JP4137276B2 - レンズ製造工程用洗浄剤組成物 - Google Patents
レンズ製造工程用洗浄剤組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4137276B2 JP4137276B2 JP10193199A JP10193199A JP4137276B2 JP 4137276 B2 JP4137276 B2 JP 4137276B2 JP 10193199 A JP10193199 A JP 10193199A JP 10193199 A JP10193199 A JP 10193199A JP 4137276 B2 JP4137276 B2 JP 4137276B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- weight
- cleaning composition
- cleaning
- manufacturing process
- pitch
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Detergent Compositions (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学レンズの製造工程において使用されるアスファルトピッチ、ワックスピッチ及び保護膜を除去する目的で使用される非塩素系洗浄剤を含まないレンズ製造工程用洗浄剤組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
レンズの製造工程の各工程では、レンズを保持台に固定するために、アスファルトピッチやワックスピッチ等が用いられている。また、研磨工程等では、片面の研磨時にもう片面の保護のため、マスキング剤と呼ばれるフェノール系樹脂、アクリル系樹脂でできた保護膜を塗布している。これらのピッチ及び保護膜は次工程へ移行する際、または工程が終了した際には洗浄除去する必要がある。
【０００３】
このピッチ及び保護膜の洗浄剤としては、従来は塩素系溶剤、例えばトリクロルエチレン、テトラクロルエチレン、1,1,1-トリクロルエタン、ジクロルメタンやフロン系溶剤、例えばトリクロロトリフルオロエタン等が使用されてきた。しかしながら、近年、これらの溶剤は、オゾン層を破壊する物質として規制対象となっていたり、地下水汚染等の環境汚染問題が発生しており、完全密閉系による使用以外の使用は困難な状況となってきている。また、これら塩素系、フロン系溶剤に変わるＨＣＦＣ−１４１ｂ、ＨＣＦＣ−２２５に代表される代替フロンについてもオゾン破壊係数が全くゼロとは言えず将来的には全廃する方向にあり、また地球温暖化への懸念材料もある。
【０００４】
近年これらの対策として、次のような洗浄剤が提案されている。特開平６−３３６５９８号公報にはグリコールエーテルエステルと環状テルペンを特定割合で配合したもの、特開平７−１５０１９２号公報にはモノ又はジグリコールエーテル、脂肪酸あるいはそのアルキレンオキサイド付加物ないしはこのエーテル化物、さらに、パラフィンあるいはオレフィンを含有するもの、特開平８−３３３５９９号公報には炭酸エステルと乳酸エステルとの混合物が記載されている。しかしながら、これらの洗浄剤組成物は、環境及び人体への影響は少なくなっているが、溶解性能の点ではいまだ十分なものとはいえない。また、アスファルトピッチ、ワックス、保護膜のいずれかには洗浄能力があっても、他のものについては洗浄効果が低く、同一工程で全てを洗浄除去する場合に、洗浄時間が洗浄能力の低いものに律速されるという問題点がある。
【０００５】
【課題を解決しようとする課題】
本発明は、光学レンズの製造工程において使用されるアスファルトピッチ、ワックスピッチ及び保護膜のいずれにも優れた除去性能を発揮し、人体に悪影響があり、かつオゾン層を破壊する物質である塩素系溶剤を含まない洗浄剤組成物を提供することを目的としてなされたものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、次の（イ）から（ハ）の成分を含有するレンズ製造工程用洗浄剤組成物を提供する。
（イ）一般式（１）で表されるジアルキルカーボネート ２０〜６０重量％
【０００７】
【化２】
【０００８】
（式中のＲ１及びＲ２は、同一または相異なって炭素数４〜８のアルキル基を示す）
（ロ）γ-ブチロラクトン、ブチロラクタム、N-メチル-2-ピロリドン、ε-カプロラクタム、ピペコリン及びピコリンから成る群から選択される１種又は２種以上の非プロトン性極性溶剤 １０〜５０重量％
（ハ）パラフィン系または／およびナフテン系炭化水素溶剤 ５〜７０重量％
【０００９】
【発明の実施の形態】
本発明に用いる（イ）の成分である一般式（１）で表される化合物は、ジアルキルカーボネートであり、Ｒ１及びＲ２は、炭素原子数４〜８のアルキル基を示し、Ｒ１とＲ２は同時に同じであってもよい。例示するとジブチルカーボネート、ジヘキシルカーボネート、ブチルヘプチルカーボネート、ブチルオクチルカーボネート等が挙げられる。好ましくはジブチルカーボネート、ブチルヘプチルカーボネートである。配合量は、洗浄剤組成物の全体量に対して２０〜６０重量％であり、好ましくは、２５〜５０重量％である。２０重量％以下または６０重量％以上では、洗浄能力に対して溶剤混合による相乗効果が期待できず、また、６０重量％以上であれば、蒸気にアルキルカーボネートの比率が多くなるため、臭気等に問題がある。
【００１０】
本発明に用いる（ロ）成分は、γ-ブチロラクトン、ブチロラクタム、N-メチル-2-ピロリドン、ε-カプロラクタム、ピペコリン及びピコリンの内から少なくとも１種含有するとよいが、２種以上含有してもよい。特に、γ-ブチロラクトン、N-メチル-2-ピロリドンが好ましい。配合量は、洗浄剤組成物の全体量に対して１０〜５０重量％であり、好ましくは、２０〜４０重量％である。１０重量％以下または５０重量％以上では、洗浄能力に対して溶剤混合による相乗効果が期待できず、また、１０重量％以下ではワックスピッチ及び保護膜の除去性能が不十分であり、５０重量％以上ではアスファルトピッチの除去性能が不十分となる。
【００１１】
本発明に用いる（ハ）の成分であるパラフィン系およびナフテン系炭化水素の炭素数は、好ましくは１０〜１８であり、具体的に記載すると、n-ドデカン、n-テトラデカン、デカヒドロナフタレン等である。これらの炭化水素系溶剤は、単独で用いてもよく混合して用いてもよい。配合量は、洗浄剤組成物の全体量に対して５〜７０重量％であり、好ましくは、２０〜５０重量％である。５重量％以下であればアスファルトピッチの除去能力が不十分であり、７０重量％以上では、保護膜の除去性能が不十分となる。
【００１２】
更には、パラフィン系およびナフテン系炭化水素溶剤の一部を炭素数が９〜１２の芳香族系炭化水素溶剤に変えてもよい。例えばトリメチルベンゼン、トリエチルベンゼン等である。配合量としては、洗浄剤組成物の全体量に対して５〜２０重量％である。５重量％以下であれば配合することによる洗浄能力向上を発揮できず、２０重量％以下であれば環境上好ましくない。
【００１３】
更に、必要に応じて疎水性グリコール系溶剤、疎水性界面活性剤を含有してもよい。使用する疎水性グリコール系溶剤には、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノ-2-エチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ-2-エチルヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテルが挙げられる。これらの疎水性グリコール系溶剤は、１種を単独で用いることができ、あるいは２種以上を組合わせることができる。本発明洗浄剤組成物に疎水性グリコール系溶剤を含有させることにより、ワックスピッチ及び保護膜の除去性能を向上させることができる。本発明組成物において、疎水性グリコール系溶剤の含有量は１０重量％以下であることが好ましく、さらに５重量％以下であることが好ましい。１０重量％以上含有しても除去能力向上は難しく不経済である。
【００１４】
使用する界面活性剤は、従来より洗浄剤に用いられる公知の界面活性剤を含有させることができる。界面活性剤は、非イオン性界面活性剤、陰イオン性界面活性剤、陽イオン性界面活性剤、両性界面活性剤いずれでもよいが疎水性の強い界面活性剤が望ましい。好ましくは非イオン界面活性剤であり、例えば、トリオキシエチレンドデシルエーテル、テトラオシキエチレン-2-エチルヘキシルエーテル等が挙げられる。本発明洗浄剤組成物に疎水性界面活性剤を含有させることにより、汚れへの浸透力が向上し、除去能力を向上させることができる。本発明組成物において、疎水性グリコール系溶剤の含有量は５重量％以下であることが好ましく、さらに２重量％以下であることが好ましい。５重量％以上含有しても除去能力向上は難しく、不経済であるだけでなく、洗浄後のべたつき等の問題が生じる。
【００１５】
【実施例】
以下に、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限定されるものではない。
［実施例１〜１２］
表１に示す配合組成の洗浄剤を調製し、下記の方法により洗浄能力の評価を行なった。
【００１６】
○テストピースの調製
光学レンズ製造メーカーで使用されているアスファルトピッチ、パラフィンワックスピッチおよびフェノール系樹脂保護膜のそれぞれをスライドガラス（７６×２６×１mm）の中央に約０．１ｇ計り取り、１００℃のホットプレート上で２時間乾燥後、１昼夜室内放置したものをテストピースとした。
【００１７】
○洗浄性の評価
表１に示す実施例１〜１２の組成物の１００mlを１００mlビーカーに取り、次いで、テストピースを液中に浸漬し、波長２８kHzで超音波洗浄を行ない、目視にてピッチ及び保護膜が完全に除去される時間を測定した。その結果を表１に示した。
【００１８】
［比較例１〜１６］
実施例と同様に、表２に記載した比較例１〜１６の組成物を用いて洗浄性の評価を行なった。その結果を表２に示した。
【００１９】
【表１】
【００２０】
【表２】
【００２１】
【発明の効果】
本発明の洗浄剤組成物は、光学レンズの製造工程において使用されるアスファルトピッチ、ワックスピッチ及び保護膜の全てに対して優れた除去性能を発揮する。しかも、トリクロルエチレン、テトラクロルエチレン、1,1,1-トリクロルエタン、ジクロルメタン等の塩素系溶剤やフロン系溶剤を含まないため、環境面で優れている。
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学レンズの製造工程において使用されるアスファルトピッチ、ワックスピッチ及び保護膜を除去する目的で使用される非塩素系洗浄剤を含まないレンズ製造工程用洗浄剤組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
レンズの製造工程の各工程では、レンズを保持台に固定するために、アスファルトピッチやワックスピッチ等が用いられている。また、研磨工程等では、片面の研磨時にもう片面の保護のため、マスキング剤と呼ばれるフェノール系樹脂、アクリル系樹脂でできた保護膜を塗布している。これらのピッチ及び保護膜は次工程へ移行する際、または工程が終了した際には洗浄除去する必要がある。
【０００３】
このピッチ及び保護膜の洗浄剤としては、従来は塩素系溶剤、例えばトリクロルエチレン、テトラクロルエチレン、1,1,1-トリクロルエタン、ジクロルメタンやフロン系溶剤、例えばトリクロロトリフルオロエタン等が使用されてきた。しかしながら、近年、これらの溶剤は、オゾン層を破壊する物質として規制対象となっていたり、地下水汚染等の環境汚染問題が発生しており、完全密閉系による使用以外の使用は困難な状況となってきている。また、これら塩素系、フロン系溶剤に変わるＨＣＦＣ−１４１ｂ、ＨＣＦＣ−２２５に代表される代替フロンについてもオゾン破壊係数が全くゼロとは言えず将来的には全廃する方向にあり、また地球温暖化への懸念材料もある。
【０００４】
近年これらの対策として、次のような洗浄剤が提案されている。特開平６−３３６５９８号公報にはグリコールエーテルエステルと環状テルペンを特定割合で配合したもの、特開平７−１５０１９２号公報にはモノ又はジグリコールエーテル、脂肪酸あるいはそのアルキレンオキサイド付加物ないしはこのエーテル化物、さらに、パラフィンあるいはオレフィンを含有するもの、特開平８−３３３５９９号公報には炭酸エステルと乳酸エステルとの混合物が記載されている。しかしながら、これらの洗浄剤組成物は、環境及び人体への影響は少なくなっているが、溶解性能の点ではいまだ十分なものとはいえない。また、アスファルトピッチ、ワックス、保護膜のいずれかには洗浄能力があっても、他のものについては洗浄効果が低く、同一工程で全てを洗浄除去する場合に、洗浄時間が洗浄能力の低いものに律速されるという問題点がある。
【０００５】
【課題を解決しようとする課題】
本発明は、光学レンズの製造工程において使用されるアスファルトピッチ、ワックスピッチ及び保護膜のいずれにも優れた除去性能を発揮し、人体に悪影響があり、かつオゾン層を破壊する物質である塩素系溶剤を含まない洗浄剤組成物を提供することを目的としてなされたものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、次の（イ）から（ハ）の成分を含有するレンズ製造工程用洗浄剤組成物を提供する。
（イ）一般式（１）で表されるジアルキルカーボネート ２０〜６０重量％
【０００７】
【化２】
（式中のＲ１及びＲ２は、同一または相異なって炭素数４〜８のアルキル基を示す）
（ロ）γ-ブチロラクトン、ブチロラクタム、N-メチル-2-ピロリドン、ε-カプロラクタム、ピペコリン及びピコリンから成る群から選択される１種又は２種以上の非プロトン性極性溶剤 １０〜５０重量％
（ハ）パラフィン系または／およびナフテン系炭化水素溶剤 ５〜７０重量％
【０００９】
【発明の実施の形態】
本発明に用いる（イ）の成分である一般式（１）で表される化合物は、ジアルキルカーボネートであり、Ｒ１及びＲ２は、炭素原子数４〜８のアルキル基を示し、Ｒ１とＲ２は同時に同じであってもよい。例示するとジブチルカーボネート、ジヘキシルカーボネート、ブチルヘプチルカーボネート、ブチルオクチルカーボネート等が挙げられる。好ましくはジブチルカーボネート、ブチルヘプチルカーボネートである。配合量は、洗浄剤組成物の全体量に対して２０〜６０重量％であり、好ましくは、２５〜５０重量％である。２０重量％以下または６０重量％以上では、洗浄能力に対して溶剤混合による相乗効果が期待できず、また、６０重量％以上であれば、蒸気にアルキルカーボネートの比率が多くなるため、臭気等に問題がある。
【００１０】
本発明に用いる（ロ）成分は、γ-ブチロラクトン、ブチロラクタム、N-メチル-2-ピロリドン、ε-カプロラクタム、ピペコリン及びピコリンの内から少なくとも１種含有するとよいが、２種以上含有してもよい。特に、γ-ブチロラクトン、N-メチル-2-ピロリドンが好ましい。配合量は、洗浄剤組成物の全体量に対して１０〜５０重量％であり、好ましくは、２０〜４０重量％である。１０重量％以下または５０重量％以上では、洗浄能力に対して溶剤混合による相乗効果が期待できず、また、１０重量％以下ではワックスピッチ及び保護膜の除去性能が不十分であり、５０重量％以上ではアスファルトピッチの除去性能が不十分となる。
【００１１】
本発明に用いる（ハ）の成分であるパラフィン系およびナフテン系炭化水素の炭素数は、好ましくは１０〜１８であり、具体的に記載すると、n-ドデカン、n-テトラデカン、デカヒドロナフタレン等である。これらの炭化水素系溶剤は、単独で用いてもよく混合して用いてもよい。配合量は、洗浄剤組成物の全体量に対して５〜７０重量％であり、好ましくは、２０〜５０重量％である。５重量％以下であればアスファルトピッチの除去能力が不十分であり、７０重量％以上では、保護膜の除去性能が不十分となる。
【００１２】
更には、パラフィン系およびナフテン系炭化水素溶剤の一部を炭素数が９〜１２の芳香族系炭化水素溶剤に変えてもよい。例えばトリメチルベンゼン、トリエチルベンゼン等である。配合量としては、洗浄剤組成物の全体量に対して５〜２０重量％である。５重量％以下であれば配合することによる洗浄能力向上を発揮できず、２０重量％以下であれば環境上好ましくない。
【００１３】
更に、必要に応じて疎水性グリコール系溶剤、疎水性界面活性剤を含有してもよい。使用する疎水性グリコール系溶剤には、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノ-2-エチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ-2-エチルヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテルが挙げられる。これらの疎水性グリコール系溶剤は、１種を単独で用いることができ、あるいは２種以上を組合わせることができる。本発明洗浄剤組成物に疎水性グリコール系溶剤を含有させることにより、ワックスピッチ及び保護膜の除去性能を向上させることができる。本発明組成物において、疎水性グリコール系溶剤の含有量は１０重量％以下であることが好ましく、さらに５重量％以下であることが好ましい。１０重量％以上含有しても除去能力向上は難しく不経済である。
【００１４】
使用する界面活性剤は、従来より洗浄剤に用いられる公知の界面活性剤を含有させることができる。界面活性剤は、非イオン性界面活性剤、陰イオン性界面活性剤、陽イオン性界面活性剤、両性界面活性剤いずれでもよいが疎水性の強い界面活性剤が望ましい。好ましくは非イオン界面活性剤であり、例えば、トリオキシエチレンドデシルエーテル、テトラオシキエチレン-2-エチルヘキシルエーテル等が挙げられる。本発明洗浄剤組成物に疎水性界面活性剤を含有させることにより、汚れへの浸透力が向上し、除去能力を向上させることができる。本発明組成物において、疎水性グリコール系溶剤の含有量は５重量％以下であることが好ましく、さらに２重量％以下であることが好ましい。５重量％以上含有しても除去能力向上は難しく、不経済であるだけでなく、洗浄後のべたつき等の問題が生じる。
【００１５】
【実施例】
以下に、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限定されるものではない。
［実施例１〜１２］
表１に示す配合組成の洗浄剤を調製し、下記の方法により洗浄能力の評価を行なった。
【００１６】
○テストピースの調製
光学レンズ製造メーカーで使用されているアスファルトピッチ、パラフィンワックスピッチおよびフェノール系樹脂保護膜のそれぞれをスライドガラス（７６×２６×１mm）の中央に約０．１ｇ計り取り、１００℃のホットプレート上で２時間乾燥後、１昼夜室内放置したものをテストピースとした。
【００１７】
○洗浄性の評価
表１に示す実施例１〜１２の組成物の１００mlを１００mlビーカーに取り、次いで、テストピースを液中に浸漬し、波長２８kHzで超音波洗浄を行ない、目視にてピッチ及び保護膜が完全に除去される時間を測定した。その結果を表１に示した。
【００１８】
［比較例１〜１６］
実施例と同様に、表２に記載した比較例１〜１６の組成物を用いて洗浄性の評価を行なった。その結果を表２に示した。
【００１９】
【表１】
【表２】
【発明の効果】
本発明の洗浄剤組成物は、光学レンズの製造工程において使用されるアスファルトピッチ、ワックスピッチ及び保護膜の全てに対して優れた除去性能を発揮する。しかも、トリクロルエチレン、テトラクロルエチレン、1,1,1-トリクロルエタン、ジクロルメタン等の塩素系溶剤やフロン系溶剤を含まないため、環境面で優れている。
Claims (2)
- 下記の（イ）から（ハ）の成分を含有するレンズ製造工程用洗浄剤組成物。
（イ）一般式（１）で表されるジアルキルカーボネート ２０〜６０重量％
（ロ）γ-ブチロラクトン、ブチロラクタム、N-メチル-2-ピロリドン、ε-カプロラクタム、ピペコリン及びピコリンから成る群から選択される１種又は２種以上の非プロトン性極性溶剤 １０〜５０重量％、
（ハ）パラフィン系または／およびナフテン系炭化水素溶剤 ５〜７０重量％ - パラフィン系または／およびナフテン系炭化水素溶剤の一部に替えて、炭素原子数が９〜１２の芳香族系炭化水素溶剤を含有する請求項１に記載のレンズ製造工程用洗浄剤組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10193199A JP4137276B2 (ja) | 1999-04-09 | 1999-04-09 | レンズ製造工程用洗浄剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10193199A JP4137276B2 (ja) | 1999-04-09 | 1999-04-09 | レンズ製造工程用洗浄剤組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000290694A JP2000290694A (ja) | 2000-10-17 |
| JP4137276B2 true JP4137276B2 (ja) | 2008-08-20 |
Family
ID=14313669
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10193199A Expired - Fee Related JP4137276B2 (ja) | 1999-04-09 | 1999-04-09 | レンズ製造工程用洗浄剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4137276B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002241794A (ja) * | 2001-02-19 | 2002-08-28 | Japan Energy Corp | 光学部品用洗浄液組成物 |
| JP2003082390A (ja) * | 2001-09-12 | 2003-03-19 | Neos Co Ltd | レンズ及びプリズム製造工程用洗浄剤組成物 |
| JP2006328212A (ja) * | 2005-05-26 | 2006-12-07 | Tokuyama Corp | ワックス用洗浄剤 |
| CN113150883B (zh) * | 2021-04-26 | 2023-05-05 | 山东京博石油化工有限公司 | 一种车用环保气雾剂及其制备方法 |
-
1999
- 1999-04-09 JP JP10193199A patent/JP4137276B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000290694A (ja) | 2000-10-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0458969B1 (en) | Non-aqueous cleaning composition comprising a polyorganosiloxane | |
| US5888312A (en) | Cleaning method | |
| JP2763270B2 (ja) | 洗浄方法、洗浄装置、洗浄組成物および蒸気乾燥組成物 | |
| JP2749439B2 (ja) | 清浄剤として有用なフルフリルアルコール混合物 | |
| JP4137276B2 (ja) | レンズ製造工程用洗浄剤組成物 | |
| EP3191532A1 (en) | Fluorinated surfactant containing compositions | |
| JP2003082390A (ja) | レンズ及びプリズム製造工程用洗浄剤組成物 | |
| JPH0873893A (ja) | 洗浄剤組成物 | |
| JPH10168488A (ja) | 洗浄剤組成物 | |
| KR100863526B1 (ko) | 세정제 조성물 | |
| JPH11323382A (ja) | ピッチ洗浄用液体洗浄剤組成物 | |
| JPH07126687A (ja) | 洗浄剤組成物 | |
| JP2006342247A (ja) | 洗浄剤組成物 | |
| JP2001329296A (ja) | レンズ製造工程用洗浄剤組成物 | |
| JPH06336600A (ja) | 洗浄組成物および洗浄方法 | |
| JP2656450B2 (ja) | 乾燥方法 | |
| KR101272795B1 (ko) | 크린룸 세정용 세정제 조성물 | |
| JP2752352B2 (ja) | 洗浄方法 | |
| JP4413544B2 (ja) | 洗浄方法 | |
| JP2006176700A (ja) | 洗浄剤組成物 | |
| JP2651453B2 (ja) | 洗浄組成物 | |
| JPH10287896A (ja) | 磁気カード用洗浄剤 | |
| JP2000087076A (ja) | 工業用洗浄剤組成物 | |
| JP3255513B2 (ja) | 洗浄剤組成物 | |
| JPH07116475B2 (ja) | ドライクリ−ニング用洗浄剤組成物 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060209 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080520 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080604 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110613 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120613 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120613 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130613 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130613 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140613 Year of fee payment: 6 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |