JPH09125099A - 洗浄組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 非水系洗浄剤では除去することができない金
属屑、樹脂バリ屑、研磨砥粒、半田屑、セラミック削り
屑を良好に除去できる洗浄組成物を提供する。 【解決手段】 非水系洗浄剤ａと、界面活性剤ｂと、水
ｃとの３成分の混合であり、界面活性剤ｂが全体１００
重量部に対して０．５重量部以上３重量部以下で、水ｃ
が全体１００重量部に対して０．１重量部以上１．５重
量部以下であり、水ｃが界面活性剤ｂ１００重量部に対
して５重量部以上５０重量部以下の組成の洗浄剤とす
る。洗浄剤中にミセルができ、ミセルによって上述した
屑類を確実に除去できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、金属加工部品、樹
脂成形部品、ガラス成形部品、電気基板、セラミック加
工部品等の工業用洗浄に用いる洗浄組成物に関し、特に
非水系洗浄剤として石油系洗浄剤の一種である炭化水素
洗浄剤を用いた洗浄組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】金属加工部、樹脂成形部品、ガラス成形
部品、電気基板、セラミック加工部品等の洗浄には、高
い化学的安定性・難燃性・高い洗浄性・無毒性等の理由
からフロンに代表されるハロゲン含有有機溶剤が使用さ
れてきた。ところが現在では地球規模での環境破壊が指
摘され、フロンに代表されるハロゲン含有有機溶剤は使
用が著しく制限されている。このため特開平４−１３６
０９９号公報、特開平５−１１７６９１号公報、特開平
６−３３６５９９号公報に記載されるように、ハロゲン
含有有機溶剤を用いない非水系洗浄剤へと転換が進んで
いる。

【０００３】しかしフロンに代表されるハロゲン含有有
機溶剤はかなり広範囲の被洗浄物・汚れを洗浄できた
が、一般の非水系洗浄剤は洗浄性能の点でハロゲン含有
有機溶剤ほど広範囲に適用できる洗浄力を有していな
い。特に非水系洗浄剤の内で石油系洗浄剤である炭化水
素系洗浄剤は主剤が非極性なパラフィン系溶剤であるこ
とから金属加工部品、樹脂成形部品、ガラス成形部品、
電気基板、セラミック加工部品等の加工工程で使用され
る加工油、切削油、機械油、防錆油等の内の大部分の液
状汚れに対する洗浄性を有しているが、その他の極性を
有する液状汚れつまり基本的に非水系洗浄剤に相溶しな
い液状汚れや無機物などの固形状汚れには充分な洗浄力
を有していない。

【０００４】このため特開平６−３３６５９９号公報で
は、環状テルペン類、テルペンアルコール類、グリコー
ルアルコール類等の炭化水素系洗浄剤に相溶可能な極性
を有する溶剤を添加することで、極性を有する液状・固
形状汚れなどを溶解して、除去することが行われてい
る。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで実際の金属加
工部品、樹脂成形部品、ガラス成形部品、電気基板、セ
ラミック加工部品等の加工後の表面には、加工油、切削
油、機械油、防錆油等の液状汚れが付着しているのに加
えて、加工工程で生じた金属屑、樹脂バリ屑、研磨砥
粒、ハンダ屑、セラミック削り屑などの無機物、有機物
の固体汚れがスラッジを形成した状態で強固に付着して
いる。上述した極性有機溶剤を添加した非水系洗浄剤は
スラッジ状になっているものでも加工油、切削油、機械
油、防錆油等の液状汚れの大部分は洗浄可能であるが、
固体汚れの一部は洗浄できないまま被洗浄物の表面に残
留することが多い。

【０００６】これに対して、金属屑、樹脂バリ屑、研磨
砥粒、ハンダ屑、セラミック削り屑などの固体汚れを被
洗浄物表面から剥離させるため、洗浄剤の洗浄力以外の
物理力としての超音波、液中噴流、洗浄剤シャワー、洗
浄剤ジェット噴流などを作用させることで洗浄工程の改
良を行っているが、これによっても完全に剥離すること
ができていない。

【０００７】特に大きさが数十μｍ以下の微小径固体汚
れは、洗浄工程の改良だけでは、剥離しきれず最終的に
被洗浄物の表面に残留することが多い。そのために洗浄
工程が終了した後に、別途金属屑、樹脂バリ屑、研磨砥
粒、ハンダ屑、セラミック削り屑などの固体汚れ、特に
微小径固体汚れを人手によって掻き取る或いは拭き取る
などの工程を必要としている。このことは洗浄要求精度
が高かったり、被洗浄物の形状が複雑であったり、被洗
浄物の材質が侵され易い場合等において、非常に大きな
工数を必要とし、結果として洗浄コストが高騰してい
る。

【０００８】本発明は、このような事情を考慮してなさ
れたものであり、非水系洗浄剤をベースにしているにも
関わらず、金属屑、樹脂バリ屑、研磨砥粒、ハンダ屑、
セラミック削り屑などの固体汚れを通常の洗浄工程で剥
離できる洗浄力を有した洗浄組成物を提供することを目
的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
請求項１の発明は、非水系洗浄剤ａと、界面活性剤ｂ
と、水ｃとの３成分の混合であり、前記界面活性剤ｂが
全体１００重量部に対して０．５重量部以上３重量部以
下で、前記水ｃが全体１００重量部に対して０．１重量
部以上１．５重量部以下であり、前記水ｃが前記界面活
性剤ｂ１００重量部に対して５重量部以上５０重量部以
下であることを特徴とする。

【００１０】請求項２の発明は、上記請求項１において
前記界面活性剤ｂが１種類以上の水溶性界面活性剤ｄと
１種類以上の油溶性界面活性剤ｅとから構成され、かつ
水溶性界面活性剤ｄと油溶性界面活性剤ｅはポリオキシ
アルキレン基含有界面活性剤、リン酸エーテル基含有界
面活性剤、カルボキシル基含有界面活性剤、硫酸エーテ
ル基含有界面活性剤、アミノ酸類界面活性剤、グリセリ
ン類界面活性剤、アンモニウム塩類界面活性剤の内のい
ずれか、またはこれらが塩により中和されて改質された
ノニオン系、アニオン系、カチオン系の界面活性剤のい
ずれかであり、前記水溶性界面活性剤ｄが全体の界面活
性剤１００重量部に対して２０重量部以上８０重量部以
下であることを特徴とする。

【００１１】請求項３の発明は、請求項１及び２におい
て、前記非水系洗浄剤ａがノルマルパラフィン系有機溶
剤、イソパラフィン系有機溶剤、シクロパラフィン系有
機溶剤、単環芳香族含有有機溶剤またはこれらの混合で
あることを特徴とする。

【００１２】請求項４の発明は非水系洗浄剤ｆと、界面
活性剤ｇと、水ｈとの３成分の混合であり、前記界面活
性剤ｇが全体１００重量部に対して５重量部以上３０重
量部以下で、前記水ｈが全体１００重量部に対して１重
量部以上１５重量部以下であり、前記水ｈが界面活性剤
ｇ１００重量部に対して５重量部以上５０重量部以下の
混合比となっており、この混合比の混合物が前記非水系
洗浄剤ｆと同一の或いは異なる非水系洗浄剤ｉ１００重
量部に対し５重量部以上３０重量部以下に希釈されてい
ることを特徴とする。

【００１３】請求項５の発明は、請求項４において、前
記界面活性剤ｇが１種類以上の水溶性界面活性剤ｊと１
種類以上の油溶性界面活性剤ｋとから構成され、かつ水
溶性界面活性剤ｊと油溶性界面活性剤ｋはポリオキシア
ルキレン基含有界面活性剤、リン酸エーテル基含有界面
活性剤、カルボキシル基含有界面活性剤、硫酸エーテル
基含有界面活性剤、アミノ酸類界面活性剤、グリセリン
類界面活性剤、アンモニウム塩類界面活性剤の内のいず
れか、またはこれらが塩により中和されて改質されたノ
ニオン系、アニオン系、カチオン系の界面活性剤のいず
れかであり、前記水溶性界面活性剤ｊが全体の界面活性
剤１００重量部に対して２０重量部以上８０重量部以下
であることを特徴とする。

【００１４】請求項６の発明は、請求項４及び５におい
て、前記非水系洗浄剤ｆ及びｉがノルマルパラフィン系
有機溶剤，イソパラフィン系有機溶剤，シクロパラフィ
ン系有機溶剤，単環芳香族含有有機溶剤またはこれらの
混合であることを特徴とする。

【００１５】金属加工部品、樹脂成形部品、ガラス成形
部品、電気基板、セラミック加工部品等の被洗浄物表面
に付着している金属屑、樹脂バリ屑、研磨砥粒、ハンダ
屑、セラミック削り屑などの固体汚れ、特に大きさが数
十μｍ以下である微小径固体汚れは、非水系洗浄剤のよ
うな液体中では非水系洗浄剤との相互作用によって表面
電荷が生じ、微小径固体汚れの表面電荷に起因する静電
気吸着によって被洗浄物の表面に強固に付着している。
このため炭化水素系のような非水系洗浄剤だけでは、こ
の静電気吸着に打ち勝つ剥離力を与えることができな
い。

【００１６】本発明の洗浄組成物は、非水系洗浄剤と水
および界面活性剤とからなる。請求項１〜３の洗浄組成
物（以下洗浄組成物Ａと記する）は、金属加工部品、樹
脂成形部品、ガラス成形部品、電気基板、セラミック加
工部品等の工業用洗浄において、直接に洗浄剤として使
用するものである。この洗浄組成物Ａは界面活性剤ｂと
水ｃと非水系洗浄剤ａとを混合相溶することで非水系洗
浄剤ａ中に界面活性剤ｂと水ｃとによってミセルを形成
している。

【００１７】請求項４〜６の洗浄組成物は、非水系洗浄
剤を用いる工業用洗浄において、非水系洗浄剤の洗浄力
を向上させるために非水系洗浄剤に添加して洗浄に使用
するものである。この洗浄組成物は界面活性剤ｇと水ｈ
と非水系洗浄剤ｆとを混合相溶しており、さらに非水系
洗浄剤ｉによって希釈することで洗浄組成物Ａと同様に
非水系洗浄剤ｆ及びｉ中に水ｈと界面活性剤ｇによって
ミセルを形成している。以下、非水系洗浄剤ｉによって
希釈して取り扱う洗浄組成物を洗浄組成物Ｂと記する。

【００１８】洗浄組成物Ａまたは洗浄組成物Ｂ中に上述
した被洗浄物を浸漬すると、界面活性剤ｂまたは界面活
性剤ｇに起因する界面吸着力によって被洗浄物の表面に
ミセルが速やかに吸着される。次に被洗浄物表面にミセ
ルが接触すると、ミセル中の水ｃまたはｈが被洗浄物表
面の微小径固体汚れに接触し、その表面電荷を中和す
る。その結果、被洗浄物と微小径固体汚れとの間の静電
気吸着力が弱められ、微小径固体汚れが被洗浄物表面か
ら剥離されて、非水径洗浄剤中に分散され易くなり洗浄
が達成される。

【００１９】界面活性剤ｂまたはｇと水ｃまたはｈとの
量が請求項記載の範囲より少ない場合、洗浄組成物Ａま
たはＢ中でのミセル濃度が低くなり界面吸着力が低下す
る。このためミセルと微小径固体汚れとの接触が起こり
難くなり、洗浄効果が著しく減少する。

【００２０】本発明の洗浄組成物を用いた洗浄では一般
に用いられている揺動、超音波振動、液噴流、液攪拌な
どの物理的作用を加えることで被洗浄物から微小固体汚
れを引き離す効果を増大させることができる。しかし界
面活性剤ｂまたはｇと水ｃまたはｈとの量が請求項の範
囲より多いと、洗浄組成物ＡまたはＢの粘度が高くなっ
て流動性が減少するため、上述した物理的作用による洗
浄効果の向上を図れることができない。

【００２１】洗浄組成物Ｂは、非水系洗浄剤ｉとして市
販されている各種非水系洗浄剤によって希釈して取り扱
うことにより洗浄組成物Ａと同様の洗浄効果が得られる
ことから洗浄助剤として機能する。

【００２２】さらに界面活性剤ｂまたはｇとして水溶性
界面活性剤ｄと油溶性界面活性剤ｅまたは水溶性界面活
性剤ｊと油溶性界面活性剤ｋとを組み合わせることで、
中心部に水溶性界面活性剤が多く存在し、外側には油溶
性界面活性剤が多く存在するミセルが形成される。その
結果、非水系洗浄剤中にミセルを均一・安定に分散させ
ることが可能になり、洗浄条件に左右されることなく強
力な洗浄力を発揮できる。さらに、水ｃまたはｈと水溶
性界面活性剤ｄまたはｊおよび油溶性界面活性剤ｅまた
はｋによるミセルが被洗浄物表面から引き離された微小
固体汚れを覆うことで斥力が生じ、微小固体汚れが再凝
集することを防ぐと共に、被洗浄物表面に再付着するこ
とを防止することができる。

【００２３】水溶性界面活性剤ｄまたはｊの量が請求項
記載の範囲より少ない場合、ミセルは油溶性が大きくな
り、洗浄組成物ＡまたはＢ中での界面吸着力が低下する
ため、ミセルと微小系固体汚れとの接触が起こり難くな
り、洗浄効果が著しく減少する。逆に水溶性界面活性剤
ｄまたはｊの量が請求項記載の範囲より多い場合、ミセ
ルは水溶性が大きくなり、洗浄組成物ＡまたはＢ中でミ
セル状態を維持できなくなり洗浄効果が著しく低下す
る。

【００２４】また、上記界面活性剤は必要に応じて塩に
中和することによりノニオン系、アニオン系、またはカ
チオン系の界面活性剤に改質されて使用する。ノニオン
系の界面活性剤に改質することにより、被洗浄物へのダ
メージの発生を低減できる。逆にアニオン系またはカチ
オン系の界面活性剤に改質することにより、無機物の汚
れに対する親和性が高くなり、その結果洗浄力を向上さ
せることができる。

【００２５】以上のように洗浄組成物Ａまたは洗浄組成
物Ｂを用いることでほとんど従来と同じ洗浄工程で、被
水系洗浄のみでは対応することができなかった金属屑、
樹脂バリ屑、研磨砥粒、ハンダ屑、セラミック削り屑な
どの固体汚れを洗浄することが可能となる。また洗浄組
成物Ｂは、従来の非水系洗浄剤の洗浄助剤として取り扱
うことによって、従来の非水系洗浄剤であっても洗浄組
成物Ａと同様の効果を得られる。

【００２６】

【発明の実施の形態】以下、請求項１〜３の洗浄組成物
に対応する実施の形態を実施の形態１〜１１に、比較例
を比較例１〜６に示す。また、これらの結果による比較
を表１及び表２に示す。

【００２７】（実施の形態１）光学プリズム各面の研磨
間での研磨面の洗浄に洗浄組成物を適用し、その評価を
行った。この洗浄に使用したプリズムの外観を図１に示
す。このプリズムは面ａ、ｂ、ｃのそれぞれが研磨され
る。各面の研磨には、粒径平均約２μｍの酸化セリウム
粒子を研磨砥粒とし、界面活性剤によって水に分散させ
た研磨スラリーを用いるため、洗浄前にはプリズム表面
に酸化セリウム粒子が残留している。各コーナーはラッ
プ研磨されている。

【００２８】洗浄システムの概要を図２に示し、１は洗
浄槽、２はすすぎ洗浄槽であり、これらの槽１、２の内
部には超音波振動子４、５が設けられている。プリズム
はその搬送経路３に従って、まず洗浄槽１内で、超音波
振動を印可されて洗浄組成物６によって洗浄される。つ
ぎにすすぎ洗浄槽２に浸漬され、超音波振動を印可され
てすすぎ洗浄剤７によってすすぎ洗浄される。最後に加
熱乾燥工程で乾燥された後、必要に応じて次工程に送ら
れる。この洗浄システムは一般的に実施されている洗浄
システムに基づいている。

【００２９】洗浄組成物の成分と洗浄条件は以下に示す
通りである。 洗浄組成物 第１成分：ナフテゾールＭ （日本石油化学株式会社製、シクロパラフィン系有機溶剤） ９９．０重量部 第２成分：純水 ０．３重量部 第３成分：ＢＴ−９ （日本ケミカルズ株式会社製、ポリオキシアルキレン系ノニオン水 溶性界面活性剤） ０．５重量部 第４成分：ＤＤＰ−２ （日本ケミカルズ株式会社製、リン酸エーテル系アニオン油溶性界 面活性剤） ０．２重量部

【００３０】洗浄条件 すすぎ洗浄剤：ＩＰＡ（イソプロピルアルコール） 洗浄槽容積 ：２５リットル 超音波装置 ：２５ｋＨｚ、６００Ｗ 洗浄タクトタイム：６ｍｉｎ

【００３１】洗浄性の評価は加熱乾燥工程終了後のプリ
ズムを抜き取りによって行った。評価法は双眼実体顕微
鏡（３００倍拡大）で観察し、プリズムの研磨面にプリ
ズム研磨時の酸化セリウム粒子が残っていないものを良
品として判定した。結果を表１に示す。

【００３２】（実施の形態２）光学プリズム各面の研磨
間での研磨面の洗浄に適用し、その評価を行った。洗浄
では図１に示すプリズムを被洗浄物とした。このプリズ
ムはその洗浄前には実施の形態１と同じく面ａ、ｂおよ
びｃに酸化セリウム粒子が残留している。洗浄システム
の概要は図２に示す実施の形態１と同一とした。洗浄組
成物と洗浄条件は以下に示す通りである。

【００３３】 洗浄組成物 第１成分：ダフニーアルファークリーナーＭ （出光興産株式会社製、イソパラフィン系有機溶剤） ９９．０重量部 第２成分：純水 ０．３重量部 第３成分：ＢＴ−９ （日本ケミカルズ株式会社製、ポリオキシアルキレン系ノニオン水 溶性界面活性剤） ０．５重量部 第４成分：ＤＤＰ−２ （日本ケミカルズ株式会社製、リン酸エーテル系アニオン油溶性界 面活性剤） ０．２重量部

【００３４】洗浄条件 すすぎ洗浄剤：ＩＰＡ 洗浄槽容積 ：２５リットル 超音波装置 ：２５ｋＨｚ、６００Ｗ 洗浄タクトタイム：６ｍｉｎ

【００３５】洗浄性の評価は実施の形態１と同じ評価方
法を用いた。結果を表１に示す。

【００３６】（実施の形態３）光学プリズム各面の研磨
間での研磨面の洗浄に適用し、その評価を行った。洗浄
では図１に示すプリズムを被洗浄物とした。このプリズ
ムはその洗浄前には実施の形態１と同じく面ａ、ｂおよ
びｃに酸化セリウム粒子が残留している。洗浄システム
の概要は図２に示す実施の形態１と同一とした。洗浄組
成物と洗浄条件は以下に示す通りである。

【００３７】 洗浄組成物 第１成分：クリーンゾール♯３０００ （三興石油工業株式会社製、イソパラフィン系有機溶剤） ９９．０重量部 第２成分：純水 ０．３重量部 第３成分：ＢＴ−９ （日本ケミカルズ株式会社製、ポリオキシアルキレン系ノニオン水 溶性界面活性剤） ０．５重量部 第４成分：ＤＤＰ−２ （日本ケミカルズ株式会社製、リン酸エーテル系アニオン油溶性界 面活性剤） ０．２重量部

【００３８】洗浄条件 すすぎ洗浄剤：ＩＰＡ 洗浄槽容積 ：２５リットル 超音波装置 ：２５ｋＨｚ、６００Ｗ 洗浄タクトタイム：６ｍｉｎ

【００３９】洗浄性の評価は実施の形態１と同じ評価方
法を用いた。結果を表１に示す。

【００４０】（実施の形態４）光学プリズム各面の研磨
間での研磨面の洗浄に適用し、その評価を行った。洗浄
では図１に示すプリズムを被洗浄物とした。このプリズ
ムは洗浄前には実施の形態１と同じく面ａ、ｂおよびｃ
に酸化セリウム粒子が残留している。洗浄システムの概
要は図２に示す実施の形態１と同一とした。洗浄組成物
と洗浄条件は以下に示す通りである。

【００４１】 洗浄組成物 第１成分：クリーンゾルＧ （日本石油株式会社製、単環芳香族含有有機溶剤） ９９．０重量部 第２成分：純水 ０．３重量部 第３成分：ＢＴ−９ （日光ケミカルズ株式会社製、ポリオキシアルキレン系ノニオン水 溶性界面活性剤） ０．５重量部 第４成分：ＤＤＰ−２ （日光ケミカルズ株式会社製、リン酸エーテル系アニオン油溶性界 面活性剤） ０．２重量部

【００４２】洗浄条件 すすぎ洗浄剤：ＩＰＡ 洗浄槽容積 ：２５リットル 超音波装置 ：２５ｋＨｚ、６００Ｗ 洗浄タクトタイム：６ｍｉｎ

【００４３】洗浄性の評価は実施の形態１と同じ評価方
法を用いた。結果を表１に示す。

【００４４】（比較例１）本発明の洗浄組成物の洗浄効
果と比較するために、本発明の組成量範囲外の洗浄組成
物を作製し、光学プリズム各面の研磨間での研磨面の洗
浄に適用して、その評価を行った。

【００４５】洗浄では図１に示すプリズムを被洗浄物と
した。このプリズムは洗浄前には実施の形態１と同じく
面ａ、ｂおよびｃに酸化セリウム粒子が残留している。
洗浄システムの概要は図２に示す実施の形態１と同一と
した。洗浄組成物と洗浄条件は以下に示す通りである。

【００４６】 洗浄組成物 第１成分：クリーンゾルＧ （日本石油株式会社製、単環芳香族含有有機溶剤） ９０．０重量部 第２成分：純水 ３．０重量部 第３成分：ＢＴ−９ （日光ケミカルズ株式会社製、ポリオキシアルキレン系ノニオン水 溶性界面活性剤） ５．０重量部 第４成分：ＤＤＰ−２ （日光ケミカルズ株式会社製、リン酸エーテル系アニオン油溶性界 面活性剤） ２．０重量部

【００４７】洗浄条件 すすぎ洗浄剤：ＩＰＡ 洗浄槽容積 ：２５リットル 超音波装置 ：２５ｋＨｚ、６００Ｗ 洗浄タクトタイム：６ｍｉｎ

【００４８】洗浄性の評価は実施の形態１と同じ評価方
法を用いた。結果を表１に示す。

【００４９】（比較例２）本発明の洗浄組成物の洗浄効
果と比較するために、本発明の組成量範囲外の洗浄組成
物を作成し、光学プリズム各面の研磨間での研磨面の洗
浄に適用してその評価を行った。

【００５０】洗浄では図１に示すプリズムを被洗浄物と
した。このプリズムは洗浄前には実施の形態１と同じく
面ａ、ｂおよびｃに酸化セリウム粒子が残留している。
洗浄システムの概要は図２に示す実施の形態１と同一と
した。洗浄組成物と洗浄条件は以下に示す通りである。

【００５１】 洗浄組成物 第１成分：ダフニーアルファークリーナーＭ （出光興産株式会社製、インパラフィン系有機溶剤） ９９．６重量部 第２成分：純水 ０．０３重量部 第３成分：ＢＴ−９ （日光ケミカルズ株式会社製、ポリオキシアルキレン系ノニオン水 溶性界面活性剤） ０．２重量部 第４成分：ＤＤＰ−２ （日光ケミカルズ株式会社製、リン酸エーテル系アニオン油溶性界 面活性剤） ０．１７重量部

【００５２】洗浄条件 すすぎ洗浄剤：ＩＰＡ 洗浄槽容積 ：２５リットル 超音波装置 ：２５ｋＨｚ、６００Ｗ 洗浄タクトタイム：６ｍｉｎ

【００５３】洗浄性の評価は実施の形態１と同じ評価方
法を用いた。結果を表１に示す。

【００５４】（比較例３）本発明の洗浄組成物の洗浄効
果と比較するために、光学プリズム各面の研磨間での研
磨面の洗浄に一般的な非水系洗浄剤を適用してその評価
を行った。

【００５５】洗浄では図１に示すプリズムを被洗浄物と
した。このプリズムは洗浄前には実施の形態１と同じく
面ａ、ｂおよびｃに酸化セリウム粒子が残留している。
洗浄システムの概要は図２に示す実施の形態１と同一と
した。洗浄組成物と洗浄条件は以下に示す通りである。

【００５６】 非水系洗浄剤 ダフニーアルファークリーナーＭ （出光興産株式会社製、インパラフィン系有機溶剤） １００重量部

【００５７】洗浄条件 すすぎ洗浄剤：ＩＰＡ 洗浄槽容積 ：２５リットル 超音波装置 ：２５ｋＨｚ、６００Ｗ 洗浄タクトタイム：６ｍｉｎ

【００５８】洗浄性の評価は実施の形態１と同じ評価方
法を用いた。結果を表１に示す。

【００５９】

【表１】

【００６０】〔実施の形態５〕純水９４重量部に対しス
ルホン酸ナトリウムを１重量部添加して酸化セリウム粒
子（粒系平均２μｍ）５重量部を分散させた研磨スラリ
ーをスライドガラスの片面に０．２ｃｃ塗布した後、加
熱乾燥によって水分を充分に乾燥させた被洗浄物を洗浄
組成物で洗浄し、その評価を行った。

【００６１】洗浄システムの概要を図３に示す。同図に
おいて、１１は洗浄組成物１６が充填された洗浄ビーカ
ー、１２はすすぎ洗浄剤１７が充填されたすすぎビーカ
ーである。これらのビーカー１１及び１２は置台１５に
載置されており、この状態で外槽１３に充填された水１
４に浸漬されている。置台１５には各ビーカーと対向す
るように、超音波振動子１８が設けられている。被洗浄
物は研磨スラリーが塗布されており、この塗布状態のま
まで洗浄ビーカー１１の洗浄組成物１６に浸漬され、超
音波振動を印加されて洗浄される。つぎにすすぎビーカ
ー１２のすすぎ洗浄剤１７に浸漬され超音波振動を印加
されて、すすぎ洗浄される。最後に加熱乾燥工程で乾燥
される。洗浄組成物と洗浄条件は以下に示す通りであ
る。

【００６２】 洗浄組成物 第１成分：キョーワゾールＣ−９００ （協和油化株式会社製、ノルマルパラフィン系有機溶剤） ９８．０重量部 第２成分：純水 ０．６重量部 第３成分：ＢＴ−９ （日光ケミカルズ株式会社製、ポリオキシアルキレン系ノニオン水 溶性界面活性剤） ０．４重量部 第４成分：ＤＤＰ−２ （日光ケミカルズ株式会社製、リン酸エーテル系アニオン油溶性界 面活性剤） １．０重量部

【００６３】洗浄条件 すすぎ洗浄剤：ＩＰＡ 洗浄槽容積 ：１００ｃｃ（１００ｃｃガラスビーカ
ー） 超音波装置 ：２５ｋＨｚ、２００Ｗ 洗浄タクトタイム：６ｍｉｎ

【００６４】洗浄性の評価は加熱乾燥後の被洗浄物を双
眼実態顕微鏡（３００倍拡大）で観察し、被洗浄物表面
に酸化セリウム粒子が残っていないものを良品として判
定した。結果を表２に示す。

【００６５】［実施の形態６］実施の形態５と同じ方法
で作製した被洗浄物を洗浄組成物によって洗浄し、その
評価を行った。

【００６６】洗浄システムの概要は図３に示す実施の形
態５と同一とした。洗浄組成物と洗浄条件は以下に示す
通りである。

【００６７】 洗浄組成物 第１成分：ナフテゾールＭ （日本石油化学株式会社製、シクロパラフィン系有機溶剤） ９８．０重量部 第２成分：純水 ０．６重量部 第３成分：オレイン酸ナトリウム （カルボキシル基含有水溶性界面活性剤、和光試薬１級） ０．４重量部 第４成分：ＯＰ−３ （日光ケミカルズ株式会社製、ポリオキシアルキレン系ノニオン油 溶性界面活性剤） １．０重量部

【００６８】洗浄条件 すすぎ洗浄剤：ＩＰＡ 洗浄槽容積 ：１００ｃｃ（１００ｃｃガラスビーカ
ー） 超音波装置 ：２５ｋＨｚ、２００Ｗ 洗浄タクトタイム：６ｍｉｎ

【００６９】洗浄性の評価は実施の形態５と同じ評価方
法を用いた。結果を表２に示す。

【００７０】［実施の形態７］実施の形態５と同じ方法
で作製した被洗浄物を洗浄組成物によって洗浄し、その
評価を行った。

【００７１】洗浄システムの概要は図３に示す実施の形
態５と同一とした。洗浄組成物と洗浄条件は以下に示す
通りである。

【００７２】 洗浄組成物 第１成分：ナフテゾールＭ （日本石油化学株式会社製、シクロパラフィン系有機溶剤） ９８．０重量部 第２成分：純水 ０．６重量部 第３成分：ＢＴ−３ （日光ケミカルズ株式会社製、ポリオキシアルキレン系ノニオン水 溶性界面活性剤） ０．４重量部 第４成分：ＯＰ−３（ポリオキシアルキレン系界面活性剤） （日光ケミカルズ株式会社製、オクチルフェニルエーテル系ノニオ ン油溶性界面活性剤） １．０重量部

【００７３】洗浄条件 すすぎ洗浄剤：ＩＰＡ 洗浄槽容積 ：１００ｃｃ（１００ｃｃガラスビーカ
ー） 超音波装置 ：２５ｋＨｚ、２００Ｗ 洗浄タクトタイム：６ｍｉｎ

【００７４】洗浄性の評価は実施の形態５と同じ評価方
法を用いた。結果を表２に示す。

【００７５】［実施の形態８］実施の形態５と同じ方法
で作製した被洗浄物を洗浄組成物によって洗浄し、その
評価を行った。

【００７６】洗浄システムの概要は図３に示す実施の形
態５と同一とした。洗浄組成物と洗浄条件は以下に示す
通りである。

【００７７】 洗浄組成物 第１成分：ナフテゾールＭ （日本石油化学株式会社製、シクロパラフィン系有機溶剤） ９８．０重量部 第２成分：純水 ０．６重量部 第３成分：ＤＥＣＡＧＬＹＮ ５−Ｏ （日光ケミカルズ株式会社製、グリセリン類水溶性界面活性剤） ０．４重量部 第４成分：ジ２エチルヘキシルホスフェート（未中和） （日光ケミカルズ株式会社製、硫酸エーテル系油溶性界面活性剤） １．０重量部

【００７８】洗浄条件 すすぎ洗浄剤：ＩＰＡ 洗浄槽容積 ：１００ｃｃ（１００ｃｃガラスビーカ
ー） 超音波装置 ：２５ｋＨｚ、２００Ｗ 洗浄タクトタイム：６ｍｉｎ

【００７９】洗浄性の評価は実施の形態５と同じ評価方
法を用いた。結果を表２に示す。

【００８０】［実施の形態９］実施の形態５と同じ方法
で作製した被洗浄物を洗浄組成物によって洗浄し、その
評価を行った。

【００８１】洗浄システムの概要は図３に示す実施の形
態５と同一とした。洗浄組成物と洗浄条件は以下に示す
通りである。

【００８２】 洗浄組成物 第１成分：ナフテゾールＭ （日本石油化学株式会社製、シクロパラフィン系有機溶剤） ９８．０重量部 第２成分：純水 ０．６重量部 第３成分：ＢＯ−３ （日光ケミカルズ株式会社製、ポリオキシアルキレン系ノニオン水 溶性界面活性剤） ０．４重量部 第４成分：ビス２エチルヘキシルスルホコハク酸ナトリウム （日光ケミカルズ株式会社製、硫酸エーテル系油溶性界面活性剤） １．０重量部

【００８３】洗浄条件 すすぎ洗浄剤：ＩＰＡ 洗浄槽容積 ：１００ｃｃ（１００ｃｃガラスビーカ
ー） 超音波装置 ：２５ｋＨｚ、２００Ｗ 洗浄タクトタイム：６ｍｉｎ

【００８４】洗浄性の評価は実施の形態５と同じ評価方
法を用いた。結果を表２に示す。

【００８５】［実施の形態１０］実施の形態５と同じ方
法で作製した被洗浄物を洗浄組成物によって洗浄し、そ
の評価を行った。

【００８６】洗浄システムの概要は図３に示す実施の形
態５と同一とした。洗浄組成物と洗浄条件は以下に示す
通りである。

【００８７】 第１成分：ナフテゾールＭ （日本石油化学株式会社製、シクロパラフィン系有機溶剤） ９８．０重量部 第２成分：純水 ０．６重量部 第３成分：Ａｍｉｓｏｆｔ ＣＴ−１２ｓ （味の素株式会社製、アミノ酸系水溶性界面活性剤） ０．４重量部 第４成分：ＣＡ−２５８０ （日光ケミカルズ株式会社製、４級アンモニウム塩類油溶性界面活 性剤） １．０重量部

【００８８】洗浄条件 すすぎ洗浄剤：ＩＰＡ 洗浄槽容積 ：１００ｃｃ（１００ｃｃガラスビーカ
ー） 超音波装置 ：２５ｋＨｚ、２００Ｗ 洗浄タクトタイム：６ｍｉｎ

【００８９】洗浄性の評価は実施の形態５と同じ評価方
法を用いた。結果を表２に示す。

【００９０】［実施の形態１１］実施の形態５と同じ方
法で作製した被洗浄物を洗浄組成物で洗浄し、その評価
を行った。

【００９１】洗浄システムの概要は図５に示す実施の形
態５と同一とした。洗浄組成物と洗浄条件は以下に示す
通りである。

【００９２】 洗浄組成物 第１成分：ナフテゾールＭ （日本石油株式会社製、シクロパラフィン系有機溶剤） ９８．０重量部 第２成分：純水 ０．６重量部 第３成分：オレイン酸ナトリウム （カルボキシル基含有水溶性界面活性剤、和光試薬１級） ０．４重量部 第４成分：ＯＰ−３ （日光ケミカルズ株式会社製、ポリオキシアルキレン系ノニオン油 溶性界面活性剤） ０．５重量部 第５成分：ＤＤＰ−２ （日光ケミカルズ株式会社製、リン酸エーテル系アニオン油溶性界 面活性剤） ０．５重量部

【００９３】洗浄条件 すすぎ洗浄剤：ＩＰＡ 洗浄槽容積 ：１００ｃｃ（１００ｃｃガラスビーカ
ー） 超音波装置 ：２５ｋＨｚ、２００Ｗ 洗浄タクトタイム：６ｍｉｎ

【００９４】洗浄性の評価は実施の形態５と同じ評価方
法を用いた。結果を表２に示す。

【００９５】（比較例４）本発明の洗浄組成物の洗浄効
果と比較するために、本発明の洗浄組成物とは組成量範
囲外の洗浄組成物を作製し、実施の形態５と同じ方法で
作成した被洗浄物を洗浄し、その評価を行った。

【００９６】洗浄システムの概要は図３に示す実施の形
態５と同一とした。洗浄組成物と洗浄条件は以下に示す
通りである。

【００９７】 洗浄組成物 第１成分：ナフテゾールＭ （日本石油株式会社製、シクロパラフィン系有機溶剤） ９１．０重量部 第２成分：純水 ２．０重量部 第３成分：オレイン酸ナトリウム （カルボキシル基含有界面活性剤、和光試薬１級） ４．０重量部 第４成分：ＯＰ−３ （日光ケミカルズ株式会社製、ポリオキシアルキレン系ノニオン油 溶性界面活性剤） ３．０重量部

【００９８】洗浄条件 すすぎ洗浄剤：ＩＰＡ 洗浄槽容積 ：１００ｃｃ（１００ｃｃガラスビーカ
ー） 超音波装置 ：２５ｋＨｚ、２００Ｗ 洗浄タクトタイム：６ｍｉｎ

【００９９】洗浄性の評価は実施の形態５と同じ評価方
法を用いた。結果を表２に示す。

【０１００】（比較例５）本発明の洗浄組成物の洗浄効
果と比較するために、本発明の洗浄組成物とは組成量範
囲外の洗浄組成物を作製し、実施の形態５と同じ方法で
作成した被洗浄物を洗浄し、その評価を行った。

【０１０１】洗浄システムの概要は図３に示す実施の形
態５と同一とした。洗浄組成物と洗浄条件は以下に示す
通りである。

【０１０２】 洗浄組成物 第１成分：ナフテゾールＭ （日本石油株式会社製、シクロパラフィン系有機溶剤） ９９．７重量部 第２成分：純水 ０．０６重量部 第３成分：オレイン酸ナトリウム （カルボキシル基含有界面活性剤、和光試薬１級） ０．１４重量部 第４成分：ＯＰ−３ （日光ケミカルズ株式会社製、ポリオキシアルキレン系ノニオン油 溶性界面活性剤） ０．１重量部

【０１０３】洗浄条件 すすぎ洗浄剤：ＩＰＡ 洗浄槽容積 ：１００ｃｃ（１００ｃｃガラスビーカ
ー） 超音波装置 ：２５ｋＨｚ、２００Ｗ 洗浄タクトタイム：６ｍｉｎ

【０１０４】洗浄性の評価は実施の形態５と同じ評価方
法を用いた。結果を表２に示す。

【０１０５】（比較例６）本発明の洗浄組成物の洗浄効
果と比較するために、本発明の洗浄組成物とは組成量範
囲外の洗浄組成物を作製し、実施の形態５と同じ方法で
作成した被洗浄物を洗浄し、その評価を行った。

【０１０６】洗浄システムの概要は図３に示す実施の形
態５と同一とした。洗浄組成物と洗浄条件は以下に示す
通りである。

【０１０７】 ナフテゾールＭ （日本石油株式会社製、シクロパラフィン系有機溶剤） １００重量部

【０１０８】洗浄条件 すすぎ洗浄剤：ＩＰＡ 洗浄槽容積 ：１００ｃｃ（１００ｃｃガラスビーカ
ー） 超音波装置 ：２５ｋＨｚ、２００Ｗ 洗浄タクトタイム：６ｍｉｎ

【０１０９】洗浄性の評価は実施の形態５と同じ評価方
法を用いた。結果を表２に示す。

【０１１０】

【表２】

【０１１１】以上の実施の形態１〜実施の形態１１、比
較例１〜比較例６、表１及び表２のように、比較例で示
した非水系洗浄剤のみを使用した洗浄、および実施の形
態と同じ成分で組成量範囲が本発明の洗浄組成物の組成
量範囲外では洗浄不良品が非常に多く発生するが、本発
明の洗浄組成物を使用することで洗浄剤以外洗浄条件を
変更することなく、酸化セリウム粒子を完全に洗浄する
ことができた。

【０１１２】次に、請求項４〜６の洗浄組成物に対応す
る実施の形態を実施の形態１２〜２２、比較例を比較例
７〜１２に示す。実施の形態および比較例の結果による
比較については表３〜表４に記載してある。

【０１１３】［実施の形態１２］光学プリズム各面の研
磨間での研磨面の洗浄に非水系洗浄剤で希釈した洗浄組
成物を適用し、その評価を行った。

【０１１４】この洗浄に使用したプリズムの外観を図１
に示す。このプリズムは面ａ、ｂ、ｃのそれぞれが研磨
される。各面の研磨には、粒径平均約２μｍの酸化セリ
ウム粒子を研磨砥粒とし、界面活性剤によって水に分散
させた研磨スラリーを用いるため、洗浄前にはプリズム
表面には酸化セリウム粒子が残留している。各コーナー
はラップ研磨されている。

【０１１５】洗浄システムの概要は図２と同様とした。
この場合、洗浄槽１内の洗浄剤６は非水系洗浄剤で希釈
された洗浄組成物を用いた。プリズムは洗浄槽１内の洗
浄剤６に浸漬され、超音波振動が印加されて洗浄され
る。次に、すすぎ洗浄槽２に浸漬され、超音波振動が印
加されて、すすぎ洗浄剤７によってすすぎ洗浄される。
最後に加熱乾燥工程で乾燥された後、必要に応じて次工
程に送られる。この洗浄システムは一般的に実施されて
いる洗浄システムに基づいている。洗浄組成物の成分と
洗浄組成物の希釈条件および洗浄条件は以下に示す通り
である。

【０１１６】 洗浄組成物 第１成分：ナフテゾールＭ （日本石油化学株式会社製、シクロパラフィン系有機溶剤） ９０．０重量部 第２成分：純水 ３．０重量部 第３成分：ＢＴ−９ （日光ケミカルズ株式会社製、ポリオキシアルキレン系ノニオン水 溶性界面活性剤） ５．０重量部 第４成分：ＤＤＰ−２ （日光ケミカルズ株式会社製、リン酸エーテル系アニオン油溶性界 面活性剤） ２．０重量部

【０１１７】希釈条件 非水系洗浄剤：ナフテゾールＭ（日本石油化学株式会社
製、シクロパラフィン系有機溶剤） 希釈は上記洗浄組成物１０重量部と非水系洗浄剤９０重
量部を混合して行った。

【０１１８】洗浄条件 すすぎ洗浄剤：ＩＰＡ 洗浄槽容積 ：２５リットル 超音波装置 ：２５ｋＨｚ、６００Ｗ 洗浄タクトタイム：６ｍｉｎ

【０１１９】洗浄性の評価は加熱乾燥工程終了後のプリ
ズムを抜き取りによって行った。評価法は実体顕微鏡
（３００倍拡大）で観察し、プリズムの研磨面にプリズ
ム研磨時の酸化セリウム粒子が残っていないものを良品
として判定した。結果を表３に示す。

【０１２０】［実施の形態１３］光学プリズム各面の研
磨間での研磨面の洗浄に非水系洗浄剤で希釈した洗浄組
成物を適用し、その評価を行った。

【０１２１】この洗浄に使用したプリズムは図１と同じ
プリズムであり、洗浄前には実施の形態１２と同じく面
ａ、ｂおよびｃに酸化セリウム粒子が残留している。

【０１２２】洗浄システムの概要は図２に示す実施の形
態１２と同一とした。洗浄組成物の成分と洗浄組成物の
希釈条件および洗浄条件は以下に示す通りである。

【０１２３】 洗浄組成物 第１成分：ダフニーアルファークリーナーＭ （出光興産株式会社製、イソパラフィン系有機溶剤） ９０．０重量部 第２成分：純水 ３．０重量部 第３成分：ＢＴ−９ （日光ケミカルズ株式会社製、ポリオキシアルキレン系ノニオン水 溶性界面活性剤） ５．０重量部 第４成分：ＤＤＰ−２ （日光ケミカルズ株式会社製、リン酸エーテル系アニオン油溶性界 面活性剤） ２．０重量部

【０１２４】希釈条件 非水系洗浄剤：ナフテゾールＭ（日本石油化学株式会社
製、シクロパラフィン系有機溶剤） 希釈は上記洗浄組成物１５重量部と非水系洗浄剤８５重
量部を混合して行った。

【０１２５】洗浄条件 すすぎ洗浄剤：ＩＰＡ 洗浄槽容積 ：２５リットル 超音波装置 ：２５ｋＨｚ、６００Ｗ 洗浄タクトタイム：６ｍｉｎ

【０１２６】洗浄性の評価は実施の形態１２と同じ評価
方法を用いた。結果を表３に示す。

【０１２７】［実施の形態１４］光学プリズム各面の研
磨間での研磨面の洗浄に非水系洗浄剤で希釈した洗浄組
成物を適用し、その評価を行った。

【０１２８】この洗浄に使用したプリズムは図１と同じ
プリズムであり、洗浄前には実施の形態１２と同じく面
ａ、ｂおよびｃに酸化セリウム粒子が残留している。

【０１２９】洗浄システムの概要は図２に示す実施の形
態１２と同一とした。洗浄組成物の成分と洗浄組成物の
希釈条件および洗浄条件は以下に示す通りである。

【０１３０】 洗浄組成物 第１成分：クリーンゾール♯３０００ （三興石油工業株式会社製、イソパラフィン系有機溶剤） ９０．０重量部 第２成分：純水 ３．０重量部 第３成分：ＢＴ−９ （日光ケミカルズ株式会社製、ポリオキシアルキレン系ノニオン水 溶性界面活性剤） ５．０重量部 第４成分：ＤＤＰ−２ （日光ケミカルズ株式会社製、リン酸エーテル系アニオン油溶性界 面活性剤） ２．０重量部

【０１３１】希釈条件 非水系洗浄剤：ナフテゾールＭ（日本石油化学株式会社
製、シクロパラフィン系有機溶剤） 希釈は上記洗浄組成物１０重量部と非水系洗浄剤９０重
量部を混合して行った。

【０１３２】洗浄条件 すすぎ洗浄剤：ＩＰＡ 洗浄槽容積 ：２５リットル 超音波装置 ：２５ｋＨｚ、６００Ｗ 洗浄タクトタイム：６ｍｉｎ

【０１３３】洗浄性の評価は実施の形態１２と同じ評価
方法を用いた。結果を表３に示す。 ［実施の形態１５］光学プリズム各面の研磨間での研磨
面の洗浄に非水系洗浄剤で希釈した洗浄組成物を適用
し、その評価を行った。

【０１３４】この洗浄に使用したプリズムは図１と同じ
プリズムであり、洗浄前には実施の形態１２と同じく面
ａ、ｂおよびｃに酸化セリウム粒子が残留している。

【０１３５】洗浄システムの概要は図２に示す実施の形
態１２と同一とした。洗浄組成物の成分と洗浄組成物の
希釈条件および洗浄条件は以下に示す通りである。

【０１３６】 洗浄組成物 第１成分：クリーンソルＧ （日本石油株式会社製、単環芳香族含有有機溶剤） ９０．０重量部 第２成分：純水 ３．０重量部 第３成分：ＢＴ−９ （日光ケミカルズ株式会社製、ポリオキシアルキレン系ノニオン水 溶性界面活性剤） ５．０重量部 第４成分：ＤＤＰ−２ （日光ケミカルズ株式会社製、リン酸エーテル系アニオン油溶性界 面活性剤） ２．０重量部

【０１３７】希釈条件 非水系洗浄剤：ナフテゾールＭ（日本石油化学株式会社
製、シクロパラフィン系有機溶剤） 希釈は上記洗浄組成物５重量部と非水系洗浄剤９５重量
部を混合して行った。

【０１３８】洗浄条件 すすぎ洗浄剤：ＩＰＡ 洗浄槽容積 ：２５リットル 超音波装置 ：２５ｋＨｚ、６００Ｗ 洗浄タクトタイム：６ｍｉｎ

【０１３９】洗浄性の評価は実施の形態１２と同じ評価
方法を用いた。結果を表３に示す。

【０１４０】（比較例７）本発明の洗浄組成物の洗浄効
果と比較するために、非水系洗浄剤で希釈した本発明の
洗浄組成物の組成量範囲外の洗浄組成物を作製し、光学
プリズム各面の研磨間での研磨面の洗浄に適用して、そ
の評価を行った。

【０１４１】この洗浄に使用したプリズムは図１と同一
のプリズムであり、洗浄前には実施の形態１２と同じく
面ａ、ｂおよびｃに酸化セリウム粒子が残留している。

【０１４２】洗浄システムの概要は図２に示す実施の形
態１２と同一とした。洗浄組成物の成分と洗浄組成物の
希釈条件および洗浄条件は以下に示す通りである。

【０１４３】 洗浄組成物 第１成分：クリーンソルＧ （日本石油化学株式会社製、単環芳香族含有有機溶剤） ９０．０重量部 第２成分：純水 ３．０重量部 第３成分：ＢＴ−９ （日光ケミカルズ株式会社製、ポリオキシアルキレン系ノニオン水 溶性界面活性剤） ５．０重量部 第４成分：ＤＤＰ−２ （日光ケミカルズ株式会社製、リン酸エーテル系アニオン油性界面 活性剤） ２．０重量部

【０１４４】希釈条件 非水系洗浄剤：ナフテゾールＭ（日本石油化学株式会社
製、シクロパラフィン系有機溶剤） 希釈は上記洗浄組成物１重量部と非水系洗浄剤９９重量
部を混合して行った。

【０１４５】洗浄条件 すすぎ洗浄剤：ＩＰＡ 洗浄槽容積 ：２５リットル 超音波装置 ：２５ｋＨｚ、６００Ｗ 洗浄タクトタイム：６ｍｉｎ

【０１４６】洗浄性の評価は実施の形態１２と同じ評価
方法を用いた。結果を表３に示す。

【０１４７】（比較例８）本発明の洗浄組成物の洗浄効
果と比較するために、非水系洗浄剤で希釈された本発明
の洗浄組成物の組成量範囲外の洗浄組成物を作製し、光
学プリズム各面の研磨面での研磨面の洗浄に適用して、
その評価を行った。

【０１４８】この洗浄に使用したプリズムは図１と同一
のプリズムであり、洗浄前には実施の形態１２と同じく
面ａ、ｂ、およびｃに酸化セリウム粒子が残留してい
る。

【０１４９】洗浄システムの概要は図２に示す実施の形
態１２と同一とした。洗浄組成物の成分と洗浄組成物の
希釈条件および洗浄条件は以下に示す通りである。

【０１５０】 洗浄組成物 第１成分：ダフニーアルファークリーナーＭ （出光興産株式会社製、イソパラフィン系有機溶剤） ９０．０重量部 第２成分：純水 ３．０重量部 第３成分：ＢＴ−９ （日光ケミカルズ株式会社製、ポリオキシアルキレン系ノニオン水 溶性界面活性剤） ５．０重量部 第４成分：ＤＤＰ−２ （日光ケミカルズ株式会社製、リン酸エーテル系アニオン油溶性界 面活性剤） ２．０重量部

【０１５１】希釈条件 非水系洗浄剤：ナフテゾールＭ（日本石油化学株式会社
製、シクロパラフィン系有機溶剤） 希釈は上記洗浄組成物４０重量部と非水系洗浄剤６０重
量部を混合して行った。

【０１５２】洗浄条件 すすぎ洗浄剤：ＩＰＡ 洗浄槽容積 ：２５リットル 超音波装置 ：２５ｋＨｚ、６００Ｗ 洗浄タクトタイム：６ｍｉｎ

【０１５３】洗浄性の評価は実施の形態１２と同じ評価
方法を用い、結果を表３に示す。

【０１５４】（比較例９）本発明の洗浄組成物の洗浄効
果と比較するために、光学プリズム各面の研磨間での研
磨面の洗浄に一般的な非水系洗浄剤を適用して、その評
価を行った。

【０１５５】この洗浄に使用したプリズムは図１と同一
のプリズムであり、洗浄前には実施の形態１２と同じく
面ａ、ｂおよびｃに酸化セリウム粒子が残留している。

【０１５６】洗浄システムの概要は図２に示す実施の形
態１２と同一とした。非水系洗浄剤と洗浄条件は以下に
示す通りである。

【０１５７】非水系洗浄剤 ダフニーアルファークリーナーＭ（出光興産株式会社
製、イソパラフィン系有機溶剤）

【０１５８】洗浄条件 すすぎ洗浄剤：ＩＰＡ 洗浄槽容積 ：２５リットル 超音波装置 ：２５ｋＨｚ、６００Ｗ 洗浄タクトタイム：６ｍｉｎ

【０１５９】洗浄性の評価は実施の形態１２と同じ評価
方法を用い、結果を表３に示す。

【０１６０】

【表３】

【０１６１】［実施の形態１６］純水９４重量部に対し
スルホン酸ナトリウムを１重量部添加して酸化セリウム
粒子（粒径平均約２μｍ）５重量部を分散させた研磨ス
ラリーをスライドガラスの片面に０．２ｃｃ塗布した
後、水分を充分に加熱乾燥させた。この被洗浄物を非水
系洗浄剤で希釈された洗浄組成物により洗浄し、その評
価を行った。

【０１６２】洗浄システムの概要を図３に示し、同図に
おける１６は非水系洗浄剤で希釈された洗浄組成物であ
る。このシステムでは、まず被洗浄物は研磨スラリーを
塗布された部位が洗浄槽１１の洗浄液１６に浸漬され、
この状態で超音波振動が印加されて洗浄される。つぎ
に、研磨スラリーを塗布された部位がすすぎ洗浄槽１２
のすすぎ洗浄剤１７に浸漬され、超音波振動が印加され
てすすぎ洗浄される。最後に加熱乾燥工程で乾燥され
る。洗浄組成物の成分と洗浄組成物の希釈条件および洗
浄条件は以下に示す通りである。

【０１６３】 洗浄組成物 第１成分：キョーワゾールＣ−９００ （協和油化株式会社製、ノルマルパラフィン系有機溶剤） ８０．０重量部 第２成分：純水 ６．０重量部 第３成分：ＢＴ−９ （日光ケミカルズ株式会社製、ポリオキシアルキレン系ノニオン水 溶性界面活性剤） ４．０重量部 第４成分：ＤＤＰ−２ （日光ケミカルズ株式会社製、リン酸エーテル系アニオン油溶性界 面活性剤） １０．０重量部

【０１６４】希釈条件 非水系洗浄剤：ダフニーアルファークリーナーＭ（出光
興産株式会社製、イソパラフィン系有機溶剤） 希釈は上記洗浄組成物１０重量部と非水系洗浄剤９０重
量部を混合することで行った。

【０１６５】洗浄条件 すすぎ洗浄剤：ＩＰＡ 洗浄槽容積 ：１００ｃｃ（１００ｃｃガラスビーカ
ー） 超音波装置 ：２５ｋＨｚ、２００Ｗ 洗浄タクトタイム：６ｍｉｎ

【０１６６】洗浄性の評価は加熱乾燥後の被洗浄物を双
眼実体顕微鏡（３００倍拡大）で観察し、被洗浄物表面
に酸化セリウム粒子が残っていないものを良品として判
定した。結果を表４に示す。

【０１６７】［実施の形態１７］実施の形態１６と同じ
方法で作製した被洗浄物を洗浄組成物により洗浄し、そ
の評価を行った。

【０１６８】洗浄システムの概要は図３に示す実施の形
態１６と同一とした。洗浄組成物の成分と洗浄組成物の
希釈条件および洗浄条件は以下に示す通りである。

【０１６９】 洗浄組成物 第１成分：ナフテゾールＭ （日本石油化学株式会社製、シクロパラフィン系有機溶剤） ８０．０重量部 第２成分：純水 ６．０重量部 第３成分：オレイン酸ナトリウム （カルボキシキル基含有界面活性剤、和光試薬１級 ） ４．０重量部 第４成分：ＯＰ−３ （日光ケミカルズ株式会社製、ポリオキシアルキレン系ノニオン油 溶性界面活性剤） １０．０重量部

【０１７０】希釈条件 非水系洗浄剤：クリンゾール♯３０００（三興石油工業
株式会社製、イソパラフィン系有機溶剤） 希釈は上記洗浄組成物１０重量部と非水系洗浄剤９０重
量部を混合することで行った。

【０１７１】洗浄条件 すすぎ洗浄剤：ＩＰＡ 洗浄槽容積 ：１００ｃｃ（１００ｃｃガラスビーカ
ー） 超音波装置 ：２５ｋＨｚ、２００Ｗ 洗浄タクトタイム：６ｍｉｎ

【０１７２】洗浄性の評価は実施の形態１６と同じ評価
方法を用い、結果を表４に示す。

【０１７３】［実施の形態１８］実施の形態１６と同じ
方法で作製した被洗浄物を洗浄組成物により洗浄し、そ
の評価を行った。

【０１７４】洗浄システムの概要は図３に示す実施の形
態１６と同一とした。洗浄組成物の成分と洗浄組成物の
希釈条件および洗浄条件は以下に示す通りである。

【０１７５】 洗浄組成物 第１成分：ナフテゾールＭ （日本石油化学株式会社製、シクロパラフィン系有機溶剤） ８０．０重量部 第２成分：純水 ６．０重量部 第３成分：ＢＴ−３ （日光ケミカルズ株式会社製、ポリオキシアルキレン系ノニオン水 溶性界面活性剤） ４．０重量部 第４成分：ＯＰ−３ （ポリオキシアルキレン系界面活性剤、 日光ケミカルズ株式会社製、オクチルフェニルエーテル系ノニオ ン油溶性界面活性剤） １０．０重量部

【０１７６】希釈条件 非水系洗浄剤：クリーンゾルＧ（日本石油化学株式会社
製、単環芳香族含有有機溶剤） 希釈は上記洗浄組成物１０重量部と非水系洗浄剤９０重
量部を混合することで行った。

【０１７７】洗浄条件 すすぎ洗浄剤：ＩＰＡ 洗浄槽容積 ：１００ｃｃ（１００ｃｃガラスビーカ
ー） 超音波装置 ：２５ｋＨｚ、２００Ｗ 洗浄タクトタイム：６ｍｉｎ

【０１７８】洗浄性の評価は実施の形態１６と同じ評価
方法を用い、結果を表４に示す。

【０１７９】［実施の形態１９］実施の形態１６と同じ
方法で作製した被洗浄物を洗浄組成物により洗浄し、そ
の評価を行った。

【０１８０】洗浄システムの概要は図３に示す実施の形
態１６と同一とした。洗浄組成物の成分と洗浄組成物の
希釈条件および洗浄条件は以下に示す通りである。

【０１８１】 洗浄組成物 第１成分：ナフテゾールＭ （日本石油株式会社製、シクロパラフィン系有機溶剤） ８０．０重量部 第２成分：純水 ６．０重量部 第３成分：ＤＥＣＡＧＬＹＮ ５−Ｏ （日光ケミカルズ株式会社製、グリセリン類水溶性界面活性剤） ４．０重量部 第４成分：ジ２エチルヘキシルホスフェート（未中和） （日光ケミカルズ株式会社製、硫酸エーテル系油溶性界面活性剤） １０．０重量部

【０１８２】希釈条件 非水系洗浄剤：キョーワゾールＣ−９００（協和油化株
式会社製、ノルマルパラフィン系有機溶剤） 希釈は上記洗浄組成物１０重量部と非水系洗浄剤９０重
量部を混合することで行った。

【０１８３】洗浄条件 すすぎ洗浄剤：ＩＰＡ 洗浄槽容積 ：１００ｃｃ（１００ｃｃガラスビーカ
ー） 超音波装置 ：２５ｋＨｚ、２００Ｗ 洗浄タクトタイム：６ｍｉｎ

【０１８４】洗浄性の評価は実施の形態１６と同じ評価
方法を用い、結果を表４に示す。

【０１８５】［実施の形態２０］実施の形態１６と同じ
方法で作製した被洗浄物を洗浄組成物により洗浄し、そ
の評価を行った。

【０１８６】洗浄システムの概要は図３に示す実施の形
態１６と同一とした。洗浄組成物の成分と洗浄組成物の
希釈条件および洗浄条件は以下に示す通りである。

【０１８７】 洗浄組成物 第１成分：ナフテゾールＭ （日本石油化学株式会社製、シクロパラフィン系有機溶剤） ８０．０重量部 第２成分：純水 ６．０重量部 第３成分：ＢＯ−３ （日光ケミカルズ株式会社製、ポリオキシアルキレン系ノニオン水 溶性界面活性剤） ４．０重量部 第４成分：ビス２−エチルヘキシルスルホコハク酸ナトリウム （日光ケミカルズ株式会社製、硫酸エーテル系アニオン油溶性界面 活性剤） １０．０重量部

【０１８８】希釈条件 非水系洗浄剤：ダフニーアルファークリーナーＭ（出光
興産株式会社製、イソパラフィン系有機溶剤） 希釈は上記洗浄組成物１０重量部と非水系洗浄剤９０重
量部を混合することで行った。

【０１８９】洗浄条件 すすぎ洗浄剤：ＩＰＡ 洗浄槽容積 ：１００ｃｃ（１００ｃｃガラスビーカ
ー） 超音波装置 ：２５ｋＨｚ、２００Ｗ 洗浄タクトタイム：６ｍｉｎ

【０１９０】洗浄性の評価は実施の形態１２と同じ評価
方法を用い、結果を表４に示す。

【０１９１】［実施の形態２１］実施の形態１６と同じ
方法で作製した被洗浄物を洗浄組成物により洗浄し、そ
の評価を行った。

【０１９２】洗浄システムの概要は図３に示す実施の形
態１６と同一とした。洗浄組成物の成分と洗浄組成物の
希釈条件および洗浄条件は以下に示す通りである。

【０１９３】 洗浄組成物 第１成分：ナフテゾールＭ （日本石油化学株式会社製、シクロパラフィン系有機溶剤） ８０．０重量部 第２成分：純水 ６．０重量部 第３成分：Ａｍｉｓｏｆｔ ＣＴ−１２ｓ （味の素株式会社製、アミノ酸系水溶性界面活性剤） ４．０重量部 第４成分：ＣＡ−２５８０ （日光ケミカルズ株式会社製、４級アンモニウム塩類油溶性界面活 性剤） １０．０重量部

【０１９４】希釈条件 非水系洗浄剤：クリンゾール♯３０００（三興石油工業
株式会社製 イソパラフィン系有機溶剤） 希釈は上記洗浄組成物１０重量部と非水系洗浄剤９０重
量部を混合することで行った。

【０１９５】洗浄条件 すすぎ洗浄剤：ＩＰＡ 洗浄槽容積 ：１００ｃｃ（１００ｃｃガラスビーカ
ー） 超音波装置 ：２５ｋＨｚ、２００Ｗ 洗浄タクトタイム：６ｍｉｎ

【０１９６】洗浄性の評価は実施の形態１６と同じ評価
方法を用い、結果を表４に示す。

【０１９７】［実施の形態２２］実施の形態１６と同じ
方法で作製した被洗浄物を洗浄組成物により洗浄し、そ
の評価を行った。

【０１９８】洗浄システムの概要は図３に示す実施の形
態１６と同一とした。洗浄組成物の成分と洗浄組成物の
希釈条件および洗浄条件は以下に示す通りである。

【０１９９】 洗浄組成物 第１成分：ナフテゾールＭ （日本石油化学株式会社製、シクロパラフィン系有機溶剤） ８０．０重量部 第２成分：純水 ６．０重量部 第３成分：Ａｍｉｓｏｆｔ ＣＴ−１２ｓ （味の素株式会社製、アミノ酸系水溶性界面活性剤） ４．０重量部 第４成分：ＣＡ−２５８０ （日光ケミカルズ株式会社製、４級アンモニウム塩類油溶性界面活 性剤） １０．０重量部

【０２００】希釈条件 非水系洗浄剤：クリンゾールＧ（日本石油株式会社製、
単環芳香族含有有機溶剤） 希釈は上記洗浄組成物１０重量部と非水系洗浄剤９０重
量部を混合することで行った。

【０２０１】洗浄条件 すすぎ洗浄剤：ＩＰＡ 洗浄槽容積 ：１００ｃｃ（１００ｃｃガラスビーカ
ー） 超音波装置 ：２５ｋＨｚ、２００Ｗ 洗浄タクトタイム：６ｍｉｎ

【０２０２】洗浄性の評価は実施の形態１６と同じ評価
方法を用い、結果を表４に示す。

【０２０３】（比較例１０）本発明の洗浄組成物の洗浄
効果と比較するために、本発明の洗浄組成物とは組成利
用範囲外の洗浄組成物を作製し、実施の形態１６と同じ
方法で作製した被洗浄物を洗浄し、その評価を行った。

【０２０４】洗浄システムの概要は図３に示す実施の形
態１６と同一とした。洗浄組成物の成分と洗浄組成物の
希釈条件および洗浄条件は以下に示す通りである。

【０２０５】 洗浄組成物 第１成分：ナフテゾールＭ （日本石油化学株式会社製、シクロパラフィン系有機溶剤） ９４．０重量部 第２成分：純水 ２．０重量部 第３成分：オレイン酸ナトリウム （カルボキシキル基含有界面活性剤、和光試薬１級 不飽和脂肪酸ナトリウム塩水溶性界面活性剤） ２．０重量部 第４成分：ＯＰ−３ （日光ケミカルズ株式会社製、ポリオキシアルキレン系ノニオン油 溶性界面活性剤） ２．０重量部

【０２０６】希釈条件 非水系洗浄剤：クリンゾールＧ（日本石油株式会社製、
単環芳香族含有有機溶剤） 希釈は上記洗浄組成物１０重量部と非水系洗浄剤９０重
量部を混合することで行った。

【０２０７】洗浄条件 すすぎ洗浄剤：ＩＰＡ 洗浄槽容積 ：１００ｃｃ（１００ｃｃガラスビーカ
ー） 超音波装置 ：２５ｋＨｚ、２００Ｗ 洗浄タクトタイム：６ｍｉｎ

【０２０８】洗浄性の評価は実施の形態１６と同じ評価
方法を用い、結果を表４に示す。

【０２０９】（比較例１１）本発明の洗浄組成物の洗浄
効果と比較するために、本発明の洗浄組成物とは組成利
用範囲外の洗浄組成物を作製し、実施の形態１６と同じ
方法で作製した被洗浄物を洗浄し、その評価を行った。

【０２１０】洗浄システムの概要は図３に示す実施の形
態１６と同一とした。洗浄組成物の成分と洗浄組成物の
希釈条件および洗浄条件は以下に示す通りである。

【０２１１】 洗浄組成物 第１成分：ナフテゾールＭ （日本石油化学株式会社製、シクロパラフィン系有機溶剤） ５５．０重量部 第２成分：純水 １０ 重量部 第３成分：オレイン酸ナトリウム （カルボキシキル基含有界面活性剤、和光試薬１級 不飽和脂肪酸ナトリウム塩水溶性界面活性剤） ２５ 重量部 第４成分：ＯＰ−３ （日光ケミカルズ株式会社製、ポリオキシアルキレン系ノニオン油 溶性界面活性剤） １０ 重量部

【０２１２】希釈条件 非水系洗浄剤：クリンゾール♯３０００（三興石油工業
株式会社製、イソパラフィン系有機溶剤） 希釈は上記洗浄組成物１０重量部と非水系洗浄剤９０重
量部を混合することで行った。

【０２１３】洗浄条件 すすぎ洗浄剤：ＩＰＡ 洗浄槽容積 ：１００ｃｃ（１００ｃｃガラスビーカ
ー） 超音波装置 ：２５ｋＨｚ、２００Ｗ 洗浄タクトタイム：６ｍｉｎ

【０２１４】洗浄性の評価は実施の形態１６と同じ評価
方法を用いた。結果を表４に示す。

【０２１５】（比較例１２）本発明の洗浄組成物の洗浄
効果と比較するために、本発明の洗浄組成物とは組成利
用範囲外の洗浄組成物を作製し、実施の形態１６と同じ
方法で作製した被洗浄物を洗浄し、その評価を行った。

【０２１６】洗浄システムの概要は図３に示す実施の形
態１６と同一とした。洗浄組成物および洗浄条件は以下
に示す通りである。

【０２１７】 非水系洗浄剤 ナフテゾールＭ （日本石油化学株式会社製、シクロパラフィン系有機溶剤） １００ 重量部

【０２１８】洗浄条件 すすぎ洗浄剤：ＩＰＡ 洗浄槽容積 ：１００ｃｃ（１００ｃｃガラスビーカ
ー） 超音波装置 ：２５ｋＨｚ、２００Ｗ 洗浄タクトタイム：６ｍｉｎ

【０２１９】洗浄性の評価は実施の形態１６と同じ評価
方法を用いた。結果を表４に示す。

【０２２０】

【表４】

【０２２１】以上実施の形態１２〜２２、比較例７〜１
２、表３及び表４で明らかなように、比較例で示した非
水系洗浄剤のみを使用した洗浄と、実施の形態と同じ成
分で組成量範囲が本発明の洗浄組成物の組成量範囲外で
は洗浄不良品が多く発生するが、非水系洗浄剤で希釈し
た本発明の洗浄組成物を使用することで洗浄剤以外の洗
浄条件を変更することなく酸化セリウム粒子を完全に洗
浄することができた。

【０２２２】なお、以上に説明した本発明の実施の形態
によれば次に示す発明も考えられる。 （１） 非水系洗浄剤と、界面活性剤と、水との３成分
の混合であり、前記界面活性剤が全体１００重量部に対
して５重量部以上３０重量部以下で、前記水が全体１０
０重量部に全体１００重量部に対して１重量部以上１５
重量部以下であり、前記水が前記界面活性剤１００重量
部に対して５重量部以上５０重量部以下の混合比である
ことを特徴とする洗浄組成物。 （２） 前記界面活性剤が１種類以上の水溶性界面活性
剤ｊと１種類以上の油溶性界面活性剤ｋとから構成さ
れ、かつ水溶性界面活性剤ｊと油溶性界面活性剤ｋはポ
リオキシアルキレン基含有界面活性剤、リン酸エーテル
基含有界面活性剤、カルボキシル基含有界面活性剤、硫
酸エーテル基含有界面活性剤、アミノ酸類界面活性剤、
グリセリン類界面活性剤、アンモニウム塩類界面活性剤
の内のいずれか、またはこれらが塩により中和されて改
質されたノニオン系、アニオン系、カチオン系の界面活
性剤のいずれかであり、前記水溶性界面活性剤ｊが全体
の界面活性剤１００重量部に対して２０重量部以上８０
重量部以下であることを特徴とする上記（１）に記載の
洗浄組成物。 （３） 前記非水系洗浄剤がノルマルパラフィン系有機
溶剤，イソパラフィン系有機溶剤，シクロパラフィン系
有機溶剤，単環芳香族含有有機溶剤またはこれらの混合
であることを特徴とする上記（１）または（２）に記載
の洗浄組成物。 上記（１）ないし（３）によれば、使用者は前記洗浄組
成物を適宜希釈して使用することが可能となり、洗浄組
成物の保有量を低減できる。

【０２２３】

【発明の効果】以上のように、本発明の洗浄組成物また
は非水系洗浄剤で希釈した洗浄組成物は金属加工部品、
樹脂成形部品、ガラス成形部品、電気基板、セラミック
加工部品などの工業用洗浄における洗浄力が向上してお
り、従来の非水系洗浄剤のみでは対応することができな
かった金属屑、樹脂バリ屑、研磨砥粒、ハンダ屑、セラ
ミック削り屑などの固体汚れを洗浄することが可能とな
っている。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の洗浄に使用されるプリズムの斜視図で
ある。

【図２】洗浄システムの側面図である。

【図３】別の洗浄システムの側面図である。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非水系洗浄剤ａと、界面活性剤ｂと、水
   ｃとの３成分の混合であり、前記界面活性剤ｂが全体１
   ００重量部に対して０．５重量部以上３重量部以下で、
   前記水ｃが全体１００重量部に対して０．１重量部以上
   １．５重量部以下であり、前記水ｃが前記界面活性剤ｂ
   １００重量部に対して５重量部以上５０重量部以下であ
   ることを特徴とする洗浄組成物。
2. 【請求項２】 前記界面活性剤ｂが１種類以上の水溶性
   界面活性剤ｄと１種類以上の油溶性界面活性剤ｅとから
   構成され、かつ水溶性界面活性剤ｄと油溶性界面活性剤
   ｅはポリオキシアルキレン基含有界面活性剤、リン酸エ
   ーテル基含有界面活性剤、カルボキシル基含有界面活性
   剤、硫酸エーテル基含有界面活性剤、アミノ酸類界面活
   性剤、グリセリン類界面活性剤、アンモニウム塩類界面
   活性剤の内のいずれか、またはこれらが塩により中和さ
   れて改質されたノニオン系、アニオン系、カチオン系の
   界面活性剤のいずれかであり、前記水溶性界面活性剤ｄ
   が全体の界面活性剤１００重量部に対して２０重量部以
   上８０重量部以下であることを特徴とする請求項１記載
   の洗浄組成物。
3. 【請求項３】 前記非水系洗浄剤ａがノルマルパラフィ
   ン系有機溶剤、イソパラフィン系有機溶剤、シクロパラ
   フィン系有機溶剤、単環芳香族含有有機溶剤またはこれ
   らの混合であることを特徴とする請求項１または２のい
   ずれかに記載の洗浄組成物。
4. 【請求項４】 非水系洗浄剤ｆと、界面活性剤ｇと、水
   ｈとの３成分の混合であり、前記界面活性剤ｇが全体１
   ００重量部に対して５重量部以上３０重量部以下で、前
   記水ｈが全体１００重量部に対して１重量部以上１５重
   量部以下であり、前記水ｈが界面活性剤ｇ１００重量部
   に対して５重量部以上５０重量部以下の混合比となって
   おり、この混合比の混合物が前記非水系洗浄剤ｆと同一
   の或いは異なる非水系洗浄剤ｉ１００重量部に対し５重
   量部以上３０重量部以下に希釈されていることを特徴と
   する洗浄組成物。
5. 【請求項５】 前記界面活性剤ｇが１種類以上の水溶性
   界面活性剤ｊと１種類以上の油溶性界面活性剤ｋとから
   構成され、かつ水溶性界面活性剤ｊと油溶性界面活性剤
   ｋはポリオキシアルキレン基含有界面活性剤、リン酸エ
   ーテル基含有界面活性剤、カルボキシル基含有界面活性
   剤、硫酸エーテル基含有界面活性剤、アミノ酸類界面活
   性剤、グリセリン類界面活性剤、アンモニウム塩類界面
   活性剤の内のいずれか、またはこれらが塩により中和さ
   れて改質されたノニオン系、アニオン系、カチオン系の
   界面活性剤のいずれかであり、前記水溶性界面活性剤ｊ
   が全体の界面活性剤１００重量部に対して２０重量部以
   上８０重量部以下であることを特徴とする請求項４記載
   の洗浄組成物。
6. 【請求項６】 前記非水系洗浄剤ｆ及びｉがノルマルパ
   ラフィン系有機溶剤，イソパラフィン系有機溶剤，シク
   ロパラフィン系有機溶剤，単環芳香族含有有機溶剤また
   はこれらの混合であることを特徴とする請求項４または
   ５のいずれかに記載の洗浄組成物。