JP2656450B2 - 乾燥方法 - Google Patents

乾燥方法

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JP2656450B2
JP2656450B2 JP6214662A JP21466294A JP2656450B2 JP 2656450 B2 JP2656450 B2 JP 2656450B2 JP 6214662 A JP6214662 A JP 6214662A JP 21466294 A JP21466294 A JP 21466294A JP 2656450 B2 JP2656450 B2 JP 2656450B2
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  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Extraction Or Liquid Replacement (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】 本発明は、工業用部品の精密洗
浄後の清浄な表面を維持したまま、すなわち、しみを残
すことなく乾燥する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】金属部品、メッキ部品、塗装部品、電子
部品、半導体部品等の各種工業部品の製造工程において
は、フロン113 に代表されるフロン系溶剤や、トリクロ
ロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレ
ン、四塩化炭素等の有機溶剤が油汚れ等を除去するため
の洗浄剤として幅広く使用されている。
【0003】また、上記したような有機溶剤系洗浄剤
は、各種部品の水洗後の水切り洗浄剤としても用いられ
ている。これは、被洗浄物に付着した水分を直接乾燥し
ようとした場合に生じる、高温(373K以上)にしなけれ
ばならない(エネルギーロス大)、乾燥に時間がかかる
ことによって生産効率が低下する、高温にすることによ
って被洗浄物が変形するおそれがある(許容値以上の熱
膨脹)、冷却や熱遮蔽のスペースを必要とし洗浄装置の
設置面積が増大する等の問題を回避することができるた
めである。
【0004】 なお、ここで言う水切り洗浄剤とは、水
洗した後の被洗浄物を浸漬ないしはシャワーリンスする
ことによって、被洗浄物に付着した水分と置換(水置
換)した後、室温を超えるないしは333K以下の温風
で揮散させることで、被洗浄物を乾燥させ得る洗浄剤の
ことである。
【0005】しかし、最近、フロンの放出がオゾン層の
破壊に繋がり、人体や生物系に深刻な影響を与えること
が明らかとなってきたことから、オゾン破壊係数の高い
フロン12やフロン113 等は世界的な規模で段階的に使用
を削減し、将来的には全廃の方向に進んでいる。また、
トリクロロエチレンやテトラクロロエチレン等の塩素系
有機溶剤も、土壌や地下水等の汚染を引起こす等の環境
問題にからんで、使用規制が強化させる方向に進んでい
る。
【0006】このような状況下にあって、現状のフロン
系溶剤よりオゾン破壊係数の低いフロン系物質が開発さ
れつつあり、既に工業的生産が一部で進められている
が、これらとてもオゾン層の破壊が皆無ではないことか
ら、好ましい代替洗浄剤とは目されていない。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】そこで、上述したよう
な有機溶剤系による洗浄剤の代替品として、環境破壊や
環境汚染を引起こすことがない、界面活性剤を用いた水
系の洗浄剤が見直され始めている。しかし、単に界面活
性剤だけによる洗浄剤では浸透力が弱く、例えば部品細
部へ侵入した汚れや中粘度から高粘度のこびりついた油
汚れに対しては十分な洗浄力を発揮することができない
という問題がある。
【0008】また、シリコーン系化合物を編織物の汚れ
除去に使用することが特公昭63- 50463号公報に記載さ
れている。これによれば、Si数が 4〜 6の環状シロキサ
ンを洗浄用溶剤中に有効な量含有する液状洗浄組成物を
用いて、編織物のクリーニングを行う方法が開示されて
いる。しかし、上述したシリコーン系化合物を含む液状
洗浄組成物は、編織物を洗浄対象としているため、一般
的な工業製品の洗浄はまるで考慮されていないと共に、
環状シロキサン単独あるいは環状シロキサンと有機溶剤
との混合系であるため、水を使用する系に対する洗浄も
考慮されていない。しかも、このような系は当然なが
ら、水に対する分散性が極めて悪く、界面活性物質を併
用しても均質に混合しにくく、直ちに相分離を起こして
しまうため、到底水系洗浄剤として使用に耐え得るもの
ではない。
【0009】また、特開昭53-56203号公報には、エアゾ
ール型水性クリーニング組成物として、水溶性洗浄組成
物に分子当り 2〜 3個のケイ素原子を有する鎖状ポリジ
メチルシロキサンを配合することが記載されているが、
その配合量はあくまでも0.02〜 0.1重量% 程度と限定さ
れているため、水系の洗浄組成物の洗浄力を十分に高め
るような効果は示していない。
【0010】このようなことから、環境問題を引起こす
ことがなく、かつ十分な洗浄能力を有すると共に、洗浄
剤として十分に機能しうる程度の安定性を有した水系洗
浄剤が強く望まれている。
【0011】一方、前述したような有機溶剤の水切り洗
浄剤としての代替品としては、イソプロピルアルコール
のような低級アルコールの使用が検討されている。しか
し、上記イソプロピルアルコールは、引火点が284.7Kと
室温より低く、通常の使用条件下では常に火災の危険が
伴うという欠点がある。さらに、イソプロピルアルコー
ルは水との相溶性が高く、初期の水切り性能は保持され
ても、連続して使用する場合には溶解した水の再付着が
起こるため、経時的な水切り性能の低下は免れない。こ
のような水を含んだイソプロピルアルコールから水を除
去して再使用するための精製には、多大な設備の投資を
必要とする。さらに、イソプロピルアルコールは人体に
対する毒性も高く、この面での使用規制が進行している
のが現状である。
【0012】また、室温を超えるような引火点を持つ炭
化水素、高級アルコールを使用する場合は、水の除去は
幾分容易ではあるが、これら自身の揮発性が低く、例え
ば333K以下といった低温での乾燥が困難であるため、水
切り洗浄剤として使用し得るものではない。このような
問題は水分との置換、乾燥に限らず、乾燥が困難な各種
液体との置換、乾燥時においても同様に生じる問題であ
る。
【0013】 本発明は、上述したような課題に対処す
るためになされたもので、フロン系等の有機溶剤系洗浄
剤に匹敵する洗浄能力を有し、かつ水系としての安定性
等に優れた環境破壊や環境汚染を引き起こすことがない
水系洗浄剤、および有機溶剤系液切り洗浄剤に匹敵する
液置換性と乾燥性とを有すると共に、発火性のような危
険性がほとんどなく、かつ環境破壊を引き起こすことが
ない液切り洗浄剤を用いることによって、工業用部品の
精密洗浄後の清浄な表面を維持したまま、すなわち、し
みを残すことなく乾燥する方法を提供することを目的と
している。
【0014】
【課題を解決するための手段と作用】 本発明における
第1の乾燥方法は、予備洗浄後、未乾燥状態にある工業
用部品を、 (式中、R は同一または相異なる置換または非置換の
アルキル基および/またはフェニル基を、lは0〜5の
整数を示す)で表される直鎖状ポリジオルガノシロキサ
ンおよび (式中、R は同一または相異なる置換または非置換の
アルキル基および/またはフェニル基を、mは3〜7の
整数を示す)で表される環状ポリジオルガノシロキサン
から選ばれた少なくとも1種から実質的になる低分子量
ポリオルガノシロキサンと接触させ、加温して、表面に
付着した前記低分子量ポリオルガノシロキサンを揮散さ
せ、しみを残すことなく乾燥させることを特徴としてい
【0015】 また、本発明における第2の乾燥方法
は、予備洗浄後、未乾燥状態にある工業用部品を、 (式中、R は同一または相異なる置換または非置換の
アルキル基および/またはフェニル基を、1は0〜5の
整数を示す)で表される直鎖状ポリジオルガノシロキサ
ンおよび (式中、R は同一または相異なる置換または非置換の
アルキル基および/またはフェニル基を、mは3〜7の
整数を示す)で表される環状ポリジオルガノシロキサン
から選ばれた少なくとも1種の低分子量ポリオルガノシ
ロキサン100重量部と前記低分子量ポリオルガノシロ
キサンに対して100重量部以下添加した親水性とから
実質的になる混合溶液と接触させ、加温して、表面に付
着した前記混合溶液を揮散させ、しみを残すことなく乾
燥させることを特徴としている。
【0016】 さらに、本発明における第3の乾燥方法
は、予備洗浄後、未乾燥状態にある工業用部品を、 (式中、R は同一または相異なる置換または非置換の
アルキル基および/またはフェニル基を、lは0〜5の
整数を示す)で表される直鎖状ポリジオルガノシロキサ
ンおよび (式中、R1は同一または相異なる置換または非置換の
アルキル基および/またはフェニル基を、mは3〜7の
整数を示す)で表される環状ポリジオルガノシロキサン
から選ばれた少なくとも1種から実質的になる加温した
低分子量ポリオルガノシロキサンと接触させ、表面に付
着した前記低分子量ポリオルガノシロキサンを揮散さ
せ、しみを残すことなく乾燥させることを特徴としてい
る。
【0017】 さらに、本発明における第4の乾燥方法
は、予備洗浄後、未乾燥状態にある工業用部品を、 (式中、R は同一または相異なる置換または非置換の
アルキル基および/またはフェニル基を、lは0〜5の
整数を示す)で表される直鎖状ポリジオルガノシロキサ
ンおよび (式中、R は同一または相異なる置換または非置換の
アルキル基および/またはフェニル基を、mは3〜7の
整数を示す)で表される環状ポリジオルガノシロキサン
から選ばれた少なくとも1種の低分子量ポリオルガノシ
ロキサン100重量部と前記低分子量ポリオルガノシロ
キサンに対して100重量部以下添加した親水性溶剤と
から実質的になる加温した混合溶液と接触させ、表面に
付着した前記混合溶液を揮散させ、しみを残すことなく
乾燥させることを特徴としている。
【0018】
【0019】
【0020】
【0021】本発明において、上述した (1)式および
(2)式で表される低分子量ポリオルガノシロキサンは、
汚れに対して強力な浸透力を発揮すると共に、これら単
独で水を含む各種液体と良好な置換性を示し、さらには
低蒸気圧、低蒸発熱、低表面張力等を有するものであ
り、本発明における特徴的な成分である。
【0022】(1)式および (2)式中の R1 は、置換また
は非置換の 1価の有機基であり、例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基やフェニル
基のような 1価の非置換炭化水素基、トリフロロメチル
基のような 1価の置換炭化水素基等が例示され、また上
記 (1)式における末端の R1 としては、さらにアミノ
基、アミド基、アクリル酸エステル基、メルカプタン基
等が例示されるが、系の安定性、揮発性の維持等からメ
チル基が最も好ましい。
【0023】水系洗浄剤として使用する際の低分子量ポ
リオルガノシロキサンとしては、浸透力と洗浄性の点か
ら環状構造を有するオクタメチルシクロテトラシロキサ
ン、デカメチルシクロペンタシロキサンおよびこれらの
混合物や、直鎖状構造を有するオクタメチルトリシロキ
サン、デカメチルテトラシロキサン等の使用が特に好ま
しい。なお、水系洗浄剤のアルカリ性が強い領域では、
ポリシロキサンの安定性の点から、上記 (1)式で示され
る直鎖状構造を有するものが好ましい。
【0024】上記 (1)式および (2)式で表される低分子
量ポリオルガノシロキサンは、上述したように汚れに対
して強力な浸透力を発揮するものの、これら単独では水
に対して難溶性でかつ分散安定性が悪く、水中で相分離
を起こす可能性があるが、上記 (3)式で表されるシロキ
シ単位を 1分子中に少なくとも 1個有するポリオキシア
ルキレン基含有ポリオルガノシロキサンを併用すること
によって、水に対して良好な分散安定性が得られ、上記
低分子量ポリオルガノシロキサンの汚れに対する強力な
浸透力を十分に発揮させることが可能となる。またさら
に、界面活性剤を併用することによって、洗浄性能の向
上が図れる。
【0025】上記ポリオキシアルキレン基含有ポリオル
ガノシロキサンは、ケイ素原子に結合したポリオキシア
ルキレン基によって水に対して親和性を示し、安定な水
系分散液もしくは水溶液を形成する成分であると共に、
汚れとそれが被着している金属等の基地との界面に浸透
して汚れを引剥がす作用も示し、さらに消泡作用も有し
ている。
【0026】このようなポリオキシアルキレン基含有ポ
リオルガノシロキサンは、ヒドロシリル基を有するポリ
オルガノシロキサンと、末端に不飽和基を有するポリオ
キシアルキレン化合物とを、白金系触媒の存在下に付加
反応させることによって得られる。
【0027】上記 (3)式中における Aのポリオキシアル
キレン基としては、
【化21】 (式中、 R3 は炭素数 1〜 8のアルキレン基、炭素数 4
〜11のβ- ヒドロキシプロピレンオキシアルキレン基お
よびポリメチレンオキシアルキレン基からなる群から選
ばれた 2価の基を、 R4 は炭素数 2〜 4のアルキレン基
を、 R5 は水素原子および 1価の有機基から選ばれた末
端基を示し、 nは正の整数を示す)で表される 1価の基
が例示される。
【0028】上記ポリオキシアルキレン基含有ポリオル
ガノシロキサンの主骨格を成すシロキサンは特に限定さ
れるものではない。このシロキサンのケイ素原子に結合
する有機基は、基本的にはメチル基であるが、本発明の
効果を損わない範囲で、エチル基、プロピル基、ブチル
基、フェニル基等の 1価の炭化水素基や、トリフロロメ
チル基のような 1価の置換炭化水素基を含有していても
よい。
【0029】また、分子量や上記ポリオキシアルキレン
基 1個当りの分子量も特に限定されるものではなく、こ
れらの値が大きいものであっても界面活性剤の併用等に
よって、十分に水溶もしくは安定に水分散させることが
可能である。ただし、実用的にはポリオキシアルキレン
基 1個当りの分子量が 100〜5000程度のものが好まし
い。また、ポリオキシアルキレン鎖においては、全ポリ
オキシアルキレン中オキシエチレン部分が40モル% 以上
であることが好ましい。さらに、ポリオキシアルキレン
基の量は特に限定されないが、該ポリオルガノシロキサ
ンのケイ素原子に結合した全有機基中の 5モル% 以上で
あることが系の安定性からより好ましい。このようなポ
リオキシアルキレン基含有ポリオルガノシロキサンとし
ては、
【化22】 (式中、p 、q 、r およびs は正の整数を示す)のよう
な鎖状ポリシロキサンや、
【化23】 (式中、t 、u およびv は正の整数を示す)のような環
状ポリシロキサンが例示される。
【0030】また界面活性剤は、上記した低分子量ポリ
オルガノシロキサンやポリオキシアルキレン基含有ポリ
オルガノシロキサンによって引剥がされた汚れを溶解あ
るいは乳化し、かつ安定化させる成分である。
【0031】このような界面活性剤には、活性を発揮す
る化学構造により、カチオン系、アニオン系、ノニオン
系、両性系およびこれらの複合系に分類されるが、本発
明においてはそれらのいずれをも使用することが可能で
ある。ただし、上記ポリオキシアルキレン基含有ポリオ
ルガノシロキサンとの組合せによる効果を考えた場合、
アニオン系、ノニオン系、両性系のいずれかの界面活性
剤の使用が好ましく、特にアニオン系/ノニオン系の組
合せあるいは両性系/ノニオン系の組合せによる界面活
性剤を使用することにより、これらによる洗浄性と上記
した低分子量ポリオルガノシロキサンやポリオキシアル
キレン基含有ポリオルガノシロキサンによる浸透性とに
顕著な相乗効果が得られる。
【0032】 これら界面活性剤のうち、水系洗浄剤に
おいて好ましく用いられるものとしては、ポリオキシア
ルキレンアルキルエーテルスルホン酸、リン酸エステル
等のアニオン系界面活性剤、多価アルコール脂肪酸エス
テル、ポリオキシアルキレン脂肪酸エステル、ポリオキ
シアルキレンアルキルエーテル等のノニオン系界面活性
剤、イミダゾリン誘導体等の両性界面活性剤、アルキル
アミン塩、アルキル第4級アンモニウム塩等のカチオン
系界面活性剤等が例示され、その他には単一物質で存在
することは少ないが、天然物から抽出されるテルペン系
化合物や高級脂肪酸エステル等が挙げられる。また、上
述したような各種化合物の化学構造の一部をフッ素原子
やケイ素原子で置き換えた合成化合物を用いることも可
能である。
【0033】上述した 4成分系の水系洗浄剤における組
成比は、特に限定されるものではないが、界面活性剤を
ポリオキシアルキレン基含有ポリオルガノシロキサン 1
00重量部に対して10〜1000重量部の範囲で配合し、低分
子量ポリオルガノシロキサンを上記界面活性剤とポリオ
キシアルキレン基含有ポリオルガノシロキサンとの合計
量 100重量部に対して1000重量部以下で配合することが
好ましい。
【0034】界面活性剤の配合量が少なすぎると洗浄力
が弱くなり、また多すぎると浸透性が弱くなる。また、
低分子量ポリオルガノシロキサンの配合量が多すぎると
系に分散しずらくなり、また水系洗浄剤としての安定性
が低下する。上記界面活性剤のより好ましい配合比とし
ては、ポリオキシアルキレン基含有ポリオルガノシロキ
サン 100重量部に対し30〜 700重量部であり、さらに好
ましくは50〜 300重量部の範囲である。低分子量ポリオ
ルガノシロキサンのより好ましい配合比は、10重量部〜
1000重量部の範囲である。また、上記 4成分系の水系洗
浄剤における水の配合量は、特に限定されるものではな
いが、洗浄剤の安定性の点からは全組成物中で40重量%
以上とすることが好ましく、さらに好ましくは70〜99.5
重量% の範囲である。
【0035】ところで、上記 (3)式で表されるシロキシ
単位を 1分子中に少なくとも 1個有するポリオキシアル
キレン基含有ポリオルガノシロキサンは、それ自体も上
述したように汚れとそれが被着している金属等の基地と
の界面に浸透し、汚れを引剥がす作用を有するため、上
記ポリオキシアルキレン基含有ポリオルガノシロキサ
ン、界面活性剤および水の 3成分系でも水系洗浄剤とし
ての効果を発揮する。なお、この際の配合比は、上述し
た 4成分系の水系洗浄剤に準じるものとする。
【0036】上記 3成分系または 4成分系の水系洗浄剤
は、日本工業標準規格JIS の繊維織物の試験方法で規定
する浸透性評価キャンバス法で測定して得られる室温で
の数値が15以下、10以下、 5以下となるように、その配
合比を設計することが好ましい。また、これら水系洗浄
剤の洗浄性能は液自体のpH値に依存するため、アルカリ
域に調整することが好ましい。さらに好ましいpH値は 8
〜14の範囲である。
【0037】上述したような 3成分系または 4成分系の
水系洗浄剤は、上記ポリオキシアルキレン基含有ポリオ
ルガノシロキサン、界面活性剤および水、さらに必要に
応じて上記 (1)式や (2)式で表される低分子量ポリオル
ガノシロキサンを混合、撹拌することにより容易に得ら
れる。混合にあたっては、公知の分散装置を用いること
により、容易に水系洗浄剤を得ることができる。
【0038】また、上述したような水系洗浄剤には、適
用される汚れ物質の性質、量、付着状態、洗浄条件等に
応じて、通常の水溶性洗浄剤に添加されるpH調整剤、吸
着剤、固形粒状物、合成ビルダ、防錆剤、帯電防止剤等
を洗浄の助剤や洗浄後の付加価値向上剤等として配合し
てもよいし、使用用途によっては重要な位置付けを示
す。
【0039】 本発明の使用対象物(洗浄対象物)とし
ては、金属、セラミックス、プラスチック等からなる硬
質表面を有する工業部品が挙げられ、さらに具体的には
金属部品、表面処理部品、電子部品、半導体部品、電気
部品、精密機械部品、光学部品、ガラス部品、セラミッ
クス部品等である。
【0040】また、汎用的な洗浄プロセスの具体例とし
ては、上述したような各種部品を対象に、超音波、機械
的撹拌、吹付け等による洗浄の後、水洗(純水やイオン
交換水が望ましい)し、熱風乾燥等による水切り仕上げ
を行うことが一般的である。また、洗浄後の汚れを含む
洗浄剤の処理は、例えば汚れ物質をフィルタ等で分離し
た後、一般的な排水処理技術を適用することによって、
容易に無公害化することが可能である。
【0041】 上述した水系洗浄剤によれば、上記
(1)式や(2)式で表される低分子量ポリオルガノシ
ロキサンによる汚れと基地との界面に対する強力な浸透
力と、界面活性剤による汚れに対する洗浄力とによっ
て、従来から使用されているフロン系に匹敵する洗浄効
果が得られ、ポリオキシアルキレン基含有ポリオルガノ
シロキサンを併用することによって、水系での良好な分
酢安定性が得られる。また、ポリオキシアルキレン基含
有ポリオルガノシロキサン、界面活性剤および水による
3成分系としても、ポリオキシアルキレン基含有ポリオ
ルガノシロキサンの汚れに対する浸透力によって、十分
な洗浄効果が得られる。そして、水系であることから環
境破壊や環境汚染の心配もない。このようなことから、
水系洗浄剤は環境問題を抱えるフロン系等の有機溶剤系
洗浄剤の有効な代替洗浄剤と言える。
【0042】 次に、液切り洗浄剤について説明する。
ここで、液切り洗浄剤とは、上述した低分子量ポリオル
ガノシロキサンによる水等の各種液体との置換性を利用
したものであり、低分子量ポリオルガノシロキサンによ
って置換が可能な代表的な液体である水を例とすれば、
水切り洗浄剤と呼べるものである。液切り洗浄剤は、各
種液体との置換・洗浄に用いることができるものであ
り、対象となる液体としては、低分子量ポリオルガノシ
ロキサンに対して不溶性もしくは難溶性で、かつ表面張
力が低分子量ポリオルガノシロキサンより大きいもので
あればよい。具体的には、水、汚れ成分を含む水、水を
分散媒として使用している各種の液体、例えばアルコー
ルとの混合液や各種物質が溶解しているような液体、水
系洗浄剤、非水系洗浄剤等が挙げられる。なお、直鎖状
の低分子量ポリオルガノシロキサンを用いる場合には、
液切り以外に一般的な油脂系汚れやフラックスのような
固形汚れ等の洗浄剤としても有用である。
【0043】液切り洗浄剤として使用する際の低分子量
ポリオルガノシロキサンとしては、水置換性、浸透性等
の点から、環状構造を有するものが好ましく、さらにオ
クタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロ
ペンタシロキサンおよびこれらの混合物が好適である。
なお、酸やアルカリ等が混入する可能性がある過酷な条
件下では、安定性の点から直鎖状の低分子量ポリオルガ
ノシロキサンを用いることが好ましい。
【0044】上記 (1)式および (2)式で表される低分子
量ポリオルガノシロキサンは、前述したように、これら
単独で水を含む各種液体と良好な置換性を示すものであ
り、333K以下の温風で揮散、乾燥を容易に行うことを可
能にするものである。このような液切り洗浄剤として
は、上記低分子量ポリオルガノシロキサンから実質的に
なるものであっても、その効果を十分に得ることが可能
であるが、上記低分子量ポリオルガノシロキサンに界面
活性剤および親水性溶剤から選ばれた少なくとも1種を
配合した組成物とすることにより、さらに優れた洗浄
性、液切り性等を付与することができる。
【0045】上記した界面活性剤は、特に液切り性の向
上および洗浄性の向上に寄与するものである。本発明に
おいて好ましく用いられる界面活性剤としては、ポリオ
キシアルキレンアルキルエーテルスルホン酸塩、リン酸
エステル等のアニオン系界面活性剤、多価アルコール脂
肪酸エステル、ポリオキシアルキレン脂肪酸エステル、
ポリオキシアルキレンアルキルエーテル等のノニオン系
界面活性剤、イミダゾリン誘導体等の両性界面活性剤、
アルキルアミン塩、アルキル第4級アンモニウム塩等の
カチオン系界面活性剤等が例示され、その他には単一物
質で存在することは少ないが、天然物から抽出されるテ
ルペン系化合物や高級脂肪酸エステル等が挙げられる。
また、上述したような各種化合物の化学構造の一部をフ
ッ素原子やケイ素原子で置き換えた合成化合物を用いる
ことも可能である。また特に、低分子量ポリオルガノシ
ロキサンとの組合せによる液切り洗浄剤としての効果を
考えた場合、ノニオン系の界面活性剤の使用が好まし
い。界面活性剤の組成比は、特に限定されるものではな
いが、低分子量ポリオルガノシロキサン 100重量部に対
して20重量部以下、さらに 3重量部以下であることが好
ましい。
【0046】また、上述した親水性溶剤としては、低分
子量ポリオルガノシロキサンに対して相溶性を有するも
のが用いられ、特に引火点が313K以上のものが実用上好
適である。この親水性溶剤も液置換性や洗浄性の向上に
寄与するものである。このような親水性溶剤としては、
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプ
ロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテ
ル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテー
ト、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等の多価
アルコールとその誘導体等が例示され、低分子量ポリオ
ルガノシロキサンとの相溶性、人体への安全性等の点か
らジエチレングリコールモノブチルエーテルが特に好ま
しい。これら化合物は、低分子量ポリオルガノシロキサ
ンとの共存下で揮発性が向上するために、この配合品の
みでの液置換、乾燥も可能である。親水性溶剤の組成比
は、特に限定されるものではないが、低分子量ポリオル
ガノシロキサン 100重量部に対して 100重量部以下、さ
らに50重量部以下であることが好ましい。
【0047】なお、上述したように界面活性剤や親水性
溶剤を配合した液切り洗浄剤は、各種汚れ成分に対して
も洗浄効果を発揮するものである。
【0048】上述した液切り洗浄剤の使用対象物として
は、金属、セラミックス、プラスチック等からなる硬質
表面を有する工業部品が挙げられ、さらに具体的には金
属部品、表面処理部品、電子部品、半導体部品、電気部
品、精密機械部品、光学部品、ガラス部品、セラミック
ス部品等である。
【0049】 また、液切り洗浄剤を用いた汎用的な洗
浄プロセスの具体例としては、上述したような洗浄対象
物を本発明による液切り洗浄剤中に浸漬するか、あるい
は対象物に液切り洗浄剤を吹付けて液置換および必要に
応じて脱脂洗浄等を行った後、温風等による乾燥を行う
のが一般的である。また、上記浸漬や吹付け時に超音
波、機械的撹拌等を併用することも可能である。
【0050】 上述した液切り洗浄剤は、強力な液切り
性を有することから、従来から使用されているフロン系
等に匹敵する洗浄・液置換効果が得られる。また、各種
基材に対して浸蝕性が極めて低いため、より安定な洗浄
を行うことができる。さらに、その構成成分中に塩素や
臭素のようなハロゲン元素を基本的に含まないため、フ
ロン系等の有機溶剤系液切り洗浄剤のように環境破壊や
環境汚染を及ぼすおそれがほとんどない。このようなこ
とから、液切り洗浄剤は、環境問題を抱えるフロン系等
の有機溶剤系洗浄剤の有効な代替液切り洗浄剤と言え
る。
【0051】
【実施例】以下、本発明を実施例によって詳細に説明す
る。
【0052】 まず、予備洗浄および予備洗浄に用いる
洗浄剤について説明する。
【0053】 ポリオキシアルキレン基含有ポリオルガ
ノシロキサンとして、下記(5)式および(6)式でそ
れぞれ表される2種類を用意した。
【0054】
【化24】
【化25】 次に、上記 (5)式で表されるポリオキシアルキレン変性
シリコーン(A1)と、上記 (6)式で表されるポリオキシア
ルキレン変性シリコーン(A2)と、界面活性剤としてラウ
リン酸ナトリウム(B1)およびポリオキシエチレンオクチ
ルフェニルエーテル(B2)(ポリオキシエチレン:20モ
ル)と、水とを重量比で5:5:4:4:82となるように、それ
ぞれの成分を所定量秤量した後、ホモミキサーに投入し
て撹拌混合し、水系洗浄剤P1を得た。
【0055】 A1のポリオキシアルキレン基含有ポリ
オルガノシロキサンと、界面活性剤として(B1)のラ
ウリン酸ナトリウムおよび(B2)のポリオキシエチレ
ンオクチルフェニルエーテルと、水とを表1に示す組成
比となるように所定量秤量し、水系洗浄剤2を得た。
【0056】 (A1)および(A2)のポリオキシア
ルキレン基含有ポリオルガノシロキサン、界面活性剤と
して前述した(B1)、(B2)、および(B3)とし
てスルホコハク酸ジオクチルナトリウム、さらに低分子
量ポリオルガノシロキサンとしてオクタメチルテトラシ
ロキサン(D1)およびオクタメチルトリシロキサン
(D2)と、水とをそれぞれ選択して用い、表1に示す
組成比の水系洗浄剤3〜5をそれぞれ作製した。
【0057】 ポリオキシアルキレン基含有ポリオルガ
ノシロキサンを使用しない以外は、上記各実施例と同様
にして、表1にその組成比を示す3種類の水系洗浄剤6
〜8を作製した。
【0058】 これら洗浄剤1〜8の各水系洗浄剤の諸
特性を下記に示す方法に従ってそれぞれ評価した。その
結果を併せて表1に示す。
【0059】 浸透性評価試験 カンバス法/JIS法に準拠し測定。数値が小さい程浸透性
が高く、細部への洗浄に有利であることを示す。
【0060】 洗浄力評価試験 スピンドル油を鋼板上に塗布し、408Kで48時間焼付けし
て試験片を作製する。この試験片の焼付けられた油脂の
洗浄(超音波洗浄)に要した時間を測定する。数値が小
さい程洗浄力が強いことを示す。
【0061】 安定性試験 各洗浄剤を容積 200mlの透明なガラスビンに入れて密封
し、323Kで 6時間加温後298Kに徐冷し、外観を観察し
た。
【0062】
【表1】
【0063】 次に、予備洗浄に用いる水系洗浄剤によ
具体的な洗浄対象物の洗浄例について説明する。
【0064】 液晶デバイスの製造工程では、液晶セル
を高真空にして液晶材料をデバイスに封入することが行
われる。この際、排気性能が大きな拡散真空ポンプで排
気処理を行うが、拡散オイルが徐々にミストとして真空
系に入るため、時々ポンプを洗浄してオイルを除去する
メインテナンスが必要である。
【0065】 この例は、従来用いられていたトリエタ
ン洗浄剤に代えて、水系洗浄剤を適用した具体例であ
る。すなわち、拡散オイルとしてシリコーン油F−4
(信越化学(株)製)が付着しているステンレスSUS
304ならびにそれにNiメッキを施した材質からなる
ポンプ部品を被洗浄物とした。使用した水系洗浄剤の配
合は以下に示す通りである。
【0066】イオン交換水80重量% を常温で十分撹拌し
ている中に、下記の (7)式で表されるポリオキシアルキ
レン基含有ポリオルガノシロキサン 6重量% を徐々に添
加し、無色透明な均質溶液とした。
【0067】
【化26】 一方、界面活性剤として、特殊ノニオン型アデカノール
B-4001(旭電化(株)製) 8重量% と、硫酸エステルプ
ルロニック構造のアニオン型TWA-2023(一方社油脂
(株)製) 6重量% とを混合したものを上記水/シロキ
サン溶液に加えた。このようにして得た水系洗浄剤を任
意の割合でイオン交換水で稀釈して、上記シリコーン油
F-4 の洗浄を試みた結果、10倍量の水稀釈では常温、 1
分間撹拌浸漬、30倍稀釈では313K、 1分間揺動浸漬、も
しくは293K、 1分間超音波洗浄、50倍稀釈では323K、 1
分間超音波洗浄で、それぞれ十分に洗浄除去することが
できた。
【0068】 また、比較として、上記洗浄剤のうちポ
リオキシアルキレン基含有ポリオルガノシロキサンを含
まない、上記界面活性剤のみの組成系を用いて同様に洗
浄を行ったところ、超音波を併用しても10倍量稀釈で
は、常温で10分間以上浸漬してもシリコーン油は十分
に洗浄しきれずに残ってしまった。また、この濃度で同
一条件では、338K以上で5分間以上を要した。
【0069】 この結果から、ポリオキシアルキレン基
含有ポリオルガノシロキサンを含む水系洗浄剤の抜群の
洗浄効果が示された。
【0070】 ポリオキシアルキレン基含有ポリオルガ
ノシロキサンおよび低分子量ポリオルガノシロキサン
は、市販の水溶性洗浄剤の洗浄効果を飛躍的に高めるこ
とにも寄与する。
【0071】 機械部品や金属部品の洗浄用としてよく
用いられている、界面活性剤を含む低発泡性、防錆性洗
浄剤ケミクリーンMS−109水溶液(三洋化成工業
(株)製)65重量%に、上記(5)式で示したポリオ
キシアルキレン変性シリコーン(A1)3重量%および
ヘキサメチルシクロトリシロキサン5重量%、イオン交
換水17重量%を混合し、新規な水系洗浄剤を調整し
た。
【0072】これをイオン交換水で20倍に稀釈して、下
記に示す方法によって洗浄性を評価した。その結果を表
2に示す。なお、比較例としてケミクリーンMS-109市販
洗浄剤の20倍水稀釈したものについても併記した。
【0073】試験方法 (1) 洗浄テスト-1 脱脂したアルミニウム板(AC-4A)に下記の汚染物質を浸
漬塗布後風乾し、各洗浄液(20倍希釈液)に撹拌下(40
0rpm)15秒〜 1分間浸漬する。次に、水に浸漬後風乾
し、粘着テープにて汚染物質を転写して白紙に貼り、色
度計にて反射率を測定して洗浄率を求める。
【0074】汚染物質 スピンドル油 78% 脂肪酸エステル 15% 塩素化パラフィン 5% カーボンブラック 2% 洗浄率(%)=Rw −Rs /Ro −Rs Ro :原白紙の反射率 Rs :標準汚染板の反射率 Rw :洗浄後の汚染板の反射率 (2) 洗浄テスト-2 上記洗浄テスト-1と同様にして汚染物質を水溶性切削油
(エマルジョン系)にカーボンブラック2%を加えて行
う。洗浄率は上記と同様にして算出する。
【0075】
【表2】 同様の試験を市販水系洗浄剤である超効力洗浄液EP−
680(イーピージャパン(株)製)、エマルジョン型
脱脂洗浄剤バンライズD−20(常盤化学工業(株)
製)、強力特殊洗浄液ヒカリエース(昭光通商(株))
についても行った結果、ポリオキシアルキレン基含有ポ
リオルガノシロキサンならびに低分子量ポリオルガノシ
ロキサンの併用により格段の洗浄性が得られた。
【0076】 水系洗浄剤は、プリント基板への部品実
装(配線)に使用するフラックスの洗浄にも顕著な効果
を示す。フラックスはロジン系と水溶系に大別される
が、特にロジン系の洗浄が難しいとされているので、こ
の具体的な実施例について示す。
【0077】部品をプリント基板にハンダメッキする前
処理工程として、WW系ロジンエステルを付けた後、 5
03〜523Kのハンダ浴を通して配線を完了した。これを下
記の水系洗浄剤を用いて、308K、45秒間シャワーリンス
することにより、完全にフラックスが除去されることを
確認した。
【0078】ここで用いた水系洗浄剤は、下記の (8)式
で示されるポリオキシアルキレン基含有ポリオルガノシ
ロキサン 2重量% 、両性界面活性剤センカノールFM(日
本染化(株)製) 3重量% およびナトリウム・N-ココイ
ルメチルタウリン系ノニオン界面活性剤ニッコールCMT-
30(日本サーファクタント(株)製) 5重量% を、イオ
ン交換水で 100重量% にしたものである。
【0079】
【化27】 この組成物をイオン交換水で10倍量に稀釈して用いたと
ころ、MIL-F-14256C規格(米国)をクリアする加速時効
テスト、表面絶縁抵抗テスト、イオン残渣テスト等を満
足する結果が得られた。
【0080】 次に、本発明の乾燥方法に用いる液切り
洗浄剤による実施例について説明する。
【0081】実施例1〜9 低分子量ポリオルガノシロキサンとして、オクタメチル
トリシロキサン(E1)、オクタメチルシクロテトラシ
ロキサン(E2)およびデカメチルシクロペンタシロキ
サン(E3)を用意し、また界面活性剤としてポリオキ
シエチレンオレイルエーテル(F1)(P.O.E=6
mol)およびポリオキシエチレンオクチルフェニルエ
ーテル(F2)(P.O.E=10mol)を、親水性
溶剤としてジエチレングリコールモノブチルエーテル
(G1)を用意した。
【0082】そして、これら各成分を選択的に用いて、
表3に示す組成比に従ってそれぞれ水切り洗浄剤を調整
した。
【0083】比較例1〜5 従来の水切り洗浄剤として、フロン113、塩化メチレ
ン、イソプロピルアルコールおよびエタノールを用意
し、表3にその組成比を示す5種類の水切り洗浄剤を調
整した。
【0084】 これら実施例1〜9および比較例1〜5
の各水切り洗浄剤の諸特性を下記に示す方法に従ってそ
れぞれ評価した。その結果を併せて表3に示す。
【0085】 水切り性 各種基材(ステンレス板、セラミックス、ポリカーボネ
ート、Niメッキ鋼板)を水洗した後、各水切り洗浄剤
中に浸漬した。実施例5〜7の水切り洗浄剤について
は、さらにそれぞれ使用した低分子量ポリオルガノシロ
キサンですすぎを行った。その後、323Kでオーブン
乾燥を行った。そして、乾燥後のウォーターマーク(水
垢によるしみ)を目視および走査型電子顕微鏡により観
察し、以下の基準に従って評価した。
【0086】××:水切り工程で基材が浸蝕され、評価
に至らなかった場合。
【0087】× :目視でウォーターマークが観察され
た場合。
【0088】○ :目視でウォーターマークが観察され
なかった場合。
【0089】◎ :走査型電子顕微鏡により50μm 以上
のウォーターマークが観察されなかった場合。
【0090】 連続水切り性 ステンレス板を基材として、50回の水切り性テストを行
った後の外観を上記と同様に評価した。
【0091】 乾燥性 ステンレス板を各洗浄剤に浸漬後、323Kでオーブン乾燥
し、 5分毎に指触にて乾燥しているかどうかを試み、そ
の時間を 5分単位で記録した。
【0092】
【表3】
【0093】 また、比較例1、2、5の塩化メチレ
ン、イソプロピルアルコールを用いた水切り洗浄剤は、
金属膜やプラスチックに対する発錆性や浸蝕性を有して
いた。これに対して、本発明による水切り洗浄剤はいず
れも金属膜やプラスチックに対して安定で、しかも表面
粗度の大きいセラミックスに対しても十分な水切り性を
有し、金属部品、メッキ部品、電子部品、半導体部品、
プラスチック部品、セラミックス部品等に対して十分な
信頼性をもって使用し得ることが分る。なお、イソプロ
ピルアルコールは水が相溶してしまい、これにより基材
への水の再付着が発生した。さらに、界面活性剤や親水
性溶剤を配合することによって、さらに水切り性が向上
し、工業用用途に有効であることが分る。
【0094】 次に、本発明の乾燥方法に用いる液切り
洗浄剤を使用した洗浄装置の実施例について、図1を参
照して説明する。
【0095】図1に示す洗浄装置は、大別して洗浄およ
び/または水置換工程(第1の工程)Aと清浄化工程
(第2の工程)Bとから構成されている。
【0096】第1の工程となる洗浄および/または水置
換工程Aには、沈降分離機能とオーバーフロー分離機能
とを併せ持つ第1の洗浄槽1および第2の洗浄槽2と液
切り槽3とが設けられている。上記第1の洗浄槽1およ
び第2の洗浄槽2間は、ドレン配管2aとオーバーフロ
ー管2bとにより連結されている。これら第1の洗浄槽
1および第2の洗浄槽には、必要に応じて超音波、揺
動、機械的撹拌、洗浄剤加温、ブラッシング等が併用さ
れる。
【0097】上記第1および第2の洗浄槽1、2には、
本発明による水切り洗浄剤のうち、低分子量ポリオルガ
ノシロキサンに界面活性剤等を添加した洗浄剤D1がそ
れぞれ収容されている。この界面活性剤等を含む洗浄剤
D1は、その比重を水より小さく、かつ油脂系の汚れよ
り大きく設定することができる。従って、被洗浄物Xに
より持ち込まれた水Yは、第1および第2の洗浄槽1、
2に収容された界面活性剤を含む洗浄剤D1の下方にそ
れぞれ沈降分離される。また、被洗浄物Xに油脂系の汚
れZが付着している場合には、油脂系の汚れZは第1お
よび第2の洗浄槽1、2に収容された界面活性剤を含む
洗浄剤D1の上方にそれぞれ浮上分離される。
【0098】第2の洗浄槽2で沈降分離された水Yは、
ドレン配管2aによって間欠的に第1の洗浄槽1側に排
出される。また、第1の洗浄槽1で沈降分離された水Y
は、ドレン配管4により間欠的に後述する洗浄剤再生機
構Cへと排出される。また、液切り槽3に設けられたド
レン配管3aも洗浄剤再生機構Cと接続されている。ま
た、第1の洗浄槽1および第2の洗浄槽2で浮上分離さ
れた油脂系の汚れZは、順次オーバーフローし、第1の
洗浄槽1に設けられたオーバーフロー管5から系外に排
出される。第1の洗浄槽1および第2の洗浄槽2内に収
容された界面活性剤を含む洗浄剤D1は、常時フィルタ
6を介して循環されており、このフィルタ6によって洗
浄剤D1中の固体物、水粒子、未溶解物質等が除去され
る。
【0099】第2の工程となる清浄化工程Bには、第3
の洗浄槽7とシャワーリンス槽8とが設けられている。
シャワーリンス槽8の下方には、バッファタンク9が設
けられており、このバッファタンク9および第3の洗浄
槽7間は、ドレン配管9aとオーバーフロー管9bとに
より連結されている。この第3の洗浄槽7にも必要に応
じて超音波、揺動、機械的撹拌、洗浄剤加温、ブラッシ
ング等が併用される。上記第3の洗浄槽7には、上記第
1の工程Aで使用した低分子量ポリオルガノシロキサン
と同一のシリコーン組成物のみの洗浄剤D2が収容され
ている。この洗浄剤D2は、その比重を水より小さく、
かつ油脂系の汚れより大きく設定することができる。従
って、第1の工程Aにおける洗浄槽と同様に、水Yは洗
浄剤D2の下方に沈降分離され、また油脂系の汚れZは
洗浄剤D2の上方に浮上分離される。
【0100】第3の洗浄槽7で沈降分離された水Yは、
ドレン配管10によって間欠的に洗浄剤再生機構Cへと
排出される。また、第3の洗浄槽7で浮上分離された油
脂系の汚れZは、オーバーフロー管11から系外に排出
される。また、第3の洗浄槽7内に収容された洗浄剤D
2は、常時フィルタ12を介して循環されており、この
フィルタ12によって洗浄剤D2中の固体物、水粒子、
未溶解物質等が除去される。
【0101】そして、被洗浄物Xは第1の工程Aから第
2の工程Bへと順次送られて、洗浄および水切りが施さ
れた後、図示を省略した温風乾燥器等により乾燥処理が
施されて洗浄工程が終了する。
【0102】上記洗浄装置における洗浄剤の回収・再使
用については、以下の通りである。上述したように、第
1、第2、第3の洗浄槽1、2、7および液切り槽3に
設けられた各ドレン配管4、3a、10は、洗浄剤再生
機構Cに接続されている。各洗浄槽に収容された洗浄剤
D1またはD2は、フィルタ6、12によって常時浄化
されているが、洗浄剤の汚れがひどくなった際には、各
ドレン配管4、10により洗浄剤再生機構Cに送水ポン
プ13によって送られて分溜精製される。また、液切り
槽3に溜まった洗浄剤D1も間欠的に洗浄剤再生機構C
に送られる。洗浄剤再生機構Cでは、まず濾過器14に
より液体と固体との分離が行われ、固体分は廃棄され、
液体のみ蒸留器15へ送られる。この蒸留器15では洗
浄剤中の各成分、水、油脂系汚れ等の沸点の差を利用し
て分離が行われる。なお、蒸留器15にて残留した水分
等は、デカンタ16によってさらに分離される。
【0103】ここで、上記洗浄装置において使用してい
る洗浄剤において、洗浄剤D1は低分子量ポリオルガノ
シロキサンのみの洗浄剤D2に界面活性剤等を添加した
ものであるため、洗浄剤D1および洗浄剤D2それぞれ
から低分子量ポリオルガノシロキサン、すなわち洗浄剤
D2を分離抽出することができ、洗浄剤D2が再生され
る。また、この再生された洗浄剤D2以外の成分、すな
わち界面活性剤や水分等は廃棄される。
【0104】この再生された洗浄剤D2は、配管17に
よりシャワーリンス槽8、第3の洗浄槽7、もしくは第
2の洗浄槽2に洗浄剤D1を供給する配合器18へと送
られる。シャワーリンス槽8では、上記再生洗浄剤D2
もしくは洗浄剤供給配管19から送られてきた新規な洗
浄剤D2によって、不純物を含まない洗浄剤D2のみで
シャワー洗浄が行われる。
【0105】また、配合器18では、再生もしくは新規
の洗浄剤D2と、界面活性剤供給配管20から送られて
きた新規な界面活性剤とが混合され、新たに洗浄剤D1
が調合される。この洗浄剤D1は、必要に応じて第2の
洗浄槽2に供給される。
【0106】 上述したような構成を有する洗浄装置を
用いることにより、本発明の乾燥方法に用いる液切り洗
浄剤を効率よく、かつ有効に使用することができると共
に、本発明の乾燥方法に用いる液切り洗浄剤の特性を十
分に発揮することが可能となる。
【0107】 以上説明したように、本発明によれば、
従来から使用されているフロン系に匹敵する洗浄効果
と、環境破壊や環境汚染を引き起こすことがない良好な
安定性が得られることから、環境問題を抱えるフロン系
等の有機溶剤系洗浄剤の代替洗浄剤として有用である。
また、有機溶剤系液切り洗浄剤に匹敵する液置換性と乾
燥性とを有すると共に、発火性のような危険性がほとん
どなく、かつ環境破壊を引き起こすことがない液切り洗
浄剤を用いることによって、工業用部品の精密洗浄後の
清浄な表面を維持したまま、すなわち、しみを残すこと
なく乾燥することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の乾燥方法に用いる液切り洗浄剤を使
用した洗浄装置の一構成例を示す図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C11D 7/26 C11D 7/26 C23G 5/032 C23G 5/032 早期審査対象出願 (72)発明者 八木 典章 神奈川県横浜市戸塚区戸塚町2121−D 103 (72)発明者 斎藤 信宏 群馬県太田市鳥山908−10 (72)発明者 栗田 明嗣 群馬県太田市内ヶ島1322−24 (72)発明者 竹澤 好昭 群馬県太田市泉町1418−9

Claims (8)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 予備洗浄後、未乾燥状態にある工業用部
    品を、 (式中、R は同一または相異なる置換または非置換の
    アルキル基および/またはフェニル基を、lは0〜5の
    整数を示す) で表される直鎖状ポリジオルガノシロキサ
    ンおよび (式中、R は同一または相異なる置換または非置換の
    アルキル基および/またはフェニル基を、mは3〜7の
    整数を示す) で表される環状ポリジオルガノシロキサン
    から選ばれた少なくとも1種から実質的になる低分子量
    ポリオルガノシロキサンと接触させ、 加温して、表面に
    付着した前記低分子量ポリオルガノシロキサンを揮散さ
    せ、しみを残すことなく乾燥させることを特徴とする乾
    燥方法。
  2. 【請求項2】 予備洗浄後、未乾燥状態にある工業用部
    品を、 (式中、R は同一または相異なる置換または非置換の
    アルキル基および/またはフェニル基を、lは0〜5の
    整数を示す) で表される直鎖状ポリジオルガノシロキサ
    ンおよび (式中、R は同一または相異なる置換または非置換の
    アルキル基および/またはフェニル基を、mは3〜7の
    整数を示す) で表される環状ポリジオルガノシロキサン
    から選ばれた少なくとも1種の低分子量ポリオルガノシ
    ロキサン100重量部と前記低分子量ポリオルガノシロ
    キサンに対して100重量部以下添加した親水性溶剤と
    から実質的になる混合溶液と接触させ、 加温して、表面に付着した前記混合溶液を揮散させ、し
    みを残すことなく乾燥させることを特徴とする乾燥方
    法。
  3. 【請求項3】 予備洗浄後、未乾燥状態にある工業用部
    品を、 (式中、R は同一または相異なる置換または非置換の
    アルキル基および/またはフェニル基を、lは0〜5の
    整数を示す) で表される直鎖状ポリジオルガノシロキサ
    ンおよび (式中、R は同一または相異なる置換または非置換の
    アルキル基および/またはフェニル基を、mは3〜7の
    整数を示す) で表される環状ポリジオルガノシロキサン
    から選ばれた少なくとも1種から実質的になる加温した
    低分子量ポリオルガノシロキサンと接触させ、 表面に付着した前記低分子量ポリオルガノシロキサンを
    揮散させ、しみを残すことなく乾燥させることを特徴と
    する乾燥方法。
  4. 【請求項4】 予備洗浄後、未乾燥状態にある工業用部
    品を、 (式中、R は同一または相異なる置換または非置換の
    アルキル基および/またはフェニル基を、lは0〜5の
    整数を示す) で表される直鎖状ポリジオルガノシロキサ
    ンおよび (式中、R は同一または相異なる置換または非置換の
    アルキル基および/またはフェニル基を、mは3〜7の
    整数を示す) で表される環状ポリジオルガノシロキサン
    から選ばれた少なくとも1種の低分子量ポリオルガノシ
    ロキサン100重量部と前記低分子量ポリオルガノシロ
    キサンに対して100重量部以下添加した親水性溶剤と
    から実質的になる加温した混合溶液と接触させ、 表面に付着した前記混合溶液を揮散させ、しみを残すこ
    となく乾燥させることを特徴とする乾燥方法。
  5. 【請求項5】 (式中、R は同一または相異なる置換または非置換の
    アルキル基および/また はフェニル基を、lは0〜5の
    整数を示す) で表される直鎖状ポリジオルガノシロキサ
    ンおよび (式中、R は同一または相異なる置換または非置換の
    アルキル基および/またはフェニル基を、mは3〜7の
    整数を示す) で表される環状ポリジオルガノシロキサン
    から選ばれた少なくとも1種から実質的になる低分子量
    ポリオルガノシロキサンは、工業用部品を洗浄した汚れ
    成分を含む前記低分子量ポリオルガノシロキサンを蒸留
    し、発生した蒸気を凝縮させてなるものであることを特
    徴とする請求項1ないし4記載の乾燥方法。
  6. 【請求項6】 工業用部品への前記低分子量ポリオルガ
    ノシロキサンの接触は、吹き付けにより行われる請求項
    1ないし5のいずれか1記載の乾燥方法。
  7. 【請求項7】 工業用部品は、金属部品、ガラス部品、
    セラミックス部品、表面処理部品、電子部品、半導体部
    品、電気部品、精密機械部品および光学部品から選ばれ
    た少なくとも1種であることを特徴とする請求項1ない
    し6のいずれか1記載の乾燥方法。
  8. 【請求項8】 予備洗浄は、水、水系洗浄剤および/ま
    たは非水系洗浄剤を用いて行われることを特徴とする請
    求項1ないし4のいずれか1記載の乾燥方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008141210A1 (en) * 2007-05-11 2008-11-20 Explorer Pressroom Solutions Printing press cleaning compositions

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55157698A (en) * 1979-05-28 1980-12-08 Shinetsu Chem Ind Co Cleaning agent for record disc
JPS56129300A (en) * 1980-03-17 1981-10-09 Lion Corp Shampoo composition
JPS57168218A (en) * 1981-04-09 1982-10-16 Duskin Franchise Co Ltd Liquid lens cleaner
JPS6284198A (ja) * 1985-10-07 1987-04-17 ライオン株式会社 液体洗浄剤組成物
JPS6356580A (ja) * 1986-08-26 1988-03-11 Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd 水切り乾燥用添加剤
JPS63122618A (ja) * 1986-11-12 1988-05-26 Sunstar Inc 透明洗浄剤組成物
JPH01139106A (ja) * 1987-11-27 1989-05-31 Asahi Glass Co Ltd 付着水除去用溶剤
EP0351185A2 (en) * 1988-07-11 1990-01-17 Colgate-Palmolive Company Silicone-based hard surface cleaner

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55157698A (en) * 1979-05-28 1980-12-08 Shinetsu Chem Ind Co Cleaning agent for record disc
JPS56129300A (en) * 1980-03-17 1981-10-09 Lion Corp Shampoo composition
JPS57168218A (en) * 1981-04-09 1982-10-16 Duskin Franchise Co Ltd Liquid lens cleaner
JPS6284198A (ja) * 1985-10-07 1987-04-17 ライオン株式会社 液体洗浄剤組成物
JPS6356580A (ja) * 1986-08-26 1988-03-11 Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd 水切り乾燥用添加剤
JPS63122618A (ja) * 1986-11-12 1988-05-26 Sunstar Inc 透明洗浄剤組成物
JPH01139106A (ja) * 1987-11-27 1989-05-31 Asahi Glass Co Ltd 付着水除去用溶剤
EP0351185A2 (en) * 1988-07-11 1990-01-17 Colgate-Palmolive Company Silicone-based hard surface cleaner

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