JP2004143409A - 光学部品用洗浄液組成物 - Google Patents
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Abstract
【課題】粒子、ワックス、ピッチ、接着剤が付着した光学部品を洗浄する洗浄液であって、環境に与える影響が少なく、取り扱い上の規制も少なく、光学部品に損傷を与えることなく、かつ、十分な洗浄性を有する洗浄液組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アニオン性界面活性剤、（Ｂ）非イオン性界面活性剤、（Ｃ）水及び（Ｄ）炭素数９〜１８の炭化水素を含有し、（Ａ）アニオン性界面活性剤と（Ｂ）非イオン性界面活性剤の含有重量の比〔（Ａ）／（Ｂ）〕が０．０５〜５であり、（Ａ）アニオン性界面活性剤と（Ｂ）非イオン性界面活性剤の合計量が洗浄液に対して１〜５０重量％であり、かつ（Ｃ）水が洗浄液に対して０．０１〜１０重量％である光学部品用洗浄液組成物。
【選択図】 な し
【解決手段】（Ａ）アニオン性界面活性剤、（Ｂ）非イオン性界面活性剤、（Ｃ）水及び（Ｄ）炭素数９〜１８の炭化水素を含有し、（Ａ）アニオン性界面活性剤と（Ｂ）非イオン性界面活性剤の含有重量の比〔（Ａ）／（Ｂ）〕が０．０５〜５であり、（Ａ）アニオン性界面活性剤と（Ｂ）非イオン性界面活性剤の合計量が洗浄液に対して１〜５０重量％であり、かつ（Ｃ）水が洗浄液に対して０．０１〜１０重量％である光学部品用洗浄液組成物。
【選択図】 な し
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、光学部品に付着したワックス、ピッチ、接着剤、粒子などを洗浄するために用いられる洗浄液組成物に関し、特には、光学部品の加工時に付着するチリ、埃、研磨屑、研磨砥粒などの粒子を除去するために用いられる洗浄液組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
レンズなどの光学部品の製造においては、研磨のために研磨砥粒が用いられている。また、研磨時に光学部品を固定するためにバインダーとしてワックス、ピッチ、接着剤なども用いられ、光学部品表面に付着したこれらの研磨砥粒などの粒子、ワックス、ピッチ、接着剤を除去するために、洗浄工程が設けられている。従来、このような洗浄工程では、トリフロロトリクロロエタンなどのフロン系溶剤あるいは１，１，１−トリクロロエタン、トリクロロエチレン、塩化メチレンなどの塩素系溶剤が洗浄液として使用されてきた。しかし、トリフロロトリクロロエタンや１，１，１−トリクロロエタンはオゾン層を破壊する物質として、１９９５年末にその製造が禁止された。また、トリクロロエチレンや塩化メチレンは毒性が強く、放出された場合に大気汚染・水質汚染を引き起こすため、その使用は厳しく規制されている。
【０００３】
一方、界面活性剤や無機アルカリを添加した水系洗浄液、リン酸塩類などの水溶液系洗浄液の利用も検討されるが、洗浄力が乏しく、かつ排水処理設備に大きなスペースを必要するため経済性の面から好ましくない。また、水系洗浄液や水溶液系洗浄液が光学ガラスに接触すると、潜傷、白焼け、青やけといわれる損傷を生じる場合があり、このような損傷は光学部品として致命的な欠陥となる。また、炭化水素系洗浄剤も検討されているが、ワックス、ピッチ、接着剤に対しての洗浄力はあるものの、粒子に対する洗浄力が乏しい。さらに、炭化水素に界面活性剤を配合した洗浄剤には粒子に対して十分な洗浄力を持つものもあるが、使用される界面活性剤の多くはＰＲＴＲ（Ｐｏｌｌｕｔａｎｔ Ｒｅｌｅａｓｅ ａｎｄ Ｔｒａｎｓｆｅｒ Ｒｅｇｉｓｔｅｒ：環境汚染物質排出移動登録）該当物質である。ＰＲＴＲでは、人の健康や生態系に支障を及ぼすおそれがある化学物質がＰＲＴＲ該当物質として定められ、その販売量、排出量などを行政庁に報告することが義務づけられているため、その管理には十分な注意を払う必要があり、でき得れば使用しないことが望まれている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、このような課題を解決するもので、粒子、ワックス、ピッチ、接着剤が付着した光学部品を洗浄する洗浄液であって、環境に与える影響が少なく、取り扱い上の制約も少なく、光学部品に損傷を与えることなく、かつ、十分な洗浄性を有する洗浄液組成物を提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは前記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、アニオン及び非イオン界面活性剤と水並びに炭化水素を特定比率で含有する洗浄液組成物が、かかる目的を達成するものであることを見出し、本発明を完成した。
【０００６】
即ち、本発明は光学部品を洗浄するための洗浄液であって、（Ａ）アニオン界面活性剤、（Ｂ）非イオン界面活性剤、（Ｃ）水及び（Ｄ）炭素数９〜１８の炭化水素を含有し、（Ａ）アニオン界面活性剤と（Ｂ）非イオン界面活性剤の含有重量の比〔（Ａ）／（Ｂ）〕が０．０５〜５であり、（Ａ）アニオン界面活性剤と（Ｂ）非イオン界面活性剤の合計量が洗浄液に対して１〜５０重量％であり、かつ（Ｃ）水が洗浄液に対して０．０１〜１０重量％である。特に、前記アニオン界面活性剤がアルキルベンゼンスルホン酸塩以外のスルホン酸塩もしくは硫酸エステル塩もしくはカルボン酸塩であり、非イオン界面活性剤がポリオキシエチレンアルキルエーテルおよびポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル以外のポリアルキレングリコール類もしくは脂肪酸エステル類であることが好ましい。
【０００７】
【発明の実施の形態】
［界面活性剤］ 本発明の洗浄液組成物には、（Ａ）アニオン界面活性剤と（Ｂ）非イオン界面活性剤の両方を配合する。（Ａ）アニオン界面活性剤成分としては、アルキルベンゼンスルホン酸塩以外のスルホン酸塩、硫酸エステル塩、カルボン酸塩を用いることが好ましいが、特にはアルキルベンゼンスルホン酸およびその塩以外のスルホン酸塩、硫酸エステル塩が好ましく用いられる。このようなアニオン界面活性剤としては、炭素数８〜１６のアルキルスルホン酸塩、炭素数８〜１６の硫酸化油、炭素数８〜１６のアルキル硫酸塩、ジアルキルスルホコハク酸エステル塩やスルホコハク酸アルキル二塩及びポリオキシエチレンアルキルスルホコハク酸二塩などのスルホコハク酸塩類（ここでアルキル基の炭素数は６〜１３）からなる群より選ばれる少なくとも１種を用いることができる。特にジアルキルスルホコハク酸エステル塩（ここでアルキル基の炭素数は６〜１３）が好ましく用いられる。なお、ここでいう塩は、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩または炭素数１〜５のアルカノールアミン塩などであるが、塩を形成していない酸自体をも用いることができる。
【０００８】
（Ｂ）非イオン界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテルおよびポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル以外のポリアルキレングリコール類、脂肪酸エステル類を用いることが好ましい。このような非イオン（ノニオン）界面活性剤としては、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマー、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル、ポリオキシ脂肪酸エステル類、脂肪酸エステル類からなる群より選ばれる少なくとも１種を用いることができる。特に洗浄力を求める場合には脂肪酸エステル類が、熱安定性を求める場合にはポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマーおよびポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテルが好ましく用いられる。脂肪酸エステル類としては、ソルビタン脂肪酸エステル、エチレングリコール脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、プロピレングリコール脂肪酸エステル等があげられるが、特にソルビタン脂肪酸エステルが好ましい。
【０００９】
ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマーは
ＨＯ−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ａ−（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｂ−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｃ−Ｈ、または、
ＨＯ−（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ａ−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｂ−（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｃ−Ｈ
で表される化合物であり、ポリプロピレングリコール（疎水基）分子量が３５００以下であり、総分子中のエチレンオキシドが５０重量％以下のものが好ましい。
【００１０】
ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテルは、
Ｒ１−Ｏ−（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｎ−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｍ−Ｈ
で表される化合物であり、Ｒ１は炭素数６〜１６のアルキル基、ｎ、ｍは２〜１６であるものが好ましい。
【００１１】
（Ａ）アニオン界面活性剤及び（Ｂ）ノニオン界面活性剤は、アルキルベンゼンスルホン酸塩やポリオキシエチレンアルキルエーテルおよびポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル以外の物質を用いた場合、ＰＲＴＲ非該当となるため、管理が容易となる。
【００１２】
［炭化水素］ 本発明の洗浄液組成物には、炭素数９〜１８の芳香族炭化水素、ナフテン炭化水素または脂肪族炭化水素が配合される。これらの炭化水素は、揮発性が高いと洗浄の際の危険性が高くなるため、沸点範囲が１５０〜３５０℃、特には１６０〜３００℃に含まれることが好ましい。アルキルシクロヘキサン、アルキルテトラリン、アルキルベンゼン、アルキルナフタレンといったナフテン炭化水素あるいは芳香族炭化水素の方が、脂肪族炭化水素よりも洗浄力が高い。このため、脂肪族炭化水素を用いても良いが、ナフテン炭化水素あるいは芳香族炭化水素であることが好ましい。炭化水素の含有量は、洗浄液の重量に対して５０〜９８重量％、特には７５〜９５重量％が好ましい。
【００１３】
［配合量］ 本発明の洗浄液中の（Ａ）アニオン界面活性剤と（Ｂ）非イオン界面活性剤の重量比〔（Ａ）／（Ｂ）〕は、０．０５〜５であり、好ましくは０．２〜３である。これよりもアニオン界面活性剤が少ないと洗浄性が低下し、多い場合は洗浄性が低下し、かつ光学部品に損傷を与えるおそれがある。（Ａ）アニオン界面活性剤と（Ｂ）非イオン界面活性剤の合計の重量は洗浄液の重量に対して１〜５０％であり、好ましくは２〜４０％である。これよりも界面活性剤が少ないと洗浄性が低下し、多い場合は光学部品に損傷を与えるおそれ、及び洗浄性が低下する場合がある。（Ｃ）水の重量は洗浄液の重量に対して０．０１〜１０％であり、好ましくは０．１〜４％である。これよりも水が少ないと洗浄性が低下し、多い場合は光学部品に損傷を与えるおそれがある。なお、洗浄液中の水は、添加したもの、及び吸湿などにより存在するものの双方を含む。
【００１４】
本発明の洗浄液組成物を洗浄対象物である光学部品に接触させることで洗浄することができるが、光学部品と洗浄液組成物とを接触させる方法自体は特に制限はなく、公知のいずれの方法も使用できる。例えば、洗浄液組成物を含浸したスポンジなどによる拭き取り、洗浄液組成物への浸漬及び／又はスプレーなどにより実施することが好ましい。浸漬による洗浄においては、洗浄効果を高めるために、同時に攪拌、揺動、超音波またはエアバブリングなどを組み合わせることが更に好ましい。また、本発明の洗浄液組成物は界面活性剤を含有するため、界面活性剤の除去や乾燥性を高めるため洗浄対象物を洗浄した後、本発明による洗浄液よりも低沸点の炭化水素、特には脂肪族炭化水素によるリンスを行うことが好ましい。
【００１５】
本発明で使用する洗浄液は、本発明の効果を損なわない限り、他の洗浄液、各種の添加剤を配合することができる。他の洗浄液成分としては、本発明で特定する炭化水素以外の炭化水素、各種のアルコール、ケトン、エステル、ポリエーテル、塩素を含有しないハイドロフルオロカーボン、Ｎ−メチルピロリドン、シクロヘキサノンなどであり、添加剤としては、酸化防止剤、防腐剤、界面活性剤などが挙げられる。本発明の（Ａ）アニオン界面活性剤、（Ｂ）非イオン界面活性剤および（Ｃ）炭素数９〜１８の炭化水素以外の成分は、洗浄液の重量に対して１０重量％以下、特には５重量％以下であることが好ましい。
【００１６】
本発明の洗浄液組成物は、光学部品に付着した粒子を洗浄するために好ましく用いられる。このような光学部品としてはレンズ、プリズム、光学用窓材などがあげられる。これらの製造工程において、部品表面の研磨などの目的で研磨剤を用いることがあり、同時に保管時や作業中にチリ、埃が付着することがある。汚染物となる粒子を具体的に例示すれば、研磨用としての酸化セリウムなどの研磨砥粒、ガラスなど切削屑、チリ、埃などが粒子として挙げられる。
【００１７】
【実施例】
以下、本発明を実施例、比較例により更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例により限定されるものではない。
【００１８】
実施例として調製した洗浄液の配合量を表１に、比較例として調製した洗浄液の配合量を表２に示す。表中、ＥＯ／ＰＯブロックコポリマーは
ＨＯ−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ａ−（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｂ−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｃ−Ｈ
表されるポリオキシアルキレンポリオキシプロピレンブロックコポリマーであり、含まれるポリプロピレングリコール分子量は３２５０で、１０重量％のエチレンオキシドを含むものである。芳香族炭化水素は炭素数１３〜１４のアルキルナフタレンおよびジメチルナフタレンを９９重量％含み、沸点範囲が２６０℃から２７５℃である芳香族炭化水素を示す。
【００１９】
【表１】
【００２０】
【表２】
【００２１】
［洗浄性テスト］ 研磨砥粒である酸化セリウムを水に分散し、レンズにすりつけた後１０分程度室温にて乾かした。これを被検液（洗浄液）に浸せきし、２５℃で超音波照射下に５分間洗浄を行い、ノルマルパラフィン系洗浄剤（日鉱石油化学製ＮＳ１００）を用いて２度リンスを行った後、レンズを乾燥し、レンズ表面の酸化セリウムの残留状態を観察した。レンズに酸化セリウムが残留していないものを○、わずかに薄い白膜が残留しているものを△、残留しているものを×として評価し、表１、２に併せて示した。ワックス、ピッチ、接着剤に関してもレンズにこれらの汚れを付着させ、上記の方法と同様に洗浄性を評価した。また、レンズの潜傷のないものを○、潜傷の生じたものを×として評価し、表１，２に併せて示した。なお、レンズの潜傷の有無は、３００Ｗのハロゲンランプからの光路上約２０ｃｍにレンズを置き、透過光にて正面から目視する方法で、レンズに傷を生じているかどうかにより判定した。
【００２２】
【発明の効果】
本発明の光学部品用洗浄液は、潜傷などの損傷を光学部品に与えることなく、光学部品に付着した粒子を十分に洗浄することができ、さらに、この洗浄液は、環境規制上使用が制限されている化合物を用いておらず、毒性も低いため、使用・取り扱いが容易である。
【産業上の利用分野】
本発明は、光学部品に付着したワックス、ピッチ、接着剤、粒子などを洗浄するために用いられる洗浄液組成物に関し、特には、光学部品の加工時に付着するチリ、埃、研磨屑、研磨砥粒などの粒子を除去するために用いられる洗浄液組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
レンズなどの光学部品の製造においては、研磨のために研磨砥粒が用いられている。また、研磨時に光学部品を固定するためにバインダーとしてワックス、ピッチ、接着剤なども用いられ、光学部品表面に付着したこれらの研磨砥粒などの粒子、ワックス、ピッチ、接着剤を除去するために、洗浄工程が設けられている。従来、このような洗浄工程では、トリフロロトリクロロエタンなどのフロン系溶剤あるいは１，１，１−トリクロロエタン、トリクロロエチレン、塩化メチレンなどの塩素系溶剤が洗浄液として使用されてきた。しかし、トリフロロトリクロロエタンや１，１，１−トリクロロエタンはオゾン層を破壊する物質として、１９９５年末にその製造が禁止された。また、トリクロロエチレンや塩化メチレンは毒性が強く、放出された場合に大気汚染・水質汚染を引き起こすため、その使用は厳しく規制されている。
【０００３】
一方、界面活性剤や無機アルカリを添加した水系洗浄液、リン酸塩類などの水溶液系洗浄液の利用も検討されるが、洗浄力が乏しく、かつ排水処理設備に大きなスペースを必要するため経済性の面から好ましくない。また、水系洗浄液や水溶液系洗浄液が光学ガラスに接触すると、潜傷、白焼け、青やけといわれる損傷を生じる場合があり、このような損傷は光学部品として致命的な欠陥となる。また、炭化水素系洗浄剤も検討されているが、ワックス、ピッチ、接着剤に対しての洗浄力はあるものの、粒子に対する洗浄力が乏しい。さらに、炭化水素に界面活性剤を配合した洗浄剤には粒子に対して十分な洗浄力を持つものもあるが、使用される界面活性剤の多くはＰＲＴＲ（Ｐｏｌｌｕｔａｎｔ Ｒｅｌｅａｓｅ ａｎｄ Ｔｒａｎｓｆｅｒ Ｒｅｇｉｓｔｅｒ：環境汚染物質排出移動登録）該当物質である。ＰＲＴＲでは、人の健康や生態系に支障を及ぼすおそれがある化学物質がＰＲＴＲ該当物質として定められ、その販売量、排出量などを行政庁に報告することが義務づけられているため、その管理には十分な注意を払う必要があり、でき得れば使用しないことが望まれている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、このような課題を解決するもので、粒子、ワックス、ピッチ、接着剤が付着した光学部品を洗浄する洗浄液であって、環境に与える影響が少なく、取り扱い上の制約も少なく、光学部品に損傷を与えることなく、かつ、十分な洗浄性を有する洗浄液組成物を提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは前記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、アニオン及び非イオン界面活性剤と水並びに炭化水素を特定比率で含有する洗浄液組成物が、かかる目的を達成するものであることを見出し、本発明を完成した。
【０００６】
即ち、本発明は光学部品を洗浄するための洗浄液であって、（Ａ）アニオン界面活性剤、（Ｂ）非イオン界面活性剤、（Ｃ）水及び（Ｄ）炭素数９〜１８の炭化水素を含有し、（Ａ）アニオン界面活性剤と（Ｂ）非イオン界面活性剤の含有重量の比〔（Ａ）／（Ｂ）〕が０．０５〜５であり、（Ａ）アニオン界面活性剤と（Ｂ）非イオン界面活性剤の合計量が洗浄液に対して１〜５０重量％であり、かつ（Ｃ）水が洗浄液に対して０．０１〜１０重量％である。特に、前記アニオン界面活性剤がアルキルベンゼンスルホン酸塩以外のスルホン酸塩もしくは硫酸エステル塩もしくはカルボン酸塩であり、非イオン界面活性剤がポリオキシエチレンアルキルエーテルおよびポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル以外のポリアルキレングリコール類もしくは脂肪酸エステル類であることが好ましい。
【０００７】
【発明の実施の形態】
［界面活性剤］ 本発明の洗浄液組成物には、（Ａ）アニオン界面活性剤と（Ｂ）非イオン界面活性剤の両方を配合する。（Ａ）アニオン界面活性剤成分としては、アルキルベンゼンスルホン酸塩以外のスルホン酸塩、硫酸エステル塩、カルボン酸塩を用いることが好ましいが、特にはアルキルベンゼンスルホン酸およびその塩以外のスルホン酸塩、硫酸エステル塩が好ましく用いられる。このようなアニオン界面活性剤としては、炭素数８〜１６のアルキルスルホン酸塩、炭素数８〜１６の硫酸化油、炭素数８〜１６のアルキル硫酸塩、ジアルキルスルホコハク酸エステル塩やスルホコハク酸アルキル二塩及びポリオキシエチレンアルキルスルホコハク酸二塩などのスルホコハク酸塩類（ここでアルキル基の炭素数は６〜１３）からなる群より選ばれる少なくとも１種を用いることができる。特にジアルキルスルホコハク酸エステル塩（ここでアルキル基の炭素数は６〜１３）が好ましく用いられる。なお、ここでいう塩は、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩または炭素数１〜５のアルカノールアミン塩などであるが、塩を形成していない酸自体をも用いることができる。
【０００８】
（Ｂ）非イオン界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテルおよびポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル以外のポリアルキレングリコール類、脂肪酸エステル類を用いることが好ましい。このような非イオン（ノニオン）界面活性剤としては、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマー、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル、ポリオキシ脂肪酸エステル類、脂肪酸エステル類からなる群より選ばれる少なくとも１種を用いることができる。特に洗浄力を求める場合には脂肪酸エステル類が、熱安定性を求める場合にはポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマーおよびポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテルが好ましく用いられる。脂肪酸エステル類としては、ソルビタン脂肪酸エステル、エチレングリコール脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、プロピレングリコール脂肪酸エステル等があげられるが、特にソルビタン脂肪酸エステルが好ましい。
【０００９】
ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマーは
ＨＯ−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ａ−（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｂ−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｃ−Ｈ、または、
ＨＯ−（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ａ−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｂ−（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｃ−Ｈ
で表される化合物であり、ポリプロピレングリコール（疎水基）分子量が３５００以下であり、総分子中のエチレンオキシドが５０重量％以下のものが好ましい。
【００１０】
ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテルは、
Ｒ１−Ｏ−（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｎ−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｍ−Ｈ
で表される化合物であり、Ｒ１は炭素数６〜１６のアルキル基、ｎ、ｍは２〜１６であるものが好ましい。
【００１１】
（Ａ）アニオン界面活性剤及び（Ｂ）ノニオン界面活性剤は、アルキルベンゼンスルホン酸塩やポリオキシエチレンアルキルエーテルおよびポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル以外の物質を用いた場合、ＰＲＴＲ非該当となるため、管理が容易となる。
【００１２】
［炭化水素］ 本発明の洗浄液組成物には、炭素数９〜１８の芳香族炭化水素、ナフテン炭化水素または脂肪族炭化水素が配合される。これらの炭化水素は、揮発性が高いと洗浄の際の危険性が高くなるため、沸点範囲が１５０〜３５０℃、特には１６０〜３００℃に含まれることが好ましい。アルキルシクロヘキサン、アルキルテトラリン、アルキルベンゼン、アルキルナフタレンといったナフテン炭化水素あるいは芳香族炭化水素の方が、脂肪族炭化水素よりも洗浄力が高い。このため、脂肪族炭化水素を用いても良いが、ナフテン炭化水素あるいは芳香族炭化水素であることが好ましい。炭化水素の含有量は、洗浄液の重量に対して５０〜９８重量％、特には７５〜９５重量％が好ましい。
【００１３】
［配合量］ 本発明の洗浄液中の（Ａ）アニオン界面活性剤と（Ｂ）非イオン界面活性剤の重量比〔（Ａ）／（Ｂ）〕は、０．０５〜５であり、好ましくは０．２〜３である。これよりもアニオン界面活性剤が少ないと洗浄性が低下し、多い場合は洗浄性が低下し、かつ光学部品に損傷を与えるおそれがある。（Ａ）アニオン界面活性剤と（Ｂ）非イオン界面活性剤の合計の重量は洗浄液の重量に対して１〜５０％であり、好ましくは２〜４０％である。これよりも界面活性剤が少ないと洗浄性が低下し、多い場合は光学部品に損傷を与えるおそれ、及び洗浄性が低下する場合がある。（Ｃ）水の重量は洗浄液の重量に対して０．０１〜１０％であり、好ましくは０．１〜４％である。これよりも水が少ないと洗浄性が低下し、多い場合は光学部品に損傷を与えるおそれがある。なお、洗浄液中の水は、添加したもの、及び吸湿などにより存在するものの双方を含む。
【００１４】
本発明の洗浄液組成物を洗浄対象物である光学部品に接触させることで洗浄することができるが、光学部品と洗浄液組成物とを接触させる方法自体は特に制限はなく、公知のいずれの方法も使用できる。例えば、洗浄液組成物を含浸したスポンジなどによる拭き取り、洗浄液組成物への浸漬及び／又はスプレーなどにより実施することが好ましい。浸漬による洗浄においては、洗浄効果を高めるために、同時に攪拌、揺動、超音波またはエアバブリングなどを組み合わせることが更に好ましい。また、本発明の洗浄液組成物は界面活性剤を含有するため、界面活性剤の除去や乾燥性を高めるため洗浄対象物を洗浄した後、本発明による洗浄液よりも低沸点の炭化水素、特には脂肪族炭化水素によるリンスを行うことが好ましい。
【００１５】
本発明で使用する洗浄液は、本発明の効果を損なわない限り、他の洗浄液、各種の添加剤を配合することができる。他の洗浄液成分としては、本発明で特定する炭化水素以外の炭化水素、各種のアルコール、ケトン、エステル、ポリエーテル、塩素を含有しないハイドロフルオロカーボン、Ｎ−メチルピロリドン、シクロヘキサノンなどであり、添加剤としては、酸化防止剤、防腐剤、界面活性剤などが挙げられる。本発明の（Ａ）アニオン界面活性剤、（Ｂ）非イオン界面活性剤および（Ｃ）炭素数９〜１８の炭化水素以外の成分は、洗浄液の重量に対して１０重量％以下、特には５重量％以下であることが好ましい。
【００１６】
本発明の洗浄液組成物は、光学部品に付着した粒子を洗浄するために好ましく用いられる。このような光学部品としてはレンズ、プリズム、光学用窓材などがあげられる。これらの製造工程において、部品表面の研磨などの目的で研磨剤を用いることがあり、同時に保管時や作業中にチリ、埃が付着することがある。汚染物となる粒子を具体的に例示すれば、研磨用としての酸化セリウムなどの研磨砥粒、ガラスなど切削屑、チリ、埃などが粒子として挙げられる。
【００１７】
【実施例】
以下、本発明を実施例、比較例により更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例により限定されるものではない。
【００１８】
実施例として調製した洗浄液の配合量を表１に、比較例として調製した洗浄液の配合量を表２に示す。表中、ＥＯ／ＰＯブロックコポリマーは
ＨＯ−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ａ−（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｂ−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｃ−Ｈ
表されるポリオキシアルキレンポリオキシプロピレンブロックコポリマーであり、含まれるポリプロピレングリコール分子量は３２５０で、１０重量％のエチレンオキシドを含むものである。芳香族炭化水素は炭素数１３〜１４のアルキルナフタレンおよびジメチルナフタレンを９９重量％含み、沸点範囲が２６０℃から２７５℃である芳香族炭化水素を示す。
【００１９】
【表１】
【表２】
［洗浄性テスト］ 研磨砥粒である酸化セリウムを水に分散し、レンズにすりつけた後１０分程度室温にて乾かした。これを被検液（洗浄液）に浸せきし、２５℃で超音波照射下に５分間洗浄を行い、ノルマルパラフィン系洗浄剤（日鉱石油化学製ＮＳ１００）を用いて２度リンスを行った後、レンズを乾燥し、レンズ表面の酸化セリウムの残留状態を観察した。レンズに酸化セリウムが残留していないものを○、わずかに薄い白膜が残留しているものを△、残留しているものを×として評価し、表１、２に併せて示した。ワックス、ピッチ、接着剤に関してもレンズにこれらの汚れを付着させ、上記の方法と同様に洗浄性を評価した。また、レンズの潜傷のないものを○、潜傷の生じたものを×として評価し、表１，２に併せて示した。なお、レンズの潜傷の有無は、３００Ｗのハロゲンランプからの光路上約２０ｃｍにレンズを置き、透過光にて正面から目視する方法で、レンズに傷を生じているかどうかにより判定した。
【００２２】
【発明の効果】
本発明の光学部品用洗浄液は、潜傷などの損傷を光学部品に与えることなく、光学部品に付着した粒子を十分に洗浄することができ、さらに、この洗浄液は、環境規制上使用が制限されている化合物を用いておらず、毒性も低いため、使用・取り扱いが容易である。
Claims (2)
- （Ａ）アニオン界面活性剤、（Ｂ）非イオン界面活性剤、（Ｃ）水及び（Ｄ）炭素数９〜１８の炭化水素を含有し、（Ａ）アニオン界面活性剤と（Ｂ）非イオン界面活性剤の含有重量の比〔（Ａ）／（Ｂ）〕が０．０５〜５であり、（Ａ）アニオン界面活性剤と（Ｂ）非イオン界面活性剤の合計量が洗浄液に対して１〜５０重量％であり、かつ（Ｃ）水が洗浄液に対して０．０１〜１０重量％である光学部品用洗浄液組成物。
- 上記アニオン界面活性剤がアルキルベンゼンスルホン酸塩以外のスルホン酸塩もしくは硫酸エステル塩もしくはカルボン酸塩であり、非イオン界面活性剤がポリオキシエチレンアルキルエーテルおよびポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル以外のポリアルキレングリコール類もしくは脂肪酸エステル類である請求項１に記載の光学部品用洗浄液組成物。
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