JPH06108097A - 洗浄剤 - Google Patents

洗浄剤

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JPH06108097A
JPH06108097A JP5159879A JP15987993A JPH06108097A JP H06108097 A JPH06108097 A JP H06108097A JP 5159879 A JP5159879 A JP 5159879A JP 15987993 A JP15987993 A JP 15987993A JP H06108097 A JPH06108097 A JP H06108097A
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cleaning
bath
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cleaning agent
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Oskar Wack
ヴァック オスカー
Martin Hanek
ハネク マルティン
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DR OK WACK CHEM GmbH
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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 特に電子部品、光学部品および回路板の洗浄
のための、生物学的に無害なフロン不含の洗浄剤を提供
する。 【構成】 式（１）のジプロピレングリコールモノエー
テルをキャリヤーとし、式（２）のｎ−アルキルラクタ
ム及び式（３）のポリプロピレングリコールエーテル類
を活性成分とする洗浄剤。 （式中、Ｒ１〜Ｒ３は炭素鎖であり、Ｒ４は水素あるい
は炭素鎖である）

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は洗浄剤に関し、特に電子
部品、回路板、電子アセンブリー装置、および精密機器
あるいは光学部品の洗浄に使用される液状の洗浄剤に関
する。
【０００２】
【従来の技術】たとえば電子回路板は、部品を板上に配
置し、はんだ付けで固定することにより製作されてい
る。このとき、油脂や樹脂などの不要物の残留物あるい
は膜が個々の電子部品間の抵抗に不都合となり、回路全
体の機能に支障を来すこともある。現状の回路板におい
て行われているような高密度の部品配置は、問題の発生
を増加させるものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来、部品やプリント
板の洗浄のためにはフロンが使用されてきたが、フロン
（オゾン破壊物質）が引き起こすと現在認識されている
問題を考えると、フロンのこれ以上の使用を回避するこ
とが必要とされる。
【０００４】本発明の目的は、フロンを含まない洗浄剤
を提供することにある。また、フロンを含まず、さらに
ハロゲンをも含まない、非環境汚染性の電子部品用洗浄
剤を提供することを目的とするものである。また、すぐ
れた洗浄効果を持つフロン不含の洗浄剤を提供すること
を目的とするものである。また、引火点が高いために従
来は必要であった作業中の爆発防止装置を不要とする電
子部品および光学部品用の洗浄剤を提供することを目的
とするものである。さらに、生物学的分解性物質を成分
とする電子部品および／または光学部品用の洗浄剤を提
供することを目的とするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するもので、電子アセンブリー装置や光学部品などを洗
浄するためのフロン不含の洗浄剤を提供するものであ
る。すなわち本発明は、式
【０００６】
【化７】
【０００７】（式中、Ｒ1 は１ないし６炭素原子長さの
炭素鎖である）で示されるジプロピレングリコールモノ
エーテルをキャリヤーとし、式
【０００８】
【化８】
【０００９】（式中、Ｒ2 は１ないし１０炭素原子長さ
の炭素鎖である）で示されるＮ−アルキル−ラクタム３
０〜７０重量％、あるいはジヒドロ−２（３Ｈ）−フラ
ノン３０〜７０重量％、および式
【００１０】
【化９】
【００１１】（式中、Ｒ3 は１ないし６炭素原子長さの
炭素鎖であり、Ｒ4 は水素あるいは１ないし６炭素原子
長さの炭素鎖である）で示されるポリプロピレングリコ
ールエーテル１０〜３０重量％からなる一般組成を有す
る洗浄剤を提供するものである。
【００１２】本発明の液状の洗浄剤の１例は、少なくと
も、ジプロピレングリコールエーテルをキャリヤーと
し、Ｎ−メチルラクタムを３０〜７０重量％、あるいは
プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリ
コールエチルエーテルおよび対応するジエーテルからな
る群から選ばれる薬物を１０〜３０重量％含む混合物で
ある。
【００１３】好ましい洗浄剤の例には、エトキシプロポ
キシプロパノール２０重量％、ｎ−メチル−２−ピロリ
ドン５０重量％、およびｎ−ブトキシプロパノール３０
重量％を含有する洗浄剤がある。この混合物は、油脂、
油、フラックス剤の残留物およびはんだペーストの溶解
にとりわけ好適であることが判明した。
【００１４】別の効果的な混合物は、キャリヤーとして
のエトキシプロポキシプロパノールを８０重量％、およ
びプロピレングリコールメチルエーテルを２０重量％含
有する。この液状洗浄剤は、特に、従来の電子板あるい
ははんだフレームの洗浄に用いられる。
【００１５】また、ｎ−メチル−２−ピロリドン６０重
量％、エトキシプロポキシプロパノール２０重量％、お
よびジヒドロ−２（３Ｈ）−フラノン２０重量％を含ん
でなる混合物は、スクリーンの洗浄およびエポキシド樹
脂の除去に好適であることが判明した。
【００１６】さらに、プリントスクリーンマスクからは
んだ残留物を洗浄除去するために非常に効果的な洗浄剤
は、ｎ−ブトキシプロパノール３０重量％、プロピレン
グリコールメチルエーテル５０重量％、メトキシヘキサ
ノン５重量％、およびプロピレングリコールメチルエー
テルアセテート１５重量％を含んでなる混合物である。
【００１７】その他の好ましい洗浄剤は、一般式
【００１８】
【化１０】
【００１９】（式中、Ｒ1 は１ないし６炭素原子長さの
炭素鎖である）で示されるジプロピレングリコールモノ
エーテルをキャリヤー化合物とし、式
【００２０】
【化１１】
【００２１】（式中、Ｒ2 は１ないし６炭素原子長さの
炭素鎖であり、Ｒ3 は水素あるいは１ないし６炭素原子
長さの炭素鎖である）で示されるポリプロピレングリコ
ールエーテル１０〜３０重量％、および ａ．式
【００２２】
【化１２】
【００２３】（式中、Ｒ4 は１ないし６炭素原子長さの
炭素鎖である）で示される化合物 ｂ．式 Ｎ（Ｒ5 ）3 （式中、Ｒ5 は２ないし１８炭素原子長さの炭素鎖であ
る）で示される化合物 ｃ．式 Ｒ6 −Ｎ（（ＣＨ2 −ＣＨ2 Ｏ）n Ｈ） （式中、Ｒ6 は８ないし１８炭素原子長さの炭素鎖であ
り、ｎは２ないし２５の数である）で示される化合物の
いずれか、またはその混合物から選ばれる活性成分２〜
１５重量％からなる組成を有する。
【００２４】先行技術の洗浄剤と比較した場合の本発明
の洗浄剤の大きな利点は、本発明の処方の洗浄剤によっ
て、幾分かの固形物を含んだフラックス剤の残留物を電
子回路板から洗浄除去できるという事実にある。この幾
分かの固形物を含んだフラックス剤は、フロンによる洗
浄を回避するために電子製品の製造に導入されている。
フロンの使用が禁止されたため、製造業者の多くは、洗
浄工程を減らすために、固形物を含まないかあるいはほ
とんど含まないはんだ手段のみを用いている。しかしな
がら、製造される回路板には、依然として洗浄を必要と
するものがある。当然ながら、回路板の製造業者やこの
ような洗浄剤の使用者には、回路板の洗浄の必要性の有
無に応じて２種類のフラックス剤を使い分けることに関
心を持つ者はいない。本発明の製品によってはじめて、
回路板の光学的特性や美観を損なう白膜を残すことなく
残留物を除去できる洗浄剤が提供される。
【００２５】本発明のさらに好ましい液状洗浄剤組成物
は、エトキシプロポキシプロパノール８０重量％、ジプ
ロピレングリコールジメチルエーテル１５重量％、およ
びアミノブタノール５重量％を含有してなる混合物であ
る。
【００２６】本発明の洗浄剤の使用方法には、少なくと
も３段階の工程がある。第１段階では、上述の混合物の
いずれかを入れた浴に被洗浄物を浸漬する。被洗浄物の
材質および残留物や膜の性質に応じて最も適した混合物
が使用される。各々の場合において、最もすぐれた洗浄
特性を有する混合物が見い出されるまで混合物を幾つか
試験することが有用であろう。この液状洗浄剤混合物
は、室温あるいは約４０から５０℃の温度で用いられ
る。被洗浄物は、通常２分間以内、この浴液中に維持さ
れる。必要に応じ、補助的に超音波発振機あるいはその
他の適当な機械的手段を用いて洗浄作用を促進すること
ができる。
【００２７】溶解されなかった粒子を除去するために、
フィルターが設けられる。この溶解液は、不純物が約２
０％に達するまで使用することができる。溶解液はその
後、再調製のために処理装置に返送される。
【００２８】第２段階では、水すすぎによって洗浄溶液
が除去される。すすぎ水は閉鎖ループ循環系の中に維持
され、混合床交換器に入れられた樹脂吸着剤に適用され
る。必要な場合は、このすすぎ工程の次に脱イオン水お
よび／あるいは脱無機塩水を用いてさらにすすぎを行う
ことができる。吸着剤樹脂として最も適しているのはス
チロール樹脂である。
【００２９】最終段階において、被洗浄物は温風流また
は６０℃ないし７０℃の温風によって２バールの圧力の
下で乾燥される。
【００３０】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をさらに詳しく
説明する。 （実施例１）エトキシプロポキシプロパノール２０重量
％、ｎ−メチル−２−ピロリドン５０重量％およびＮ−
ブトキシ−プロパノール３０重量％から成る混合液を調
製した。各成分を室温において混合し、攪拌した。
【００３１】得られた混合液は、次の特性を有した。 密度： ０．９６±０．０２ｇ／ｃｍ3 表面張力：３１．７ｍＮ／ｍ 沸騰範囲：１７０−２００℃ 引火点： ７５℃ 次の表は、種々の液状洗浄剤の効果と本発明の液状洗浄
剤（得られた混合液を混合液Ａとする）の効果とを比較
して示したものである。
【００３２】
【表１】
【００３３】（実施例２）エトキシプロポキシプロパノ
ール８０重量％とプロピレングリコールメチルエーテル
２０重量％から成る混合液を調製した。各成分を室温に
おいて混合し、攪拌した。
【００３４】得られた混合液は、次の特性を有した。 密度： ０．９３±０．０２ｇ／ｃｍ3 表面張力：２８．３ｍＮ／ｍ 沸騰範囲：１２０−２２８℃ 引火点： ６１℃ このようにして得られた混合液は、抵抗器、コンデン
サ、集積回路のような電子部品に影響を与えることな
く、フラックス残留物、油、油脂およびはんだペースト
を溶解する特にすぐれた特性を備えていることが判明し
た。 （実施例３）この実施例では、６０％のｎ−メチル−２
−ピロリドン、２０％のエトキシプロポキシプロパノー
ルおよび２０％のジヒドロ−２（３Ｈ）−フラノンから
成る混合液を調製した。
【００３５】各成分を室温において混合し、攪拌した。
得られた混合液は、次の特性を有した。 密度： １．０２±０．０２ｇ／ｃｍ3 表面張力：３６．３ｍＮ／ｍ 沸騰範囲：２００−２２８℃ 引火点： ８９℃ この混合液の好適な分野は、エポキシド樹脂の除去であ
る。 （実施例４）３０％のｎ−ブトキシ−プロパノール、５
０％のプロピレングリコールメチルエーテル、５％のメ
トキシヘキサノンおよび１５％のプロピレングリコール
メチルエーテルアセテートから成る混合液を調製した。
上記実施例と同様にして、各成分を室温において混合
し、攪拌した。
【００３６】得られた混合液は、次の特性を有した。 密度： ０．９１±０．０２ｇ／ｃｍ3 沸騰範囲：１２０−１７０℃ 引火点： ３７℃ この混合液の好ましい用途は、スクリーンプリントマス
クからはんだペーストおよびプリントペーストを除去す
るスプレー式洗浄である。 （実施例５）エトキシプロポキシプロパノール８０重量
％、ジプロピレングリコールジメチルエーテル１５重量
％およびアミノブタノール５重量％から成る混合液を調
製した。各成分を室温にて混合し、攪拌した。
【００３７】得られた混合液は、次の特性を有した。 密度： ０．９３±０．０２ｇ／ｃｍ3 表面張力：２９．０ｍＮ／ｍ 沸騰範囲：１７５−２２８℃ 引火点： ７３℃ 得られた混合液は、固形物をほとんど含まないフラック
ス剤を電子部品から洗浄除去するのに特に適しているこ
とが判明した。油、油脂およびはんだペーストに対する
溶解特性がきわめて優れていることがわかった。
【００３８】次に、図面を用いてさらに詳しく説明す
る。図１は、本発明の洗浄剤混合物およびその洗浄方法
を適用するための装置を示す。符号１０は、４つの槽１
２，１４，１６および１８を有する装置を示す。第１槽
には標準強度の超音波を発する超音波発振機２０が設け
られている。この第１槽１２には、被洗浄品の種類に応
じて、試験によって最も適していると判明した上記実施
例のいずれかの混合液からなる浴液が満たされている。
被洗浄品をこの第１槽内に約６０秒から１２０秒の間浸
漬させる。同時に、被洗浄品に超音波を照射する。
【００３９】その後、被洗浄品を取り出し、すすぎ水が
入っている第２槽１４の中へ浸漬させる。次いで脱無機
塩水あるいは脱イオン水の入った槽１６において洗浄す
ると、それに続いて槽１８で熱風流により乾燥させる時
に被洗浄物に残留物が残るのを防止するのに役立つ。
【００４０】この洗浄剤混合物は、本発明に従いフィル
ター２２によって濾過される。すすぎ水は、閉鎖ループ
２４および２６の吸着樹脂上に送られ、浴液に移送され
た残留物が樹脂に吸着されたときに再生されるようにな
っている。これらの好ましい液状洗浄剤の場合、スチロ
ール樹脂が最も適していることが判明した。
【００４１】図２は、より簡単な３段階式の装置を示
す。符号１１０は、３つの槽１１２，１１４および１１
６を有する装置を示す。第１槽１１２には、標準強度の
超音波を発する超音波発振機１２０が設けられている。
この第１槽１１２に、被洗浄品の種類に応じて、試験に
よって最も適していると判明した上記実施例のいずれか
の混合物からなる浴液が満たされている。被洗浄品をこ
の第１槽に約６０秒から１２０秒の間浸漬させる。同時
に、被洗浄品に超音波を照射する。
【００４２】その後、被洗浄品を取り出し、すすぎ水の
入っている第２槽１１４の中へ浸漬させる。次に、被洗
浄品を槽１１６において熱風流によって乾燥させる。こ
の洗浄剤混合物は、本発明に従いフィルター１２２によ
って濾過される。すすぎ水は、閉鎖ループ１２４内の吸
着樹脂に送り込まれて、浴液に移送された残渣が樹脂に
吸着されることによって再生されるようになっている。
【００４３】
【発明の効果】以上のように、本発明の洗浄剤は全て完
全にフロン不含であり、かつ次に挙げる利点を有してい
る。
【００４４】すなわち、本発明の洗浄方法は、閉鎖ルー
プ方式の半水性方法であるため排水がなく、残留廃ガス
および廃液を生じることがない。本発明の洗浄剤は次の
ような特性を有している。優れた洗浄効果を有し、フラ
ックス剤および油に対して非常に良好な溶解性を有して
いる。引火点が高く、温度が４０℃ないし６０℃の範囲
を越えない場合は爆発防止装置は不要である。蒸発によ
る損失が非常に小さい。有毒成分を含まないため健康に
全く無害である。ハロゲン類（フロン、ＣおよびＣＣ）
を全く含まず、したがってオゾン層を破壊する恐れや上
水道を汚染する危険性が全くない。ＯＥＣＤの試験方法
によれば成分は生物分解性である。
【００４５】また、本発明の洗浄剤は、非常に良好な水
溶解性を持った非常に有効な溶剤を成分とするため、
油、油脂および樹脂残留物の除去が容易になる。この洗
浄剤は湿潤剤を含まないため、フラックスアクチベータ
のようなイオン性化合物も除去可能である。
【００４６】さらに、必要とされる本発明の洗浄剤の量
はこれまで使用されていたフロン洗浄手段の量の約２０
ないし２５％に過ぎず、これによって、化学薬品にかか
る費用がフロン使用時に比べて約２０ないし３０％削減
される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の液状洗浄剤が使用される４段階式の洗
浄装置の概略図である。
【図２】本発明の液状洗浄剤が使用される３段階式の洗
浄装置の概略図である。
【符号の説明】
10 ４槽を有する装置 12 槽 14 槽 16 槽 18 槽 20 超音波発振機 22 フィルター 24 閉鎖ループ 26 閉鎖ループ 110 ３槽を有する装置 112 槽 114 槽 116 槽 120 超音波発振機 122 フィルター 124 閉鎖ループ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ１１Ｄ 7:32） (72)発明者 マルティン ハネク ドイツ連邦共和国 ヴェー−8070 インゴ ルシュタット ブンゼンシュツラーセ ６ ドクトル．オ−．カー．ヴァック ヒェ ミー ゲーエムベーハー内

Claims (28)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 式 【化１】 （式中、Ｒ1 は１ないし６炭素原子長さの炭素鎖であ
    る）で示されるジプロピレングリコールモノエーテルを
    キャリヤー化合物とし、式 【化２】 （式中、Ｒ2 は１ないし１０炭素原子長さの炭素鎖であ
    る）で示されるＮ−アルキル−ラクタム３０〜７０重量
    ％、あるいはジヒドロ−２（３Ｈ）−フラノン３０〜７
    ０重量％および式 【化３】 （式中、Ｒ3 は１ないし６炭素原子長さの炭素鎖であ
    り、Ｒ4 は水素あるいは１ないし６炭素原子長さの炭素
    鎖である）で示されるポリプロピレングリコールエーテ
    ル１０〜３０重量％を含有してなる洗浄剤。
  2. 【請求項２】 少なくとも、ジプロピレングリコールエ
    ーテルをキャリヤー化合物として含み、Ｎ−アルキルラ
    クタム３０〜７０重量％、あるいはプロピレングリコー
    ルメチルエーテル、プロピレングリコールエチルエーテ
    ルおよび対応するジエーテルからなる群から選ばれる薬
    物１０〜３０重量％を含有してなる請求項１記載の洗浄
    剤。
  3. 【請求項３】 ジプロピレングリコールジエーテル１０
    〜３０重量％、Ｎ−アルキルラクタム３０〜７０重量
    ％、およびエトキシプロパノール、プロポキシプロパノ
    ールおよびブトキシプロパノールからなる群から選ばれ
    るプロパノール１０〜４０重量％を含有してなる請求項
    １または２記載の洗浄剤。
  4. 【請求項４】 エトキシプロポキシプロパノール２０重
    量％、ｎ−メチル−２−ピロリドン５０重量％、および
    ｎ−ブトキシプロパノール３０重量％を含有してなる請
    求項３記載の洗浄剤。
  5. 【請求項５】 プロピレングリコールメチルエーテルあ
    るいはプロピレングリコールエチルエーテルあるいはそ
    の対応するジエーテルを１０〜４０重量％含有し、残部
    がエトキシプロポキシプロパノールである請求項１また
    は２記載の洗浄剤。
  6. 【請求項６】 エトキシプロポキシプロパノール８０重
    量％およびプロピレングリコールメチルエーテル２０重
    量％を含有する請求項５記載の洗浄剤。
  7. 【請求項７】 ｎ−メチル−２−ピロリドン５０〜６５
    重量％、ジヒドロ−２（３Ｈ）−フラノン１０〜２５重
    量％を含有し、残部がエトキシプロポキシプロパノール
    である請求項１または２記載の洗浄剤。
  8. 【請求項８】 ｎ−メチル−２−ピロリドン６０重量
    ％、ジヒドロ−２（３Ｈ）−フラノン２０重量％を含有
    し、残分がエトキシプロポキシプロパノールである請求
    項１または２記載の洗浄剤。
  9. 【請求項９】 ｎ−ブトキシプロパノール３０重量％、
    プロピレングリコールメチルエーテル５０重量％、メト
    キシヘキサノン５重量％、およびプロピレングリコール
    メチルエーテルアセテート１５重量％を含有してなる洗
    浄剤。
  10. 【請求項１０】 電子アセンブリー装置の洗浄のために
    使用される請求項１から９のいずれかの項に記載の洗浄
    剤の用途。
  11. 【請求項１１】 特に電子アセンブリー装置である装置
    の洗浄方法であって、請求項１から９のいずれかの項に
    記載の洗浄剤を入れた浴に被洗浄装置を浸漬し、この被
    洗浄装置を水すすぎのための第２の浴に導入し、次い
    で、この装置を温気流または温空気中にて乾燥させるこ
    とからなる装置の洗浄方法。
  12. 【請求項１２】 洗浄効果を高めるために、洗浄浴浸漬
    時にさらに被洗浄装置に超音波を適用するかまたは攪拌
    を行う請求項１１記載の装置の洗浄方法。
  13. 【請求項１３】 第２の浴の水が閉鎖ループにおいて樹
    脂吸着剤に循環される請求項１１または１２記載の装置
    の洗浄方法。
  14. 【請求項１４】 第２の浴と乾燥工程との間に、完全に
    脱無機塩化および／または脱イオン化した水を使用する
    最終すすぎのための第３の浴が設けられた請求項１１か
    ら１３のいずれかに記載の装置の洗浄方法。
  15. 【請求項１５】 第３の浴の水が循環されて清浄化され
    る請求項１４記載の装置の洗浄方法。
  16. 【請求項１６】 浴液が吸着樹脂および混合床交換器を
    用いて清浄化される請求項１５記載の装置の洗浄方法。
  17. 【請求項１７】 吸着樹脂がスチロール樹脂からなる請
    求項１６記載の装置の洗浄方法。
  18. 【請求項１８】 温空気が約６０から７０℃の温度およ
    び２バールの圧力を有する請求項１１から１７のいずれ
    かに記載の装置の洗浄方法。
  19. 【請求項１９】 一般式 【化４】 （式中、Ｒ1 は１ないし６炭素原子長さの炭素鎖であ
    る）で示されるジプロピレングリコールモノエーテルを
    キャリヤー化合物とし、式 【化５】 （式中、Ｒ2 は１ないし６炭素原子長さの炭素鎖であ
    り、Ｒ3 は水素あるいは１ないし６炭素原子長さの炭素
    鎖である）で示されるポリプロピレングリコールエーテ
    ル１０〜３０重量％、および ａ．式 【化６】 （式中、Ｒ4 は１ないし６炭素原子長さの炭素鎖であ
    る）で示される化合物 ｂ．式 Ｎ（Ｒ5 ）3 （式中、Ｒ5 は２ないし１８炭素原子長さの炭素鎖であ
    る）で示される化合物 ｃ．式 Ｒ6 −Ｎ（（ＣＨ2 −ＣＨ2 Ｏ）n Ｈ） （式中、Ｒ6 は８ないし１８炭素原子長さの炭素鎖であ
    り、ｎは１＜ｎ＜２６の数である）で示される化合物の
    いずれか、またはその混合物から選ばれる活性成分２〜
    １５重量％を含有してなる洗浄剤。
  20. 【請求項２０】 キャリヤー化合物としてエトキシプロ
    ポキシプロパノールが使用される請求項１９記載の洗浄
    剤。
  21. 【請求項２１】 ポリプロピレングリコールエーテルと
    してジプロピレングリコールジメチルエーテルが使用さ
    れる請求項１９または２０記載の洗浄剤。
  22. 【請求項２２】 活性成分としてアミノブタノールが使
    用される請求項１９から２１のいずれかに記載の洗浄
    剤。
  23. 【請求項２３】 エトキシプロポキシプロパノール８０
    重量％、ジプロピレングリコールジメチルエーテル１５
    重量％、およびアミノブタノール５重量％を含有してな
    る請求項１９から２２のいずれかに記載の洗浄剤。
  24. 【請求項２４】 特に電子アセンブリー装置または光学
    部品である装置の洗浄方法であって、請求項１９から２
    ３のいずれかの項に記載の洗浄剤を入れた浴に被洗浄装
    置を浸漬し、この被洗浄装置を水すすぎのための第２の
    浴に導入し、次いで、この装置を温気流または温空気中
    にて乾燥させることからなる装置の洗浄方法。
  25. 【請求項２５】 洗浄効果を高めるために、洗浄浴浸漬
    時にさらに被洗浄装置に超音波を適用するかまたは攪拌
    を行う請求項２４記載の装置の洗浄方法。
  26. 【請求項２６】 第２の浴の水が閉鎖ループにおいて混
    合床交換器内の樹脂吸着剤上に循環される請求項２４ま
    たは２５記載の洗浄方法。
  27. 【請求項２７】 第２の浴と乾燥工程との間に、完全に
    脱無機塩化および／または脱イオン化した水を使用する
    最終すすぎのための第３の浴が設けられた請求項２４か
    ら２６のいずれかに記載の装置の洗浄方法。
  28. 【請求項２８】 吸着樹脂がスチロール樹脂からなる請
    求項２７記載の装置の洗浄方法。
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