JPH09302391A

JPH09302391A - 洗浄組成物及び洗浄方法

Info

Publication number: JPH09302391A
Application number: JP11635696A
Authority: JP
Inventors: Manabu Tomitani; 学富谷
Original assignee: Olympus Optical Co Ltd
Current assignee: Olympus Corp
Priority date: 1996-05-10
Filing date: 1996-05-10
Publication date: 1997-11-25

Abstract

(57)【要約】【課題】金属加工部品、ガラス加工部品、セラミック
加工部品、シリコンウエハー等を良好に洗浄する。【解決手段】１００重量部の全体に対して、非イオン
系界面活性剤が０．２〜２０重量部、水が０．１〜１０
重量部、残部が非水系溶剤からなり、１０〜９０℃の温
度範囲内に曇点を有し、曇点以上の温度ではＷ／Ｏ型エ
マルジョンとなっている洗浄組成物を用い、曇点以上の
温度で被洗浄物を洗浄し、洗浄組成物の曇点以下の温度
ですすぎ液によって置換する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、金属加工部品、ガ
ラス加工部品、セラミック加工部品、シリコンウエハー
等を工業的に洗浄する洗浄組成物及び洗浄方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】金属加工部品、ガラス加工部品、セラミ
ック加工部品、シリコンウエハー等の洗浄にはフロンが
使用されてきた。これはフロンが高い化学的安定性・難
燃性・高い洗浄性・無毒性等の特性を有しているためで
ある。しかし現在では地球規模での環境破壊が指摘され
全廃が決定し、その代替品としての他の塩素含有有機溶
剤もフロンと類似の影響があることから使用が制限され
ている。又、塩素含有有機溶剤には人体への毒性を有す
る物質もある。このようなことから、洗浄剤としては、
フロンや塩素含有有機溶剤を用いない水系、準水系、非
水系洗浄剤へと転換が進んでいる（特公昭６４−３１４
１号公報参照）。

【０００３】その中でフロン及び塩素含有有機溶剤と同
等レベルの洗浄コストを達成している非水系洗浄剤とし
て、石油系洗浄剤である炭化水素系または酸素含有炭化
水素系洗浄剤が多く用いられている。この洗浄剤はフロ
ンや塩素含有有機溶剤で用いてきた洗浄装置に対して新
たな洗浄装置の追加が必要なく、従来の洗浄装置のわず
かな改造で対応できるメリットがあることによる。又、
排水処理、乾燥仕上げなどの洗浄工程上の問題点や金属
錆、腐食の発生などの原因になる水との接触が好ましく
ない材質の洗浄用途に対応しきれない問題点を有してい
る水系、準水系の洗浄剤に比べて、これらの問題点がな
いこともメリットの一つとなっている。

【０００４】ところが従来の非水系洗浄剤はかなり広範
囲の被洗浄物、汚れを洗浄できるフロンや塩素含有有機
溶剤に比べて洗浄性能の点で劣っており、これらと同等
の広範囲に適用できる洗浄力を有していない。特に非水
系洗浄剤の内でも、石油系である炭化水素系洗浄剤は主
剤が非極性な溶剤であるのに対し、汚れとしては非極性
物及び水などの極性物、または粒子汚れなどさまざまな
汚れがあり、これらの全てを洗浄することは難しい。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】金属加工部品、ガラス
加工部品、セラミック加工部品、シリコンウエハー等を
加工する際にはワックスやピッチに代表される樹脂がそ
の固定用として用いられているが、これらは加工後に洗
浄によって除去されていた。しかし被洗浄物表面にはこ
れらの樹脂に加えて、加工工程で生じた金属屑、研磨砥
粒、セラミック削り屑などの粒子汚れがワックスやピッ
チ及び被洗浄物表面に強固に付着しており、上述した非
水系洗浄剤は樹脂系の汚れは溶解洗浄することが可能で
あるが、非水系であるところから粒子汚れに対しては分
散も溶解もできないため、洗浄されないまま被洗浄物の
表面に残留する。

【０００６】このようなことから金属屑、研磨砥粒、セ
ラミック削り屑などの粒子汚れを金属加工部品、ガラス
加工部品、シリコンウエハー等の被洗浄物表面から剥離
するため、洗浄工程中に超音波、液中噴流、洗浄剤シャ
ワー、洗浄剤ジェット噴流などの物理力を加えて洗浄力
の向上を図っているが、依然として剥離できないものが
ある。特に粒子汚れの大きさが数十μｍ以下の微小粒子
汚れは洗浄工程の改良では剥離しきれず、最終的に被洗
浄物の表面に残留することが多い。そのために洗浄が終
了した後に、残存している金属屑、研磨砥粒、セラミッ
ク削り屑などの粒子汚れ、特に微小径粒子汚れを人手に
よって掻き取る、拭き取るなどの工程を別途、必要とし
ている。このことは洗浄要求精度が高かったり、被洗浄
物の形状が複雑であったり、被洗浄物の材質が侵され易
い場合には非常に大きな工数を必要とし、結果として洗
浄コストが高騰する原因となっていた。

【０００７】本発明は、一般的に使用されている非水系
溶剤をベースにして、ワックスやピッチに代表される樹
脂を洗浄できるとともに、金属屑、研磨砥粒、削り屑な
どの粒子汚れを現状の洗浄工程で剥離でき、更に手脂な
どの無機塩を含有する極性物や水などの極性物について
も洗浄できる洗浄組成物及び洗浄方法を提供することを
目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１の発明は、全体の１００重量部の全体に対
して、ポリオキシエチレン基を有する非イオン系界面活
性剤が０．２〜２０重量部、水が０．１〜１０重量部、
残部が非水系溶剤からなり、１０〜９０℃の温度範囲内
に曇点を有し、曇点以上の温度ではＷ／Ｏ型エマルジョ
ンとなっていることを特徴とする。

【０００９】請求項２の発明は請求項１記載の洗浄組成
物であって、前記非水系溶剤がノルマルパラフィン系有
機溶剤、イソパラフィン系有機溶剤、シクロパラフィン
系有機溶剤又は単環芳香族含有有機溶剤あるいはこれら
を混合したものであることを特徴とする。

【００１０】請求項３の発明は、洗浄方法であり、請求
項１又は２に記載されるいずれかの洗浄組成物を用い、
曇点以上の温度で被洗浄物を洗浄する洗浄工程と、前記
洗浄組成物の曇点以下の温度で被洗浄物に付着した洗浄
組成物をすすぎ液によって置換する置換工程とからなる
ことを特徴とする。

【００１１】請求項４の発明は、請求項３の洗浄方法で
あって、前記すすぎ液として、ノルマルパラフィン系有
機溶剤、イソパラフィン系有機溶剤、シクロパラフィン
系有機溶剤、単環芳香族含有有機溶剤、アルコール系有
機溶剤、又は請求項１又は２に記載される洗浄組成物を
用いることを特徴とする。

【００１２】金属加工部品、ガラス加工部品、セラミッ
ク加工部品、シリコンウエハー等の被洗浄物表面に付着
している金属屑、研磨砥粒、セラミック削り屑などの粒
子汚れ、特に大きさが数十μｍ以下である微小径粒子汚
れは非水系溶剤のような液体中では静電気的吸着によっ
て非常に強固に付着している。従来の非水系溶剤のみの
洗浄工程ではこの静電気的吸着に打ち勝つ剥離力を与え
ることができない。

【００１３】本発明の洗浄組成物では、水が非水系溶剤
中では微小径粒子汚れ及び被洗浄物と非水系溶剤との界
面で他の部分に比べ高濃度に存在し易いため、微小径粒
子表面を水が層状に覆う状態となる。微小径粒子物は水
によって層状に覆われることで帯電が中和されて被洗浄
物との間の静電気的吸着が弱められる。その結果、微小
径粒子汚れは被洗浄物表面から剥離され易くなり通常の
洗浄操作で洗浄が可能になる。

【００１４】特に本発明の洗浄組成物は１０℃〜９０℃
に曇点を有している。曇点とは界面活性剤が有するオキ
シエチレン基と水との水素結合が、温度上昇に伴う水分
子の運動の活発化により切れ、それまで界面活性剤の作
用で可溶化していた水分子が分離して白濁状態になる点
を示す。本発明の洗浄組成物は曇点以下の温度において
はＷ／Ｏ型可溶化状態で、曇点以上の温度においてはＷ
／Ｏ型のエマルジョン状態になる。特に曇点以上の状態
においては、非水系溶剤中の水が微小液滴となってい
る。この状態は非水系溶剤中で水が液滴となっていない
溶解状態や曇点以下での可溶状態に比べて、小さいなが
らも液滴という状態で水の影響を強く得ることができ
る。なおＷ／Ｏ型はＷａｔｅｒｉｎＯｉｌの略であ
り、水粒子が非水系溶剤中に分散しているものである。

【００１５】界面活性剤は洗浄組成物全体の１００重量
部に対し、０．２〜２０重量部である。０．２重量部以
下では曇点以下の温度でも水を均一にＷ／Ｏ型可溶化系
で保持することができず、このため洗浄組成物が不均一
となる。２０重量部以上では界面活性剤が水と比べて高
粘度の材料であるため、洗浄組成物が高粘度化し、洗浄
時に被洗浄物表面に付着して持ち出される洗浄剤が多量
になったり、細かい隙間の洗浄性が低下するなどの問題
が発生するため好ましくない。

【００１６】本発明に用いられる界面活性剤としては、
非水系溶剤に水を保持する作用が優れている点で非イオ
ン系界面活性剤が良好であり、特にポリオキシエチレン
基含有界面活性剤が曇点作用を有するところから良好で
ある。

【００１７】本発明では洗浄組成物全体の１００重量部
に対し、水は０．１〜１０重量部である。０．１重量部
以下では水が少なく微小径粒子表面を層状に覆うことが
困難となり、このため粒子洗浄性が低く、水の添加の効
果を得ることができない。１０重量部以上では微小径粒
子の洗浄性は良好であるが、水が多すぎて洗浄後に被洗
浄物表面に水が多量に残留し、乾燥後にシミとなる。使
用する水は精密洗浄を行う場合、不純物成分の少ない蒸
留水もしくはイオン交換水が望ましい。粗洗浄の場合は
水道水でもよい。

【００１８】本発明の洗浄組成物は水、界面活性剤以外
は非水系溶剤となっている。非水系溶剤としてはノルマ
ルパラフィン系有機溶剤、イソパラフィン系有機溶剤、
シクロパラフィン系有機溶剤、単環芳香族含有有機溶剤
あるいはこれらを任意に混合したものを使用できる。こ
れらの非水系溶剤はいずれも石油の構成成分でもあり、
また洗浄対象汚れとして与えられるピッチや油性汚れな
ども石油を原料としているため、汚れとの相性が良く、
溶解性が非常に高い利点がある。

【００１９】またワックスやピッチに代表される樹脂を
洗浄するためには、洗浄温度が軟化点に近づくほど洗浄
の効果が得られ、特にそれらの軟化点以上で洗浄するこ
とが好ましく、本発明の洗浄組成物を曇点以上に加温す
ることは洗浄温度を軟化点以上に設定するためにも有効
で、ワックスやピッチに代表される樹脂の洗浄性も向上
するため、微小径粒子とワックスやピッチに代表される
樹脂との両方を同時に洗浄できる。

【００２０】本発明の洗浄組成物を用いた洗浄方法とし
て、まず洗浄組成物を用いて曇点以上の温度に加温して
洗浄を行う。この条件で洗浄することによって、洗浄組
成物はＷ／Ｏ型のエマルジョン状態となって上述したよ
うに、微小径粒子の洗浄性が向上し、更に非水系溶剤効
果によりワックスやピッチに代表される樹脂も同時に洗
浄することができる。その際の温度は曇点より高ければ
上述した作用が得られるが、好ましくは曇点より１０℃
以上高い温度での洗浄の方が水の液滴化が良好なため微
小径粒子の洗浄効果が大きい。又、水の作用を得るため
には水の沸点である１００℃以下で洗浄する必要があ
る。

【００２１】洗浄の際には物理力として超音波や液中噴
流を用いることが良好で、これにより浸漬だけの場合よ
りも効果的である。更に、洗浄中に洗浄組成物中の微小
径粒子をフィルターろ過することによって、常に清浄な
洗浄剤で洗浄することもできる。

【００２２】以上の洗浄工程の後、すすぎ工程を行う。
すすぎ工程では曇点以下の温度ですすぎを行う。曇点以
上で洗浄を行い、これにより洗浄組成物が付着した被洗
浄物上では非水系溶剤と水成分とがＷ／Ｏ型エマルジョ
ンとなって、水成分が液滴状に分離した状態になってい
る。これをそのままの曇点以上の温度ですすぐと水成分
が被洗浄物表面に吸着するため清浄なすすぎ工程ができ
ない。

【００２３】これに対して、曇点以下の温度ですすぐこ
とで水成分も均一にＷ／Ｏ型可溶化して、液滴状に分離
した水も完全にすすぐことができる。その際の温度は曇
点より低ければ上述した作用が得られるが、好ましくは
曇点より５℃以上低い温度で洗浄を行うことが望まし
い。更にすすいだ後、被洗浄物表面を乾燥させることに
より、清浄な被洗浄物を得ることができる。乾燥には温
風乾燥、減圧乾燥などの方法に加え、エアーナイフを使
用した強制液切りも用いることができる。

【００２４】本発明で使用するすすぎ液としては、水親
和性の低いノルマルパラフィン系有機溶剤、イソパラフ
ィン系有機溶剤、シクロパラフィン系有機溶剤、単環芳
香族含有有機溶剤、水親和性の高いアルコール系有機溶
剤を選択できる。この内、アルコール系有機溶剤は本発
明の洗浄組成物の曇点以下の温度で界面活性剤や非水系
溶剤及び水のいずれをも溶解し易いところからすすぎ液
として有用であり、またそれ以外の有機溶剤は洗浄組成
物の主成分である非水系溶剤と同じ炭化水素であるた
め、相溶性が良くすすぎ剤として有効である。

【００２５】

【発明の実施の形態】

（実施の形態１）図１はこの実施の形態の洗浄方法をブ
ロック化したものである。図２はこの実施の形態の被洗
浄物として使用した光学プリズムの斜視図である。この
光学プリズム各面の研磨間での研磨面の洗浄に対して、
以下に示す洗浄組成物を用いて洗浄し、その評価を行っ
た。研磨されたのは面ａであり、ピッチが付着している
のは面ｂ及び面ｃであった。この洗浄では研磨面に付着
した研磨砥粒とプリズム加工時に治具に貼り付けるピッ
チが洗浄対象汚れとなる。ピッチとしては商品名「ピッ
チＫ３（九重電気（株）製）」を用いた。洗浄条件を以
下に示す。洗浄組成物非水系溶剤：クリンソルＧ（日本石油化学株式会社製、単芳香族含有有機溶剤）９７．０重量部水：純水０．５重量部界面活性剤：ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル（オキシエチレンの平均モル数（ＥＯ）：５モル）２．５重量部

【００２６】この形態の洗浄組成物は曇点が３３℃で、
曇点以下ではＷ／Ｏ型可溶化状態で外観上均一である。
上述した洗浄条件で洗浄工程の温度を６０℃にしたた
め、洗浄組成物はＷ／Ｏ型エマルジョン状態で乳白色を
呈していた。

【００２７】洗浄条件すすぎ液：ナフテゾールＬ（日本石油化学株式
会社製、シクロパラフィン系有機溶剤）洗浄槽容積：２５リットル超音波装置：２５ＫＨｚ、６００Ｗ洗浄タクトタイム：５ｍｉｎ洗浄工程温度：６０℃ すすぎ工程温度：２０℃ 研磨砥粒：酸化セリウム、平均粒径２μｍ

【００２８】図３はこの形態で使用した洗浄槽であり、
槽７の底面に超音波発振子６が設けられている。又、槽
７の上部にはオーバーフロー部８が設けられ、このオー
バーフロー部８にポンプ１、精密濾過フィルター２が連
結され、精密濾過フィルター２が槽７の底部に連結され
ている。４はかかる管路に設けた冷却チラーである。な
お、槽７には温度センサー５が取り付けられると共に、
加熱を行うパネルヒーター３が側面に取り付けられてい
る。この形態では、洗浄槽７内に持ち込まれた研磨砥粒
などを除去するため、洗浄組成物はポンプ１により常に
メッシュ１μｍの精密ろ過フィルター２によって清浄化
されている。

【００２９】洗浄性の評価は、双眼実体顕微鏡（１００
倍拡大）で観察し、プリズムの研磨面にプリズム研磨時
の研磨砥粒及びピッチが残っていないものを良品として
判定した。

【００３０】比較例１として非水系溶剤単体であるクリ
ンソルＧを、また比較例２として、この形態の洗浄組成
物を使用し、液温を１５℃に冷却して洗浄した。以下に
洗浄の結果を示す。実施の形態１比較例１比較例２良品数６４１３２９洗浄数６４６４６４

【００３１】比較例１の非水系溶剤のみを使用した洗浄
ラインでは、研磨砥粒残りにより洗浄不良品が発生する
が、この形態では研磨砥粒を完全に洗浄することができ
た。比較例２で不良の内容はピッチ残りが全数の３５
で、その中で研磨砥粒残りが見られたものが１８であっ
た。この結果により曇点以上の温度でのピッチ汚れ及び
粒子汚れに対する洗浄効果が確認された。この形態の洗
浄で使用したプリズムはＳＫ５を素材としたものであっ
たが、洗浄によるヤケや潜傷等の研磨面の侵食は全く見
られなかった。

【００３２】（実施の形態２）アルミニウムのバフ研磨
加工品の研磨面の洗浄を行い、その評価を行った。この
洗浄では研磨面に付着したパフ研磨砥粒とネジ部に残存
しているアルミニウムの切り屑及びパフ研磨砥粒が洗浄
対象汚れとなる。ネジ部は直径（φ）３ｍｍ、深さ６ｍ
ｍのとまり穴である。洗浄組成物の構成を以下に示す。非水系溶剤：炭素数１２のイソパラフィン系有機溶剤（プロピレンガスを重合合成したものを蒸留分離した溶剤）９１．０重量部水：純水２．０重量部界面活性剤：ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル（ＥＯが７モル）７．０重量部

【００３３】以上の成分を調合することで、曇点が６０
℃で、常温ではＷ／Ｏ型可溶化状態で外観上均一な洗浄
組成物が得られた。この洗浄組成物を用いて以下の洗浄
方法で洗浄を行った。

【００３４】洗浄方法は槽容量２５リットルの超音波洗
浄機を４台設置し、内２台に洗浄組成物を投入して、１
台を洗浄工程用と、他の１台を置換工程用とし、更に残
りの２台に乾燥力が高いすすぎ液としてキョーワゾール
Ｃ９００（協和発酵工業株式会社製、イソパラフィン系
有機溶剤）を投入して追加の置換工程用とした。更にエ
アーナイフによる液切り槽と８０℃恒温のオーブンを設
置して洗浄ラインとした。各超音波洗浄機には４０ＫＨ
ｚ、３００Ｗの超音波振動子が取り付けられている。こ
の洗浄ラインを用いて、アルミニウムのバフ研磨加工品
を洗浄した。洗浄タクトタイムは３ｍｉｎで行った。洗
浄温度は１槽目が曇点以上の７０℃±５℃、２槽目以降
が曇点以下の２０℃±５℃に設定した。

【００３５】洗浄の評価は双眼実体顕微鏡（１００倍拡
大）で観察し、アルミニウムの研磨面にアルミニウム研
磨時の研磨砥粒及びネジ部に研磨砥粒や切り屑が残って
いないものを良品として判定した。

【００３６】比較例３として非水系溶剤であるキョーワ
ゾールＣ１２００（協和発酵工業株式会社製、イソパラ
フィン系有機溶剤）を用いた。この非水系溶剤はこの形
態では洗浄組成物中の非水系溶剤としても用いており、
これを比較例とすることで、この形態の洗浄組成物の界
面活性剤、水、非水系溶剤を添加した効果を確認でき
る。結果を以下に示す。

【００３７】比較例３の非水系溶剤のみを使用した洗浄
ラインでは洗浄不良品が発生するが、この形態では切り
屑や研磨砥粒を完全に洗浄することができた。更にこの
形態の洗浄組成物は水を含有しているにもかかわらず、
被洗浄物であるアルミニウム表面を侵食した傾向は全く
見られなかった。また、この形態で洗浄された被洗浄物
に対して呼気試験を行って評価したところ、いずれの研
磨面もシミやムラは全くなかった。

【００３８】比較例４としてこの形態と同一成分でその
組成比が異なる洗浄組成物を調合した。非水系溶剤：炭素数１２のイソパラフィン系有機溶剤６５重量部水：純水８重量部界面活性剤：ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル（ＥＯが７モル）２７重量部

【００３９】比較例４の洗浄組成物は、界面活性剤が２
７重量部と多く、その粘度が１６０ｃｐであり、この形
態の洗浄組成物の粘度５ｃｐと比べて大きく、ネジ部の
止まり穴に浸透することがなく、洗浄数１００個中、良
品数が１２だけで、止まり穴部分の洗浄性が悪かった。

【００４０】このような形態の洗浄では、洗浄に使用し
た洗浄組成物を置換工程のすすぎ液として用い、更に被
洗浄物の乾燥性を高めるため、揮発性の高い非水系溶剤
で再置換を行ったことにより、３分の短時間で乾燥がで
き、且つシミやムラのない均一な表面を得ることができ
た。

【００４１】（実施の形態３）ガラス表面のヤケ落とし
用研磨剤として、親油性加工油である商品名「ユシロン
ＣＧ（ユシロ化学（社）製）」に平均粒径０．５μｍの
酸化ジルコニウム系の研磨砥粒を溶いた研磨剤が付着し
たガラスレンズを洗浄した。洗浄条件を以下に示す。洗浄組成物非水系溶剤：ノルマルドデカン（試薬ノルマルパラフィン系有機溶剤）９９．０重量部水：イオン交換水０．１重量部界面活性剤：ポリオキシエチレン１級アルキルエーテル（ＥＯは７モル、アルキル基炭素数１２〜１５）０．２重量部洗浄条件すすぎ液：ノルマルデカン（試薬ノルマルパ
ラフィン系有機溶剤）洗浄槽容積：３リットル超音波装置：４０ＫＨｚ、６００Ｗ洗浄工程温度：９３℃ すすぎ工程温度：４０℃ 洗浄タクトタイム：５ｍｉｎ

【００４２】本実施の形態の洗浄組成物は曇点が９０℃
で、曇点以下ではＷ／Ｏ型可溶化状態で外観上均一であ
る。洗浄工程においては、工程温度を９３℃にしたた
め、Ｗ／Ｏ型エマルジョン状態で乳白色を呈した。乾燥
工程は出力１０００Ｗのドライヤーを用い、３分間の温
風吹きつけで行った。

【００４３】洗浄乾燥後に目視で評価を行ったところ、
３０枚のガラスレンズには加工油に起因する油性汚れや
ジルコニウム系の研磨砥粒の残りは見られず、３０枚全
数合格であった。しかし、洗浄工程温度を曇点以下の６
０℃にして洗浄したところ、油性汚れは洗浄できた反
面、３０枚中８枚のレンズ表面に微粒子の残留が見ら
れ、これにより曇点以上の温度で洗浄する効果が確認さ
れた。このような実施の形態では、油性加工油と研磨材
の両方を同時に洗浄できることが確認された。

【００４４】（実施の形態４）研磨後のシリコンウエハ
ーを切断してチップにする際に付着する切り粉、及び固
定する際のワックスの洗浄をおこなった。ワックスとし
ては商品名「スロットワックスＦ（九重電気（株）
製）」を使用した。以下に洗浄組成物の構成を示す。洗浄組成物非水系溶剤：ｐ−メンタン（試薬シクロパラフィン系有機溶剤）９９．７重量部水：イオン交換水０．１重量部界面活性剤：ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル（ＥＯが４．２モル）０．２重量部

【００４５】この形態の洗浄組成物は曇点が３７℃で、
曇点以下ではＷ／Ｏ型可溶化状態で外観上均一である。
洗浄工程では温度を５５℃としたため、洗浄組成物はＷ
／Ｏ型エマルジョン状態となる。洗浄条件を以下に示
す。洗浄条件すすぎ液：キョーワゾールＣ９００（協和発酵
工業株式会社製イソパラフィン系有機溶剤）洗浄槽容積：１０リットル超音波装置：１００ＫＨｚ、６００Ｗ洗浄工程温度：５５℃ すすぎ工程温度：２５℃ 洗浄タクトタイム：１０ｍｉｎ

【００４６】洗浄性の評価は双眼実体顕微鏡（２０倍拡
大）で観察し、ウエハーの研磨面に切粉及びワックスが
残っていないものを良品として判定した。洗浄個数は５
００個であり、その全てが良品として得られた。

【００４７】（実施の形態５）スライドガラス上に研磨
材を０．０５ｇ付着させ、その上に商品名「リセスワッ
クスＲＷ−９９Ｎｏ５（九重電気（株）製）」を０．２
ｇ付着させて洗浄サンプルとしたものを洗浄した。研磨
材としてはガラス研磨用の商品名「モランダム（昭和電
工（株）社製）」を用いた。洗浄に使用した洗浄槽を図
３に示す。洗浄組成物非水系溶剤：クリンソルＧ（日本石油化学株式会社製単環芳香族含有有機溶剤）９３．０重量部水：イオン交換水１．５重量部界面活性剤：ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル（ＥＯが４．２モル）５．５重量部

【００４８】この形態の洗浄組成物は曇点が３０℃で、
曇点以下ではＷ／Ｏ型可溶化状態で外観上均一である。
洗浄工程では温度を５０℃にしたため、Ｗ／Ｏ型エマル
ジョン状態となる。以下にすすぎの条件を示す。すすぎ液：イソプロピルアルコール（試薬１級）すすぎ槽：図３

【００４９】一度に１００枚のスライドガラスがはいる
洗浄治具に洗浄サンプルのスライドガラスを入れる。こ
の洗浄治具ごと洗浄槽内に導入して洗浄する。洗浄時間
は１０分間である。

【００５０】洗浄槽の容量は２０リットルで、オーバー
フローにより循環しており、洗浄槽の下部から供給され
ている。精密ろ過フィルター２は１μｍメッシュであ
り、ガラス表面から除去された研磨材を取り除いてい
る。洗浄槽の側部のセラミック製のパネルヒーター３に
よって槽７を随時加温できる。洗浄槽に戻る途中の配管
には巻きつけた冷却チラー４は一定温度での恒温状態を
保つものである。

【００５１】洗浄槽内の温度は温度センサー５によって
逐次測定され表示される。洗浄は超音波発振子６及びポ
ンプ１による液循環を物理力としており、超音波は４０
ＫＨｚ、６００Ｗの出力である。この洗浄槽が連続して
４槽設置されており、前側の２槽は洗浄組成物が投入さ
れ、温度が５０℃に設定されている。後側の２槽はすす
ぎ液が投入され、温度が２５℃に設定されている。更に
６０℃の温風乾燥が設置されており、これによりすすぎ
液を乾燥する。一連の工程のタクトタイムは１０分に設
定した。

【００５２】評価は倍率２０倍の双眼実体顕微鏡を用い
て、ワックス汚れ洗浄残り等によるシミと研磨材残りに
よる粒子のシミの有無で行い、いずれの汚れも全くない
ものを合格とした。上述した条件でスライドガラスを５
００枚洗浄したところ、５００枚の全てが合格レベルの
洗浄品質であった。また、洗浄前にスライドガラスに故
意に付着させた手脂も、洗浄後は全く確認することがで
きなかった。

【００５３】比較例５としてイソプロピルアルコールに
よる置換工程を行わず、洗浄工程から直接乾燥させたと
ころ、洗浄組成物によるシミ残りが５００枚の全てにみ
られ、良好な洗浄品質を置換工程が必須であることが確
認された。

【００５４】

【発明の効果】本発明は一般的に使用されている非水系
溶剤をベースにして、ワックスやピッチに代表される樹
脂及び親油性加工油を洗浄できるとともに、金属屑、研
磨砥粒、削り屑などの粒子汚れを現状の洗浄工程で剥離
でき、更に手脂などの無機塩を含有する極性汚れや水系
汚れについても同時に洗浄することが可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の方法をブロック化したフローチャート
である。

【図２】洗浄に使用した光学プリズムの斜視図である。

【図３】洗浄槽の断面図である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所 //(Ｃ１１Ｄ 10/02 1:72 3:42）

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】１００重量部の全体に対して、ポリオキ
シエチレン基を有する非イオン系界面活性剤が０．２〜
２０重量部、水が０．１〜１０重量部、残部が非水系溶
剤からなり、１０〜９０℃の温度範囲内に曇点を有し、
曇点以上の温度ではＷ／Ｏ型エマルジョンとなっている
ことを特徴とする洗浄組成物。
【請求項２】前記非水系溶剤はノルマルパラフィン系
有機溶剤、イソパラフィン系有機溶剤、シクロパラフィ
ン系有機溶剤又は単環芳香族含有有機溶剤あるいはこれ
らを混合したものであることを特徴とする請求項１記載
の洗浄組成物。
【請求項３】請求項１又は２に記載されるいずれかの
洗浄組成物を用い、曇点以上の温度で被洗浄物を洗浄す
る洗浄工程と、前記洗浄組成物の曇点以下の温度で被洗
浄物に付着した洗浄組成物をすすぎ液によって置換する
置換工程とからなることを特徴とする洗浄方法。
【請求項４】前記すすぎ液として、ノルマルパラフィ
ン系有機溶剤、イソパラフィン系有機溶剤、シクロパラ
フィン系有機溶剤、単環芳香族含有有機溶剤、アルコー
ル系有機溶剤、又は請求項１又は２に記載される洗浄組
成物を用いることを特徴とする請求項３記載の洗浄方
法。