JPH10330795A - エアゾール型スプレー洗浄剤および洗浄方法 - Google Patents

エアゾール型スプレー洗浄剤および洗浄方法

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JPH10330795A
JPH10330795A JP9159296A JP15929697A JPH10330795A JP H10330795 A JPH10330795 A JP H10330795A JP 9159296 A JP9159296 A JP 9159296A JP 15929697 A JP15929697 A JP 15929697A JP H10330795 A JPH10330795 A JP H10330795A
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JP
Japan
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ether
methyl
acetate
ethyl
group
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Application number
JP9159296A
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English (en)
Inventor
Naoki Sugama
直樹 菅間
Masashi Endo
賢史 遠藤
Shigeru Shimizu
茂 清水
Yoshiaki Saito
義明 斉藤
Yasuyuki Takayanagi
恭之 高柳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Rayon Co Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Rayon Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来のエアゾール型スプレー洗浄剤に比べ
て、安全性が高く、環境保全性に優れ、各種インキ、ペ
ースト、フラックス、油脂、接着剤類の洗浄性、剥離性
に優れ、乾燥性および操作性の良いエアゾール型スプレ
ー洗浄剤を提供することにある。 【解決手段】 溶解度パラメーター値(SP値)が7.
0〜13.0、且つ沸点が40〜300℃である含酸素
溶剤および炭化水素系溶剤から選ばれた少なくとも1種
の洗浄有効成分を含むエアゾール型スプレー洗浄剤およ
びそれを用いる洗浄方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はエアゾール型スプレ
ー洗浄剤およびそれを用いた洗浄方法に関するものであ
り、更に詳しくはインキ、ペースト、フラックス、油脂
および接着剤の洗浄に特に優れたエアゾール型スプレー
洗浄剤および洗浄方法に関する。本発明のエアゾール型
スプレー洗浄剤および洗浄方法は印刷工業、塗料工業、
接着剤工業、電子工業、あるいは精密機械工業など多く
の場面で用いることが出来る。
【0002】
【従来の技術】従来から、エアゾール型スプレー洗浄剤
としては種々のものが知られているが、印刷工業用、塗
料工業用、接着剤工業用、電子工業用、あるいは精密機
械工業用としては何れも一長一短があり、十分満足され
るものではない。これらの用途における洗浄剤として要
求項目の主なものは次の通りである。 1)インキ、ペースト、フラックス、油脂、および接着
剤などに対して大きな洗浄力を持つこと。 2)洗浄操作が簡単であること。 3)速乾性であること。 4)不揮発性の成分が残留しないこと。 5)プラスチック、塗装面、あるいは部材などへの悪影
響がないこと。 6)安全性が高いこと。
【0003】これに対して従来のエアゾール型スプレー
洗浄剤技術は以下の通りである。特開昭56―848
1、特開昭63―178198、および特開平8―41
494にはフロンなどフッ化炭化水素を洗浄成分として
用いる方法が開示されているが、これらはオゾン層破壊
物質であり、その使用は地球環境保全上禁止または制限
されており好ましくない。特開昭57―96098およ
び特開昭61―76599には界面活性剤を含む洗浄成
分を用いる方法が開示されているが、界面活性成分は不
揮発性でスプレー洗浄後、洗浄面に残存する欠点があ
る。また、特開平6―264100には芳香族化合物で
あるトルエンを洗浄成分に用いる方法が開示されている
が、毒性の高い芳香族化合物を呼吸器から吸引する可能
性が高いスプレー洗浄剤に用いるのは安全上好ましくな
い。このように従来のエアゾール型スプレー洗浄剤は環
境保全上、安全上、および性能上などに問題があり満足
すべきものではなかった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】このように、当業技術
分野では、人体に対する毒性や安全上の問題がなく、環
境破壊物質の大気及び水系への排出がなく、環境への蓄
積もなく、しかも各種印刷インキ、ペースト、フラック
ス、油脂、接着剤類に対し高い溶解力を有し、速乾性
で、不揮発成分が残留しない、洗浄操作が簡単な洗浄剤
の開発が重要な課題になっている。
【0005】本発明は、前述したような従来のエアゾー
ル型スプレー洗浄剤の持つ欠点を克服し、低毒性で安全
な溶媒系からなり、各種インキ、ペースト、フラック
ス、油脂、接着剤類の洗浄能力が高く、速乾性で、洗浄
剤の残留もなく、環境破壊物質の大気及び水系への排出
が無く、環境への蓄積もなく、操作性の良いインキ、ペ
ースト、フラックス、油脂、及び接着剤用のスプレー洗
浄剤を提供することを目的としてなされたものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の好
ましい性質を有するインキ、ペースト、フラックス、油
脂、及び接着剤類用のエアゾール型スプレー洗浄剤を開
発すべく鋭意研究を重ねた結果、溶解度パラメーター値
(SP値)が7.0から13.0の範囲にある溶剤類が
著しく良好な洗浄性能と安全性を持ち、その目的に適合
することを見いだし、本発明に到達した。
【0007】すなわち本発明は、溶解度パラメーター値
(SP値)が7.0〜13.0、且つ沸点が40〜30
0℃である含酸素溶剤(A)、および炭化水素系溶剤
(B)から選ばれた少なくとも1種を洗浄有効成分と
し、噴射剤とともに容器(エアゾール缶)に充填してな
ることを特徴とするエアゾール型スプレー洗浄剤に関す
る。
【0008】以下、本発明を詳細に説明する。
【0009】本発明におけるエアゾール型スプレー洗浄
剤は溶解度パラメーター値(SP値)が7.0〜13.
0、且つ沸点が40〜300℃である含酸素溶剤
(A)、および炭化水素系溶剤(B)から選ばれた少な
くとも1種を必須成分として含有することが重要な点で
ある。
【0010】含酸素溶剤(A)としては、溶解度パラメ
ーター値(SP値)が7.0〜13.0、且つ沸点が4
0〜300℃であり、水酸基、エーテル基、カルボニル
基、エステル基、およびアミド基から選ばれた少なくと
も1種の含酸素官能基を有する有機溶剤が用いられる。
【0011】含酸素溶剤(A)としては、下記一般式
[I]で表されるグリコールエーテル類、およびグリコ
ールエーテルアシレート類、並びに下記一般式[II]、
[III]、[IV]および[V]で表されるエステル類か
ら選ばれた有機溶剤などが好ましい。 R1 O(C3 6 O)m 2 式[I] CH3 CO2 5 式[IV] R5 2 C(CH2 n CO2 5 式[V] (ただし、式中R1 は炭素数1〜4のアルキル基または
アシル基、R2 は炭素数1〜4のアルキル基、アシル
基、または水素、R3 は炭素数1〜4のアルキル基また
は水素、R4 は炭素数1〜4のアルキル基、R5 は炭素
数1〜8のアルキル基、mは1〜3の整数、nは2〜4
の整数を表す。)
【0012】含酸素溶剤(A)の具体例としては、α−
メトキシイソ酪酸メチル、α−メトキシイソ酪酸エチ
ル、α−エトキシイソ酪酸メチル、α−エトキシイソ酪
酸エチル等のα−アルコキシイソ酪酸アルキルエステ
ル、β−メトキシイソ酪酸メチル、β−メトキシイソ酪
酸エチル、β−エトキシイソ酪酸メチル、β−エトキシ
イソ酪酸エチル等のβ−アルコキシイソ酪酸アルキルエ
ステル、及びα−ヒドロキシイソ酪酸メチル、α−ヒド
ロキシイソ酪酸エチル等のα−ヒドロキシイソ酪酸アル
キルエステルに代表されるオキシイソ酪酸アルキルエス
テル類、3−メトキシ−3−メチルブタノール、ペンタ
ノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、
ノナノール、2−エチルブタノール、2−エチルヘキサ
ノール、3,5,5−トリメチルヘキサノール、4−メ
チル−2−ペンタノール、ベンジルアルコール、ジアセ
トンアルコール、ジエチレングリコールモノメチルエー
テル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリ
コールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノ
エチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエ
ーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジ
プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレ
ングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコ
ールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモ
ノブチルエーテル等に代表される水酸基含有溶剤、ジイ
ソアミルエーテル、ジフェニルエーテル、ジベンジルエ
ーテル、エチルフェニルエーテル、ブチルフェニルエー
テル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロ
ピレングリコールジメチルエーテル等に代表されるエー
テル基含有溶剤、アセトフェノン、エチルブチルケト
ン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、メチルア
ミルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メ
チルシクロヘキサノン等に代表されるカルボニル基含有
溶剤、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、酢酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸2−エチルヘキ
シル、酢酸ベンジル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブ
チル、γ−ブチロラクトン、プロピオン酸イソアミル、
プロピオン酸ブチル、3−メトキシプロピオン酸メチ
ル、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシ−
3−メチルブチルアセテート、ジエチレングリコールモ
ノアセテート、ジエチレングリコールジアセテート、ジ
エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジ
エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジ
エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プ
ロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコ
ールジアセテート、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエ
ーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエ
ーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノアセテ
ート、ジプロピレングリコールジアセテート、ジプロピ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロ
ピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプ
ロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、コ
ハク酸ジメチル、グルタル酸ジメチル、アジピン酸ジメ
チル等のエステル基含有溶剤、N−メチルピロリドン、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミ
ド基含有溶剤等が挙げられる。
【0013】好ましくはα−メトキシイソ酪酸メチル、
β−メトキシイソ酪酸メチル、β−メトキシイソ酪酸エ
チル、β−エトキシイソ酪酸エチル、α−ヒドロキシイ
ソ酪酸メチル、α−ヒドロキシイソ酪酸エチル、3−メ
トキシ−3−メチルブタノール、ジアセトンアルコー
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピ
レングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコ
ールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ
メチルエーテル、ジベンジルエーテル、アセトフェノ
ン、メチルアミルケトン、N−メチルピロリドン、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセト酢酸
エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3―エトキ
シプロピオン酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、3−
メトキシ−3−メチルブチルアセテート、プロピレング
リコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレング
リコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレング
リコールジアセテート、コハク酸ジメチル、グルタル酸
ジメチル、アジピン酸ジメチルが、特に好ましくはα−
メトキシイソ酪酸メチル、β−メトキシイソ酪酸メチ
ル、β−メトキシイソ酪酸エチル、β−エトキシイソ酪
酸エチル、α−ヒドロキシイソ酪酸メチル、α−ヒドロ
キシイソ酪酸エチル、3−メトキシ−3−メチルブタノ
ール、ジアセトンアルコール、ジベンジルエーテル、ア
セトフェノン、メチルアミルケトン、N−メチルピロリ
ドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、
アセト酢酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、
3―エトキシプロピオン酸エチル、乳酸メチル、乳酸エ
チル、3−メトキシ−3−メチルブチルアセテート、プ
ロピレングリコールジアセテート、コハク酸ジメチル、
グルタル酸ジメチル、アジピン酸ジメチルが、インキ、
ペースト、フラックス、油脂、接着剤等の付着物の溶解
性、剥離性に優れており、安全性、環境保全性にも問題
なく、また、沸点、粘度、表面張力等も使用に適当なた
め、好適である。これらの含酸素溶剤(A)は、単独で
用いても良いし、また2種以上を組み合わせて用いても
良い。その混合割合は任意である。
【0014】炭化水素系溶剤(B)としては、溶解度パ
ラメーター値(SP値)が7.0〜13.0、且つ沸点
が40〜300℃である、パラフィン系炭化水素および
非芳香族系環状炭化水素、更に詳しくは直鎖パラフィン
系、イソパラフィン系、ナフテン系またはテルペン系か
ら選ばれた少なくとも1種の非芳香族系炭化水素類が挙
げられる。
【0015】炭化水素系溶剤(B)の具体例としては、
ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ド
デカン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカンやそ
れらの異性体、シクロペンタン、シクロヘキサン、シク
ロヘプタン、デカヒドロナフタリンおよびそれらのアル
キル(炭素数1〜3)モノ〜トリ置換体、リモネンおよ
び灯油、軽油などの石油留分等が挙げられるが、洗浄効
果や乾燥性の観点から、好ましくは前記溶剤のうち炭素
数8から15の溶剤類、特に好ましくは炭素数9から1
3の溶剤が挙げられる。炭素数の小さいものはインキ、
ペースト、フラックス、油脂、および接着剤に対する洗
浄性が低下し、大きいものは乾燥性が低下する傾向があ
り、速乾性が得られ難い。また、これらの炭化水素系溶
剤(B)は単独で用いても良いし、また2種以上を組み
合わせて用いても良い。その混合割合は任意である。
【0016】また、少なくとも1種の含酸素溶剤(A)
と、少なくとも1種の炭化水素系溶剤(B)の併用によ
り、洗浄性を大幅に向上させ、安全性、経済性、臭気等
を適宜調節、改善することができ、広範な種類のイン
キ、ペースト、フラックス、油脂、及び接着剤などに適
用可能とすることができる。含酸素溶剤(A)と併用さ
れる炭化水素系溶剤(B)の混合割合はその用途や配合
などにより異なり任意であるが、含酸素溶剤(A)と炭
化水素系溶剤(B)の相乗効果を効果的に発現させるた
めには、含酸素溶剤(A)を洗浄剤成分全体の3重量%
以上、好ましくは5重量%以上、特に好ましくは10重
量%とするのがよい。
【0017】本発明で用いる含酸素溶剤(A)、および
炭化水素系溶剤(B)は溶解度パラメーター値(SP
値)が7.0〜13.0、且つ沸点が40〜300℃で
あるものから選ばれるが、溶解度パラメーターが7未満
あるいは13を超えるものは、インキ、ペースト、フラ
ックス、油脂、および接着剤などの洗浄性が極度に低下
する傾向がある。また、沸点40℃未満では蒸発速度が
大き過ぎ十分な洗浄効果が発揮できず、沸点300℃を
超えると逆に乾燥性が極度に悪化し実用に適さない。
【0018】また、本発明の洗浄剤は、用途に応じて、
水やその他の有機溶剤、防錆剤、ノニオン系界面活性
剤、アニオン系界面活性剤、およびカチオン系界面活性
剤などの界面活性剤、酸またはアルカリなどを必要によ
り併用することもできる。
【0019】
【発明の実施の形態】本発明のエアゾール型スプレー洗
浄剤は実際の使用にあたっては、前述の洗浄剤成分に噴
射剤を加え、エアゾール缶に充填して使用される。噴射
剤としては公知のものであるLPG、炭酸ガス、窒素ガ
ス、フロンガス等を単独または2種以上を混合して用い
る事ができる。安全性と環境保全の観点からはLPGの
使用が望ましい。噴射剤の使用量は任意であるが、通常
洗浄剤成分の10〜70重量%、好ましくは15〜50
重量%、特に好ましくは20〜40重量%が適切であ
る。これらをエアゾール缶に充填、封入して用いるもの
である。
【0020】本発明のスプレー洗浄剤は、レジストイン
キ、オフセットインキ、UVインキ、グラビアインキ、
スクリーンインキ、フレキソインキ、油性マーカー、メ
タルペースト、カーボンペースト等の各種インキ、ペー
ストや、ハンダフラックスに対する洗浄性が極めて高
く、これらの洗浄に有効に適用できる。また、本発明の
スプレー洗浄剤により洗浄する被洗浄物としては、例え
ば印刷工程で使用されるインキ壷、インキ供給ローラー
や、スクリーン版、メタルマスク版、オフセット版、グ
ラビア版等の各種印刷版、及び実装基板などの電子部品
が挙げられる。これら各種被洗浄部品の部材を侵しにく
く、速乾性であり、不揮発成分の残留もないため、洗浄
操作も非常に簡単になる。
【0021】また、本発明のスプレー洗浄剤は、切削
油、プレス油、グリースなどの油脂類や、セルロース樹
脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ビニル樹脂、アルキ
ッド樹脂、ポリエステル樹脂、ノボラック樹脂、シアノ
アクリレート樹脂、及び各種ゴム類などを主成分とする
接着剤類に対する溶解性あるいは剥離性が極めて高く、
これら油脂や接着剤の洗浄、剥離にも有効に適用でき
る。
【0022】
【実施例】以下、本発明を実施例及び比較例によって具
体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定さ
れるものではない。
【0023】実施例及び比較例の評価法 表面を研磨したアルミ板(50×20×2mm)に下記
A〜Eの市販インキ、ペースト、下記F〜Gの市販フラ
ックス、下記H〜Jの市販油脂、及び下記K〜Nの市販
接着剤をバーコーダーで均一に塗布したものをテストピ
ースとして用いた。 A : ソルダーレジストインキ(熱硬化タイプ) B : マーキングインキ(紫外線硬化タイプ) C : スクリーン印刷用インキ(エポキシ系) D : ソルダーペースト E : カーボンペースト F : ソルダーライトフラックス B―111R(タ
ムラ製作所製) G : フラックス F―A1−4(タムラ製作所製) H : 切削油 ダフニーマーグプラスLA15(出光
興産製) I : プレス油 ユニプレスDP120(日本石油
製) J : グリース アルバニアグリース 1(昭和シェ
ル石油製) K : エポキシ樹脂系接着剤 EP170(セメダイ
ン製) L : 特殊シリコン系接着剤 スーパーX(セメダイ
ン製) M : クロロプレンエラストマー系接着剤 575
(セメダイン製) N : ポリ酢酸ビニル系接着剤 198L(セメダイ
ン製)
【0024】インキ、ペーストを塗布してから10分
後、本発明の組成のスプレー洗浄剤(表1〜表8の各実
施例記載の洗浄成分75部に対して噴射剤としてLPG
25部をエアゾール缶につめたもの)を用い、塗布面を
垂直に固定したテストピースより5cmの距離から30
秒間噴射し洗浄する。テストピースを乾燥した後、残存
付着量を目視及び金属顕微鏡にて測定し、評価した。 ○ : 30秒間噴射で、目視及び金属顕微鏡にて残存
付着物なし △ : 30秒間噴射で、目視では残存付着物はない
が、金属顕微鏡ではあり × : 30秒間噴射で、目視にて残存付着物あり 結果は実施例および比較例として表1〜表8にまとめて
示した。
【0025】
【表1】
【0026】
【表2】
【0027】
【表3】
【0028】
【表4】
【0029】
【表5】
【0030】
【表6】
【0031】
【表7】
【0032】
【表8】
【0033】
【発明の効果】本発明のエアゾール型スプレー洗浄剤は
次のような利点を有する。 (1)各種インキ、ペースト、フラックス、油脂、接着
剤類に対する洗浄性、剥離性が極めて高い。 (2)天然および合成高分子の溶解性が極めて高く、洗
浄除去性に優れる。 (3)速乾性であり、不揮発成分の残留がない。 (4)環境への悪影響がなく、自然界への蓄積がない。 (5)洗浄操作が簡単である。 (6)沸点および引火点が比較的高く、操作性や安全性
も著しく向上する。 (7)各種被洗浄部品に使用される部材を侵しにくい。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H05K 3/26 H05K 3/26 E //(C11D 7/50 7:26 7:32 7:24) (72)発明者 斉藤 義明 東京都千代田区丸の内1丁目5番1号 日 東化学工業株式会社内 (72)発明者 高柳 恭之 東京都千代田区丸の内1丁目5番1号 日 東化学工業株式会社内

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 溶解度パラメーター値(SP値)が7.
    0〜13.0、且つ沸点が40〜300℃である含酸素
    溶剤(A)および炭化水素系溶剤(B)の群から選ばれ
    た少なくとも1種を洗浄有効成分とし、噴射剤とともに
    容器(エアゾール缶)に充填してなることを特徴とする
    エアゾール型スプレー洗浄剤。
  2. 【請求項2】 含酸素溶剤(A)が、水酸基、エーテル
    基、カルボニル基、エステル基、およびアミド基から選
    ばれた少なくとも1種の官能基を有する有機溶剤である
    ことを特徴とする請求項1記載のエアゾール型スプレー
    洗浄剤。
  3. 【請求項3】 炭化水素系溶剤(B)が、パラフィン系
    炭化水素および非芳香族系環状炭化水素からなる群より
    選ばれた少なくとも1種であることを特徴とする請求項
    1記載のエアゾール型スプレー洗浄剤。
  4. 【請求項4】 含酸素溶剤(A)が、下記一般式[I]
    で表されるグリコールエーテル類およびグリコールエー
    テルアシレート類、並びに下記一般式[II]、[III
    ]、[IV]および[V]で表されるエステル類からな
    る群より選ばれた少なくとも1種であることを特徴とす
    る請求項1または請求項2記載のエアゾール型スプレー
    洗浄剤。 R1 O(C3 6 O)m 2 式[I] CH3 CO2 5 式[IV] R5 2 C(CH2 n CO2 5 式[V] (ただし、式中R1 は炭素数1〜4のアルキル基または
    アシル基、R2 は炭素数1〜4のアルキル基、アシル
    基、または水素、R3 は炭素数1〜4のアルキル基また
    は水素、R4 は炭素数1〜4のアルキル基、R5 は炭素
    数1〜8のアルキル基、mは1〜3の整数、nは2〜4
    の整数を表す。)
  5. 【請求項5】 含酸素溶剤(A)が、α−メトキシイソ
    酪酸メチル、α−メトキシイソ酪酸エチル、α−エトキ
    シイソ酪酸メチル、α−エトキシイソ酪酸エチル、β−
    メトキシイソ酪酸メチル、β−メトキシイソ酪酸エチ
    ル、β−エトキシイソ酪酸メチル、β−エトキシイソ酪
    酸エチル、α−ヒドロキシイソ酪酸メチル、α−ヒドロ
    キシイソ酪酸エチル、3−メトキシ−3−メチルブタノ
    ール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オ
    クタノール、ノナノール、2−エチルブタノール、2−
    エチルヘキサノール、3,5,5−トリメチルヘキサノ
    ール、4−メチル−2−ペンタノール、ベンジルアルコ
    ール、ジアセトンアルコール、ジエチレングリコールモ
    ノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエ
    ーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プ
    ロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレング
    リコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモ
    ノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチル
    エーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテ
    ル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプ
    ロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレ
    ングリコールモノブチルエーテル、ジイソアミルエーテ
    ル、ジフェニルエーテル、ジベンジルエーテル、エチル
    フェニルエーテル、ブチルフェニルエーテル、プロピレ
    ングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコー
    ルジメチルエーテル、アセトフェノン、エチルブチルケ
    トン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、メチル
    アミルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、
    メチルシクロヘキサノン、アセト酢酸メチル、アセト酢
    酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸イソアミル、
    酢酸2−エチルヘキシル、酢酸ベンジル、乳酸メチル、
    乳酸エチル、乳酸ブチル、γ−ブチロラクトン、プロピ
    オン酸イソアミル、プロピオン酸ブチル、3−メトキシ
    プロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチ
    ル、3−メトキシ−3−メチルブチルアセテート、ジエ
    チレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコー
    ルジアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエー
    テルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエー
    テルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエー
    テルアセテート、プロピレングリコールモノアセテー
    ト、プロピレングリコールジアセテート、プロピレング
    リコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレング
    リコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレング
    リコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレン
    グリコールモノアセテート、ジプロピレングリコールジ
    アセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテ
    ルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエー
    テルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエ
    ーテルアセテート、コハク酸ジメチル、グルタル酸ジメ
    チル、アジピン酸ジメチル、N−メチルピロリドン、ジ
    メチルホルムアミドおよびジメチルアセトアミドから選
    ばれた少なくとも1種であることを特徴とする請求項
    1、請求項2または請求項4記載のエアゾール型スプレ
    ー洗浄剤。
  6. 【請求項6】 炭化水素系溶剤(B)がノナン、デカ
    ン、ウンデカン、ドデカン、トリデカンおよびそれらの
    異性体、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプ
    タン、デカヒドロナフタリンおよびそれらのアルキル
    (炭素数1〜3)モノ〜トリ置換体、リモネンからなる
    群から選ばれた少なくとも1種であることを特徴とする
    請求項1または請求項3記載のエアゾール型スプレー洗
    浄剤。
  7. 【請求項7】 請求項1〜6のいずれか1項に記載のエ
    アゾール型スプレー洗浄剤を用いることを特徴とするイ
    ンキ、ペースト、フラックス、油脂および接着剤の洗浄
    方法。
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