JPH09151393A - 洗浄剤組成物 - Google Patents

洗浄剤組成物

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JPH09151393A
JPH09151393A JP33251595A JP33251595A JPH09151393A JP H09151393 A JPH09151393 A JP H09151393A JP 33251595 A JP33251595 A JP 33251595A JP 33251595 A JP33251595 A JP 33251595A JP H09151393 A JPH09151393 A JP H09151393A
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JP
Japan
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ether
parts
chemical formula
weight
formalized
Prior art date
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Pending
Application number
JP33251595A
Other languages
English (en)
Inventor
Tetsuya Sayama
哲也 佐山
Takashi Tokuue
孝 徳植
Kazuo Nobuchika
一雄 信近
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toho Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Toho Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
Application filed by Toho Chemical Industry Co Ltd filed Critical Toho Chemical Industry Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 塩素化炭化水素系溶剤の代替洗浄剤の提供 【解決手段】 オルトまたは/およびパラ位にアルキル
基又は、アルキルベンゼン基を有するアルキルフェノー
ルのアルキレンオキサイド付加体、あるいはそのホルマ
ール化多量体と、 R2O−(A2O)p−R3 で表されるアルキレンオキサイド系化合物と、炭化水素
10〜15の炭化水素系溶剤、更にフッ素系界面活性剤
とからなる洗浄剤。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は精密部品、機械部
品、自動車部品、又は治工具類等の被洗浄物表面に存在
する指紋、油脂、機械油、切削油、グリース、ワック
ス、液晶、ロジン系フラックス等の汚れ物質の除去性に
優れる洗浄剤に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、精密部品、機械部品、自動車部品
又は、治工具類等の表面に付着した指紋、機械油、グリ
ース、ワックス等の有機系の汚れの除去には各種有機溶
剤やアルカリ、界面活性剤等を含む水溶液で洗浄除去し
ていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】有機溶剤としては、フ
ロン113、トリクロロエチレン、1,1,1−トリク
ロロエタン、塩化メチレン等のフロン系及び塩素系溶剤
が広く用いられているが、安全性、毒性、環境汚染等の
面で大きな課題を有している。又、アルカリや界面活性
剤等を含む水溶性洗浄剤は乾燥性、廃液処理性の面で、
満足されるものは得られていない。本発明は上記の従来
の問題点を解決し、有機系の汚れの除去性に優れ、且つ
環境汚染や安全性の問題を改善する洗浄剤を提供するこ
とにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の洗浄剤組成物
は、 化1 で表わされるオルトまたは/およびパラ位に
アルキル基又は、アルキルベンゼン基を有するアルキル
フェノールのアルキレンオキサイド付加体、あるいはそ
のホルマール化多量体と、 化2 で表されるアルキレン
オキサイド系化合物と、炭素数10〜15の炭化水素系
溶剤、更にフッ素系界面活性剤とを含有することを特徴
とする洗浄剤である。
【0005】本発明において 化1 としては、 ポリオキシアルキレン−2−アルキルベンジルフェニル
エーテル ポリオキシアルキレン−4−アルキルベンジルフェニル
エーテル ポリオキシアルキレン−6−アルキルベンジルフェニル
エーテル ポリオキシアルキレン−2,4−ジアルキルベンジルフ
ェニルエーテル ポリオキシアルキレン−2,6−ジアルキルベンジルフ
ェニルエーテル ポリオキシアルキレン−4,6−ジアルキルベンジルフ
ェニルエーテル ポリオキシアルキレン−2,4,6−トリアルキルベンジ
ルフェニルエーテル ポリオキシアルキレン−2−アルキルフェニルエーテル ポリオキシアルキレン−4−アルキルフェニルエーテル ポリオキシアルキレン−6−アルキルフェニルエーテル ポリオキシアルキレン−2,4−ジアルキルフェニルエ
ーテル ポリオキシアルキレン−2,6−ジアルキルフェニルエ
ーテル ポリオキシアルキレン−4,6−ジアルキルフェニルエ
ーテル ポリオキシアルキレン−2,4,6−トリアルキルフェニ
ルエーテル あるいは、そのホルマール化二量体、三量体およびそれ
らの混合物であり、添加量としては1〜30重量%程
度、好ましくは、10〜20重量%が望ましい。
【0006】化2 としては、 ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル ポリエチレングリコールモノアルケニルエーテル ポリプロピレングリコールモノアルキルエーテル ポリプロピレングリコールモノアルケニルエーテル ポリブチレングリコールモノアルキルエーテル ポリブチレングリコールモノアルケニルエーテル ポリエチレングリコールジアルキルエーテル ポリプロピレングリコールジアルキルエーテル ポリブチレングリコールジアルキルエーテル および、それらの混合物であり、添加量としては40重
量%程度、好ましくは10〜30重量%が望ましい。
【0007】炭化水素系溶剤としては、 ノルマルパラフィン イソパラフィン シクロパラフィン テルペン ケロシン等の脂肪族炭化水素系溶剤 アルキルベンゼン アルキルナフタレン等の芳香族炭化水素系溶剤 および、それらの混合物であり、添加量としては80重
量%以下、好ましくは1〜70重量%が望ましい。
【0008】フッ素系界面活性剤としては、N−アルキ
ル−N−ポリオキシアルキレンパーフルオロアルキルス
ルホンアミドが挙げられる。ポリオキシアルキレンにお
いては、オキシエチレンの3〜20モル付加体が、添加
量としては1重量%以下が望ましい。
【0009】上記の添加量未満ではそれぞれの効果は発
現せず、一方、それ以上では安全性、液の安定性、被洗
浄物に対する影響等のため好ましくない。
【0010】本発明の洗浄剤は精密部品、機械部品、自
動車部品、又は、組立加工工程に使用される治工具類の
洗浄に良好な洗浄性を発揮する。
【0011】本発明において精密部品とは、例えば、電
子部品、電機部品、精密機械部品、樹脂加工部品、光学
部品等をいう。具体的に電子部品としては、プリント配
線基板、ICリードフレーム、コンデンサー、液晶表示
器、半導体材料等が挙げられ、電機部品としては、コー
タ用等の部品、マグネット、ブラシ、ハウジング等の電
動機部品が、精密機械部品としては、ベアリング、ミシ
ン部品、加工用部品等がそれぞれ挙げられる。更に、樹
脂加工部品としては、カメラ、自動車等に用いられる精
密樹脂加工部品等が、光学部品としては、カメラ、眼
鏡、光学機器等に用いられるレンズ等がそれぞれ挙げら
れる。
【0012】機械部品としては、軸受け、歯車、各種機
械部品等が、自動車部品としては、エンジン部品、ミッ
ションギア、キャブレター等がそれぞれ挙げられる。
又、組立加工工程に使用される治工具とは、その治工具
の主として金属部品であり、上記精密部品を製造、組
立、仕上げ等の各種工程において取扱われる治具、工具
類のことをいう。
【0013】本発明の洗浄剤組成物は、浸漬法、揺動
法、超音波洗浄法、手拭き法等の各種の洗浄方法に使用
でき、且つ良好な結果を得ることができる。
【0014】
【実施例】以下に実施例および比較例を挙げて本発明を
より具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限
定されるものではない。実施例1〜7,比較例1〜7の
評価結果を 表1 および 表2 に示す。
【0015】(評価方法)冷間圧延鋼板を研磨紙(#3
20)で研磨し、アセトン、エチルエーテルで脱脂す
る。テストピースを不水溶性切削油剤(JIS2種4号)
に全浸漬し、一昼夜垂直に吊るし、油切りをする。各洗
浄剤組成物に浸漬し、50±1℃で3分間超音波をあて
ながら洗浄を行なった。次いで、洗浄剤組成物で洗浄し
たテストピースをイオン交換水でリンス処理し、乾燥さ
せた後、洗浄性の良し悪しを目視にて評価した。
【0016】〈洗浄性〉 ◎;汚れ物質の残渣がない ○;汚れ物質の残渣がほとんどない △;汚れ物質の残渣が少しある ×;汚れ物質の残渣がかなりある 〈液安定性〉 ○;均一 △;加温時分離または白濁 ×;分離 〈引火点〉 ○;引火点なし ×;引火点あり
【0017】
【表1】
【0018】
【表2】
【0019】表中の数値は重量%を示す。 A;(POE)2,4,6−トリスチリルフェニルエーテル HLB=10 B;(POE)2,4,6−トリスチリルフェニルエーテル HLB=13.3 C;(POE)2,4−ジスチリルフェニルエーテル ホルマール化二量体 HLB=14 D;(POE)ノニルフェニルエーテル ホルマール化三量体 HLB=15 E;(POE)ノニルフェニルエーテル HLB=13.3 F;(POE)オクチルフェニルエーテル HLB=12.6 G;(POE)ヘキシルエーテル HLB=9.3 H;(POE)ブチルエーテル HLB=12.9 I;(POE)ラウリルエーテル HLB=12.9 J;ジエチレングリコールエチルメチルエーテル POE;ポリオキシエチレン
【0020】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、洗浄性、
安定性の良好な、且つ環境汚染のおそれのない洗浄剤組
成物が提供される。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 オルトまたは/およびパラ位にアルキル
    基又は、アルキルベンゼン基を有するアルキルフェノー
    ルのアルキレンオキサイド付加体 化1 、あるいはそ
    のホルマール化多量体一種以上からなることを特徴とす
    る洗浄剤。 【化1】
  2. 【請求項2】 化1 を含有し、更に 化2 で示される
    アルキレンオキサイド付加体を40重量%以下含有して
    もよい請求項1記載の洗浄剤。 【化2】
  3. 【請求項3】 化1 を含有し、更に炭素数10〜15
    の炭化水素系溶剤を80重量%以下含有してもよい請求
    項1または2記載の洗浄剤。
  4. 【請求項4】 化1 を含有し、更にフッ素系界面活性
    剤を1重量%以下含有してもよいことを特徴とする請求
    項1〜3の何れかに記載の洗浄剤。
JP33251595A 1995-11-29 1995-11-29 洗浄剤組成物 Pending JPH09151393A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006070259A (ja) * 2004-08-04 2006-03-16 Tokuyama Corp 洗浄剤組成物
JP2010053166A (ja) * 2008-08-26 2010-03-11 Kao Corp プラスチックレンズ成形型用洗浄剤組成物
JP2015040217A (ja) * 2013-08-20 2015-03-02 アクア化学株式会社 洗浄剤組成物及びその蒸留再生システム

Cited By (3)

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JP2006070259A (ja) * 2004-08-04 2006-03-16 Tokuyama Corp 洗浄剤組成物
JP2010053166A (ja) * 2008-08-26 2010-03-11 Kao Corp プラスチックレンズ成形型用洗浄剤組成物
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Effective date: 20040414