JP2001329296A

JP2001329296A - レンズ製造工程用洗浄剤組成物

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Publication number: JP2001329296A
Application number: JP2000152346A
Authority: JP
Inventors: Motoki Nishihara; 元基西原; Hiroshi Wada; 寛和田
Original assignee: Neos Co Ltd
Current assignee: Neos Co Ltd
Priority date: 2000-05-24
Filing date: 2000-05-24
Publication date: 2001-11-27

Abstract

(57)【要約】【課題】本発明は、レンズ製造工程において使用され
るワックスピッチ，アスファルトピッチ等の固定剤、及
び保護膜のいずれにも優れた洗浄（除去）性能を発揮
し、オゾン層を破壊する物質である塩素系溶剤を含ま
ず、かつ臭気の少ない洗浄剤組成物を提供することを目
的としてなされたものである。【解決手段】（イ）及び（ロ）の成分を含有するレン
ズ製造工程用洗浄剤組成物。（イ）炭素原子数６〜１４のイソパラフィン系溶剤を９
０重量％〜１０重量％。（ロ）下記一般式（１）：【化１】（Ｒ_１及びＲ_２は、アルキル基を示し、Ｒ_１とＲ_２の炭
素原子数の合計は２〜１２の数であり、ｎは、２〜４、
及びｍは、１〜３の数を表す）で表されるジアルキルグ
リコールエーテルを１０重量％〜９０重量％。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レンズの製造工程
において使用される固定剤（ワックスピッチ、アスファ
ルトピッチ、松やに、蜜蝋）及び保護膜を除去する目的
で使用される、塩素系洗浄剤を含まないレンズ製造工程
用洗浄剤組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】レンズの製造において、レンズを研磨す
る工程では、レンズを保持台に固定するためにワックス
ピッチ或いはアスファルトピッチ等の固定剤が用いられ
ている。また、片面の研磨時にもう片面の保護のため、
マスキング剤と呼ばれるフェノール系樹脂やアクリル系
樹脂等を保護膜として塗布している。これらの固定剤及
び保護膜は、次工程へ移行する際、または工程が終了し
た際には除去する必要がある。

【０００３】この固定剤及び保護膜の洗浄剤としては、
従来は塩素系溶剤、例えばトリクロルエチレン、テトラ
クロルエチレン、1,1,1-トリクロルエタンやジクロルメ
タン、またフロン系溶剤、例えばトリクロロトリフルオ
ロエタン等が使用されてきた。しかしながら、近年、こ
れらの溶剤は、オゾン層を破壊する物質として規制対象
となり、また、地下水汚染物質の一つとして問題になっ
ている。このため完全密閉系による使用以外は取り扱い
が困難な状況となってきている。また、これら塩素系や
フロン系溶剤に変わる溶剤として用いられるＨＣＦＣ−
１４１ｂ、ＨＣＦＣ−２２５に代表される代替フロンに
しても、オゾン破壊係数が全く０とは言えず、地球温暖
化への懸念材料として将来的には全廃される方向にあ
る。

【０００４】近年これらの対策として、代替フロンや塩
素系溶剤を使用しないレンズ製造工程用洗浄剤組成物と
して、次のようなものが提案されている。特開平７−２
４７４９９号にはジアルキルグリコールエーテルを配合
したもの、特開平９−２５４９６号には特定のアルコー
ルとプロピレングリコールモノアルキルエーテルもしく
はジプロピレングリコールモノアルキルエーテルとの混
合物が提案されている。しかしながら、これらの洗浄剤
組成物は、ワックスピッチの溶解性に優れるものの、他
のアスファルトピッチ，樹脂系保護膜の溶解除去性では
十分なものとはいえない。また、特開平８−２５４６０
２号には特定の芳香族化合物と脂肪族化合物とを特定の
割合で混合した溶剤が提案されている。しかし、この組
成物では、アスファルトピッチ及び一部の樹脂系保護膜
しか溶解除去できない。さらに、芳香族系化合物は環境
的問題及び人体への影響面での問題があり、臭気も強
い。芳香族系化合物の割合を少なくすれば、性能が不充
分となる。

【０００５】以上のように、ワックスピッチ、アスファ
ルトピッチ等の固定剤、保護膜のいずれかには有効では
あっても、同時に洗浄除去する場合には、かなりの洗浄
時間を要する等の問題がある。また、ワックスピッチ，
アスファルトピッチ，保護膜の何れにも優れた溶剤は、
臭気が強いという問題があり、臭気の少ない洗浄剤組成
物が要望されている。

【０００６】

【課題を解決するための課題】本発明は、レンズ製造工
程において使用されるワックスピッチ，アスファルトピ
ッチ等の固定剤、及び保護膜のいずれにも優れた除去性
能を発揮し、オゾン層を破壊する物質である塩素系溶剤
を含まず、かつ臭気の少ない洗浄剤組成物を提供するこ
とを目的としてなされたものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、レンズ製造工
程用洗浄剤組成物について、鋭意検討を行ない、特定の
炭化水素系溶剤とグリコール系溶剤を混合することによ
り、ワックスピッチ，アスファルトピッチ及び保護膜の
何れの除去対象物に対しても溶解，除去能力に優れた相
乗効果を得ることを見出し、本発明を完成した。

【０００８】即ち、本発明は、（イ）炭化水素系溶剤と
して炭素数６〜１４のイソパラフィン系溶剤を９０重量
％〜１０重量％、及び（ロ）下記一般式（１）；

【０００９】

【化２】

【００１０】（Ｒ_１及びＲ_２は、アルキル基を示し、Ｒ
_１とＲ_２の炭素数の合計は２〜１２の整数、ｎは、２〜
４、ｍは、１〜３の数を表す）で表されるジアルキルグ
リコールエーテルを１０重量％〜９０重量％を含有する
レンズ製造工程用洗浄剤組成物を提供する。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明に用いる（イ）成分は、炭
素数６〜１４のイソパラフィン系溶剤であり、好ましく
は、炭素数１０〜１２の炭化水素である。好ましくはイ
ソデカン、イソドデカン、イソテトラデカンである。配
合量は、９０重量％〜１０重量％であり、好ましくは７
０重量％〜３０重量％である。配合量が９０重量％以上
もしくは１０重量％以下であれば、成分（ロ）との混合
による相乗効果が得られ難い。また、９０重量％以上で
は、アスファルトピッチ、保護膜等の除去性能が不十分
となる。

【００１２】本発明に用いる一般式（１）で表される化
合物（成分（ロ））は、ジアルキルグリコールエーテル
であり、Ｒ_１及びＲ_２はアルキル基を示し、Ｒ_１とＲ_２
の炭素数の合計は２〜１２の整数、ｎは、２〜４、ｍ
は、１〜３の数を表す。例示するとエチレングリコール
ジブチルエーテル、エチレングリコールジヘキシルエー
テル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチ
レングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコー
ルジブチルエーテル、ジエチレングリコールジヘキシル
エーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、
トリエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレン
グリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコール
ジエチルエーテル等が挙げられる。好ましくは、ジエチ
レングリコールジメチルエーテル，ジエチレングリコー
ルジエチルエーテル，ジエチレングリコールジブチルエ
ーテルである。

【００１３】配合量は、洗浄剤組成物の全体量に対して
１０重量％〜９０重量％であり、好ましくは、３０重量
％〜７０重量％である。１０重量％以下または９０重量
％以上では、洗浄能力に対して溶剤混合による相乗効果
が期待できない。また、９０重量％以上であれば、ワッ
クス類に対しての洗浄性が不十分になる。

【００１４】この洗浄剤組成物は、必要に応じてモノア
ルキルグリコールエーテルや界面活性剤を含有してもよ
い。モノアルキルグリコールエーテルとしては、例示す
ると、エチレングリコールモノメチルエーテル，ジエチ
レングリコールモノメチルエーテル，トリエチレングリ
コールモノメチルエーテル，エチレングリコールモノイ
ソプロピルエーテル，エチレングリコールモノブチルエ
ーテル，ジエチレングリコールモノブチルエーテル，ト
リエチレングリコールモノブチルエーテル，エチレング
リコールモノイソプロピルエーテル，ジエチレングリコ
ールモノイソプロピルエーテル，エチレングリコールモ
ノヘキシルエーテル，ジエチレングリコールモノヘキシ
ルエーテル，トリエチレングリコールモノヘキシルエ−
テル，エチレングリコールモノ２−エチルヘキシルエー
テル，ジエチレングリコールモノ２−エチルヘキシルエ
ーテル，トリエチレングリコールモノ２−エチルヘキシ
ルエーテル，プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル，ジプロピレングリコールモノメチルエーテル，トリ
プロピレングリコールモノメチルエーテル，プロピレン
グリコールモノプロピルエーテル，ジプロピレングリコ
ールモノプロピルエーテル，トリプロピレングリコール
モノプロピルエーテル，プロピレングリコールモノブチ
ルエーテル，ジプロピレングリコールモノブチルエーテ
ル，トリプロピレングリコールモノブチルエーテル等が
挙げられる。好ましくは、エチレングリコールモノヘキ
シルエーテル，ジエチレングリコールモノヘキシルエー
テル，トリエチレングリコールモノヘキシルエ−テル，
エチレングリコールモノ２−エチルヘキシルエーテル，
ジエチレングリコールモノ２−エチルヘキシルエーテ
ル，トリエチレングリコールモノ２−エチルヘキシルエ
ーテル，プロピレングリコールモノメチルエーテル，ジ
プロピレングリコールモノメチルエーテル，トリプロピ
レングリコールモノメチルエーテル，プロピレングリコ
ールモノプロピルエーテル，ジプロピレングリコールモ
ノプロピルエーテル，トリプロピレングリコールモノプ
ロピルエーテルである。配合量は、洗浄剤組成物の全体
量に対して４０重量％まであり、４０重量％を超える
と、（イ）成分と（ロ）成分の混合による効果が半減す
る。

【００１５】界面活性剤としては、従来より洗浄剤に用
いられる公知の界面活性剤が挙げられる。非イオン性界
面活性剤、陰イオン性界面活性剤、陽イオン性界面活性
剤、両性界面活性剤いずれでもよいが疎水性の強い界面
活性剤が望ましい。好ましくは非イオン界面活性剤であ
り、例えば、高級アルコール類のアルキレンオキサイド
付加物、アルキルフェニルエーテルのアルキレンオキサ
イド付加物や脂肪酸のアルキレンオキサイド付加物等が
挙げられる。本発明洗浄剤組成物に疎水性界面活性剤を
含有させることにより、汚れへの浸透力が向上し、除去
能力を向上させることができる。

【００１６】

【実施例】以下に、実施例を挙げて本発明をさらに詳細
に説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限
定されるものではない。実施例１〜１２及び比較例１’〜１０’ 表１及び表２に示す組成による洗浄剤を調製し、以下に
示す試験方法により洗浄性及び臭気を評価した。結果を
表１及び表２に示した。

【００１７】〇洗浄性の試験方法表１及び表2に示す実施例及び比較例の洗浄剤組成物の
１００mlを１００mlビーカーにとる。次いで、下記に示
す調製方法で作成したテストピースを浸漬し、超音波洗
浄機（波長２８kHz、室温）を用いて１分洗浄する。テ
ストピースの表面状態を目視にて評価した。評価基準は
以下のとおりである。

【００１８】 ◎：スライドガラス上に汚れが全く残らない。 ○：スライドガラス上に汚れが微量残る。 △：スライドガラス上に汚れが少量残る。 ×：スライドガラス上に汚れが多く残る。

【００１９】〇テストピースの調製方法汚染物として光学レンズ製造メーカーで使用されている
アスファルトピッチ、ワックスピッチ、松やに及びフェ
ノール系保護膜樹脂のそれぞれをスライドガラスに０．
１ｇ計り取り、１００℃のホットプレート上で２時間乾
燥後、１昼夜室内放置したものをテストピースとした。

【００２０】〇臭気の評価実施例及び比較例の洗浄剤組成物を３０人に対して臭気
のモニター調査を行った。臭気について不快に感じるか
感じないかの回答を集計し、以下の基準で評価した。

【００２１】 ◎：０〜５人が不快に感じる。 ○：６人〜１５人が不快に感じる。 △：１６人〜２５人が不快に感じる。 ×：２６人〜３０人が不快に感じる。

【００２２】

【表１】

【００２３】

【表２】

【００２４】

【発明の効果】本発明の洗浄剤組成物は、レンズ製造工
程において使用されるワックスピッチ、アスファルトピ
ッチ等の固定剤及び保護膜の全てに対して優れた除去性
能を発揮する。しかも、トリクロルエチレン、テトラク
ロルエチレン、1,1,1-トリクロルエタン、ジクロルメタ
ン等の塩素系溶剤やフロン系溶剤を含まず、臭気も少な
く、環境面、安全面で優れている。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（イ）及び（ロ）の成分を含有するレン
ズ製造工程用洗浄剤組成物。（イ）炭素原子数６〜１４のイソパラフィン系溶剤を９
０重量％〜１０重量％。（ロ）下記一般式（１）；【化１】（Ｒ_１及びＲ_２は、アルキル基を示し、Ｒ_１とＲ_２の炭
素原子数の合計は２〜１２の数であり、ｎは、２〜４、
及びｍは、１〜３の数を表す）で表されるジアルキルグ
リコールエーテルを１０重量％〜９０重量％。
【請求項２】ジアルキルグリコールエーテルが、ジエ
チレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールジエチルエーテル及びジエチレングリコールジブチ
ルエーテルからなる群から選ばれる少なくとも１種であ
るレンズ製造工程用洗浄剤組成物。