JPH09125093A - 洗浄組成物 - Google Patents

洗浄組成物

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JPH09125093A
JPH09125093A JP28392995A JP28392995A JPH09125093A JP H09125093 A JPH09125093 A JP H09125093A JP 28392995 A JP28392995 A JP 28392995A JP 28392995 A JP28392995 A JP 28392995A JP H09125093 A JPH09125093 A JP H09125093A
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JP
Japan
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cleaning
parts
weight
surfactant
water
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JP28392995A
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English (en)
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Tomonori Sato
智徳 佐藤
Naoyasu Hanamura
尚容 花村
Manabu Tomitani
学 富谷
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Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 非水系洗浄剤では除去することができない金
属屑、樹脂バリ屑、研磨砥粒、半田屑、セラミック削り
屑及びタンパク質含有油脂汚れを良好に除去できる洗浄
組成物を提供する。 【解決手段】 非水系洗浄剤と、界面活性剤と、水と、
アルコールアミンとの4成分の混合からなり、界面活性
剤は全体100重量部に対して0.5重量部以上3重量
部以下、水は界面活性剤100重量部に対して5重量部
以上50重量部以下で且つ全体100重量部に対して
0.1重量部以上1.5重量部以下、アルコールアミン
は水100重量部に対して10重量部以下の混合比で相
容した洗浄組成物とする。洗浄組成物中にミセルがで
き、ミセルが汚れを確実に除去する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、金属加工部品、樹
脂成形部品、ガラス成形部品、電気基板、セラミック加
工部品等の工業用洗浄に用いる洗浄組成物に関し、非水
系洗浄剤として石油系洗浄剤の一種である炭化水素洗浄
剤を用いた洗浄組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】金属加工部、樹脂成形部品、ガラス成形
部品、電気基板、セラミック加工部品等の洗浄には、高
い化学的安定性・難燃性・高い洗浄性・無毒性等の理由
からフロンに代表されるハロゲン含有有機溶剤が使用さ
れてきた。ところが現在では地球規模での環境破壊が指
摘され、フロンに代表されるハロゲン含有有機溶剤は使
用が著しく制限されている。このため特開平4−136
099号公報、特開平5−117691号公報、特開平
6−336599号公報に記載されるように、ハロゲン
含有有機溶剤を用いない非水系洗浄剤へと転換が進んで
いる。
【0003】しかしフロンに代表されるハロゲン含有有
機溶剤はかなり広範囲の被洗浄物・汚れを洗浄できた
が、一般の非水系洗浄剤は洗浄性能の点でハロゲン含有
有機溶剤ほど広範囲に適用できる洗浄力を有していな
い。特に非水系洗浄剤の内で石油系洗浄剤である炭化水
素系洗浄剤は主剤が非極性なパラフィン系溶剤であるこ
とから金属加工部品、樹脂成形部品、ガラス成形部品、
電気基板、セラミック加工部品等の加工工程で使用され
る加工油、切削油、機械油、防錆油等の内の大部分の液
状汚れに対する洗浄性を有しているが、その他の極性を
有する液状汚れつまり基本的に非水系洗浄剤に相溶しな
い液状汚れや無機物などの固形状汚れには充分な洗浄力
を有していない。
【0004】このため特開平6−336599号公報で
は、環状テルペン類、テルペンアルコール類、グリコー
ルアルコール類等の炭化水素系洗浄剤に相溶可能な極性
を有する溶剤を添加することで、極性を有する液状・固
形状汚れなどを溶解して、除去することが行われてい
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで実際の金属加
工部品、樹脂成形部品、ガラス成形部品、電気基板、セ
ラミック加工部品等の加工後の表面には、加工油、切削
油、機械油、防錆油等の液状汚れが付着しているのに加
えて、加工工程で生じた金属屑、樹脂バリ屑、研磨砥
粒、ハンダ屑、セラミック削り屑などの無機物、有機物
の固体汚れがスラッジを形成した状態で強固に付着して
いる。上述した極性有機溶剤を添加した非水系洗浄剤は
スラッジ状になっているものでも加工油、切削油、機械
油、防錆油等の液状汚れの大部分は洗浄可能であるが、
固体汚れの一部は洗浄できないまま被洗浄物の表面に残
留することが多い。
【0006】さらには各加工工程では人手に頼る部分も
あり、このため人体より生じる手脂のようなタンパク質
含有油脂が指紋として被洗浄物の表面に付着する。この
ようなタンパク質含有油脂は上述した極性有機溶剤を添
加した非水系洗浄剤では溶解できないため、洗浄が非常
に困難であった。
【0007】これに対して、金属屑、樹脂バリ屑、研磨
砥粒、ハンダ屑、セラミック削り屑などの固体汚れを被
洗浄物表面から剥離させるため、洗浄剤の洗浄力以外の
物理力としての超音波、液中噴流、洗浄剤シャワー、洗
浄剤ジェット噴流などを作用させることで洗浄工程の改
良を行っているが、これによっても完全に剥離すること
ができていない。
【0008】特に、大きさが数十μm以下の微小径固体
汚れは、洗浄工程の改良だけでは、剥離しきれず最終的
に被洗浄物の表面に残留することが多い。そのために洗
浄工程が終了した後に、別途金属屑、樹脂バリ屑、研磨
砥粒、ハンダ屑、セラミック削り屑などの固体汚れ、特
に微小径固体汚れを人手によって掻き取る或いは拭き取
るなどの工程を必要としている。さらに、手脂のような
タンパク質含有油脂を被洗浄物表面から除去するため、
アルカリ脱脂剤を添加した水系洗浄システムを必要とし
ている。
【0009】このようなことは洗浄要求精度が高かった
り、被洗浄物の形状が複雑であったり、被洗浄物の材質
が侵され易い場合等において、非常に大きな工数を必要
とし、結果として洗浄コストが高騰している。
【0010】本発明は、このような事情を考慮してなさ
れたものであり、非水系洗浄剤をベースにしているにも
関わらず、金属屑、樹脂バリ屑、研磨砥粒、ハンダ屑、
セラミック削り屑などの固体汚れ、さらには人体から生
じる手脂等のタンパク質含有油脂を通常の洗浄工程で剥
離できる洗浄力を有した洗浄組成物を提供することを目
的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
請求項1の発明は、非水系洗浄剤と、界面活性剤と、水
と、アルコールアミンとの4成分の混合からなり、前記
界面活性剤は全体100重量部に対して0.5重量部以
上3重量部以下、前記水は界面活性剤100重量部に対
して5重量部以上50重量部以下で且つ全体100重量
部に対して0.1重量部以上1.5重量部以下、前記ア
ルコールアミンは水100重量部に対して10重量部以
下の混合比で混合相容されていることを特徴とする。
【0012】請求項2の発明は、上記請求項1において
前記界面活性剤が1種類以上の水溶性界面活性剤と1種
類以上の油溶性界面活性剤とから構成され、且つ水溶性
界面活性剤と油溶性界面活性剤はポリオキシアルキレン
基含有界面活性剤、リン酸エーテル基含有界面活性剤、
カルボキシル基含有界面活性剤、硫酸エーテル基含有界
面活性剤、アミノ酸類界面活性剤、グリセリン類界面活
性剤、アンモニウム塩類界面活性剤の内のいずれか、又
はこれらが塩により中和されて改質されたノニオン系、
アニオン系、カチオン系の界面活性剤のいずれかであ
り、前記水溶性界面活性剤が全体の界面活性剤100重
量部に対して20重量部以上80重量部以下であること
を特徴とする。
【0013】請求項3の発明は、請求項1又は2におい
て、前記非水系洗浄剤がノルマルパラフィン系有機溶
剤、イソパラフィン系有機溶剤、単環芳香族含有有機溶
剤又はこれらの混合であることを特徴とする。
【0014】金属加工部品、樹脂成形部品、ガラス成形
部品、電気基板、セラミック加工部品等の被洗浄物表面
に付着している金属屑、樹脂バリ屑、研磨砥粒、ハンダ
屑、セラミック削り屑などの固体汚れ、特に大きさが数
十μm以下である微小径固体汚れは、非水系洗浄剤のよ
うな液体中では非水系洗浄剤との相互作用によって表面
電荷が生じ、微小径固体汚れの表面電荷に起因する静電
気吸着によって被洗浄物の表面に強固に付着している。
このため炭化水素系のような非水系洗浄剤だけでは、こ
の静電気吸着に打ち勝つ剥離力を与えることができな
い。
【0015】また、被洗浄物の表面に付着した手脂のよ
うなタンパク質含有油脂の汚れは、非水系洗浄剤に対し
て相溶性がないため除去しにくいだけでなく、上述した
微小径固体汚れを保護するように作用する。このため洗
浄をさらに困難にしていた。
【0016】本発明の洗浄組成物は、非水系洗浄剤と水
および界面活性剤とアルコールアミンとからなり、非水
系洗浄剤中で界面活性剤と水とによってミセルを形成し
ている。一方、アルコールアミンはこのミセル中の水の
相に溶解している。
【0017】上述した微小径固体汚れ及びタンパク質含
有油脂汚れが表面に付着した被洗浄物を本発明の洗浄組
成物中に浸漬すると、界面活性剤起因する界面吸着力に
よって被洗浄物の表面にミセルが速やかに吸着される。
次に被洗浄物表面にミセルが接触すると、ミセル中の水
が被洗浄物表面の微小径固体汚れに接触し、これらの表
面電荷を中和する。その結果、被洗浄物と微小径固体汚
れとの間の静電気吸着力が弱められ、その汚れが被洗浄
物表面から剥離されて、非水系洗浄剤中に分散され易く
なり、洗浄が達成される。
【0018】界面活性剤及び水の量が請求項記載の範囲
より少ない場合、洗浄組成物中でのミセル濃度が低くな
り界面吸着力が低下する。このためミセルと微小径固体
汚れ及びタンパク質含有油脂汚れとの接触が起こり難く
なり、洗浄効果が著しく減少する。
【0019】本発明の洗浄組成物を用いた洗浄では一般
に用いられている揺動、超音波振動、液噴流、液攪拌な
どの物理的作用を加えることで被洗浄物から微小径固体
汚れ及びタンパク質含有油脂汚れを引き離す効果を増大
させることができる。しかし界面活性剤及び水の量が請
求項の範囲より多いと、洗浄組成物の粘度が高くなって
流動性が減少するため、上述した物理的作用による洗浄
効果の向上を図ることができない。
【0020】被洗浄物表面に付着しているタンパク質含
有油脂汚れに対しては、微小径固体汚れと同様に、ミセ
ルの界面吸着力によってミセルがタンパク質含有油脂汚
れに接触する。この接触によってミセル中のアルコール
アミンを溶存している水の相がタンパク質含有油脂汚れ
を溶解して洗浄を行う。
【0021】さらに界面活性剤として、水溶性界面活性
剤と油溶性界面活性剤とを組み合わせることで、中心部
に水溶性界面活性剤が多く存在し、外側には油溶性界面
活性剤が多く存在するミセルが形成される。その結果、
非水系洗浄剤中にミセルを均一・安定に分散させること
が可能になり、洗浄条件に左右されることなく強力な洗
浄力を発揮できる。さらに、水と水溶性界面活性剤およ
び油溶性界面活性剤によるミセルが被洗浄物表面から引
き離された微小固体汚れを覆うことで斥力が生じ、微小
固体汚れが再凝集することを防ぐと共に、被洗浄物表面
に再付着することを防止することができる。
【0022】水溶性界面活性剤の量が請求項記載の範囲
より少ない場合、ミセルは油溶性が大きくなり、洗浄組
成物中での界面吸着力が低下するため、ミセルと微小系
固体汚れとの接触が起こり難くなり、洗浄効果が著しく
減少する。逆に水溶性界面活性剤の量が請求項記載の範
囲より多い場合、ミセルは水溶性が大きくなり、洗浄組
成物中でミセル状態を維持できなくなり、洗浄効果が著
しく低下する。
【0023】また、上記界面活性剤は必要に応じて塩に
中和することによりノニオン系、アニオン系、またはカ
チオン系の界面活性剤に改質されて使用する。ノニオン
系の界面活性剤に改質することにより、被洗浄物へのダ
メージの発生を低減できる。逆にアニオン系またはカチ
オン系の界面活性剤に改質することにより、無機物の汚
れに対する親和性が高くなり、その結果洗浄力を向上さ
せることができる。
【0024】以上のように本発明の洗浄組成物を用いる
ことにより従来とほとんど同じ洗浄工程で、非水系洗浄
のみでは対応することができなかった金属屑、樹脂バリ
屑、研磨砥粒、ハンダ屑、セラミック削り屑などの固体
汚れ及び手脂等のタンパク質含有油脂汚れを洗浄するこ
とが可能となる。
【0025】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態実施の
形態1〜実施の形態10、比較例を比較例1〜比較例6
に示す。また、これらの結果による比較を表1〜表2に
示す。
【0026】(実施の形態1)光学プリズム各面の研磨
間での研磨面の洗浄に洗浄組成物を適用し、その評価を
行った。この洗浄に使用したプリズムの外観を図1に示
す。このプリズムは面a、b、cのそれぞれが研磨され
る。各面の研磨には、粒径平均約2μmの酸化セリウム
粒子を研磨砥粒とし、界面活性剤によって水に分散させ
た研磨スラリーを用いるため、洗浄前にはプリズム表面
に酸化セリウム粒子が残留している。また各製造工程や
工程間の作業環境によって、プリズムに手が触れること
もあり、これにより手脂がプリズム表面に指紋状に付着
している。各コーナーはラップ研磨されている。
【0027】洗浄システムの概要を図2に示し、1は洗
浄槽、2はすすぎ洗浄槽であり、これらの槽1、2の内
部には超音波振動子4、5が設けられている。プリズム
はその搬送経路3に従って、まず洗浄槽1内で、超音波
振動を印加されて洗浄組成物6によって洗浄される。つ
ぎに、すすぎ洗浄槽2に浸漬され、超音波振動を印加さ
れて、すすぎ洗浄剤7によってすすぎ洗浄される。最後
に加熱乾燥工程で乾燥された後、必要に応じて次工程に
送られる。この洗浄システムは一般的に実施されている
洗浄システムに基づいている。
【0028】洗浄組成物の成分と洗浄条件は以下に示す
通りである。 洗浄組成物 第1成分:ナフテゾールM (日本石油化学株式会社製、シクロパラフィン系有機溶剤) 99.0重量部 第2成分:純水 0.29重量部 第3成分:BT−9 (日本ケミカルズ株式会社製、ポリオキシアルキレン系ノニオン水 溶性界面活性剤) 0.5重量部 第4成分:DDP−2 (日本ケミカルズ株式会社製、リン酸エーテル系アニオン油溶性界 面活性剤) 0.2重量部 第5成分:N,N−ジエチルエタノールアミン (日本乳化剤株式会社製、アルコールアミン) 0.01重量部
【0029】洗浄条件 すすぎ洗浄剤:IPA(イソプロピルアルコール) 洗浄槽容積 :25リットル 超音波装置 :25kHz、600W 洗浄タクトタイム:6min
【0030】洗浄性の評価は加熱乾燥工程終了後のプリ
ズムを抜き取りによって行った。評価法は双眼実体顕微
鏡(300倍拡大)で観察し、プリズムの研磨面にプリ
ズム研磨時の酸化セリウム粒子が残っていないもの及び
手脂の指紋状跡のないものを良品として判定した。結果
を表1に示す。
【0031】(実施の形態2)光学プリズム各面の研磨
間での研磨面の洗浄に適用し、その評価を行った。洗浄
では図1に示すプリズムを被洗浄物とした。このプリズ
ムはその洗浄前には実施の形態1と同じく面a、bおよ
びcに酸化セリウム粒子が残留している。またプリズム
の表面には手脂が付着している。洗浄システムの概要は
図2に示す実施の形態1と同一とした。洗浄組成物と洗
浄条件は以下に示す通りである。
【0032】 洗浄組成物 第1成分:ダフニーアルファークリーナーM (出光興産株式会社製、イソパラフィン系有機溶剤) 99.0重量部 第2成分:純水 0.29重量部 第3成分:BT−9 (日本ケミカルズ株式会社製、ポリオキシアルキレン系ノニオン水 溶性界面活性剤) 0.5重量部 第4成分:DDP−2 (日本ケミカルズ株式会社製、リン酸エーテル系アニオン油溶性界 面活性剤) 0.2重量部 第5成分:N,N−ジエチルエタノールアミン (日本乳化剤株式会社製、アルコールアミン) 0.01重量部
【0033】洗浄条件 すすぎ洗浄剤:IPA 洗浄槽容積 :25リットル 超音波装置 :25kHz、600W 洗浄タクトタイム:6min
【0034】洗浄性の評価は実施の形態1と同じ評価方
法を用いた。結果を表1に示す。
【0035】(実施の形態3)光学プリズム各面の研磨
間での研磨面の洗浄に適用し、その評価を行った。洗浄
では図1に示すプリズムを被洗浄物とした。このプリズ
ムはその洗浄前には実施の形態1と同じく面a、bおよ
びcに酸化セリウム粒子が残留している。またプリズム
の表面には手脂が付着している。洗浄システムの概要は
図2に示す実施の形態1と同一とした。洗浄組成物と洗
浄条件は以下に示す通りである。
【0036】 洗浄組成物 第1成分:クリーンゾール♯3000 (三興石油工業株式会社製、イソパラフィン系有機溶剤) 99.0重量部 第2成分:純水 0.29重量部 第3成分:BT−9 (日本ケミカルズ株式会社製、ポリオキシアルキレン系ノニオン水 溶性界面活性剤) 0.5重量部 第4成分:DDP−2 (日本ケミカルズ株式会社製、リン酸エーテル系アニオン油溶性界 面活性剤) 0.2重量部 第5成分:N,N−ジエチルエタノールアミン (日本乳化剤株式会社製、アルコールアミン) 0.01重量部
【0037】洗浄条件 すすぎ洗浄剤:IPA 洗浄槽容積 :25リットル 超音波装置 :25kHz、600W 洗浄タクトタイム:6min
【0038】洗浄性の評価は実施の形態1と同じ評価方
法を用いた。結果を表1に示す。
【0039】(実施の形態4)光学プリズム各面の研磨
間での研磨面の洗浄に適用し、その評価を行った。洗浄
では図1に示すプリズムを被洗浄物とした。このプリズ
ムは洗浄前には実施の形態1と同じく面a、bおよびc
に酸化セリウム粒子が残留している。またプリズムの表
面には、手脂が付着している。洗浄システムの概要は図
2に示す実施の形態1と同一とした。洗浄組成物と洗浄
条件は以下に示す通りである。
【0040】 洗浄組成物 第1成分:クリーンゾルG (日本石油株式会社製、単環芳香族含有有機溶剤) 99.0重量部 第2成分:純水 0.29重量部 第3成分:BT−9 (日光ケミカルズ株式会社製、ポリオキシアルキレン系ノニオン水 溶性界面活性剤) 0.5重量部 第4成分:DDP−2 (日光ケミカルズ株式会社製、リン酸エーテル系アニオン油溶性界 面活性剤) 0.2重量部 第5成分:N,N−ジエチルエタノールアミン (日本乳化剤株式会社製、アルコールアミン) 0.01重量部
【0041】洗浄条件 すすぎ洗浄剤:IPA 洗浄槽容積 :25リットル 超音波装置 :25kHz、600W 洗浄タクトタイム:6min
【0042】洗浄性の評価は実施の形態1と同じ評価方
法を用いた。結果を表1に示す。
【0043】(比較例1)本発明の洗浄組成物の洗浄効
果と比較するために、本発明の組成量範囲外の洗浄組成
物を作製し、光学プリズム各面の研磨間での研磨面の洗
浄に適用して、その評価を行った。
【0044】洗浄では図1に示すプリズムを被洗浄物と
した。このプリズムは洗浄前には実施の形態1と同じく
面a、bおよびcに酸化セリウム粒子及び手脂が残留し
ている。洗浄システムの概要は図2に示す実施の形態1
と同一とした。洗浄組成物と洗浄条件は以下に示す通り
である。
【0045】 洗浄組成物 第1成分:ナフテゾールM (日本石油株式会社製、シクロパラフィン系有機溶剤) 99.0重量部 第2成分:純水 2.9重量部 第3成分:BT−9 (日光ケミカルズ株式会社製、ポリオキシアルキレン系ノニオン水 溶性界面活性剤) 5.0重量部 第4成分:DDP−2 (日光ケミカルズ株式会社製、リン酸エーテル系アニオン油溶性界 面活性剤) 2.0重量部 第5成分:N,N−ジエチルエタノールアミン (日本乳化剤株式会社製、アルコールアミン) 0.1重量部
【0046】洗浄条件 すすぎ洗浄剤:IPA 洗浄槽容積 :25リットル 超音波装置 :25kHz、600W 洗浄タクトタイム:6min
【0047】洗浄性の評価は実施の形態1と同じ評価方
法を用いた。結果を表1に示す。
【0048】(比較例2)本発明の洗浄組成物の洗浄効
果と比較するために、本発明の組成量範囲外の洗浄組成
物を作成し、光学プリズム各面の研磨間での研磨面の洗
浄に適用してその評価を行った。
【0049】洗浄では図1に示すプリズムを被洗浄物と
した。このプリズムは洗浄前には実施の形態1と同じく
面a、bおよびcに酸化セリウム粒子及び手脂が残留し
ている。洗浄システムの概要は図2に示す実施の形態1
と同一とした。洗浄組成物と洗浄条件は以下に示す通り
である。
【0050】 洗浄組成物 第1成分:ナフテゾールM (日本石油化学株式会社製、シクロパラフィン系有機溶剤) 99.4重量部 第2成分:純水 0.29重量部 第3成分:BT−9 (日光ケミカルズ株式会社製、ポリオキシアルキレン系ノニオン水 溶性界面活性剤) 0.1重量部 第4成分:DDP−2 (日光ケミカルズ株式会社製、リン酸エーテル系アニオン油溶性界 面活性剤) 0.2重量部 第5成分:N,N−ジエチルエタノールアミン (日本乳化剤株式会社製、アルコールアミン) 0.01重量部
【0051】洗浄条件 すすぎ洗浄剤:IPA 洗浄槽容積 :25リットル 超音波装置 :25kHz、600W 洗浄タクトタイム:6min
【0052】洗浄性の評価は実施の形態1と同じ評価方
法を用いた。結果を表1に示す。
【0053】(比較例3)本発明の洗浄組成物の洗浄効
果と比較するために、光学プリズム各面の研磨間での研
磨面の洗浄に一般的な非水系洗浄剤を適用してその評価
を行った。
【0054】洗浄では図1に示すプリズムを被洗浄物と
した。このプリズムは洗浄前には実施の形態1と同じく
面a、bおよびcに酸化セリウム粒子及び手脂が残留し
ている。洗浄システムの概要は図2に示す実施の形態1
と同一とした。洗浄組成物と洗浄条件は以下に示す通り
である。
【0055】 非水系洗浄剤 ナフテゾールM (日本石油化学株式会社製、シクロパラフィン系有機溶剤) 100重量部
【0056】洗浄条件 すすぎ洗浄剤:IPA 洗浄槽容積 :25リットル 超音波装置 :25kHz、600W 洗浄タクトタイム:6min
【0057】洗浄性の評価は実施の形態1と同じ評価方
法を用いた。結果を表1に示す。
【0058】
【表1】
【0059】(実施の形態5)手脂のようなタンパク質
含有汚れの代用として、約0.1ccの少量の市販の家
庭用マヨネーズをスパチラーで取り、スライドガラスの
片面に薄く塗布し、ティシュペーパーで完全には除去し
ないように軽く拭き取った。次に、純水94重量部に対
しスルホン酸ナトリウムを1重量部添加して酸化セリウ
ム粒子(粒系平均2μm)5重量部を分散させた研磨ス
ラリーをスライドガラスに0.2cc塗布した後、加熱
乾燥によって水分を充分に乾燥させた被洗浄物を作製し
た。この被洗浄物を洗浄組成物で洗浄し、その評価を行
った。
【0060】洗浄システムの概要を図3に示す。同図に
おいて、11は洗浄組成物16が充填されたビーカーか
らなる洗浄槽、12はすすぎ洗浄剤17が充填されたビ
ーカーからなるすすぎ槽である。これらの槽11及び1
2は置台15に載置されており、この状態で外槽13に
充填された水14に浸漬されている。置台15には各槽
11、12に対向するように、超音波振動子18,19
が設けられている。被洗浄物は洗浄槽11の洗浄組成物
16に浸漬され、超音波振動を印加されて洗浄される。
つぎにすすぎ槽12のすすぎ洗浄剤17に浸漬され、超
音波振動を印加されて、すすぎ洗浄される。最後に加熱
乾燥工程で乾燥される。洗浄組成物と洗浄条件は以下に
示す通りである。
【0061】 洗浄組成物 第1成分:キョーワゾールC−900 (協和油化株式会社製、ノルマルパラフィン系有機溶剤) 98.0重量部 第2成分:純水 0.56重量部 第3成分:BT−9 (日光ケミカルズ株式会社製、ポリオキシアルキレン系ノニオン水 溶性界面活性剤) 0.4重量部 第4成分:DDP−2 (日光ケミカルズ株式会社製、リン酸エーテル系アニオン油溶性界 面活性剤) 1.0重量部 第5成分:N,N−ジエチルエタノールアミン (日本乳化剤株式会社製、アルコールアミン) 0.04重量部
【0062】洗浄条件 すすぎ洗浄剤:IPA 洗浄槽容積 :100cc(100ccガラスビーカ
ー) 超音波装置 :25kHz、200W 洗浄タクトタイム:6min
【0063】洗浄性の評価は加熱乾燥後の被洗浄物を双
眼実態顕微鏡(300倍拡大)で観察し、被洗浄物表面
に酸化セリウム粒子が残っていないもの及び目視で観察
し、家庭用マヨネーズの残留による油膜のないものを良
品として判定した。結果を表2に示す。
【0064】(実施の形態6)実施の形態5と同じ方法
で作製した被洗浄物を洗浄組成物によって洗浄し、その
評価を行った。
【0065】洗浄システムの概要は図3に示す実施の形
態5と同一とした。洗浄組成物と洗浄条件は以下に示す
通りである。
【0066】 洗浄組成物 第1成分:ナフテゾールM (日本石油化学株式会社製、シクロパラフィン系有機溶剤) 98.0重量部 第2成分:純水 0.56重量部 第3成分:オレイン酸ナトリウム (カルボキシル基含有水溶性界面活性剤、和光試薬1級) 0.4重量部 第4成分:OP−3 (日光ケミカルズ株式会社製、ポリオキシアルキレン系ノニオン油 溶性界面活性剤) 1.0重量部 第5成分:N,N−ジエチルエタノールアミン (日本乳化剤株式会社製、アルコールアミン) 0.04重量部
【0067】洗浄条件 すすぎ洗浄剤:IPA 洗浄槽容積 :100cc(100ccガラスビーカ
ー) 超音波装置 :25kHz、200W 洗浄タクトタイム:6min
【0068】洗浄性の評価は実施の形態5と同じ評価方
法を用いた。結果を表2に示す。
【0069】(実施の形態7)実施の形態5と同じ方法
で作製した被洗浄物を洗浄組成物によって洗浄し、その
評価を行った。
【0070】洗浄システムの概要は図3に示す実施の形
態5と同一とした。洗浄組成物と洗浄条件は以下に示す
通りである。
【0071】 洗浄組成物 第1成分:ナフテゾールM (日本石油化学株式会社製、シクロパラフィン系有機溶剤) 98.0重量部 第2成分:純水 0.56重量部 第3成分:BT−3 (日光ケミカルズ株式会社製、ポリオキシアルキレン系ノニオン水 溶性界面活性剤) 0.4重量部 第4成分:OP−3 (日光ケミカルズ株式会社製、ポリオキシアルキレン系ノニオン油 溶性界面活性剤) 1.0重量部 第5成分:アミノエチルエタノールアミン (日本乳化剤株式会社製、アルコールアミン) 0.04重量部
【0072】洗浄条件 すすぎ洗浄剤:IPA 洗浄槽容積 :100cc(100ccガラスビーカ
ー) 超音波装置 :25kHz、200W 洗浄タクトタイム:6min
【0073】洗浄性の評価は実施の形態5と同じ評価方
法を用いた。結果を表2に示す。
【0074】(実施の形態8)実施の形態5と同じ方法
で作製した被洗浄物を洗浄組成物によって洗浄し、その
評価を行った。
【0075】洗浄システムの概要は図3に示す実施の形
態5と同一とした。洗浄組成物と洗浄条件は以下に示す
通りである。
【0076】 洗浄組成物 第1成分:ナフテゾールM (日本石油化学株式会社製、シクロパラフィン系有機溶剤) 98.0重量部 第2成分:純水 0.56重量部 第3成分:DECAGLYN 5−O (日光ケミカルズ株式会社製、グリセリン類水溶性界面活性剤) 0.4重量部 第4成分:ジ2エチルヘキシルホスフェート(未中和) (日光ケミカルズ株式会社製、硫酸エーテル系油溶性界面活性剤) 1.0重量部 第5成分:N−メチルエタノールアミン (日本乳化剤株式会社製、アルコールアミン) 0.04重量部
【0077】洗浄条件 すすぎ洗浄剤:IPA 洗浄槽容積 :100cc(100ccガラスビーカ
ー) 超音波装置 :39kHz、100W 洗浄タクトタイム:6min
【0078】洗浄性の評価は実施の形態5と同じ評価方
法を用いた。結果を表2に示す。
【0079】(実施の形態9)実施の形態5と同じ方法
で作製した被洗浄物を洗浄組成物によって洗浄し、その
評価を行った。
【0080】洗浄システムの概要は図3に示す実施の形
態5と同一とした。洗浄組成物と洗浄条件は以下に示す
通りである。
【0081】 洗浄組成物 第1成分:ナフテゾールM (日本石油化学株式会社製、シクロパラフィン系有機溶剤) 98.0重量部 第2成分:純水 0.56重量部 第3成分:Amisoft CT−12s (味の素株式会社製、アミノ酸系水溶性界面活性剤) 0.4重量部 第4成分:CA−2580 (日光ケミカルズ株式会社製、4級アンモニウム塩類油溶性界面活 性剤) 1.0重量部 第5成分:N,N−ジエチルエタノールアミン (日本乳化剤株式会社製、アルコールアミン) 0.04重量部
【0082】洗浄条件 すすぎ洗浄剤:IPA 洗浄槽容積 :100cc(100ccガラスビーカ
ー) 超音波装置 :39kHz、100W 洗浄タクトタイム:6min
【0083】洗浄性の評価は実施の形態5と同じ評価方
法を用いた。結果を表2に示す。
【0084】(実施の形態10)実施の形態5と同じ方
法で作製した被洗浄物を洗浄組成物によって洗浄し、そ
の評価を行った。
【0085】洗浄システムの概要は図3に示す実施の形
態5と同一とした。洗浄組成物と洗浄条件は以下に示す
通りである。
【0086】 洗浄組成物 第1成分:ナフテゾールM (日本石油化学株式会社製、シクロパラフィン系有機溶剤) 98.0重量部 第2成分:純水 0.56重量部 第3成分:DECAGLYN 5−O (日光ケミカルズ株式会社製、グリセリン類水溶性界面活性剤) 0.2重量部 第4成分:オレイン酸ナトリウム (カルボキシル基含有水溶性界面活性剤、和光試薬1級) 0.2重量部 第5成分:ジ2エチルヘキシルホスフェート(未中和) (日光ケミカルズ株式会社製、硫酸エーテル系油溶性界面活性剤) 第6成分:N−メチルエタノールアミン (日本乳化剤株式会社製、アルコールアミン) 0.04重量部
【0087】洗浄条件 すすぎ洗浄剤:IPA 洗浄槽容積 :100cc(100ccガラスビーカ
ー) 超音波装置 :39kHz、100W 洗浄タクトタイム:6min
【0088】洗浄性の評価は実施の形態5と同じ評価方
法を用いた。結果を表2に示す。
【0089】(比較例4)本発明の洗浄組成物の洗浄効
果と比較するために、本発明の洗浄組成物とは組成量範
囲外の洗浄組成物を作製し、実施の形態5と同じ方法で
作成した被洗浄物を洗浄し、その評価を行った。
【0090】洗浄システムの概要は図3に示す実施の形
態5と同一とした。洗浄組成物と洗浄条件は以下に示す
通りである。
【0091】 洗浄組成物 第1成分:ナフテゾールM (日本石油株式会社製、シクロパラフィン系有機溶剤) 93.0重量部 第2成分:純水 2.0重量部 第3成分:DECAGLYN 5−O (日光ケミカルズ株式会社製、グリセリン類水溶性界面活性剤) 2.3重量部 第4成分:ジ2エチルヘキシルホスフェート(未中和) (日光ケミカルズ株式会社製、硫酸エーテル油溶性界面活性剤) 2.4重量部 第5成分:N−メチルエタノールアミン (日本乳化剤株式会社製、アルコールアミン) 0.3重量部
【0092】洗浄条件 すすぎ洗浄剤:IPA 洗浄槽容積 :100cc(100ccガラスビーカ
ー) 超音波装置 :39kHz、100W 洗浄タクトタイム:6min
【0093】洗浄性の評価は実施の形態5と同じ評価方
法を用いた。結果を表2に示す。
【0094】(比較例5)本発明の洗浄組成物の洗浄効
果と比較するために、本発明の洗浄組成物とは組成量範
囲外の洗浄組成物を作製し、実施の形態5と同じ方法で
作成した被洗浄物を洗浄し、その評価を行った。
【0095】洗浄システムの概要は図3に示す実施の形
態5と同一とした。洗浄組成物と洗浄条件は以下に示す
通りである。
【0096】 洗浄組成物 第1成分:ナフテゾールM (日本石油株式会社製、シクロパラフィン系有機溶剤) 99.5重量部 第2成分:純水 0.09重量部 第3成分:DECAGLYN 5−O (日光ケミカルズ株式会社製、グリセリン類水溶性界面活性剤) 0.2重量部 第4成分:ジ2エチルヘキシルホスフェート(未中和) (日光ケミカルズ株式会社製、硫酸エーテル油溶性界面活性剤) 0.2重量部 第5成分:N−メチルエタノールアミン (日本乳化剤株式会社製、アルコールアミン) 0.01重量部
【0097】洗浄条件 すすぎ洗浄剤:IPA 洗浄槽容積 :100cc(100ccガラスビーカ
ー) 超音波装置 :39kHz、100W 洗浄タクトタイム:6min
【0098】洗浄性の評価は実施の形態5と同じ評価方
法を用いた。結果を表2に示す。
【0099】(比較例6)本発明の洗浄組成物の洗浄効
果と比較するために、実施の形態5と同じ方法で作成し
た被洗浄物を非水系洗浄剤によって洗浄し、その評価を
行った。
【0100】洗浄システムの概要は図3に示す実施の形
態5と同一とした。洗浄組成物と洗浄条件は以下に示す
通りである。
【0101】 非水系洗浄剤 ナフテゾールM (日本石油株式会社製、シクロパラフィン系有機溶剤) 100重量部
【0102】洗浄条件 すすぎ洗浄剤:IPA 洗浄槽容積 :25リットル 超音波装置 :25kHz、600W 洗浄タクトタイム:6min
【0103】洗浄性の評価は実施の形態5と同じ評価方
法を用いた。結果を表2に示す。
【0104】
【表2】
【0105】以上の比較例4〜6の洗浄組成物及び非水
系洗浄剤の洗浄結果では、洗浄不良品が非常に多く発生
しているが、実施の形態5〜10の洗浄組成物では、洗
浄条件を変更することなく、酸化セリウム粒子を完全に
洗浄することができると共に、タンパク質含有汚れとし
ての家庭用マヨネーズの油膜を完全に除去することがで
きた。
【0106】
【発明の効果】以上のように、本発明の洗浄組成物は金
属加工部品、樹脂成形部品、ガラス成形部品、電気基
板、セラミック加工部品などの工業用洗浄における洗浄
力が向上しており、従来の非水系洗浄剤のみでは対応す
ることができなかった金属屑、樹脂バリ屑、研磨砥粒、
ハンダ屑、セラミック削り屑などの固体汚れ及びタンパ
ク質を含んだ油脂状汚れを確実に洗浄することが可能と
なっている。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の洗浄に使用されるプリズムの斜視図で
ある。
【図2】洗浄システムの側面図である。
【図3】別の洗浄システムの側面図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C11D 7:36 7:34)

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 非水系洗浄剤と、界面活性剤と、水と、
    アルコールアミンとの4成分の混合からなり、前記界面
    活性剤は全体100重量部に対して0.5重量部以上3
    重量部以下、前記水は界面活性剤100重量部に対して
    5重量部以上50重量部以下で且つ全体100重量部に
    対して0.1重量部以上1.5重量部以下、前記アルコ
    ールアミンは水100重量部に対して10重量部以下の
    混合比で混合相容されていることを特徴とする洗浄組成
    物。
  2. 【請求項2】 前記界面活性剤が1種類以上の水溶性界
    面活性剤と1種類以上の油溶性界面活性剤とから構成さ
    れ、且つ水溶性界面活性剤と油溶性界面活性剤はポリオ
    キシアルキレン基含有界面活性剤、リン酸エーテル基含
    有界面活性剤、カルボキシル基含有界面活性剤、硫酸エ
    ーテル基含有界面活性剤、アミノ酸類界面活性剤、グリ
    セリン類界面活性剤、アンモニウム塩類界面活性剤の内
    のいずれか、又はこれらが塩により中和されて改質され
    たノニオン系、アニオン系、カチオン系の界面活性剤の
    いずれかであり、前記水溶性界面活性剤が全体の界面活
    性剤100重量部に対して20重量部以上80重量部以
    下であることを特徴とする請求項1記載の洗浄組成物。
  3. 【請求項3】 前記非水系洗浄剤がノルマルパラフィン
    系有機溶剤、イソパラフィン系有機溶剤、単環芳香族含
    有有機溶剤又はこれらの混合であることを特徴とする請
    求項1又は2のいずれかに記載の洗浄組成物。
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009203471A (ja) * 2008-01-31 2009-09-10 Sanyo Chem Ind Ltd 電子材料用洗浄剤及び洗浄方法
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