JP2651453C - - Google Patents

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【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】 本発明は、フロン系等の有機溶剤系洗浄剤を用いた洗浄プロセスに代る洗浄方
法に関する。 【従来の技術】 金属部品、メッキ部品、塗装部品、電予部品、半導体部品等の各種工業部品の
製造工程においては、フロン113 に代表されるフロン系溶剤や、トリクロロエタ
ン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、四塩化炭素等の有機溶剤が油
汚れ等を除去するための洗浄剤として幅広く使用されている。 また、上記したような有機溶剤系洗浄剤は、各種部品の水洗後の水切り洗浄剤
としても用いられている。これは、被洗浄物に付着した水分を直接乾燥しようと
した場合に生じる、高温(100℃以上)にしなければならない（エネルギーロス大
）、乾燥に時間がかかることによって生産効率が低下する、高温にすることによ
って被洗浄物が変形するおそれがある（許容値以上の熱膨脹）、冷却や熱遮蔽の
スペースを必要とし洗浄装置の設置面積が増大する等の問題を回避することがで
きるためである。 なお、ここで言う水切り洗浄剤とは、水洗した後の被洗浄物を浸漬ないしはシ
ャワーリンスすることによって、被洗浄物に付着した水分と置換（水置換）した
後、室温ないしは60℃以下の温風で揮散させることで、被洗浄物を乾燥させ得る 洗浄剤のことである。 しかし、最近、フロンの放出がオゾン層の破壊に繋がり、人体や生物系に深刻
な影響を与えることが明らかとなってきたことから、オゾン破壊係数の高いフロ
ン12やフロン113 等は世界的な規模で段階的に使用を削減し、将来的には全廃の
方向に進んでいる。また、トリクロロエチレンやテトラクロロエチレン等の塩素
系有機溶剤も、土壌や地下水等の汚染を引起こす等の環境問題にからんで、使用
規制が強化される方向に進んでいる。 このような状況下にあって、現状のフロン系溶剤よりオゾン破壊係数の低いフ
ロン系物質が開発されつつあり、既に工業的生産が一部で進められているが、こ
れらとてもオゾン層の破壊が皆無ではないことから、好ましい代替洗浄剤とは目
されていない。 【発明が解決しようとする課題】 そこで、上述したような有機溶剤系による洗浄剤の代替品として、環境破壊や
環境汚染を引起こすことがない、界面活性剤を用いた水系の洗浄剤が見直されは
じめている。しかし、単に界面活性剤だけによる洗浄剤では浸透力が弱く、例え
ば部品細部へ侵入した汚れや中粘度から高粘度のこびりついた油汚れに対しては
充分な洗浄力を発揮することができないという問題がある。 また、シリコーン系化合物を編織物の汚れ除去に使用することが特公昭63-504
63号公報に記載されている。これによれば、Si数が 4〜 6の環状シロキサンを洗
浄用溶剤中に有効な量含有する液状洗浄組成物を用いて、編織物のクリーニング
を行う方法が開示されている。しかし、上述したシリコーン系化合物を含む液状
洗浄組成物は、編織物を洗浄対象としているため、一般的な工業製品の洗浄はま
るで考慮されていない。 また、特開昭53-56203号公報には、エアゾール型水性クリーニング組成物とし
て、水溶性洗浄組成物に分子当り 2〜 3個のケイ素原子を有する鎖状ポリジメチ
ルシロキサンを配合することが記載されているが、その配合量はあくまでも0.02
〜 0.1重量% 程度と限定されているため、洗浄組成物の洗浄力を充分に高めるよ
うな効果は示していない。 このようなことから、環境問題を引起こすことがなく、かつ十分な洗浄能力を 有する洗浄剤が強く望まれている。 一方、上述したような有機溶剤の水切り洗浄剤としての代替品としては、イソ
プロピルアルコールのような低級アルコールの使用が検討されている。しかし、
上記イソプロピルアルコールは、引火点が11.7℃と室温より低く、通常の使用条
件下では常に火災の危険が伴うという欠点がある。さらに、イソプロピルアルコ
ールは水との相溶性が高く、初期の水切り性能は保持されても、連続して使用す
る場合には溶解した水の再付着が起こるため、経時的な水切り性能の低下は免れ
ない。このような水を含んだイソプロピルアルコールから水を除去して再使用す
るための精製には、多大な設備の投資を必要とする。さらに、イソプロピルアル
コールは人体に対する毒性も高く、この面での使用規制が進行しているのが現状
である。 また、室温を超えるような引火点を持つ炭化水素、高級アルコールを使用する
場合は、水の除去は幾分容易ではあるが、これら自身の揮発性が低く、例えば60
℃以下といった低温での乾燥が困難であるため、水切り洗浄剤として使用し得る
ものではない。 本発明の目的は、有機溶剤系洗浄剤を用いた洗浄に匹敵する液置換性と乾燥性
とが得られると共に、発火等の危険性がほとんどなく、かつ環境破壊を引き起こ
すことがない洗浄方法を提供することにある。 【課題を解決するための手段と作用】 すなわち、本発明の洗浄方法は、硬質表面を有する工業部品を 一般式： （式中、R¹は同一または相異なる置換または非置換の１価のアルキル基、フェニ
ル基、ｌは0 〜5 の整数を示す）で表される直鎖状ポリジオルガノシロキサンか
らなる低分子量ポリオルガノシロキサンと、アニオン系界面活性剤、ノニオン系
界面活性剤、両性界面活性剤、カチオン系界面活性剤および／またはテルペン系
界面活性剤からなる界面活性剤および／または親水性溶剤から実質的になる第１
の洗浄剤で洗浄する第１の工程と、前記硬質表面を有する工業部品の表面に存 在する前記第１の洗浄剤成分を、実質的に前記低分子量ポリオルガノシロキサン
単独の第２の洗浄剤で置換する第２の工程とを具備することを特徴としている。 上述した（Ｉ）式で表される直鎖状の低分子量ポリオルガノシロキサンは、汚
れに対して強力な浸透力を発揮すると共に、それ単独で水を含む各種液体と良好
な置換性を示し、かつ高安定性、低蒸発熱、低表面張力を有するものであり、本
発明の洗浄方法における特徴的な成分である。このような直績状の低分子量ポリ
オルガノシロキサンを用いることで、例えば60℃以下の温風で揮散、乾燥を容易
に行うことができ、さらに水垢によるしみ等のない清浄な洗浄表面を得ることが
できる。また、直鎖状の低分子量ポリオルガノシロキサンは浸蝕性が極めて低く
、各種基材（洗浄対象物）に対してより安定な洗浄を行うことができる。 上記（Ｉ）式中のR¹は、置換または非置換の 1価の有機基であり、例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基やフェニル基のような 1
価の非置換炭化水素基、トリフロロメチル基のような 1価の置換炭化水素基等が
例示され、また上記（Ｉ）式における末端のR¹としては、系の安定性、揮発性の
維持等からメチル基が最も好ましい。また、具体的な直鎖状の低分子量ポリオル
ガノシロキサンとしては、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロ
キサンおよびそれらの混合物等が例示される。このような直鎖状の低分子量ポリ
オルガノシロキサンは、例えばアルカリ性が強い領域においても優れた安定性を
有するものである。 本発明の洗浄方法における第１の工程は、上述した（Ｉ）式で表される直鎖状
の低分予量ポリオルガノシロキサンに、界面活性剤や親水性溶剤等の液切り性お
よび／または洗浄性向上剤を配合した第１の洗浄剤を用いて、洗浄対象物を洗浄
する工程であり、上記界面活性剤や親水性溶剤等を直鎖状の低分子量ポリオルガ
ノシロキサンに配合することにより、優れた洗浄性、液切り性等を付与すること
ができる。 上記した界面活性剤は、特に液切り性の向上および洗浄性の向上に寄与するも
のである。界面活性剤には、活性を発揮する化学構造により、カチオン系、アニ
オン系、ノニオン系、両性系およびこれらの複合系に分類されるが、本発明にお いてはそれらのいずれをも使用することが可能である。ただし、本発明において
は、カチオン系、アニオン系、ノニオン系のいずれかの界面活性剤の使用が好ま
しく、特にアニオン系／ノニオン系の組合せあるいは両性系／ノニオン系の組合
せによる界面活性剤を使用することにより、これらによる洗浄性と上記した直鎖
状の低分子量ポリオルガノシロキサンによる浸透性とに顕著な相乗効果が得られ
る。 本発明において好ましく用いられる界面活性剤としては、ポリオキシアルキレ
ンアルキルエーテルスルホン酸塩、リン酸エステル等のアニオン系界面活性剤、
多価アルコール脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレン脂肪酸エステル、ポリオ
キシアルキレンアルキルエーテル等のノニオン系界面活性剤、イミダゾリン誘導
体等の両性界面活性剤、アルキルアミン塩、アルキル第４級アンモニウム塩等の
カチオン系界面活性剤等が例示され、その他には単一物質で存在することは少な
いが、天然物から抽出されるテルペン系化合物や高級脂肪酸エステル等が挙げら
れる。また、上述したような各種化合物の化学構造の一部をフッ素原子やケイ素
原子で置き換えた合成化合物を用いることも可能である。また特に、直鎖状の低
分子量ポリオルガノシロキサンとの組合せによる液切り洗浄剤としての効果を考
えた場合、ノニオン系の界面活性剤の使用が好ましい。 第１の洗浄剤における界面活性剤の組成比は、特に限定されるものではないが
、直鎖状の低分予量ポリオルガノシロキサン 100重量部に対して20重量部以下、
さらに 3重量部以下であることが好ましい。 また、上記した親水性溶剤としては、直鎖状の低分子量ポリオルガノシロキサ
ンに対して相溶性を有するものが用いられ、特に引火点が40℃以上のものが実用
上好適である。この親水性溶剤も液置換性等の向上に寄与するものである。 このような親水性溶剤としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エ
チレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテ
ル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエ
ーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等の多価アルコー
ルとその誘導体等が例示され、直鎖状の低分子量ポリオルガノシロキサンとの相
溶性、人体への安全性等の点からジエチレングリコールモノブチルエーテルが特 に好ましい。これら化合物は、直鎖状の低分子量ポリオルガノシロキサンとの共
存下で揮発性が向上するために、この配合品のみでの液置換、乾燥も可能である
。 第１の洗浄剤における親水性溶剤の組成比は、特に限定されるものではないが
、直鎖状の低分子量ポリオルガノシロキサン 100重量部に対して 100重量部以下
、さらに50重量部以下であることが好ましい。 第１の工程は、上述したような第１の洗浄剤を用いて、洗浄対象物表面の汚れ
成分を洗浄する工程であり、具体的には洗浄対象物の表面に存在する水等の液体
を洗浄および置換する工程、もしくは洗浄対象物の表面に存在する油脂系汚れや
フラックス等の固形汚れ等を洗浄する工程である。 洗浄対象物の表面に存在する汚れ成分が液体である場合には、第１の洗浄剤は
液切り洗浄剤として機能するものである。ここで、液切り洗浄剤とは、前述した
直鎖状の低分子量ポリオルガノシロキサンによる水等の液体との置換性を利用し
たものである。例えば、直鎖状の低分子量ポリオルガノシロキサンによって置換
が可能な代表的な液体である水を例とすれば、水切り洗浄剤と呼べるものである
が、第１の洗浄剤は他の液体を置換・洗浄する際の液切り洗浄剤としても用いる
ことができる。その対象となる液体としては、上記低分子量ポリオルガノシロキ
サンに対して不溶性もしくは難溶性で、かつ表面張力が低分子量ポリオルガノシ
ロキサンより大きいものであればよく、水、汚れ成分を含む水、本発明の前工程
で使用された水系洗浄組成物等が挙げられる。また、洗浄対象となる水としては
、水を分散媒として使用している各種の液体、例えばアルコールとの混合液や各
種物質が溶解しているような液体を含むものとする。 第１の工程は、単独の洗浄槽による洗浄工程としてもよいが、複数の洗浄槽を
用いた複数の洗浄工程により構成してもよい。その場合、用いる第１の洗浄剤は
同一のものでもよいし、また界面活性剤や親水性溶剤等の種類や組成比を変えた
ものでもよい。 なお、上述した第１の洗浄剤には、適用される汚れ成分の性質、量、付着状態
、洗浄条件等に応じて、通常の洗浄剤に添加される吸着剤、固形粒状物、合成ビ
ルダ、防錆剤、帯電防止剤等を洗浄の助剤や洗浄後の付加価値向上剤等として配
合してもよいし、使用用途によっては重要な位置付けを示す。 本発明の洗浄方法における第２の工程は、洗浄対象物を乾燥させるために、洗
浄対象物の表面に存在する第１の洗浄剤成分を、前述した直鎖状の低分子量ポリ
オルガノシロキサン単独による第２の洗浄剤で置換する工程であり、直鎖状の低
分子量ポリオルガノシロキサンによる液置換性および乾燥性、さらには乾燥時に
おける揮散性等を利用した工程である。このような第２の工程を実施することに
よって、前述したように、例えば60℃以下の温風で揮散、乾燥を容易に行うこと
ができ、さらに水垢によるしみ等のない清浄な洗浄表面を得ることが可能となる
。 第２の工程は、単独の洗浄槽による置換工程としてもよいが、複数の洗浄槽を
用いた複数の置換工程により構成してもよい。この際、シャワー洗浄等を併用す
ることも可能である。 本発明の洗浄方法の対象となる洗浄対象物としては、金属、セラミックス、プ
ラスチック等からなる硬質表面を有する工業部品が挙げられ、さらに具体的には
金属部品、表面処理部品、電子部品、半導体部品、電気部品、精密機械部品、光
学部品、ガラス部品、セラミックス部品等である。また、第１および第２の工程
は、上述したような洗浄対象物を第１の洗浄剤や第２の洗浄剤中に浸漬したり、
あるいは洗浄対象物に第１の洗浄剤や第２の洗浄剤を吹付けることにより実施し
、また第２の工程の後に、温風等による乾燥を行うのが一般的である。また、上
記浸漬や吹付け時に超音波、機械的撹拌等を併用することも可能である。 本発明の洗浄方法で用いる第１の洗浄剤は、強力な液切り性を有することから
従来から使用されているフロン系等に匹敵する洗浄および液置換効果が得られ、
あるいは従来から使用されているフロン系に匹敵する洗浄効果が得られる。また
、浸蝕性が極めて低く、各種基材に対してより安定な洗浄を行うことができる。
第２の洗浄剤も同様に、強力な液切り性を有することから、従来から使用されて
いるフロン系等に匹敵する液置換効果が得られ、また浸蝕性が極めて低く、各種
基材に対してより安定な置換・洗浄を行うことができる。 また、第１および第２の洗浄剤は、フロン系等の有機溶剤系洗浄剤のように環
境破壊や環境汚染を及ぼすおそれがほとんどない。このようなことから、本発明
の洗浄方法は、環境問題を抱えるフロン系等の有機溶剤系洗浄剤を用いた洗浄プ
ロセスの有効な代替洗浄方法と言える。 【実施例】 以下、本発明を実施例によって詳細に説明する。 実施例１ 直鎖状の低分子量ポリオルガノシロキサンとして、オクタメチルトリシロキサ
ンを用意し、このオクタメチルトリシロキサン 100重量部に、界面活性剤として
ポリオキシエチレンオレイルエーテル(P.O.E=6mol)を 0.3重量部添加して、第１
の洗浄剤（水切り洗浄剤）を調整した。また、上記オクタメチルトリシロキサン
単独の第２の洗浄剤を用意した。 上記第１および第２の洗浄剤を用いて、以下のようにして各種基材の水切り洗
浄を行い、その特性を評価した。その結果を第１表に示す。 (a) 水切り性 各種基材（ステンレス板、セラミックス、ポリカーボネート、Niメッキ鋼板）
を水洗した後、第１の洗浄剤中に浸漬し、次いで第２の洗浄剤ですすぎを行った
。その後、50℃でオーブン乾燥を行った。そして、乾燥後のウォーターマーク（
水垢によるしみ）を目視および走査型電子顕微鏡により観察し、以下の基準にし
たがって評価した。 ××：水切り工程で基材が浸蝕され、評価に至らなかった場合。 × ：目視でウォーターマークが観察された場合。 ○ ：目視でウォーターマークが観察されなかった場合。 ◎ ：走査型電子顕微鏡により50μm以上のウォーターマークが観察され なかった場合。 (b) 連続水切り性 ステンレス板を基材として、50回の水切り性テストを行った後の外観を上記(a
)と同様に評価した。 (c) 乾燥性 ステンレス板を第１および第２の洗浄剤に浸漬後、50℃でオーブン乾燥し、5
分毎に指触にて乾燥しているかどうかを試み、その時間を 5分単位で記録した。 また、直鎖状の低分子量ポリオルガノシロキサンの水切り性能を確認するため に、オクタメチルトリシロキサン単独の洗浄剤を用いた一工程による水切り洗浄
も実施した。 比較例１〜５ 従来の水切り洗浄剤として、フロン113、塩化メチレン、イソプロピルアルコ
ールおよびエタノールを用意し、第１表にその組成比を示す 5種類の水切り洗浄
剤を調整した。これら各水切り洗浄剤を用いて、一工程による水切り洗浄とする
以外は、上記実施例と同様に水切り洗浄を実施し、同様に諸特性をそれぞれ評価
した。その結果を併せて第１表に示す。 第１表に示した評価結果から明らかなように、本発明の洗浄方法は水切り性に
優れ、従来、フロン系等の有機溶剤系洗浄剤を用いていた洗浄用途に充分に使用
しうることが分る。 また、比較例１、２、５の塩化メチレン、イソプロピルアルコールを用いた水
切り洗浄剤は、金属膜やプラスチックに対する発錆性や浸蝕性を有していた。こ
れに対して、本発明による洗浄方法は金属膜やプラスチックに対して安定で、し
かも表面粗度の大きいセラミックスに対しても十分な水切り性を有し、金属部品
、メッキ部品、電子部品、半導体部品、プラスチック部品、セラミックス部品等
に対して十分な信頼性をもって使用し得ることが分る。なお、イソプロピルアル
コールは水が相溶してしまい、これにより基材への水の再付着が発生した。 次に、本発明の洗浄方法を適用した洗浄装置の一例について、第１図を参照し
て説明する。 第１図に示す洗浄装置は、大別して洗浄および／または水置換工程（第１の工
程）Ａと清浄化工程（第２の工程）Ｂとから構成されている。 第１の工程となる洗浄および／または水置換工程Ａには、沈降分離機能とオー
バーフロー分離機能とを併せ持つ第１の洗浄槽１および第２の洗浄槽２と液切り
槽３とが設けられている。上記第１の洗浄槽１および第２の洗浄槽２間は、ドレ
ン配管２ａとオーバーフロー管２ｂとにより連結されている。これら第１の洗浄
槽１および第２の洗浄槽には、必要に応じて超音波、揺動、機械的撹拌、洗浄剤
加温、ブラッシング等が併用される。 上記第１および第２の洗浄槽１、２には、直鎖状の低分子量ポリオルガノシロ
キサンに界面活性剤等を添加した第１の洗浄剤Ｄ１がそれぞれ収容されている。
この界面活性剤を含む第１の洗浄剤Ｄ１は、その比重を水より小さく、かつ油脂
系の汚れより大きく設定することができる。したがって、被洗浄物Ｘにより持ち
込まれた水Ｙは、第１および第２の洗浄槽１、２に収容された界面活性剤を含む
第１の洗浄剤Ｄ１の下方にそれぞれ沈降分離される。また、被洗浄物Ｘに油脂系
の汚れＺが付着している場合には、油脂系の汚れＺは第１および第２の洗浄槽１
、２に収容された界面活性剤を含む第１の洗浄剤Ｄ１の上方にそれぞれ浮上分離
される。 第２の洗浄槽２で沈降分離された水Ｙは、ドレン配管２ａによって間欠的に第
１の洗浄槽１側に排出される。また、第１の洗浄槽１で沈降分離された水Ｙは、
ドレン配管４によって間欠的に後述する洗浄剤再生機構Ｃへと排出される。また
、液切り槽３に設けられたドレン配管３ａも洗浄剤再生機構Ｃと接続されている
。 また、第１の洗浄槽１および第２の洗浄槽２で浮上分離された油脂系の汚れＺ
は、順次オーバーフローし、第１の洗浄槽１に設けられたオーバーフロー管５か
ら系外に排出される。 第１の洗浄槽１および第２の洗浄槽２内に収容された界面活性剤を含む第１の
洗浄剤Ｄ１は、常時フィルタ６を介して循環されており、このフィルタ６により
洗浄剤Ｄ１中の固体物（固形汚れを含む）、水粒子、未溶解物質等が除去される
。 また、第２の工程となる清浄化工程Ｂには、第３の洗浄槽７とシャワーリンス
槽８とが設けられている。シャワーリンス槽８の下方には、バッファタンク９が
設けられており、このバッファタンク９および第３の洗浄槽７間は、ドレン配管
９ａとオーバーフロー管９ｂとにより連結されている。この第３の洗浄槽７にも
、必要に応じて超音波、揺動、機械的撹拌、洗浄剤加温、ブラッシング等が併用
される。 上記第３の洗浄槽７には、上記第１の工程Ａで使用した直鎖状の低分子量ポリ
オルガノシロキサンと同一のシリコーン組成物のみの第２の洗浄剤Ｄ２が収容さ
れている。この第２の洗浄剤Ｄ２は、その比重を水より小さく、かつ油脂系の汚
れより大きく設定することができる。したがって、第１の工程Ａにおける洗浄槽
と同様に、水Ｙは第２の洗浄剤Ｄ２の下方に沈降分離され、また油脂系の汚れＺ
は洗浄剤Ｄ２の上方に浮上分離される。 第３の洗浄槽７で沈降分離された水Ｙは、ドレン配管１０によって間欠的に洗
浄剤再生機構Ｃへと排出される。また、第３の洗浄槽７で浮上分離された油脂系
の汚れＺは、オーバーフロー管１１から系外に排出される。 また、第３の洗浄槽７内に収容された第２の洗浄剤Ｄ２は、常時フィルタ１２
を介して循環されており、このフィルタ１２によって第２の洗浄剤Ｄ２中の固体
物、水粒子、未溶解物質等が除去される。 そして、被洗浄物Ｘは第１の工程Ａから第２の工程Ｂへと順次送られて、洗浄 および／または水切りが施された後、図示を省略した温風乾燥器等により乾燥処
理が施されて洗浄工程が終了する。 上記洗浄装置における洗浄剤の回収・再使用については、以下の通りである。 上述したように、第１、第２、第３の洗浄槽１、２、７および液切り槽３に設
けられた各ドレン配管４、３ａ、１０は、洗浄剤再生機構Ｃに接続されている。
各洗浄槽に収容された第１の洗浄剤Ｄ１または第２の洗浄剤Ｄ２は、フィルタ６
、１２によって常時浄化されているが、洗浄剤の汚れがひどくなった際には、各
ドレン配管４、１０によって洗浄剤再生機構Ｃに送水ポンプ１３によって送られ
て分溜精製される。また、液切り槽３に溜まった第１の洗浄剤Ｄ１も間欠的に洗
浄剤再生機構Ｃに送られる。 洗浄剤再生機構Ｃでは、まず濾過器１４により液体と固体との分離が行われ、
固体分は廃棄され、液体のみ蒸留器１５へ送られる。この蒸留器１５では洗浄剤
中の各成分、水、油脂系汚れ等の沸点の差を利用して分離が行われる。なお、蒸
留器１５にて残留した水分等は、デカンタ１６によってさらに分離される。 ここで、上記洗浄装置において使用している洗浄剤において、第１の洗浄剤Ｄ
１は、直鎖状の低分子量ポリオルガノシロキサンのみの第２の洗浄剤Ｄ２に界面
活性剤を添加したものであるため、第１の洗浄剤Ｄ１および第２の洗浄剤Ｄ２そ
れぞれから直鎖状の低分子量ポリオルガノシロキサン、すなわち第２の洗浄剤Ｄ
２を分離抽出することができ、第２の洗浄剤Ｄ２が再生される。また、この再生
された第２の洗浄剤Ｄ２以外の成分、すなわち界面活性剤や水分等は廃棄される
。 この再生された第２の洗浄剤Ｄ２は、配管１７によりシャワーリンス槽８、第
３の洗浄槽７、もしくは第２の洗浄槽２に第１の洗浄剤Ｄ１を供給する配合器１
８へと送られる。 シャワーリンス槽８では、上記再生洗浄剤Ｄ２もしくは洗浄剤供給配管１９か
ら送られてきた新規な第２の洗浄剤Ｄ２によって、不純物を含まない第２の洗浄
剤Ｄ２のみでシャワー洗浄が行われる。 また、配合器１８では、再生もしくは新規の第２の洗浄剤Ｄ２と、界面活性剤
供給配管２０から送られてきた新規な界面活性剤とが混合され、新たに第１の洗
浄剤Ｄ１が調合される。この第１の洗浄剤Ｄ１は、必要に応じて第２の洗浄槽２ に供給される。 上述したような構成を有する洗浄装置を用いることにより、本発明の洗浄方法
を効率よく、かつ有効に利用することができると共に、本発明に用いる洗浄剤の
特性を十分に発揮することが可能となる。 【発明の効果】 以上説明したように、本発明の洗浄方法によれば、従来から使用されているフ
ロン系洗浄に匹敵する洗浄効果や液切り効果が得られ、かつ環境破壊や環境汚染
の心配もないことから、環境問題を抱えるフロン系等の有機溶剤系洗浄剤を用い
た洗浄システムの代替洗浄方法として有用である。

【図面の簡単な説明】 第１図は本発明の洗浄方法を適用した洗浄装置の一構成例を示す図である。 Ａ……洗浄および／または水置換工程（第１の工程） Ｂ……清浄化工程（第２の工程） Ｃ……洗浄剤再生機構 Ｄ１…第１の洗浄剤 Ｄ２…第２の洗浄剤 １……第１の洗浄槽 ２……第２の洗浄槽 ３……液切り槽 ７……第３の洗浄槽 ８……シャワーリンス槽

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】 硬質表面を有する工業部品を 一般式：（式中、R¹は同一または相異なる置換または非置換の１価のアルキル基、フェニ
   ル基、ｌは0 〜5 の整数を示す） で表される直鎖状ポリジオルガノシロキサンからなる低分子量ポリオルガノシ
   ロキサンと、アニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、両性界面活性剤、
   カチオン系界面活性剤および／またはテルペン系界面活性剤からなる界面活性剤
   および／または親水性溶剤から実質的になる第１の洗浄剤で洗浄する第１の工程
   と、 前記硬質表面を有する工業部品の表面に存在する前記第１の洗浄剤成分を、実
   質的に前記低分子量ポリオルガノシロキサン単独の第２の洗浄剤で置換する第２
   の工程と を具備することを特徴とする洗浄方法。 【請求項２】請求項１記載の洗浄方法において、 前記硬質表面を有する工業部品は、金属、セラミックスおよびプラスチックか
   ら選ばれた少なくとも１種からなることを特徴とする洗浄方法。 【請求項３】 請求項１記載の洗浄方法において、 前記硬質表面を有する工業部品は、金属部品、ガラス部品、セラミックス部品
   、表面処理部品、電子部品、半導体部品、電気部品、精密機械部品および光学部
   品から選ばれた少なくとも１種であることを特徴とする洗浄方法。 【請求項４】 請求項１記載の洗浄方法において、 前記第１の工程の前に前記洗浄対象物を水洗することを特徴とする洗浄方法。 【請求項５】 請求項１記載の洗浄方法において、 前記第１の工程にて、洗浄対象物の表面に存在する油脂系汚れを、前記第１の 洗浄剤で洗浄することを特徴とする洗浄方法。 【請求項６】 請求項１記載の洗浄方法において、 前記第２の工程の後に、前記洗浄対象物を乾燥する工程を有することを特徴と
   する洗浄方法。 【請求項７】 請求項１記載の洗浄方法において、 前記第１の洗浄剤は、前記低分子量ポリオルガノシロキサン100 重量部に対し
   て、20重量部以下の界面活性剤および／または100 重量部以下の親水性溶剤を含
   有することを特徴とする洗浄方法。 【請求項８】 請求項１記載の洗浄方法において、 前記親水性溶剤の引火点が40℃以上であることを特徴とする洗浄方法。