビス（メルカプトメチル）−１，４−ジチアン、１，２−ビス（２−メルカプトエチルチオ）−３−メルカプトプロパン、４、８−ジメルカプトメチル−１、１１−ジメルカプト−３、６、９−トリチアウンデカン、４、７−ジメルカプトメチル−１、１１−ジメルカプト−３、６、９−トリチアウンデカン、５、７−ジメルカプトメチル−１、１１−ジメルカプト−３、６、９−トリチアウンデカン、１、１、３、３−テトラキス（メルカプトメチルチオ）プロパン、１，３−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン（別名：ｍ−キシリレンジチオール）、及び１，４−ビス（メルカプトメチル）ベンゼンが挙げられる。
さらに好ましい化合物の具体例としては、ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド、１，３−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，２−ビス［(２−メルカプトエチル)チオ］−３−メルカプトプロパン、及び１，１，３，３−テトラキス（メルカプトメチルチオ）プロパンであり、最も好ましい化合物はビス（２−メルカプトエチル）スルフィド、及び１，３−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン（別名：ｍ−キシリレンジチオール）であるが、本発明の対象となる（ａ）化合物はこれらに限定されるのもではない。
本発明のポリチオール組成物に含まれる含窒素化合物（ｂ）（以下、「（ｂ）化合物」と呼ぶことがある）は、（ａ）化合物のメルカプト基の少なくとも一つが前記式（１）で表される基で置き換えられたものである。（ｂ）化合物の含有率は、０．５質量％以下が好ましいが、より好ましくは０．３質量％以下であり、更に好ましくは０．０５質量％以下である。（ｂ）化合物の量は少ないほど良いが、精製のコストを考慮すると０．０１質量％以上が好ましい。一方、（ｂ）化合物の量が多い場合は、ポリチオール組成物を保存時に浮遊物が発生しやすくなり、ポリチオール組成物を含む光学材料用組成物を重合硬化させた際に、硬化物に白濁が発生する。
本発明において、（ｂ）化合物を０．５質量％以下まで低減させる手法として、製造したポリチオール組成物を、水で洗浄した後に蒸留を実施する方法、蒸留精製したものを再度水で洗浄する方法、複数回の蒸留を行う方法、６規定以上の酸（好ましくは、６〜１２規定の酸）でポリチオール組成物を洗浄した後に水で洗浄する方法などがある。中でも蒸留と蒸留以外の精製手段を組み合わせる手法が好ましく、蒸留の後あるいは前後に蒸留以外の精製手段を組み合わせる手法がより好ましい。蒸留以外の精製手段としては酸による洗浄や水による洗浄が好ましい。蒸留後に水洗を行う手法が特に好ましい。また、水洗後に減圧や加熱等により水分を低減させることは好ましい手法である。
更に、（ｂ）化合物を０．５質量％以下まで低減させる手法として、ポリチオール化合物（ａ）の原料であるイソチウロニウム塩の加水分解を８０℃以上で行うことも挙げられる。より好ましい加水分解温度は、８０〜１２０℃である。温度が高すぎる場合、生成したポリチオールのオリゴマー化が起こり好ましくない。
更に、（ｂ）化合物を０．５質量％以下まで低減させる手法として、ポリチオール化合物（ａ）の原料であるイソチウロニウム塩の加水分解を８０℃以上で行うことも挙げられる。より好ましい加水分解温度は、８０〜１２０℃である。温度が高すぎる場合、生成したポリチオールのオリゴマー化が起こり好ましくない。
本発明において、ポリチオール組成物中の（ｂ）化合物の定量は、以下の実施例において詳細に説明する通り、分取ＧＰＣを行い、重量を測定して実施することができる。また、本発明において、ポリチオール組成物中の（ｂ）化合物の同定も、以下の実施例において詳細に説明する通り、ＬＣ−Ｔｏｆ−ＭＳ分析による精密質量分析およびＮＭＲ分析で行うことができる。
本発明の光学材料用組成物は、少なくとも前記本発明のポリチオール組成物を含有する。本発明の光学材料用組成物は、ポリチオール化合物以外の重合性化合物を含有していても良い。本発明の光学材料用組成物を重合硬化して光学材料を得るに際して、本発明の光学材料用組成物には重合触媒や必要に応じて添加物などを混合することが好ましい。
また、目的に応じて公知の鎖延長剤、架橋剤、光安定剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、油溶染料、充填剤、内部離型剤などの種々の物質を添加してもよい。反応速度を調整するためにポリチオウレタンの製造において用いられる公知反応触媒を適宜添加することもできる。本発明の光学材料用組成物からプラスチックレンズ等の光学材料を製造する際は、通常、注型重合により行われる。
本発明の光学材料用組成物においては各成分を混合後、脱泡処理を行うことが好ましい。真空度は、０．００１〜５０Ｔｏｒｒ、好ましくは０．００５〜２５Ｔｏｒｒ、より好ましくは０．０１〜１０Ｔｏｒｒ、特に好ましくは０．１〜５Ｔｏｒｒである。
このようにして得られる光学材料用組成物（注型液）は、重合硬化の直前にフィルターなどで不純物などを濾過し精製することができる。光学材料用組成物をフィルターに通して不純物等を濾過し、精製することは、本発明の光学材料の品質をさらに高める上から望ましいことである。ここで用いるフィルターの孔径は０．０５〜１０μｍ程度であり、一般的には０．１〜１．０μｍのものが使用される。フィルターの材質としては、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）やポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリプロピレン（ＰＰ）などが好適に使用される。
本発明の光学材料は、前記光学材料用組成物を例えばガラスモールドなどの鋳型に注入した後、重合硬化させることにより得られる。重合温度および時間はモノマーの種類、添加剤によっても異なるが、−１０℃〜１６０℃、通常は−１０℃〜１４０℃である。重合は所定の重合温度で所定時間のホールド、０．１℃〜１００℃／ｈの昇温、０．１℃〜１００℃／ｈの降温およびこれらの組み合わせで行うことができる。
また、重合終了後、材料を５０℃から１５０℃の温度で５分から５時間程度アニール処理を行うことは、光学材料の歪を除くために好ましい処理である。さらに必要に応じて染色、ハードコート、反射防止、防曇性、防汚性、耐衝撃性付与などの表面処理を行うことができる。
以下、本発明を実施例、および比較例により具体的に説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。なお、得られたポリチオール組成物の評価は以下の方法で行った。
ポリチオール組成物中の（ｂ）化合物の定量は、下記分取ＧＰＣを行い、重量を測定して実施した。また、該（ｂ）化合物の同定はＬＣ−Ｔｏｆ−ＭＳ分析による精密質量分析およびＮＭＲ分析で行った。
分取ＧＰＣ条件
高速液体クロマトグラフィー測定条件
カラム：Ｊｏｒｄｉ ＧＥＬ ＤＶＢ ５００Å（内径１０ｍｍ、長さ２５０ｍｍ、粒子径５μｍ）
移動相：クロロホルム
温度：室温
流量：１．５ｍｌ／ｍｉｎ
検出器：ＵＶ検出器、波長２６０ｎｍ
注入量：１００〜５００μＬ
なお、高速液体クロマトグラフィーの条件は、ポリチオール化合物（a）および含窒素化合物（ｂ）の構造や物性等に合わせて適宜選択される。
分取ＧＰＣ条件
高速液体クロマトグラフィー測定条件
カラム：Ｊｏｒｄｉ ＧＥＬ ＤＶＢ ５００Å（内径１０ｍｍ、長さ２５０ｍｍ、粒子径５μｍ）
移動相：クロロホルム
温度：室温
流量：１．５ｍｌ／ｍｉｎ
検出器：ＵＶ検出器、波長２６０ｎｍ
注入量：１００〜５００μＬ
なお、高速液体クロマトグラフィーの条件は、ポリチオール化合物（a）および含窒素化合物（ｂ）の構造や物性等に合わせて適宜選択される。
・ポリチオール組成物中の浮遊物の量の評価
ポリチオール組成物５０ｍＬを、適当な大きさの透明なガラス瓶に入れ、暗室内で側面から光を当てて観察を行った。その結果、ほとんど浮遊物が見えないものをＡ評価、わずかに見えるものをＢ評価、浮遊物が多いものをＣ評価とした。
ポリチオール組成物５０ｍＬを、適当な大きさの透明なガラス瓶に入れ、暗室内で側面から光を当てて観察を行った。その結果、ほとんど浮遊物が見えないものをＡ評価、わずかに見えるものをＢ評価、浮遊物が多いものをＣ評価とした。
（比較例１）
（ｂ）化合物が多く含まれる１，３−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン（別名：ｍ−キシリレンジチオール）（ａ−１化合物）の合成１
攪拌機、還流冷却管、窒素ガスパージ管、および温度計を取り付けた１Ｌ４つ口反応フラスコ内に、ｍ−キシリレンジクロライド７４．１ｇ、チオ尿素６７．２ｇ、水２７０ｇを混合し、２．５時間加熱還流を行った。室温に冷却した後、窒素雰囲気下で、５０％苛性ソーダ水溶液を１３４．１ｇ加え、７０℃から４０℃で２時間、加水分解を行った。次いで、反応液を４０℃に冷却し、希塩酸をｐＨが３になるまで加え、そのまま３０分間攪拌して中和を実施した。反応終了後、トルエン３６０ｍＬで抽出を行った後、加熱減圧下でトルエンおよび微量の水分を除去して、ｍ−キシリレンジチオールを含むポリチオール組成物を６８．７ｇ得た。このポリチオール組成物中の対応する（ｂ）化合物の含有率は、１．０質量％であった。また、ｍ−キシリレンジチオールの含有率は９４．２質量％であった。
（ｂ）化合物が多く含まれる１，３−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン（別名：ｍ−キシリレンジチオール）（ａ−１化合物）の合成１
攪拌機、還流冷却管、窒素ガスパージ管、および温度計を取り付けた１Ｌ４つ口反応フラスコ内に、ｍ−キシリレンジクロライド７４．１ｇ、チオ尿素６７．２ｇ、水２７０ｇを混合し、２．５時間加熱還流を行った。室温に冷却した後、窒素雰囲気下で、５０％苛性ソーダ水溶液を１３４．１ｇ加え、７０℃から４０℃で２時間、加水分解を行った。次いで、反応液を４０℃に冷却し、希塩酸をｐＨが３になるまで加え、そのまま３０分間攪拌して中和を実施した。反応終了後、トルエン３６０ｍＬで抽出を行った後、加熱減圧下でトルエンおよび微量の水分を除去して、ｍ−キシリレンジチオールを含むポリチオール組成物を６８．７ｇ得た。このポリチオール組成物中の対応する（ｂ）化合物の含有率は、１．０質量％であった。また、ｍ−キシリレンジチオールの含有率は９４．２質量％であった。
（実施例１）
（ｂ）化合物が少ないｍ−キシリレンジチオール（ａ−１化合物）の合成１
攪拌機、還流冷却管、窒素ガスパージ管、および温度計を取り付けた１Ｌ４つ口反応フラスコ内に、ｍ−キシリレンジクロライド７４．１ｇ、チオ尿素６７．２ｇ、水２７０ｇを混合し、２．５時間加熱還流を行った。室温に冷却した後、窒素雰囲気下で、５０％苛性ソーダ水溶液を１３４．１ｇ加え、７０℃から４０℃で２時間、加水分解を行った。次いで、反応液を４０℃に冷却し、塩酸をｐＨが２になるまで加え、そのまま３０分間攪拌して中和を実施した。反応終了後、トルエン３６０ｍＬで抽出を行った後、加熱減圧下でトルエンおよび微量の水分を除去した。その後、得られたｍ−キシリレンジチオールを含むポリチオール組成物の蒸留精製を行った後に、水洗を実施した。加熱減圧を行って水分を除去した後にろ過を実施して、ポリチオール組成物５５．０ｇを得た。このポリチオール組成物中の対応する（ｂ）化合物の含有率は、０．０５質量％であった。また、ｍ−キシリレンジチオールの含有率は９９．６質量％であった。
（ｂ）化合物が少ないｍ−キシリレンジチオール（ａ−１化合物）の合成１
攪拌機、還流冷却管、窒素ガスパージ管、および温度計を取り付けた１Ｌ４つ口反応フラスコ内に、ｍ−キシリレンジクロライド７４．１ｇ、チオ尿素６７．２ｇ、水２７０ｇを混合し、２．５時間加熱還流を行った。室温に冷却した後、窒素雰囲気下で、５０％苛性ソーダ水溶液を１３４．１ｇ加え、７０℃から４０℃で２時間、加水分解を行った。次いで、反応液を４０℃に冷却し、塩酸をｐＨが２になるまで加え、そのまま３０分間攪拌して中和を実施した。反応終了後、トルエン３６０ｍＬで抽出を行った後、加熱減圧下でトルエンおよび微量の水分を除去した。その後、得られたｍ−キシリレンジチオールを含むポリチオール組成物の蒸留精製を行った後に、水洗を実施した。加熱減圧を行って水分を除去した後にろ過を実施して、ポリチオール組成物５５．０ｇを得た。このポリチオール組成物中の対応する（ｂ）化合物の含有率は、０．０５質量％であった。また、ｍ−キシリレンジチオールの含有率は９９．６質量％であった。
（実施例２）
（ｂ）化合物が少ないｍ−キシリレンジチオール（ａ−１化合物）の合成２
トルエン抽出までは実施例１と同様に合成し、その後トルエン溶液を６規定の塩酸で洗浄後、水洗を実施した後に、加熱減圧下でトルエンおよび微量の水分を除去した。得られたポリチオール組成物の重量は５８．０ｇであった。このポリチオール組成物中の対応する（ｂ）化合物の含有率は、０．０７質量％であった。また、ｍ−キシリレンジチオールの含有率は９５．６質量％であった。
（ｂ）化合物が少ないｍ−キシリレンジチオール（ａ−１化合物）の合成２
トルエン抽出までは実施例１と同様に合成し、その後トルエン溶液を６規定の塩酸で洗浄後、水洗を実施した後に、加熱減圧下でトルエンおよび微量の水分を除去した。得られたポリチオール組成物の重量は５８．０ｇであった。このポリチオール組成物中の対応する（ｂ）化合物の含有率は、０．０７質量％であった。また、ｍ−キシリレンジチオールの含有率は９５．６質量％であった。
（実施例３）
（ｂ）化合物が少ないｍ−キシリレンジチオール（ａ−１化合物）の合成３
加水分解の温度を８０℃以上に保持して行った以外は、比較例１と同様に合成して、ｍ−キシリレンジチオールを含むポリチオール組成物を６６．３ｇ得た。このポリチオール組成物中の対応する（ｂ）化合物の含有率は、０．３２質量％であった。また、ｍ−キシリレンジチオールの含有率は９３．２質量％であった。
（ｂ）化合物が少ないｍ−キシリレンジチオール（ａ−１化合物）の合成３
加水分解の温度を８０℃以上に保持して行った以外は、比較例１と同様に合成して、ｍ−キシリレンジチオールを含むポリチオール組成物を６６．３ｇ得た。このポリチオール組成物中の対応する（ｂ）化合物の含有率は、０．３２質量％であった。また、ｍ−キシリレンジチオールの含有率は９３．２質量％であった。
（比較例２）
（ｂ）化合物が多く含まれる１，２−ビス〔（２−メルカプトエチル）チオ〕−３−メルカプトプロパン（ａ−２化合物）の合成
攪拌機、還流冷却管、窒素ガスパージ管、および温度計を取り付けた２Ｌ４つ口反応フラスコ内に、水７６.０ｇと４８質量％の水酸化ナトリウム水溶液９０．０ｇ（１．０８ｍｏｌ）を装入した。３０℃にて２−メルカプトエタノール１６９ｇ（２．１６ｍｏｌ）を３０分かけて滴下装入した後、エピクロロヒドリン９９．９ｇ（１．０８ｍｏｌ）を同温度にて３時間かけて滴下装入し１時間熟成を行った。次に、３６質量％塩酸水４５０．１ｇ（４．３２ｍｏｌ）、チオ尿素３０４．５ｇ（４．００ｍｏｌ）を装入し、８時間１１０℃還流を行ってチウロニウム塩化を行った。５０℃に冷却した後、トルエン４５０．０ｇ、２８質量％のアンモニア水溶液２９８ｇ（５．２１ｍｏｌ）を装入し、加水分解を行い、１，２−ビス〔（２−メルカプトエチル）チオ〕−３−メルカプトプロパンを主成分とするポリチオールのトルエン溶液を得た。該トルエン溶液を、水洗浄を行い、加熱減圧下でトルエンおよび微量の水分を除去した。その後、濾過して１，２−ビス〔（２−メルカプトエチル）チオ〕−３−メルカプトプロパン化合物を主成分とするポリチオール組成物を２７１．２ｇ得た。このポリチオール組成物中の対応する（ｂ）化合物の含有率は、１．２質量％であった。また、１，２−ビス〔（２−メルカプトエチル）チオ〕−３−メルカプトプロパンの含有率は８２．３質量%であった。
（ｂ）化合物が多く含まれる１，２−ビス〔（２−メルカプトエチル）チオ〕−３−メルカプトプロパン（ａ−２化合物）の合成
攪拌機、還流冷却管、窒素ガスパージ管、および温度計を取り付けた２Ｌ４つ口反応フラスコ内に、水７６.０ｇと４８質量％の水酸化ナトリウム水溶液９０．０ｇ（１．０８ｍｏｌ）を装入した。３０℃にて２−メルカプトエタノール１６９ｇ（２．１６ｍｏｌ）を３０分かけて滴下装入した後、エピクロロヒドリン９９．９ｇ（１．０８ｍｏｌ）を同温度にて３時間かけて滴下装入し１時間熟成を行った。次に、３６質量％塩酸水４５０．１ｇ（４．３２ｍｏｌ）、チオ尿素３０４．５ｇ（４．００ｍｏｌ）を装入し、８時間１１０℃還流を行ってチウロニウム塩化を行った。５０℃に冷却した後、トルエン４５０．０ｇ、２８質量％のアンモニア水溶液２９８ｇ（５．２１ｍｏｌ）を装入し、加水分解を行い、１，２−ビス〔（２−メルカプトエチル）チオ〕−３−メルカプトプロパンを主成分とするポリチオールのトルエン溶液を得た。該トルエン溶液を、水洗浄を行い、加熱減圧下でトルエンおよび微量の水分を除去した。その後、濾過して１，２−ビス〔（２−メルカプトエチル）チオ〕−３−メルカプトプロパン化合物を主成分とするポリチオール組成物を２７１．２ｇ得た。このポリチオール組成物中の対応する（ｂ）化合物の含有率は、１．２質量％であった。また、１，２−ビス〔（２−メルカプトエチル）チオ〕−３−メルカプトプロパンの含有率は８２．３質量%であった。
（実施例４）
（ｂ）化合物をほとんど含まない１，２−ビス〔（２−メルカプトエチル）チオ〕−３−メルカプトプロパン（ａ−２化合物）の合成
攪拌機、還流冷却管、窒素ガスパージ管、および温度計を取り付けた２Ｌ４つ口反応フラスコ内に、水７６.０ｇと４８質量％の水酸化ナトリウム水溶液９０．０ｇ（１．０８ｍｏｌ）を装入した。３０℃にて２−メルカプトエタノール１６９ｇ（２．１６ｍｏｌ）を３０分かけて滴下装入した後、エピクロロヒドリン９９．９ｇ（１．０８ｍｏｌ）を同温度にて３時間かけて滴下装入し１時間熟成を行った。次に、３６質量％塩酸水４５０．１ｇ（４．３２ｍｏｌ）、チオ尿素３０４．５ｇ（４．００ｍｏｌ）を装入し、８時間１１０℃還流を行ってチウロニウム塩化を行った。５０℃に冷却した後、トルエン４５０．０ｇ、２８質量％のアンモニア水溶液２９８ｇ（５．２１ｍｏｌ）を装入し、加水分解を行い、１，２−ビス〔（２−メルカプトエチル）チオ〕−３−メルカプトプロパンを主成分とするポリチオールのトルエン溶液を得た。該トルエン溶液を、一規定の酸で酸洗浄および水洗浄を行い、加熱減圧下でトルエンおよび微量の水分を除去した。その後、得られた１，２−ビス〔（２−メルカプトエチル）チオ〕−３−メルカプトプロパン化合物を主成分とするポリチオール組成物の蒸留精製を行った後に、再度、水洗を実施した。加熱減圧を行って水分を除去した後にろ過を実施して、ポリチオール組成物２３５．４ｇを得た。このポリチオール組成物中の対応する（ｂ）化合物の含有率は、０．００質量％であった。また、１，２−ビス〔（２−メルカプトエチル）チオ〕−３−メルカプトプロパンの含有率は８６．４質量%であった。
（ｂ）化合物をほとんど含まない１，２−ビス〔（２−メルカプトエチル）チオ〕−３−メルカプトプロパン（ａ−２化合物）の合成
攪拌機、還流冷却管、窒素ガスパージ管、および温度計を取り付けた２Ｌ４つ口反応フラスコ内に、水７６.０ｇと４８質量％の水酸化ナトリウム水溶液９０．０ｇ（１．０８ｍｏｌ）を装入した。３０℃にて２−メルカプトエタノール１６９ｇ（２．１６ｍｏｌ）を３０分かけて滴下装入した後、エピクロロヒドリン９９．９ｇ（１．０８ｍｏｌ）を同温度にて３時間かけて滴下装入し１時間熟成を行った。次に、３６質量％塩酸水４５０．１ｇ（４．３２ｍｏｌ）、チオ尿素３０４．５ｇ（４．００ｍｏｌ）を装入し、８時間１１０℃還流を行ってチウロニウム塩化を行った。５０℃に冷却した後、トルエン４５０．０ｇ、２８質量％のアンモニア水溶液２９８ｇ（５．２１ｍｏｌ）を装入し、加水分解を行い、１，２−ビス〔（２−メルカプトエチル）チオ〕−３−メルカプトプロパンを主成分とするポリチオールのトルエン溶液を得た。該トルエン溶液を、一規定の酸で酸洗浄および水洗浄を行い、加熱減圧下でトルエンおよび微量の水分を除去した。その後、得られた１，２−ビス〔（２−メルカプトエチル）チオ〕−３−メルカプトプロパン化合物を主成分とするポリチオール組成物の蒸留精製を行った後に、再度、水洗を実施した。加熱減圧を行って水分を除去した後にろ過を実施して、ポリチオール組成物２３５．４ｇを得た。このポリチオール組成物中の対応する（ｂ）化合物の含有率は、０．００質量％であった。また、１，２−ビス〔（２−メルカプトエチル）チオ〕−３−メルカプトプロパンの含有率は８６．４質量%であった。
ポリチオール組成物の評価
（実施例５、７）
ポリチオール組成物中の（ｂ）化合物の量が表１で示した量になるように実施例１、比較例１で得られたポリチオール組成物を混合した。続いて、そのポリチオール組成物の浮遊物評価を行った後、加速試験として５０℃で７日間保存を行った。最後に、保存後のポリチオール組成物について浮遊物の評価を行った。結果を表１に示す。
（実施例６）
実施例３で得られたポリチオール組成物をそのまま用いた以外は、実施例５と同様に評価を行った。結果を表１に示す。
（実施例８）
実施例２で得られたポリチオール組成物をそのまま用いた以外は、実施例５と同様に評価を行った。結果を表１に示す。
（実施例９）
実施例１で得られたポリチオール組成物をそのまま用いた以外は、実施例５と同様に評価を行った。結果を表１に示す。
（実施例１０、１１）
ポリチオール組成物中の（ｂ）化合物の量が表１で示した量になるように実施例４、比較例２で製造したポリチオール組成物を混合した後に、実施例５と同様に評価を行った。結果を表１に示す。
（実施例５、７）
ポリチオール組成物中の（ｂ）化合物の量が表１で示した量になるように実施例１、比較例１で得られたポリチオール組成物を混合した。続いて、そのポリチオール組成物の浮遊物評価を行った後、加速試験として５０℃で７日間保存を行った。最後に、保存後のポリチオール組成物について浮遊物の評価を行った。結果を表１に示す。
（実施例６）
実施例３で得られたポリチオール組成物をそのまま用いた以外は、実施例５と同様に評価を行った。結果を表１に示す。
（実施例８）
実施例２で得られたポリチオール組成物をそのまま用いた以外は、実施例５と同様に評価を行った。結果を表１に示す。
（実施例９）
実施例１で得られたポリチオール組成物をそのまま用いた以外は、実施例５と同様に評価を行った。結果を表１に示す。
（実施例１０、１１）
ポリチオール組成物中の（ｂ）化合物の量が表１で示した量になるように実施例４、比較例２で製造したポリチオール組成物を混合した後に、実施例５と同様に評価を行った。結果を表１に示す。
（比較例３〜５）
実施例５、１０と同様にポリチオール組成物中の（ｂ）化合物の量が表１で示した量になるように混合した後に、実施例５と同様に評価を行った。結果を表１に示す。
実施例５、１０と同様にポリチオール組成物中の（ｂ）化合物の量が表１で示した量になるように混合した後に、実施例５と同様に評価を行った。結果を表１に示す。
（比較例６）
（ｂ）化合物が多く含まれるｍ−キシリレンジチオール（ａ−１化合物）の合成２及びポリチオール組成物の評価
トルエン抽出までは実施例１と同様に合成し、その後トルエン溶液を１規定の酸で酸洗浄および３回水洗浄を実施した後に、加熱減圧下でトルエンおよび微量の水分を除去した（蒸留精製はなし）。得られたポリチオール組成物の重量は６７．４ｇであった。このポリチオール組成物中の対応する（ｂ）化合物の含有率は、０．７５質量％であった。また、ｍ−キシリレンジチオールの含有率は９４．９質量％であった。
得られたポリチオール組成物をそのまま用いた以外は、実施例５と同様に評価を行った。結果を表１に示す。
（ｂ）化合物が多く含まれるｍ−キシリレンジチオール（ａ−１化合物）の合成２及びポリチオール組成物の評価
トルエン抽出までは実施例１と同様に合成し、その後トルエン溶液を１規定の酸で酸洗浄および３回水洗浄を実施した後に、加熱減圧下でトルエンおよび微量の水分を除去した（蒸留精製はなし）。得られたポリチオール組成物の重量は６７．４ｇであった。このポリチオール組成物中の対応する（ｂ）化合物の含有率は、０．７５質量％であった。また、ｍ−キシリレンジチオールの含有率は９４．９質量％であった。
得られたポリチオール組成物をそのまま用いた以外は、実施例５と同様に評価を行った。結果を表１に示す。
（比較例７）
（ｂ）化合物が多く含まれるｍ−キシリレンジチオール（ａ−１化合物）の合成３及びポリチオール組成物の評価
蒸留後の水洗浄を行わなかった以外は実施例１と同様に合成した。得られたポリチオール組成物の重量は５６．２ｇであった。このポリチオール組成物中の対応する（ｂ）化合物の含有率は、０．５６質量％であった。また、ｍ−キシリレンジチオールの含有率は９８．６質量％であった。
得られたポリチオール組成物をそのまま用いた以外は、実施例５と同様に評価を行った。結果を表１に示す。
（ｂ）化合物が多く含まれるｍ−キシリレンジチオール（ａ−１化合物）の合成３及びポリチオール組成物の評価
蒸留後の水洗浄を行わなかった以外は実施例１と同様に合成した。得られたポリチオール組成物の重量は５６．２ｇであった。このポリチオール組成物中の対応する（ｂ）化合物の含有率は、０．５６質量％であった。また、ｍ−キシリレンジチオールの含有率は９８．６質量％であった。
得られたポリチオール組成物をそのまま用いた以外は、実施例５と同様に評価を行った。結果を表１に示す。
Ｂ：わずかに浮遊物が見える。品質上問題ないレベル。
Ｃ：浮遊物が多い。
（ａ）化合物
ａ−１；ｍ−キシリレンジチオール
ａ−２；１，２−ビス〔（２−メルカプトエチル）チオ〕−３−メルカプトプロパン
Claims (11)
- ２つ以上のメルカプト基を有するポリチオール化合物（ａ）を主成分とし、前記ポリチオール化合物（ａ）のメルカプト基の少なくとも一つが下記式（１）で表される基で置き換えられた含窒素化合物（ｂ）を０．５質量％超含むポリチオール組成物を精製して、前記含窒素化合物（ｂ）の含有率が０．５質量％以下であるポリチオール組成物を製造する方法であって、
前記精製工程が、少なくとも下記工程（１）および下記工程（２）を有することを特徴とするポリチオール組成物の製造方法。
工程（１）：ポリチオール組成物を蒸留する工程。
工程（２）：ポリチオール組成物を蒸留以外の手段で精製する工程。
- 工程(１)の後に工程（２）を実施する請求項１に記載のポリチオール組成物の製造方法。
- 工程(１)の前後に工程（２）を実施する請求項１に記載のポリチオール組成物の製造方法。
- 蒸留以外の手段が水洗および酸洗から選ばれる１つ以上の手段である請求項１〜３のいずれかに記載のポリチオール組成物の製造方法。
- ２つ以上のメルカプト基を有するポリチオール化合物（ａ）を主成分とし、前記ポリチオール化合物（ａ）のメルカプト基の少なくとも一つが下記式（１）で表される基で置き換えられた含窒素化合物（ｂ）を０．５質量％超含むポリチオール組成物を精製して、前記含窒素化合物（ｂ）の含有率が０．５質量％以下であるポリチオール組成物を製造する方法であって、
前記精製工程が、前記含窒素化合物（ｂ）を０．５質量％超含むポリチオール組成物を６規定以上の酸を用いて洗浄する工程を有することを特徴とするポリチオール組成物の製造方法。
- ２つ以上のメルカプト基を有するポリチオール化合物（ａ）を主成分とし、前記ポリチオール化合物（ａ）のメルカプト基の少なくとも一つが下記式（１）で表される基で置き換えられた含窒素化合物（ｂ）の含有率が０．５質量％以下であるポリチオール組成物を製造する方法であって、ポリチオール化合物（ａ）の原料であるイソチウロニウム塩の加水分解を８０℃以上で行う工程を有することを特徴とするポリチオール組成物の製造方法。
- ２つ以上のメルカプト基を有するポリチオール化合物（ａ）を主成分とするポリチオール組成物であって、上記ポリチオール化合物（ａ）のメルカプト基の少なくとも一つが下記式（１）で表される基で置き換えられた含窒素化合物（ｂ）の含有率が０．５質量％以下であるポリチオール組成物。
- 前記ポリチオール化合物（ａ）が、イソチウロニウム塩を加水分解して得られたものである、請求項７に記載のポリチオール組成物。
- 請求項１〜６のいずれかに記載の方法で製造されたポリチオール組成物。
- 請求項７〜９のいずれかに記載のポリチオール組成物を含有する光学材料用組成物。
- 請求項１０に記載の光学材料用組成物を重合硬化して得られる光学材料。
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014147702 | 2014-07-18 | ||
| JP2014147702 | 2014-07-18 | ||
| JP2014209774 | 2014-10-14 | ||
| JP2014209774 | 2014-10-14 | ||
| PCT/JP2015/070231 WO2016010065A1 (ja) | 2014-07-18 | 2015-07-15 | ポリチオール組成物およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2016010065A1 true JPWO2016010065A1 (ja) | 2017-04-27 |
| JP6724780B2 JP6724780B2 (ja) | 2020-07-15 |
Family
ID=55078555
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016534465A Active JP6724780B2 (ja) | 2014-07-18 | 2015-07-15 | ポリチオール組成物およびその製造方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10207987B2 (ja) |
| EP (1) | EP3170808A4 (ja) |
| JP (1) | JP6724780B2 (ja) |
| KR (2) | KR20220151035A (ja) |
| CN (1) | CN106414401A (ja) |
| TW (1) | TWI699389B (ja) |
| WO (1) | WO2016010065A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111868025B (zh) | 2018-03-30 | 2023-12-12 | 三井化学株式会社 | 有机巯基化合物或其中间体的制造方法、（多）硫醇成分、光学材料用聚合性组合物、成型体、光学材料及透镜 |
| KR20210046051A (ko) * | 2018-08-20 | 2021-04-27 | 피피지 인더스트리즈 오하이오 인코포레이티드 | 폴리티올 조성물 |
| EP4101836A4 (en) * | 2020-02-05 | 2024-03-13 | Mitsui Chemicals Inc | METHOD FOR PRODUCING STARTING MATERIAL OF THIOURETHANE RESIN AND USE THEREOF, METHOD FOR PRODUCING POLYTHIOL COMPOSITION AND USE THEREOF, AND POLYTHIOL COMPOSITION |
| CN111855882B (zh) * | 2020-09-04 | 2023-03-31 | 黄河三角洲京博化工研究院有限公司 | 一种液质联用表征多元巯基聚合物结构分布的方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02270859A (ja) * | 1988-12-22 | 1990-11-05 | Mitsui Toatsu Chem Inc | メルカプト化合物及びその製造方法 |
| JP2006124334A (ja) * | 2004-10-29 | 2006-05-18 | Hoya Corp | チオール化合物の精製方法 |
| JP2011231305A (ja) * | 2010-04-08 | 2011-11-17 | Mitsubishi Gas Chemical Co Inc | 光学材料用組成物 |
| WO2014027665A1 (ja) * | 2012-08-14 | 2014-02-20 | 三井化学株式会社 | ポリチオール組成物、光学材料用重合性組成物およびその用途 |
| WO2014027427A1 (ja) * | 2012-08-14 | 2014-02-20 | 三井化学株式会社 | ポリチオール化合物の製造方法、光学材料用重合性組成物およびその用途 |
Family Cites Families (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2312688A (en) | 1941-07-30 | 1943-03-02 | Gen Electric | Reaction product of aldehydes and triazine derivatives |
| US2324284A (en) | 1942-03-17 | 1943-07-13 | Gen Electric | Reaction product of aldehydes and bis-(diamino triazinyl) cyanoalkylene disulphides |
| CN1040810A (zh) | 1988-04-30 | 1990-03-28 | 三井东圧化学株式会社 | 多硫化合物基树脂透镜及其制备方法 |
| US5087758A (en) * | 1988-12-22 | 1992-02-11 | Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. | Mercapto compound, a high refractive index resin and lens and a process for preparing them |
| US5608115A (en) | 1994-01-26 | 1997-03-04 | Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. | Polythiol useful for preparing sulfur-containing urethane-based resin and process for producing the same |
| JPH09136919A (ja) | 1995-11-15 | 1997-05-27 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 高屈折率レンズ用光学材料 |
| JP3862382B2 (ja) | 1997-10-22 | 2006-12-27 | 三井化学株式会社 | ３官能以上の新規な含セレンポリチオール |
| EP0896972B1 (en) | 1997-02-21 | 2006-11-29 | Mitsui Chemicals, Inc. | Method for producing a selenized transparent optical material |
| JP3465528B2 (ja) | 1997-04-22 | 2003-11-10 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 新規な光学材料用樹脂 |
| JPH1180308A (ja) | 1997-09-01 | 1999-03-26 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | 硬化性組成物およびそれを用いて得られる光学材料 |
| US7126161B2 (en) * | 1998-10-13 | 2006-10-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device having El layer and sealing material |
| KR100510315B1 (ko) * | 1999-11-18 | 2005-08-26 | 피피지 인더스트리즈 오하이오 인코포레이티드 | 광학 중합물의 제조 방법 |
| US6891017B2 (en) | 2001-06-29 | 2005-05-10 | Essilor International Compagnie General D'optique | Fast polymerizable/curable episulfide based composition, polymerization/curing process and optical articles resulting therefrom |
| JP2006003624A (ja) | 2004-06-17 | 2006-01-05 | Mitsui Chemicals Inc | 硫黄原子含有樹脂からなる光学材料 |
| WO2006033406A1 (ja) * | 2004-09-24 | 2006-03-30 | Hoya Corporation | 環状スルフィド化合物及びその中間体の製造方法 |
| JP4326455B2 (ja) | 2004-11-04 | 2009-09-09 | 三井化学株式会社 | 高耐熱性樹脂用ポリチオール |
| JP4496121B2 (ja) | 2005-03-31 | 2010-07-07 | 三井化学株式会社 | 色相に優れた硫黄原子含有透明樹脂の製造方法 |
| EP2008998B1 (en) * | 2006-04-19 | 2013-06-05 | Mitsui Chemicals, Inc. | Process for production of (poly)thiol compound for use as optical material |
| CN102143984B (zh) * | 2008-09-22 | 2013-08-21 | 三井化学株式会社 | 光学材料用聚合性组合物、光学材料及光学材料的制造方法 |
| JP5225797B2 (ja) | 2008-09-30 | 2013-07-03 | 三井化学株式会社 | 組成物、これを含む重合性組成物、組成物の製造方法 |
| KR101877590B1 (ko) | 2010-12-27 | 2018-07-12 | 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤 | 광학 재료용 조성물 |
| JP5319036B1 (ja) | 2012-08-14 | 2013-10-16 | 三井化学株式会社 | ポリチオール化合物の製造方法 |
| JP6406265B2 (ja) | 2013-11-01 | 2018-10-17 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ポリチオール化合物およびその製造方法 |
-
2015
- 2015-07-02 TW TW104121490A patent/TWI699389B/zh active
- 2015-07-15 US US15/310,279 patent/US10207987B2/en active Active
- 2015-07-15 KR KR1020227038006A patent/KR20220151035A/ko not_active Application Discontinuation
- 2015-07-15 KR KR1020167028903A patent/KR102483128B1/ko active IP Right Grant
- 2015-07-15 CN CN201580029266.1A patent/CN106414401A/zh active Pending
- 2015-07-15 EP EP15821668.9A patent/EP3170808A4/en not_active Withdrawn
- 2015-07-15 WO PCT/JP2015/070231 patent/WO2016010065A1/ja active Application Filing
- 2015-07-15 JP JP2016534465A patent/JP6724780B2/ja active Active
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02270859A (ja) * | 1988-12-22 | 1990-11-05 | Mitsui Toatsu Chem Inc | メルカプト化合物及びその製造方法 |
| JP2006124334A (ja) * | 2004-10-29 | 2006-05-18 | Hoya Corp | チオール化合物の精製方法 |
| JP2011231305A (ja) * | 2010-04-08 | 2011-11-17 | Mitsubishi Gas Chemical Co Inc | 光学材料用組成物 |
| WO2014027665A1 (ja) * | 2012-08-14 | 2014-02-20 | 三井化学株式会社 | ポリチオール組成物、光学材料用重合性組成物およびその用途 |
| WO2014027427A1 (ja) * | 2012-08-14 | 2014-02-20 | 三井化学株式会社 | ポリチオール化合物の製造方法、光学材料用重合性組成物およびその用途 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP6724780B2 (ja) | 2020-07-15 |
| KR102483128B1 (ko) | 2022-12-30 |
| KR20170032218A (ko) | 2017-03-22 |
| WO2016010065A1 (ja) | 2016-01-21 |
| US20170247322A1 (en) | 2017-08-31 |
| CN106414401A (zh) | 2017-02-15 |
| KR20220151035A (ko) | 2022-11-11 |
| EP3170808A4 (en) | 2018-02-21 |
| TWI699389B (zh) | 2020-07-21 |
| EP3170808A1 (en) | 2017-05-24 |
| TW201615697A (zh) | 2016-05-01 |
| US10207987B2 (en) | 2019-02-19 |
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|
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