JP2002256285A - 光学部品用洗浄液組成物 - Google Patents
光学部品用洗浄液組成物Info
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- JP2002256285A JP2002256285A JP2001057839A JP2001057839A JP2002256285A JP 2002256285 A JP2002256285 A JP 2002256285A JP 2001057839 A JP2001057839 A JP 2001057839A JP 2001057839 A JP2001057839 A JP 2001057839A JP 2002256285 A JP2002256285 A JP 2002256285A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 粒子、ワックス、ピッチ、接着剤が付着した
光学部品を洗浄する洗浄液であって、環境に与える影響
が少なく、取り扱い上の規制も少なく、光学部品に損傷
を与えることなく、かつ、十分な洗浄性を有する洗浄液
組成物を提供する。 【構成】 本発明の光学部品用洗浄液は、（Ａ）アニオ
ン性界面活性剤、（Ｂ）非イオン性界面活性剤、（Ｃ）
水および（Ｄ）炭素数９〜１８の炭化水素を含有し、
（Ａ）アニオン性界面活性剤と（Ｂ）非イオン性界面活
性剤の含有重量の比（Ａ／Ｂ）が０．０５〜０．４であ
り、（Ａ）アニオン性界面活性剤と（Ｂ）非イオン性界
面活性剤の合計と（Ｄ）炭化水素の含有重量の比（（Ａ
＋Ｂ）／Ｄ）が０．０１〜０．１であり、かつ、（Ｃ）
水と（Ｄ）炭化水素の含有重量の比（Ｃ／Ｄ）が０．０
５以下である。
光学部品を洗浄する洗浄液であって、環境に与える影響
が少なく、取り扱い上の規制も少なく、光学部品に損傷
を与えることなく、かつ、十分な洗浄性を有する洗浄液
組成物を提供する。 【構成】 本発明の光学部品用洗浄液は、（Ａ）アニオ
ン性界面活性剤、（Ｂ）非イオン性界面活性剤、（Ｃ）
水および（Ｄ）炭素数９〜１８の炭化水素を含有し、
（Ａ）アニオン性界面活性剤と（Ｂ）非イオン性界面活
性剤の含有重量の比（Ａ／Ｂ）が０．０５〜０．４であ
り、（Ａ）アニオン性界面活性剤と（Ｂ）非イオン性界
面活性剤の合計と（Ｄ）炭化水素の含有重量の比（（Ａ
＋Ｂ）／Ｄ）が０．０１〜０．１であり、かつ、（Ｃ）
水と（Ｄ）炭化水素の含有重量の比（Ｃ／Ｄ）が０．０
５以下である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学部品に付着し
たワックス、ピッチ、接着剤、粒子などを洗浄するため
に用いられる洗浄液組成物に関し、特には、光学部品の
加工時に付着するチリ、埃、研磨屑、研磨砥粒などの粒
子を除去するために用いられる洗浄液組成物に関する。
たワックス、ピッチ、接着剤、粒子などを洗浄するため
に用いられる洗浄液組成物に関し、特には、光学部品の
加工時に付着するチリ、埃、研磨屑、研磨砥粒などの粒
子を除去するために用いられる洗浄液組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】レンズなどの光学部品の製造において
は、研磨のために研磨砥粒が用いられている。また、研
磨時に光学部品を固定するためやバインダーとしてワッ
クス、ピッチ、接着剤なども用いられる。そのため、光
学部品表面に付着した研磨砥粒などの粒子、ワックス、
ピッチ、接着剤を除去するために、洗浄工程が必要とな
る。従来、このような洗浄には、トリフロロトリクロロ
エタンなどのフロン系溶剤あるいは１，１，１−トリク
ロロエタン、トリクロロエチレン、塩化メチレンなどの
塩素系溶剤が洗浄剤として使用されてきた。しかし、ト
リフロロトリクロロエタンや１，１，１−トリクロロエ
タンはオゾン層を破壊する物質として、１９９５年末に
その製造が禁止された。また、トリクロロエチレンや塩
化メチレンは毒性が強く、放出された場合に大気汚染・
水質汚染を引き起こすため、その法規制が厳しい。
は、研磨のために研磨砥粒が用いられている。また、研
磨時に光学部品を固定するためやバインダーとしてワッ
クス、ピッチ、接着剤なども用いられる。そのため、光
学部品表面に付着した研磨砥粒などの粒子、ワックス、
ピッチ、接着剤を除去するために、洗浄工程が必要とな
る。従来、このような洗浄には、トリフロロトリクロロ
エタンなどのフロン系溶剤あるいは１，１，１−トリク
ロロエタン、トリクロロエチレン、塩化メチレンなどの
塩素系溶剤が洗浄剤として使用されてきた。しかし、ト
リフロロトリクロロエタンや１，１，１−トリクロロエ
タンはオゾン層を破壊する物質として、１９９５年末に
その製造が禁止された。また、トリクロロエチレンや塩
化メチレンは毒性が強く、放出された場合に大気汚染・
水質汚染を引き起こすため、その法規制が厳しい。
【０００３】また、界面活性剤や無機アルカリを添加し
た水系洗浄剤、リン酸塩類などの水溶液系洗浄剤の利用
も検討されるが、洗浄力が乏しく、かつ排水処理設備に
大きなスペースを必要するため経済性の面から好ましく
ない。また、水系洗浄剤や水溶系洗浄剤が光学ガラスに
接触すると、潜傷、白焼け、青やけといわれる光学部品
への損傷を生じる場合があり、このような損傷は光学部
品として致命的な不良となる。また、一般の炭化水素系
洗浄剤も検討されているが、ワックス、ピッチ、接着剤
に対しての洗浄力はあるものの、粒子に対する洗浄力が
乏しい。
た水系洗浄剤、リン酸塩類などの水溶液系洗浄剤の利用
も検討されるが、洗浄力が乏しく、かつ排水処理設備に
大きなスペースを必要するため経済性の面から好ましく
ない。また、水系洗浄剤や水溶系洗浄剤が光学ガラスに
接触すると、潜傷、白焼け、青やけといわれる光学部品
への損傷を生じる場合があり、このような損傷は光学部
品として致命的な不良となる。また、一般の炭化水素系
洗浄剤も検討されているが、ワックス、ピッチ、接着剤
に対しての洗浄力はあるものの、粒子に対する洗浄力が
乏しい。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
課題を解決するもので、粒子、ワックス、ピッチ、接着
剤が付着した光学部品を洗浄する洗浄液であって、環境
に与える影響が少なく、取り扱い上の規制も少なく、光
学部品に損傷を与えることなく、かつ、十分な洗浄性を
有する洗浄液組成物を提供するものである。
課題を解決するもので、粒子、ワックス、ピッチ、接着
剤が付着した光学部品を洗浄する洗浄液であって、環境
に与える影響が少なく、取り扱い上の規制も少なく、光
学部品に損傷を与えることなく、かつ、十分な洗浄性を
有する洗浄液組成物を提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは前記課題を
解決すべく鋭意検討を重ねた結果、アニオン性および非
イオン性界面活性剤、水、並びに炭化水素を特定比率で
含有する洗浄剤組成物が、係る目的を達成するものであ
ることを見出し、本発明を完成した。
解決すべく鋭意検討を重ねた結果、アニオン性および非
イオン性界面活性剤、水、並びに炭化水素を特定比率で
含有する洗浄剤組成物が、係る目的を達成するものであ
ることを見出し、本発明を完成した。
【０００６】即ち、本発明は光学部品を洗浄するための
洗浄剤であって、（Ａ）アニオン性界面活性剤、（Ｂ）
非イオン性界面活性剤、（Ｃ）水および（Ｄ）炭素数９
〜１８の炭化水素を含有し、（Ａ）アニオン性界面活性
剤と（Ｂ）非イオン性界面活性剤の含有重量の比（Ａ／
Ｂ）が０．０５〜０．４であり、（Ａ）アニオン性界面
活性剤と（Ｂ）非イオン性界面活性剤の合計と（Ｄ）炭
化水素の含有重量の比（（Ａ＋Ｂ）／Ｄ）が０．０１〜
０．１であり、かつ、（Ｃ）水と（Ｄ）炭化水素の含有
重量の比（Ｃ／Ｄ）が０．０５以下である。特に、前記
アニオン性界面活性剤がスルホン酸塩および／または硫
酸エステル塩であり、前記非イオン性界面活性剤がポリ
アルキレングリコールおよび／または脂肪酸アルカノー
ルアミドであることが好ましい。
洗浄剤であって、（Ａ）アニオン性界面活性剤、（Ｂ）
非イオン性界面活性剤、（Ｃ）水および（Ｄ）炭素数９
〜１８の炭化水素を含有し、（Ａ）アニオン性界面活性
剤と（Ｂ）非イオン性界面活性剤の含有重量の比（Ａ／
Ｂ）が０．０５〜０．４であり、（Ａ）アニオン性界面
活性剤と（Ｂ）非イオン性界面活性剤の合計と（Ｄ）炭
化水素の含有重量の比（（Ａ＋Ｂ）／Ｄ）が０．０１〜
０．１であり、かつ、（Ｃ）水と（Ｄ）炭化水素の含有
重量の比（Ｃ／Ｄ）が０．０５以下である。特に、前記
アニオン性界面活性剤がスルホン酸塩および／または硫
酸エステル塩であり、前記非イオン性界面活性剤がポリ
アルキレングリコールおよび／または脂肪酸アルカノー
ルアミドであることが好ましい。
【０００７】
【発明の実施の形態】［界面活性剤］ 本発明の洗浄剤
組成物には、（Ａ）アニオン性界面活性剤と（Ｂ）非イ
オン性界面活性剤の両方を配合する。（Ａ）アニオン性
界面活性剤成分としては、スルホン酸塩、硫酸エステル
塩、燐酸エステル塩、カルボン酸塩を用いることができ
るが、スルホン酸塩、硫酸エステル塩が好ましく用いら
れる。このようなアニオン性界面活性剤としては、炭素
数８〜１８のアルキルベンゼンスルホン酸塩、炭素数８
〜１６のアルカンスルホン酸塩、炭素数８〜１６の硫酸
化油、炭素数８〜１６のアルキル硫酸塩、スルホコハク
酸ジアルキルエステル塩（ここでアルキル基の炭素数は
６〜９）からなる群より選ばれる少なくとも１種を用い
ることができる。特に炭素数８〜１８の直鎖アルキルベ
ンゼンスルホン酸、硫酸化ひまし油の塩が好ましく用い
られる。なお、ここでいう塩とは、アルカリ金属塩、ア
ルカリ土類金属塩、アンモニウム塩または炭素数１〜５
のアルカノールアミン塩および酸タイプ（塩を形成して
いない酸自体）を含むものである。
組成物には、（Ａ）アニオン性界面活性剤と（Ｂ）非イ
オン性界面活性剤の両方を配合する。（Ａ）アニオン性
界面活性剤成分としては、スルホン酸塩、硫酸エステル
塩、燐酸エステル塩、カルボン酸塩を用いることができ
るが、スルホン酸塩、硫酸エステル塩が好ましく用いら
れる。このようなアニオン性界面活性剤としては、炭素
数８〜１８のアルキルベンゼンスルホン酸塩、炭素数８
〜１６のアルカンスルホン酸塩、炭素数８〜１６の硫酸
化油、炭素数８〜１６のアルキル硫酸塩、スルホコハク
酸ジアルキルエステル塩（ここでアルキル基の炭素数は
６〜９）からなる群より選ばれる少なくとも１種を用い
ることができる。特に炭素数８〜１８の直鎖アルキルベ
ンゼンスルホン酸、硫酸化ひまし油の塩が好ましく用い
られる。なお、ここでいう塩とは、アルカリ金属塩、ア
ルカリ土類金属塩、アンモニウム塩または炭素数１〜５
のアルカノールアミン塩および酸タイプ（塩を形成して
いない酸自体）を含むものである。
【０００８】（Ｂ）非イオン性界面活性剤としては、
（Ｂ１）ポリアルキレングリコールまたは（Ｂ２）脂肪
酸アルカノールアミドであることが好ましく、両者を用
いることが特に好ましい。（Ｂ１）ポリアルキレングリ
コールとしては、ポリアルキレングリコールモノエーテ
ルやポリアルキレングリコールブロックコポリマーを用
いることができる。このポリアルキレングリコールモノ
エーテルは、次の化１で表される化合物を用いることが
好ましい。特に、Ｒ１は炭素数１２〜１６のアルキルフ
ェニル基、Ｒ２はエチレン基、ｎは３〜１０であるポリ
アルキレングリコールアルキルフェニルエーテルが好ま
しい。
（Ｂ１）ポリアルキレングリコールまたは（Ｂ２）脂肪
酸アルカノールアミドであることが好ましく、両者を用
いることが特に好ましい。（Ｂ１）ポリアルキレングリ
コールとしては、ポリアルキレングリコールモノエーテ
ルやポリアルキレングリコールブロックコポリマーを用
いることができる。このポリアルキレングリコールモノ
エーテルは、次の化１で表される化合物を用いることが
好ましい。特に、Ｒ１は炭素数１２〜１６のアルキルフ
ェニル基、Ｒ２はエチレン基、ｎは３〜１０であるポリ
アルキレングリコールアルキルフェニルエーテルが好ま
しい。
【化１】Ｒ１−Ｏ−（Ｒ２−Ｏ）ｎ−Ｈ ここで、Ｒ１は炭素数１２〜１８のアルキルフェニル基
または炭素数６〜１６のアルキル基、Ｒ２は炭素数２〜
４のアルキレン基、ｎは２〜１６である。
または炭素数６〜１６のアルキル基、Ｒ２は炭素数２〜
４のアルキレン基、ｎは２〜１６である。
【０００９】（Ｂ２）脂肪酸アルカノールアミドは、脂
肪酸とアルカノールアミンとの縮合により合成され、脂
肪酸としては炭素数８〜１８の飽和または不飽和の脂肪
酸が、アルカノールアミンとしてはモノエタノールアミ
ン、ジエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン
などの炭素数２〜６のアルカノールアミンが好ましく用
いられる。特には、炭素数８〜１８の飽和または不飽和
の脂肪酸とジエタノールアミンからなる脂肪酸アルカノ
ールアミドが好ましく用いられる。
肪酸とアルカノールアミンとの縮合により合成され、脂
肪酸としては炭素数８〜１８の飽和または不飽和の脂肪
酸が、アルカノールアミンとしてはモノエタノールアミ
ン、ジエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン
などの炭素数２〜６のアルカノールアミンが好ましく用
いられる。特には、炭素数８〜１８の飽和または不飽和
の脂肪酸とジエタノールアミンからなる脂肪酸アルカノ
ールアミドが好ましく用いられる。
【００１０】［炭化水素］ 本発明の洗浄剤組成物に
は、炭素数９〜１８の芳香族炭化水素、ナフテン炭化水
素または脂肪族炭化水素が配合される。これらの炭化水
素は、揮発性が高いと洗浄の際の危険性が高くなるた
め、沸点範囲が１５０〜３５０℃、特には１６０〜２１
０℃に含まれることが好ましい。アルキルシクロヘキサ
ン、アルキルテトラリン、アルキルベンゼン、アルキル
ナフタレンといったナフテン炭化水素あるいは芳香族炭
化水素の方が、脂肪族炭化水素よりも洗浄力が高い。こ
のため、脂肪族炭化水素を用いても良いが、ナフテン炭
化水素あるいは芳香族炭化水素であることが好ましい。
は、炭素数９〜１８の芳香族炭化水素、ナフテン炭化水
素または脂肪族炭化水素が配合される。これらの炭化水
素は、揮発性が高いと洗浄の際の危険性が高くなるた
め、沸点範囲が１５０〜３５０℃、特には１６０〜２１
０℃に含まれることが好ましい。アルキルシクロヘキサ
ン、アルキルテトラリン、アルキルベンゼン、アルキル
ナフタレンといったナフテン炭化水素あるいは芳香族炭
化水素の方が、脂肪族炭化水素よりも洗浄力が高い。こ
のため、脂肪族炭化水素を用いても良いが、ナフテン炭
化水素あるいは芳香族炭化水素であることが好ましい。
【００１１】［配合量］ 本発明の洗浄剤中の（Ａ）ア
ニオン性界面活性剤と（Ｂ）非イオン性界面活性剤の重
量比（Ａ／Ｂ）は、０．０５〜０．４であり、好ましく
は０．１〜０．３である。これよりもアニオン性界面活
性剤が少ないと洗浄性が低下し、多い場合は洗浄性が低
下し、かつ光学部品に損傷を与えるおそれがある。
（Ａ）アニオン性界面活性剤と（Ｂ）非イオン性界面活
性剤の合計と（Ｄ）炭素数９〜１８の炭化水素の重量比
（（Ａ＋Ｂ）／Ｄ）は０．０１〜０．１であり、好まし
くは０．０２〜０．０５である。これよりも界面活性剤
が少ないと洗浄性が低下し、多い場合は光学部品に損傷
を与えるおそれがある。（Ｃ）水と（Ｄ）炭素数９〜１
８の炭化水素の重量との比（Ｃ／Ｄ）は、０〜０．０５
であり、好ましくは０．００１〜０．０３である。これ
よりも水が多い場合は光学部品に損傷を与えるおそれが
ある。（Ｂ）非イオン性界面活性剤として、（Ｂ１）ポ
リアルキレングリコールと（Ｂ２）脂肪酸アルカノール
アミドの両者を用いる場合、（Ａ）アニオン性界面活性
剤と（Ｂ２）脂肪酸アルカノールアミドの重量比（Ａ／
Ｂ２）は０．１〜１．５が好ましい。
ニオン性界面活性剤と（Ｂ）非イオン性界面活性剤の重
量比（Ａ／Ｂ）は、０．０５〜０．４であり、好ましく
は０．１〜０．３である。これよりもアニオン性界面活
性剤が少ないと洗浄性が低下し、多い場合は洗浄性が低
下し、かつ光学部品に損傷を与えるおそれがある。
（Ａ）アニオン性界面活性剤と（Ｂ）非イオン性界面活
性剤の合計と（Ｄ）炭素数９〜１８の炭化水素の重量比
（（Ａ＋Ｂ）／Ｄ）は０．０１〜０．１であり、好まし
くは０．０２〜０．０５である。これよりも界面活性剤
が少ないと洗浄性が低下し、多い場合は光学部品に損傷
を与えるおそれがある。（Ｃ）水と（Ｄ）炭素数９〜１
８の炭化水素の重量との比（Ｃ／Ｄ）は、０〜０．０５
であり、好ましくは０．００１〜０．０３である。これ
よりも水が多い場合は光学部品に損傷を与えるおそれが
ある。（Ｂ）非イオン性界面活性剤として、（Ｂ１）ポ
リアルキレングリコールと（Ｂ２）脂肪酸アルカノール
アミドの両者を用いる場合、（Ａ）アニオン性界面活性
剤と（Ｂ２）脂肪酸アルカノールアミドの重量比（Ａ／
Ｂ２）は０．１〜１．５が好ましい。
【００１２】本発明の洗浄液組成物を洗浄対象物である
光学部品に接触させることで洗浄することができるが、
光学部品と洗浄液組成物とを接触させる方法自体は特に
制限はなく、公知のいずれの方法も使用できる。例え
ば、洗浄液組成物を含浸したスポンジなどによる拭き取
り、洗浄液組成物への浸漬及び／またはスプレーなどに
より実施することが好ましい。浸漬による洗浄において
は、洗浄効果を高めるために、同時に攪拌、揺動、超音
波またはエアバブリングなどを組み合わせることが更に
好ましい。また、本発明の洗浄液組成物は界面活性剤を
含有するため、界面活性剤の除去や乾燥性を高めるため
洗浄対象物を洗浄した後、比較的低沸点の炭化水素によ
るリンスを行うことが好ましい。
光学部品に接触させることで洗浄することができるが、
光学部品と洗浄液組成物とを接触させる方法自体は特に
制限はなく、公知のいずれの方法も使用できる。例え
ば、洗浄液組成物を含浸したスポンジなどによる拭き取
り、洗浄液組成物への浸漬及び／またはスプレーなどに
より実施することが好ましい。浸漬による洗浄において
は、洗浄効果を高めるために、同時に攪拌、揺動、超音
波またはエアバブリングなどを組み合わせることが更に
好ましい。また、本発明の洗浄液組成物は界面活性剤を
含有するため、界面活性剤の除去や乾燥性を高めるため
洗浄対象物を洗浄した後、比較的低沸点の炭化水素によ
るリンスを行うことが好ましい。
【００１３】本発明で使用する洗浄剤は、本発明の効果
を損なわない限り、他の洗浄剤、各種の添加剤を配合す
ることができる。他の洗浄剤成分としては、本発明で特
定する炭化水素以外の炭化水素、各種のアルコール、ケ
トン、エステル、ポリエーテル、塩素を含有しないハイ
ドロフルオロカーボン、Ｎ−メチルピロリドン、シクロ
ヘキサノンなどであり、添加剤としては、酸化防止剤、
防腐剤、界面活性剤などが挙げられる。本発明の（Ａ）
アニオン性界面活性剤、（Ｂ）非イオン性界面活性剤、
（Ｃ）水および（Ｄ）炭素数９〜１８の炭化水素以外の
成分は、洗浄剤に対して１０重量％以下、特には２重量
％以下であることが好ましい。
を損なわない限り、他の洗浄剤、各種の添加剤を配合す
ることができる。他の洗浄剤成分としては、本発明で特
定する炭化水素以外の炭化水素、各種のアルコール、ケ
トン、エステル、ポリエーテル、塩素を含有しないハイ
ドロフルオロカーボン、Ｎ−メチルピロリドン、シクロ
ヘキサノンなどであり、添加剤としては、酸化防止剤、
防腐剤、界面活性剤などが挙げられる。本発明の（Ａ）
アニオン性界面活性剤、（Ｂ）非イオン性界面活性剤、
（Ｃ）水および（Ｄ）炭素数９〜１８の炭化水素以外の
成分は、洗浄剤に対して１０重量％以下、特には２重量
％以下であることが好ましい。
【００１４】本発明の洗浄液組成物は、光学部品に付着
した粒子を洗浄するために好ましく用いられる。このよ
うな光学部品としてはレンズ、プリズム、光学用窓材な
どがあげられる。これらの製造工程において、部品表面
の研磨などの目的で研磨剤を用いることがあり、同時に
保管時や作業中にチリ、埃が付着することがある。汚染
物となる粒子を具体的に例示すれば、研磨用としての酸
化セリウムなどの研磨砥粒、ガラスなど切削屑、チリ、
埃などが粒子として挙げられる。
した粒子を洗浄するために好ましく用いられる。このよ
うな光学部品としてはレンズ、プリズム、光学用窓材な
どがあげられる。これらの製造工程において、部品表面
の研磨などの目的で研磨剤を用いることがあり、同時に
保管時や作業中にチリ、埃が付着することがある。汚染
物となる粒子を具体的に例示すれば、研磨用としての酸
化セリウムなどの研磨砥粒、ガラスなど切削屑、チリ、
埃などが粒子として挙げられる。
【００１５】
【実施例】以下、本発明を実施例、比較例により更に詳
細に説明するが、本発明はこれら実施例により限定され
るものではない。
細に説明するが、本発明はこれら実施例により限定され
るものではない。
【００１６】実施例として調製した洗浄液の配合量（重
量％）を表１、表２に、比較例として調製した洗浄液の
配合量（重量％）を表３に示す。表中、ＮＰＥはポリエ
チレングリコールノニルフェニルエーテル（エチレン基
の繰り返し数ｎは５である）を、ＣＯＡはヤシ油脂肪酸
ジエタノールアミド（１：１型）を、ＬＡＳ酸は直鎖ド
デシルベンゼンスルホン酸を、芳香族炭化水素１は炭素
数９〜１０のアルキルベンゼン、トリメチルベンゼンお
よびキシレンを９９重量％以上含み、沸点範囲が１６０
〜１７５℃である芳香族炭化水素を、芳香族炭化水素２
は炭素数１３〜１４のアルキルナフタレンおよびジメチ
ルナフタレンを９９重量％含み、沸点範囲が２６０℃か
ら２７５℃である芳香族炭化水素、芳香族炭化水素３は
メチルナフタレンおよびジメチルナフタレンを９３重量
％以上含み、沸点範囲が２３０〜２５５℃である芳香族
炭化水素を示す。
量％）を表１、表２に、比較例として調製した洗浄液の
配合量（重量％）を表３に示す。表中、ＮＰＥはポリエ
チレングリコールノニルフェニルエーテル（エチレン基
の繰り返し数ｎは５である）を、ＣＯＡはヤシ油脂肪酸
ジエタノールアミド（１：１型）を、ＬＡＳ酸は直鎖ド
デシルベンゼンスルホン酸を、芳香族炭化水素１は炭素
数９〜１０のアルキルベンゼン、トリメチルベンゼンお
よびキシレンを９９重量％以上含み、沸点範囲が１６０
〜１７５℃である芳香族炭化水素を、芳香族炭化水素２
は炭素数１３〜１４のアルキルナフタレンおよびジメチ
ルナフタレンを９９重量％含み、沸点範囲が２６０℃か
ら２７５℃である芳香族炭化水素、芳香族炭化水素３は
メチルナフタレンおよびジメチルナフタレンを９３重量
％以上含み、沸点範囲が２３０〜２５５℃である芳香族
炭化水素を示す。
【００１７】
【表１】
【００１８】
【表２】
【００１９】
【表３】
【００２０】［洗浄性テスト］ 研磨砥粒である酸化セ
リウムを水に分散し、レンズにすりつけた後１０分程度
室温にて乾かした。これを被検液（洗浄液）に浸せき
し、２５℃で超音波照射下に５分間洗浄を行い、ノルマ
ルパラフィン系洗浄剤（日鉱石油化学製ＮＳ１００）を
用いて２度リンスを行った後レンズを乾燥し、レンズ表
面の酸化セリウムの残留状態を観察した。レンズに酸化
セリウムが残留していないものを○、薄い白膜状に残留
しているものを△、残留しているものを×として評価
し、表１、２、３に併せて示した。ワックス、ピッチ、
接着剤に関してもレンズにこれらの汚れを付着させ上記
の方法と同様に洗浄性を評価した。また、酸化セリウム
が残留していないものについて、レンズの潜傷のないも
のを○、潜傷の生じたものを×として評価し、表１，
２、３に併せて示した。なお、レンズの潜傷の有無は、
３００Ｗのハロゲンランプからの光路上約２０ｃｍにレ
ンズを置き、透過光にて正面から目視する方法で、レン
ズに傷を生じているかどうかにより判定した。
リウムを水に分散し、レンズにすりつけた後１０分程度
室温にて乾かした。これを被検液（洗浄液）に浸せき
し、２５℃で超音波照射下に５分間洗浄を行い、ノルマ
ルパラフィン系洗浄剤（日鉱石油化学製ＮＳ１００）を
用いて２度リンスを行った後レンズを乾燥し、レンズ表
面の酸化セリウムの残留状態を観察した。レンズに酸化
セリウムが残留していないものを○、薄い白膜状に残留
しているものを△、残留しているものを×として評価
し、表１、２、３に併せて示した。ワックス、ピッチ、
接着剤に関してもレンズにこれらの汚れを付着させ上記
の方法と同様に洗浄性を評価した。また、酸化セリウム
が残留していないものについて、レンズの潜傷のないも
のを○、潜傷の生じたものを×として評価し、表１，
２、３に併せて示した。なお、レンズの潜傷の有無は、
３００Ｗのハロゲンランプからの光路上約２０ｃｍにレ
ンズを置き、透過光にて正面から目視する方法で、レン
ズに傷を生じているかどうかにより判定した。
【００２１】
【発明の効果】本発明の光学部品用洗浄液は、（Ａ）ア
ニオン性界面活性剤、（Ｂ）非イオン性界面活性剤、
（Ｃ）水および（Ｄ）炭素数９〜１８の炭化水素を含有
し、（Ａ）アニオン性界面活性剤と（Ｂ）非イオン性界
面活性剤の含有重量の比（Ａ／Ｂ）が０．０５〜０．４
であり、（Ａ）アニオン性界面活性剤と（Ｂ）非イオン
性界面活性剤の合計と（Ｄ）炭化水素の含有重量の比
（（Ａ＋Ｂ）／Ｄ）が０．０１〜０．１であり、かつ、
（Ｃ）水と（Ｄ）炭化水素の含有重量の比（Ｃ／Ｄ）が
０．０５以下である。本発明によれば、潜傷などの損傷
を光学部品に与えることなく、光学部品に付着した粒子
を十分に洗浄することができ、さらに、この洗浄剤は、
環境規制上使用が制限されている化合物を用いておら
ず、毒性も低いため、使用・取り扱いが容易である。
ニオン性界面活性剤、（Ｂ）非イオン性界面活性剤、
（Ｃ）水および（Ｄ）炭素数９〜１８の炭化水素を含有
し、（Ａ）アニオン性界面活性剤と（Ｂ）非イオン性界
面活性剤の含有重量の比（Ａ／Ｂ）が０．０５〜０．４
であり、（Ａ）アニオン性界面活性剤と（Ｂ）非イオン
性界面活性剤の合計と（Ｄ）炭化水素の含有重量の比
（（Ａ＋Ｂ）／Ｄ）が０．０１〜０．１であり、かつ、
（Ｃ）水と（Ｄ）炭化水素の含有重量の比（Ｃ／Ｄ）が
０．０５以下である。本発明によれば、潜傷などの損傷
を光学部品に与えることなく、光学部品に付着した粒子
を十分に洗浄することができ、さらに、この洗浄剤は、
環境規制上使用が制限されている化合物を用いておら
ず、毒性も低いため、使用・取り扱いが容易である。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ１１Ｄ 17/08 Ｃ１１Ｄ 17/08 (72)発明者 松下 景太 埼玉県戸田市新曽南三丁目17番35号 株式 会社ジャパンエナジ−内 Ｆターム(参考） 4H003 AB19 AC08 AC11 AC13 DA15 DB03 DC03 ED02 ED03 FA03 FA21
Claims (2)
- 【請求項１】 （Ａ）アニオン性界面活性剤、（Ｂ）非
イオン性界面活性剤、（Ｃ）水および（Ｄ）炭素数９〜
１８の炭化水素を含有し、（Ａ）アニオン性界面活性剤
と（Ｂ）非イオン性界面活性剤の含有重量の比（Ａ／
Ｂ）が０．０５〜０．４であり、（Ａ）アニオン性界面
活性剤と（Ｂ）非イオン性界面活性剤の合計と（Ｄ）炭
化水素の含有重量の比（（Ａ＋Ｂ）／Ｄ）が０．０１〜
０．１であり、かつ、（Ｃ）水と（Ｄ）炭化水素の含有
重量の比（Ｃ／Ｄ）が０．０５以下である光学部品用洗
浄剤組成物。 - 【請求項２】 請求項１のアニオン性界面活性剤がスル
ホン酸塩および／または硫酸エステル塩であり、請求項
１の非イオン性界面活性剤がポリアルキレングリコール
および／または脂肪酸アルカノールアミドである請求項
１記載の光学部品用洗浄剤組成物。
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|---|---|---|---|
| JP2001057839A JP2002256285A (ja) | 2001-03-02 | 2001-03-02 | 光学部品用洗浄液組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001057839A JP2002256285A (ja) | 2001-03-02 | 2001-03-02 | 光学部品用洗浄液組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002256285A true JP2002256285A (ja) | 2002-09-11 |
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ID=18917655
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP2001057839A Pending JP2002256285A (ja) | 2001-03-02 | 2001-03-02 | 光学部品用洗浄液組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002256285A (ja) |
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-
2001
- 2001-03-02 JP JP2001057839A patent/JP2002256285A/ja active Pending
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