JPH07228895A - 溶剤組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 従来の酢酸セロソルブ、フロン１１３、メチ
ルクロロホルム等の代替溶媒の持つ欠点を克服し、低毒
性で安全な溶媒系からなり、溶解能力が高く、環境破壊
性物質の生成がなく、不快臭がなく、しかも沸点も比較
的高く安全で操作性の良い溶剤組成物の提供。 【構成】 α−アルコキシイソ酪酸アルキルエステル、
β−アルコキシイソ酪酸アルキルエステル、α−ヒドロ
キシイソ酪酸アルキルエステルから選ばれた少なくとも
一種のオキシイソ酪酸エステルを有効成分として含むこ
とを特徴とする溶剤組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は溶剤組成物に関するもの
であり、更に詳しくは塗料用、コーティング剤用、接着
剤用、印刷インキ用、洗浄用、電子工業用、農業用、化
粧用などの溶剤や助剤として使用するに適した溶剤組成
物に関する。

【０００２】

【従来技術およびその問題点】溶剤の利用は化学工業の
発展に重要な役割を果たしてきたが、特に近年の高分子
化学工業の著しい発達に伴い塗料、接着剤、印刷インキ
等の分野で使用される溶剤の重要性は益々増大してき
た。一般に、塗料、接着剤、印刷インキなどは基剤であ
る高分子化合物を使用時に操作性良く、処理面へ均一に
密着塗布するために溶剤に溶解して溶液状で用いる。こ
のため使用する溶剤は操作性の良さはもとより、基剤で
ある高分子化合物に対する大きな溶解性や塗布面の均一
性を損なわない適度な溶剤の揮発性が非常に重要とな
る。すなわち、塗料、接着剤、印刷インキなどの性能の
良否は溶剤の選択に大きく依存するとも言える。

【０００３】従来、塗料、接着剤、印刷インキ等の分野
で常用されているセルロース樹脂、エポキシ樹脂、アク
リル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル樹脂などのビニ
ル樹脂、アルキッド樹脂、ポリエステル樹脂などの溶剤
としてはグリコールエーテル系のセロソルブ類、特に酢
酸セロソルブ（エチルセロソルブアセテート）がその優
れた性能から賞用されてきた。しかしながら、最近では
公害問題等から化学物質の安全性に対する要求が極めて
大きくなり、この酢酸セロソルブも毒性問題から使用制
限が強化され、労働安全衛生法により作業環境管理濃度
基準が設定されている。

【０００４】このため酢酸セロソルブに代わり得る溶解
性を持ち、しかも安全性の懸念のない代替溶剤の開発が
活発に行われている。例えば、乳酸エチル、プロピレン
グリコールモノメチルエーテルアセテート、メトキシプ
ロパノール、β−エトキシプロピオン酸エチルなどが有
力代替溶媒候補として検討されているが、溶解力、安全
性、臭気、操作性など必ずしも満足できる性能でないこ
とがわかった。これらの中でも安全性の観点からは食品
添加物としても認可されている乳酸エチルが最も好まし
いと考えられるが、高分子化合物および各種添加剤に対
する溶解性の点では十分満足できるとは言えない。ま
た、溶解性の観点からはβ−メトキシプロピオン酸メチ
ルやβ−エトキシプロピオン酸エチルなどのβ−アルコ
キシプロピオン酸アルキルエステル類が最も好ましいと
考えられるが、これとても高分子化合物あるいは各種添
加剤に対する溶解性や塗布後の揮発性の点では未だ満足
できるとは言いがたい。このためβ−メトキシプロピオ
ン酸メチルとβ−エトキシプロピオン酸エチルの混合物
として溶剤物性を改善する提案などがなされているが
（特開平３−２８４６５１号公報）、調製が煩雑であり
工業溶媒としては適当でない。このように酢酸セロソル
ブと同等の性能を持った実用性のある溶剤は未だ見当た
らない。

【０００５】また、溶剤は前述のような用途のほか、切
削油、加工油、プレス油、防錆油、潤滑油、グリースあ
るいはピッチなどとして用いられている油類の洗浄用
に、あるいはハンダフラックス、インキ、液晶などの洗
浄用等に用いられているが、これらの洗浄剤としては、
フロン１１３（１，１，２−トリクロロ−１，２，２−
トリフルオロエタン）、メチルクロロホルム（１，１，
１−トリクロロエタン）およびトリクロロエチレンなど
ハロゲン系溶剤を主体にしたものが広く用いられてい
る。特にフロン１１３は不燃性で毒性も低く、安定性も
優れており、しかも金属、プラスチック、エラストマー
等を侵さず、各種の汚れを選択的に溶解する性質がある
ため、幅広く用いられていた。しかし、フロン１１３お
よびメチルクロロホルムは成層圏のオゾン層を破壊し、
ひいては皮膚ガンの発生を引き起こす原因となることか
ら、その使用が急速に制限されつつある。また、トリク
ロロエチレンは発ガン性の疑いが持たれるなどこれも安
全性の面から使用が制限されつつある。

【０００６】このためフロン１１３等に代わり得る洗浄
性を持ち、しかもオゾン層破壊の懸念のない代替フロン
系洗浄剤の開発が活発に行われている。例えば、１，２
−ジフルオロエタンを主成分とするもの（特開平１−１
３２６９４号公報）、１，１−ジクロロ−２，２，２−
トリフルオロエタンとジメトキシメタンの混合物（特開
平２−１７８３９６号公報）およびヘキサフルオロベン
ゼンを主成分とするもの（特開平３−１６７２９８号公
報）など多くの代替フロンが提案されている。しかし、
これらの溶剤も性能的にフロン１１３に及ばないほか、
将来的にはこれらのハロゲン系溶媒も環境問題と安全性
の問題から全面的に使用規制される方向に進んでいるた
め本質的な解決にはほど遠い。

【０００７】一方、人体への安全性が高く、また環境破
壊のない脱脂用洗浄剤としてノニオン系界面活性剤と乳
酸アルキルエステルを主成分とするもの（特開平４−６
８０８８号公報）、ノニオン系界面活性剤とアジピン酸
エステルを主成分とするもの（特開平４−５９９８５号
公報）、ノニオン界面活性剤とポリアルキレングリコー
ルジアルキルエーテルを主成分とするもの（特開平４−
５９９８４号公報）、ノニオン界面活性剤とＮ−メチル
ピロリドンなどを主成分とするもの（特開平４−６８０
９４号公報）、ノニオン系界面活性剤とグリセリンアセ
タート類を主成分とするもの（特開平４−６８０９２号
公報）、アルコールと脂肪酸エステルを主成分とするも
の（特開平４−６８０９０号公報）などの提案がある。
乳酸アルキルエステル、Ｎ−メチルピロリドンなどは低
毒性であり、環境破壊、環境蓄積などもなく非常に安全
性の高い溶剤ではあるが、上記特許比較例からも明らか
なように溶剤単独では油脂類に対する溶解力が不十分で
あり、界面活性剤などの洗浄助剤の併用が不可欠である
など脱脂用洗浄剤としては未だ満足できるものではな
い。

【０００８】また、人体への安全性が高く、また環境破
壊のないインキ洗浄剤として乳酸アルキルエステルを主
成分とするものが提案されている（特開平３−４１１７
０号公報）。乳酸アルキルエステルは低毒性であり、環
境破壊、環境蓄積などもなく非常に安全性の高い溶剤で
はあるが、ポリマー系のインキに対する溶解力が不十分
であり、インキ洗浄剤としては未だ満足できるものでは
ない。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】このように当業技術分
野では、人体に対する毒性や安全性上の問題もなく、し
かも塗料、接着剤、印刷インキ等の主成分である高分子
化合物、油脂、ハンダフラックス、液晶、農薬、化粧品
等の有機化合物や各種添加剤に対し高い溶解力を有する
酢酸セロソルブ、フロン１１３、メチルクロロホルム等
の代替溶剤の開発が重要な課題になっている。

【００１０】本発明は、前述したような従来の酢酸セロ
ソルブ、フロン１１３、メチルクロロホルム等の代替溶
媒の持つ欠点を克服し、低毒性で安全な溶媒系からな
り、溶解能力が高く、環境破壊性物質の生成がなく、不
快臭がなく、しかも沸点も比較的高く安全で操作性の良
い溶剤組成物を提供することを目的としてなされたもの
である。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の好
ましい性質を有する溶剤組成物を開発すべく鋭意研究を
重ねた結果、α−アルコキシイソ酪酸アルキルエステ
ル、β−アルコキシイソ酪酸アルキルエステル、および
α−ヒドロキシイソ酪酸アルキルエステルなどのオキシ
イソ酪酸エステル類がその目的に適合することを見いだ
し、本発明に到達した。

【００１２】すなわち本発明は、下記の一般式［１］で
表されるα−アルコキシイソ酪酸アルキルエステル

【化４】 下記の一般式［２］で表されるβ−アルコキシイソ酪酸
アルキルエステル

【化５】 および下記の一般式［３］で表されるα−ヒドロキシイ
ソ酪酸アルキルエステル

【化６】 （ただし、前記各式中のＲ¹およびＲ²は炭素数１〜４の
アルキル基を表す。）から選ばれた少なくとも一種のオ
キシイソ酪酸エステルを有効成分として含むことを特徴
とする溶剤組成物に関する。

【００１３】本発明の溶剤組成物は、オキシイソ酪酸ア
ルキルエステルを含有することが重要な点である。オキ
シイソ酪酸エステルとしては、α−メトキシイソ酪酸メ
チル、α−メトキシイソ酪酸エチル、α−エトキシイソ
酪酸メチル、α−エトキシイソ酪酸エチルなどのα−ア
ルコキシイソ酪酸アルキルエステル（一般式［１］に相
当）；β−メトキシイソ酪酸メチル、β−メトキシイソ
酪酸エチル、β−エトキシイソ酪酸メチル、β−エトキ
シイソ酪酸エチル、β−イソプロポキシイソ酪酸メチ
ル、β−イソプロポキシイソ酪酸エチル、β−イソプロ
ポキシイソ酪酸ブチル、β−ブトキシイソ酪酸メチル、
β−ブトキシイソ酪酸エチル、β−ブトキシイソ酪酸ブ
チルなどのβ−アルコキシイソ酪酸アルキルエステル
（一般式［２］に相当）；およびα−ヒドロキシイソ酪
酸メチル、α−ヒドロキシイソ酪酸エチル、α−ヒドロ
キシイソ酪酸イソプロピルまたはα−ヒドロキシイソ酪
酸ブチルなどのα−ヒドロキシイソ酪酸アルキルエステ
ル（一般式［３］に相当）が挙げられ、特にα−メトキ
シイソ酪酸メチル、α−エトキシイソ酪酸エチル、β−
メトキシイソ酪酸メチル、β−メトキシイソ酪酸エチ
ル、β−エトキシイソ酪酸メチル、β−エトキシイソ酪
酸エチル、β−イソプロポキシイソ酪酸メチル、β−ブ
トキシイソ酪酸メチル、β−ブトキシイソ酪酸エチル、
β−ブトキシイソ酪酸ブチル、α−ヒドロキシイソ酪酸
メチル、α−ヒドロキシイソ酪酸エチル、α−ヒドロキ
シイソ酪酸イソプロピルまたはα−ヒドロキシイソ酪酸
ブチルが溶解力および揮発性などの点から好ましい。本
発明の溶剤組成物は脱脂、インキ、フラックス、液晶セ
ルなどの洗浄剤、レジスト剥離剤として用いることもで
きる。

【００１４】脱脂用洗浄剤用としては、特にα−メトキ
シイソ酪酸メチル、α−エトキシイソ酪酸エチル、β−
メトキシイソ酪酸メチル、β−エトキシイソ酪酸メチ
ル、β−エトキシイソ酪酸エチル、β−イソプロポキシ
イソ酪酸メチル、β−ブトキシイソ酪酸メチル、β−ブ
トキシイソ酪酸エチル、β−ブトキシイソ酪酸ブチル、
α−ヒドロキシイソ酪酸メチル、α−ヒドロキシイソ酪
酸エチル、α−ヒドロキシイソ酪酸イソプロピルまたは
α−ヒドロキシイソ酪酸ブチルが好ましい。インキ洗浄
剤としては、特にα−メトキシイソ酪酸メチル、β−メ
トキシイソ酪酸メチル、β−メトキシイソ酪酸エチル、
β−エトキシイソ酪酸メチル、β−エトキシイソ酪酸エ
チル、β−ブトキシイソ酪酸メチル、β−ブトキシイソ
酪酸エチル、β−ブトキシイソ酪酸ブチル、α−ヒドロ
キシイソ酪酸メチル、α−ヒドロキシイソ酪酸エチルま
たはα−ヒドロキシイソ酪酸ブチルが好ましい。

【００１５】フラックス洗浄剤としては、特にα−メト
キシイソ酪酸メチル、α−エトキシイソ酪酸エチル、β
−メトキシイソ酪酸メチル、β−メトキシイソ酪酸エチ
ル、β−エトキシイソ酪酸メチル、β−エトキシイソ酪
酸エチル、β−イソプロポキシイソ酪酸メチル、β−ブ
トキシイソ酪酸メチル、β−ブトキシイソ酪酸エチル、
β−ブトキシイソ酪酸ブチル、α−ヒドロキシイソ酪酸
メチル、α−ヒドロキシイソ酪酸エチル、α−ヒドロキ
シイソ酪酸イソプロピルまたはα−ヒドロキシイソ酪酸
ブチルが好ましい。

【００１６】液晶セル用洗浄剤としては、特にα−メト
キシイソ酪酸メチル、β−メトキシイソ酪酸メチル、β
−メトキシイソ酪酸エチル、β−エトキシイソ酪酸メチ
ル、β−エトキシイソ酪酸エチル、β−イソプロポキシ
イソ酪酸メチル、β−ブトキシイソ酪酸メチル、β−ブ
トキシイソ酪酸エチル、β−ブトキシイソ酪酸ブチル、
α−ヒドロキシイソ酪酸メチル、α−ヒドロキシイソ酪
酸エチルまたはα−ヒドロキシイソ酪酸ブチルが好まし
い。

【００１７】また、レジスト剥離剤としては、特にα−
メトキシイソ酪酸メチル、α−エトキシイソ酪酸エチ
ル、β−メトキシイソ酪酸メチル、β−メトキシイソ酪
酸エチル、β−エトキシイソ酪酸メチル、β−エトキシ
イソ酪酸エチル、β−イソプロポキシイソ酪酸メチル、
β−ブトキシイソ酪酸メチル、β−ブトキシイソ酪酸エ
チル、β−ブトキシイソ酪酸ブチル、α−ヒドロキシイ
ソ酪酸メチル、α−ヒドロキシイソ酪酸エチル、α−ヒ
ドロキシイソ酪酸イソプロピルまたはα−ヒドロキシイ
ソ酪酸ブチルが好ましい。

【００１８】これらのα−アルコキシイソ酪酸アルキル
エステル（一般式［１］に相当）、β−アルコキシイソ
酪酸アルキルエステル（一般式［２］に相当）およびα
−ヒドロキシイソ酪酸アルキルエステル（一般式［３］
に相当）は、単独で用いてもよいし、また２種以上を組
み合わせて用いてもよい。

【００１９】本発明におけるα−アルコキシイソ酪酸ア
ルキルエステル、β−アルコキシイソ酪酸アルキルエス
テルおよびα−ヒドロキシイソ酪酸アルキルエステル
は、アルコール、エステル、ケトン、アミド、芳香族等
の他の一般有機溶剤とも良く相溶し、通常の炭化水素系
の各種油脂類はもとより、セルロース系樹脂等の天然樹
脂やエポキシ樹脂、アクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩
化ビニル樹脂などのビニル樹脂、アルキッド樹脂、ポリ
エステル樹脂、ノボラック樹脂等の合成樹脂など広範囲
の高分子化合物に対して極めて優れた溶解性を有してい
る。このため、これら本発明のオキシイソ酪酸エステル
類は、溶剤として単独で使用することができるが、他の
有機溶媒に対する希釈剤や助溶剤としても優れた性能を
発揮するので、オキシイソ酪酸エステルに有機溶媒を併
用した溶剤組成物として使用することもできる。その割
合は任意であるが、オキシイソ酪酸エステルの安全性、
溶解性などを効果的に発現させるためには、オキシイソ
酪酸エステルを５重量％以上、好ましくは１０重量％以
上とするのがよい。

【００２０】併用される水または有機溶媒は、特に制限
されるものでなく、アルコール類、エーテル類、エステ
ル類、ケトン類、アミド類、脂族族または芳香族炭化水
素など幅広く使用できるが、好ましいものとしては例え
ば、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、
ブタノール、メチルイソブチルカルビノール、ヘプタノ
ール、オクタノール、ノナノール、３−メチルブタノー
ル、プロピレングリコール、３−メトキシブタノール、
３−メチル−３−メトキシブタノール、３，５，５−ト
リメチル−１−ヘキサノール、２−エチル−１−ヘキサ
ノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン、イソホロン、ピロリドン、Ｎ−
メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、酢酸
メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、３−メ
トキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブ
チルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチ
ル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプ
ロピオン酸エチル、２−エチルヘキシルアセテート、シ
クロヘキシルアセテート、ベンジルアセテート、ジベン
ジルエーテル、ニトロメタン、ニトロエタン、アセトニ
トリル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテート、トルエン、キシレン、ヘ
キサンおよびシクロヘキサンなどが挙げられ、好ましく
は水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブ
タノール、ヘプタノール、オクタノール、３−メチルブ
タノール、３−メトキシブタノール、３−メチル−３−
メトキシブタノール、３，５，５−トリメチル−１−ヘ
キサノール、２−エチル−１−ヘキサノール、シクロヘ
キサノール、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノ
ン、イソホロン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホル
ムアミド、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸
アミル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−
３−メトキシブチルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチ
ル、乳酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３
−エトキシプロピオン酸エチル、２−エチルヘキシルア
セテート、シクロヘキシルアセテート、ベンジルアセテ
ート、ジベンジルエーテル、アセトニトリル、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート、トルエ
ン、キシレンなどである。

【００２１】脱脂用洗浄剤としては、好ましくはイソプ
ロパノール、ブタノール、ヘプタノール、オクタノー
ル、３−メチルブタノール、３−メトキシブタノール、
３−メチル−３−メトキシブタノール、３，５，５−ト
リメチル−１−ヘキサノール、２−エチル−１−ヘキサ
ノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン、イソホロン、Ｎ−メチルピロリ
ドン、ジメチルホルムアミド、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、酢酸アミル、３−メトキシブチルアセ
テート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、
乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、３−メトキシプ
ロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、
２−エチルヘキシルアセテート、シクロヘキシルアセテ
ート、ベンジルアセテート、ジベンジルエーテル、アセ
トニトリル、プロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテート、トルエン、キシリンなどである。

【００２２】インキ洗浄剤としては、好ましくは水、エ
タノール、イソプロパノール、ブタノール、ヘプタノー
ル、オクタノール、３−メチルブタノール、３−メトキ
シブタノール、３−メチル−３−メトキシブタノール、
３，５，５−トリメチル−１−ヘキサノール、２−エチ
ル−１−ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジル
アルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、Ｎ−
メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、３−メトキ
シブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチル
アセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、３
−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオ
ン酸エチル、２−エチルヘキシルアセテート、シクロヘ
キシルアセテート、ベンジルアセテート、ジベンジルエ
ーテル、アセトニトリル、プロピレングリコールモノメ
チルエーテルアセテート、トルエン、キシレンなどであ
る。

【００２３】フラックス洗浄剤としては、好ましくは
水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタ
ノール、ヘプタノール、オクタノール、３−メチルブタ
ノール、３−メトキシブタノール、３−メチル−３−メ
トキシブタノール、３，５，５−トリメチル−１−ヘキ
サノール、２−エチル−１−ヘキサノール、シクロヘキ
サノール、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノ
ン、イソホロン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホル
ムアミド、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸
アミル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−
３−メトキシブチルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチ
ル、乳酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３
−エトキシプロピオン酸エチル、２−エチルヘキシルア
セテート、シクロヘキシルアセテート、ベンジルアセテ
ート、ジベンジルエーテル、アセトニトリル、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート、ニトロメ
タン、ニトロエタン、トルエン、キシレンなどである。

【００２４】液晶セル用洗浄剤としては、好ましくはイ
ソプロパノール、ブタノール、ヘプタノール、オクタノ
ール、３−メチルブタノール、３−メトキシブタノー
ル、３−メチル−３−メトキシブタノール、３，５，５
−トリメチル−１−ヘキサノール、２−エチル−１−ヘ
キサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコー
ル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、Ｎ−メチルピ
ロリドン、ジメチルホルムアミド、酢酸メチル、酢酸エ
チル、酢酸ブチル、酢酸アミル、３−メトキシブチルア
セテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテー
ト、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、３−メトキ
シプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチ
ル、２−エチルヘキシルアセテート、シクロヘキシルア
セテート、ベンジルアセテート、ジベンジルエーテル、
アセトニトリル、プロピレングリコールモノメチルエー
テルアセテート、ニトロメタン、ニトロエタン、トルエ
ン、キシレンなどである。

【００２５】また、レジスト剥離剤としては、好ましく
はエタノール、イソプロパノール、ブタノール、３−メ
チルブタノール、３−メトキシブタノール、３−メチル
−３−メトキシブタノール、２−エチル−１−ヘキサノ
ール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、
シクロヘキサノン、イソホロン、Ｎ−メチルピロリド
ン、ジメチルホルムアミド、酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸ブチル、酢酸アミル、３−メトキシブチルアセテー
ト、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、乳酸
メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、３−メトキシプロピ
オン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−
エチルヘキシルアセテート、シクロヘキシルアセテー
ト、ベンジルアセテート、ジベンジルエーテル、アセト
ニトリル、プロピレングリコールモノメチルエーテルア
セテート、トルエン、キシレンなどである。

【００２６】これらの有機溶媒及び水は２種類以上を組
み合わせて用いることもできる。これらの有機溶媒や水
の併用により、洗浄性、安全性、操作性などを適宜調節
し、また改善することができる。

【００２７】本発明におけるα−アルコキシイソ酪酸ア
ルキルエステル、β−アルコキシイソ酪酸アルキルエス
テルおよびα−ヒドロキシイソ酪酸アルキルエステル
は、沸点が高く、蒸発速度が比較的遅いので、高沸点溶
剤として使用される。混合溶剤に配合すると展延性の改
良、塗面の平滑化、樹脂の融着などに対し作用効果を発
現し、性能と作業性の向上がはかれる。

【００２８】本発明の溶剤組成物中におけるα−アルコ
キシイソ酪酸アルキルエステル、β−アルコキシイソ酪
酸アルキルエステルおよびα−ヒドロキシイソ酪酸アル
キルエステルの含有量は、用途により異なるが、通常は
５重量％程度以上、好ましくは１０重量％以上であるこ
とが好ましい。

【００２９】また、洗浄用に使用するときは、洗浄力の
向上などのため、ノニオン系界面活性剤、アニオン系界
面活性剤、またはカチオン系界面活性剤などの界面活性
剤や、酸性化合物または塩基性化合物を必要により併用
することもできる。

【００３０】本発明のオキシイソ酪酸エステル類は、極
めて低毒性であるため安全性が高いこと、また、高分子
化合物、天然物化合物をはじめとする種々の有機化合物
に対する溶解性が非常に大きなことから、農薬の希釈用
溶剤等の助剤、化粧品用の溶剤、助剤などとしても非常
に有用である。

【００３１】

【実施例】以下、本発明を実施例および比較例によって
具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定され
るものではない。

【００３２】実施例１〜４ 本発明のオキシイソ酪酸アルキルエステルについて、他
の溶剤との相溶性を調べるために、オキシイソ酪酸アル
キルエステルと他の代表的溶剤とを容積比１／１の割合
で三角フラスコに採り、混合して室温で静置して相溶性
を観察した。

【００３３】比較例１ オキシイソ酪酸アルキルエステルの代わりに従来汎用さ
れていた酢酸セロソルブを用いて、実施例１〜４と同様
の方法で酢酸セロソルブの相溶性を観察した。

【００３４】上記の実施例１〜４および比較例１の結果
を表１、２に示す。なお、相溶性の程度は目視により判
定した。 ○ ：完全に均一混合 △ ：白濁 × ：二相分離

【００３５】

【表１】 ただし、α−ＭＢＭ ：α−メトキシイソ酪酸メチ
ル β−ＭＢＭ ：β−メトキシイソ酪酸メチル α−ＨＢＭ ：α−ヒドロキシイソ酪酸メチル

【００３６】

【表２】 ただし、β−ＭＢＭ／α−ＨＢＭ：β−ＭＢＭ／α−Ｈ
ＢＭ混合（重量比：３０／７０） ＥＣＡ ：酢酸セロソルブ

【００３７】実施例５ 本発明のオキシイソ酪酸アルキルエステルの蒸発速度を
測定した。測定法は、Ｎｏ．４の濾紙（９５ｍｍφ）に
試料０．７５ｇを平均的に塗布し、それをフード付き実
験台中、２５℃で放置し、一定時間毎に重量測定して蒸
発量を求め、蒸発速度を算出した。この時、酢酸ブチル
をスタンダード（１００）とした。

【００３８】比較例２ 従来から溶剤として用いられている酢酸セロソルブ、乳
酸エチルおよびβ−メトキシプロピオン酸メチルについ
て、実施例５と同様の方法で蒸発速度を測定した。

【００３９】上記の実施例５および比較例２の結果を表
３に示す。

【表３】

【００４０】実施例６ β−メトキシイソ酪酸メチルの各種樹脂に対する溶解力
を測定した。１００ｍｌの三角フラスコに樹脂２．０ｇ
を秤り採り、β−メトキシイソ酪酸メチル２０ｍｌを加
え、２５℃に保ち撹拌しながら樹脂の溶け具合を見て溶
解時間を測定した。

【００４１】比較例３ β−メトキシイソ酪酸メチルの代わりに酢酸セロソルブ
を用いた以外は実施例６と同様の方法で溶解力を測定し
た。

【００４２】上記の実施例６および比較例３の結果を表
４に示す。

【表４】

【００４３】実施例７〜１１ オキシイソ酪酸アルキルエステルのエポキシ樹脂に対す
る溶解力を測定した。１００ｍｌの三角フラスコにエポ
キシ樹脂（エピコート１００７：油化シェルエポキシ
製）２．０ｇを秤り採り、オキシイソ酪酸アルキルエス
テル２０ｍｌを加えた。２５℃に保ち撹拌しながら樹脂
の溶け具合を見て溶解時間を測定した。

【００４４】比較例４〜６ オキシイソ酪酸アルキルエステルの代わりに酢酸セロソ
ルブ、乳酸エチルまたはβ−メトキシプロピオン酸メチ
ルを用いた以外は実施例７〜１１と同様の方法で実験を
行った。

【００４５】上記の実施例７〜１１および比較例４〜６
の結果を表５に示す。

【表５】

【００４６】

【考察】

（１）本発明のオキシイソ酪酸エステルは、従来からの
汎用溶剤ＥＣＡなどと同等またはそれ以上の相溶性を有
し、幅広い他の溶剤との混合使用が可能なことがわかる
（表１、表２）。 （２）エステル基の選択により、所望の蒸発速度が選べ
る。たとえば、本発明のオキシイソ酪酸エステルは、従
来から多用されている酢酸セロソルブや乳酸エチルに比
較して約２〜３倍の蒸発速度をもつことから、揮発性の
良い溶媒系を作ることができる（表３）。 （３）塗料、接着剤等によく用いられる各種樹脂の溶解
時間を比較すると、本発明のオキシイソ酪酸エステル
は、従来の汎用溶剤よりも溶解時間が短く、樹脂溶解性
に優れていることがわかる（表４、表５）。

【００４７】実施例１２〜３０（脱脂用洗浄剤としての
実施例） 表面を研磨したステンレス板（５０×２０×２ｍｍ）に
下記Ａ〜Ｃの市販の油脂類を均一に塗布したものをテス
トピースとして用いた。 Ａ：切削油（出光興産製、ダフニーマーグプラスＬＡ１
５） Ｂ：プレス油（日本石油製、ユニプレスＤＰ１２０） Ｃ：グリース（昭和シェル石油製、アルバニアグリース
１） 油脂を塗布してから１時間後、本発明の組成の脱脂用洗
浄剤の入った洗浄ビン中にテストピースを投入し、４０
℃で５分間振盪した後、熱風乾燥してから、残存付着量
を測定し評価した。なお、残存付着量の測定は、目視お
よび金属顕微鏡にて判定した。 ○：目視および金属顕微鏡にて残存付着物なし。 △：目視では残存付着物ないが、金属顕微鏡ではあり。 ×：目視にて残存付着物あり。 結果は表６、７に示した。

【００４８】比較例７〜１０ 従来組成の脱脂用洗浄剤を用いた以外は、実施例１２〜
３０と同様な方法で評価試験を行った結果を表６、７に
示した。

【００４９】

【表６】

【００５０】

【表７】

【００５１】実施例３１〜４９（インキ洗浄剤の実施
例） 表面を研磨したアルミ板（５０×２０×２ｍｍ）に下記
Ａ〜Ｄの市販インキをバーコーダーで均一に塗布したも
のをテストピースとして用いた。 Ａ ： 計器板文字用インキ（緑色、セルロース樹脂
系） Ｂ ： ソルダーレジストインキ（緑色、熱硬化タイ
プ） Ｃ ： マーキングインキ（白色、紫外線硬化タイプ） Ｄ ： スクリーン印刷インキ（白色、塩ビ−アクリル
系） インキ塗布してから１時間後、本発明の組成のインキ洗
浄剤の入った洗浄ビン中にテストピースを投入し、室温
下で３０秒間振盪し、乾燥した後、残存付着量を測定し
評価した。なお、残存付着量の測定は、目視および金属
顕微鏡にて判定した。 ○ ： 目視および金属顕微鏡にて残存付着物なし。 △ ： 目視では、残存付着物ないが、金属顕微鏡では
あり。 × ： 目視にて残存不着物あり。 結果は表８，９，１０に示した。

【００５２】比較例１１〜１４ 従来組成のインキ洗浄剤を用いた以外は、実施例３１〜
４９と同様な方法で評価試験を行った結果を表１０に示
した。

【００５３】

【表８】

【００５４】

【表９】

【００５５】

【表１０】

【００５６】実施例５０〜６８（フラックス洗浄剤の実
施例） プリント基板（銅張積層板）全面に市販のフラックス
〔ソルダーライトフラックスＢ−１１１Ｒ，（株）タム
ラ製作所製〕（なお、本発明の洗浄剤が適用されるハン
ダおよびフラックスは特に制限されず、通常使用されて
いるものの中から任意に選ぶことができる。）を均一に
塗布した後、１００℃で予備乾燥し、ついで２２０℃で
焼き付けしたものを被洗物として用いた。洗浄試験は、
被洗物の基板を表１１、１２に示す本発明の洗浄剤中に
室温で５分間浸漬振盪した後、水洗、乾燥し、被洗物表
面の残存付着量を測定し、洗浄力を評価した。

【００５７】比較例１５〜１６ 比較のために、フラックス洗浄剤にフロン１１３あるい
は乳酸メチルを用いたこと以外は、上記実施例の方法に
準じて洗浄試験を行った。

【００５８】上記の実施例および比較例の結果を表１
１，１２，１３に示す。なお、残存付着量の測定は、目
視および金属顕微鏡にて判定した。 ○：目視および金属顕微鏡にて残渣なし。 △：目視では残渣ないが、金属顕微鏡ではあり。 ×：目視にて残渣あり。

【００５９】

【表１１】

【００６０】

【表１２】

【００６１】

【表１３】

【００６２】実施例６９〜８２（フラックス洗浄剤の実
施例） プリント基板（銅張積層板）全面に市販のフラックス
〔タムラＦ−Ａｌ−４、（株）タムラ製作所製〕を均一
に塗布した後、１００℃で予備乾燥し、ついで２２０℃
で焼き付けしたものを被洗物として用いた。洗浄試験
は、被洗物の基板を表１４，１５に示す本発明の洗浄剤
中に、４０℃で５分間浸漬振盪した後、水洗、乾燥し、
被洗物表面の残存付着量を測定し、洗浄力を評価した。

【００６３】比較例１７〜１８ 比較のために、フラックス洗浄剤にフロン１１３あるい
は乳酸メチルを用いたこと以外は、上記実施例の方法に
準じて洗浄試験を行った。

【００６４】上記の実施例および比較例の結果を表１
４，１５に示す。なお、残存付着量の測定は、目視およ
び金属顕微鏡にて判定した。 ○：目視および金属顕微鏡にて残渣なし。 △：目視では残渣ないが、金属顕微鏡ではあり。 ×：目視にて残渣あり。

【００６５】

【表１４】

【００６６】

【表１５】

【００６７】実施例８３〜１０１（液晶セル用洗浄剤の
実施例） 表面を洗浄したガラス板（６０×３０×１ｍｍ）２枚と
スペーサーにより空隙部１０μにしたセルの空隙部に市
販の液晶（メルク ジャパン社製、ＺＬＩ−１５６５）
を封入し液晶セルを作成する。この液晶セルを本発明の
組成の液晶セル用洗浄剤１００ｍｌ中で、室温下１０分
間浸漬洗浄を行う。ついで、セルを熱風乾燥した後、セ
ルのガラス板上およびセルの周囲への液晶の残存付着量
を測定した。なお、残存付着量の測定は、目視および偏
光顕微鏡にて判定した。 ○ ： 目視および偏光顕微鏡にて残存付着物なし。 △ ： 目視では残存付着物ないが、偏光顕微鏡ではあ
り。 × ： 目視にて残存不着物あり。 結果は表１６，１７，１８に示した。

【００６８】比較例１９〜２２ 従来組成の液晶セル用洗浄剤を用いた以外は、上記実施
例と同様な方法で評価試験を行った結果を表１８に示し
た。

【００６９】

【表１６】

【００７０】

【表１７】

【００７１】

【表１８】

【００７２】実施例１０２〜１１１（レジスト剥離剤の
実施例） シリコンウエハー上に市販の微細加工用ポジ型フォトレ
ジスト（東京応化製、ＯＦＰＲ−８００）をスピンナー
（回転数３０００ｒｐｍ）により均一に塗布した後、９
０℃で３０分プレベークし、ついで紫外線を露光してパ
ターンを焼き付ける。アルカリ現像液（東京応化製、Ｎ
ＭＤ−Ｗ）で２５℃、１分間、現像した後、純水で３０
秒リンスしたものを、１３０℃、３０分ポストベークし
て被洗物として用いた。剥離試験は被洗物を表１９に示
す本発明のレジスト剥離剤中に５分間浸漬振盪した後、
水洗、乾燥し、被洗物表面の残存付着量を測定し剥離力
を評価した。

【００７３】なお、本発明のレジスト剥離剤が適用され
るフォトレジストとしては、何等限定されず、通常使用
されているポジ型またはネガ型の光露光用レジスト、遠
紫外露光用レジスト、Ｘ線または電子線用レジストなど
の中から任意に選ぶことができる。これらのレジストの
材質としては主成分がノボラック樹脂系、環化ゴム系、
ポリケイ皮酸系、（メタ）アクリル樹脂系、（メタ）ア
クリル酸共重合体系、ポリヒドロキシスチレン系など多
くのものが知られているが、本発明のレジスト剥離剤
は、いずれも有効である。

【００７４】本発明のレジスト剥離剤は、レジストの剥
離効果を向上させるために、ベンゼンスルホン酸、トル
エンスルホン酸、キシレンスルホン酸、フェノールスル
ホン酸、あるいはメチル、プロピル、ヘプチル、オクチ
ル、デシル、ドデシル等のアルキルベンゼンスルホン酸
などの剥離促進剤を併用することもできる。剥離促進剤
の使用量は、通常剥離剤全量の５〜３０重量％程度であ
る。

【００７５】また、剥離力の向上などのため、ノニオン
系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、またはカチオン
系界面活性剤などの界面活性剤や、酸性化合物または塩
基性化合物を必要により併用することもできる。

【００７６】比較例２３〜２７ 比較のために、剥離剤に酢酸セロソルブ、乳酸エチルあ
るいはβ−メトキシプロピオン酸メチルを用いたこと以
外は、上記実施例の方法に準じて剥離試験を行った。

【００７７】上記の実施例および比較例の結果を表１
９，２０に示す。なお、残存付着量の測定は、目視およ
び金属顕微鏡にて判定した。

【００７８】 ○ ： 目視および金属顕微鏡にて残存付着物なし。 △ ： 目視では、残存付着物ないが、金属顕微鏡では
あり。 × ： 目視にて残存不着物あり。

【００７９】

【表１９】

【００８０】

【表２０】

【００８１】

【発明の効果】

１．本発明の溶剤組成物は、非常に優れた溶解性を有す
る上、不快臭がなく、環境保全上の問題もなく、且つ安
全性も高い。また、本発明は次のような利点を有する。 （１）天然および合成高分子化合物類に対する溶解性が
極めて高い。 （２）多くの有機溶剤と自由に混和する。 （３）生分解性であり、自然界への蓄積がない。 （４）低毒性であり、催奇形性などがなく、安全性が高
い。 （５）沸点及び引火点が比較的高く、操作性や安全性も
著しく向上する。 （６）基剤を侵さない。

【００８２】２．本発明の脱脂用洗浄剤は、前項１の効
果に加えて、きわめて洗浄性、剥離性に優れている。ま
た、本発明は次のような利点を有する。 （１）各種油脂類に対する溶解性が極めて高く、油脂、
グリースの剥離除去性に優れる。 （２）水溶性であり、水系での使用が可能である。

【００８３】３．インキはその種類（例えば、ベースポ
リマーの種類あるいは紫外線硬化、熱硬化または蒸発硬
化などの硬化機構の種類など）により溶剤に対する溶解
性が非常に異なるため、どのインキにも適応可能な洗浄
力を有するためには強力な溶解力が要求されるが、本発
明のインキ洗浄剤は、前項１の効果に加えて、きわめて
洗浄性、剥離性に優れている上、各種インキ類に対する
溶解性が極めて高く、インキの剥離除去性に優れてい
る。

【００８４】４．本発明のフラックス洗浄剤は、前項１
の効果に加えて、フラックスに対する溶解性が極めて高
く、洗浄除去性に優れる。

【００８５】５．液晶セルで繊細な画像表示をするため
には、ガラス基板上の電極端子を高密度配線する必要が
ある。しかし、高密度配線された端子配線間の絶縁を維
持することは容易ではなく、極微量の汚染物質が基板面
上に存在するだけでも、絶縁不良による画像表示欠陥を
生じたり、経時的な電触による断線を生じて液晶セルの
表示機能を破壊してしまうなどの問題を生じる。特に液
晶セル基板間への液晶の注入時に毛管現象により一部余
分な液晶が基板間の空隙部などに付着するが、これを放
置すると、鮮明な表示画像が得られないばかりでなく、
付着液晶化合物が大気中の汚染物質を溶解し絶縁不良を
起こし易くなる。このため余分に付着した必要のない液
晶は除去しなければならないが、狭い空隙部などに付着
しているため完全に除去洗浄するのは非常に困難であ
る。ところが、本発明の液晶セル用洗浄剤はこれらの問
題を一挙に解消し、前項１の効果を生かして、各種液晶
類に対する溶解性が極めて高く、高い洗浄力と剥離性を
発揮し、特に汚染物の剥離除去性に優れている。

【００８６】６．本発明のレジスト剥離剤は、前項１の
効果に加えて、フォトレジストに対する溶解性が極めて
高く、剥離除去性に優れている。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (31)優先権主張番号 特願平5−346056 (32)優先日 平５(1993)12月24日 (33)優先権主張国 日本（ＪＰ）

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記の一般式［１］で表されるα−アル
   コキシイソ酪酸アルキルエステル 【化１】 下記の一般式［２］で表されるβ−アルコキシイソ酪酸
   アルキルエステル 【化２】 および下記の一般式［３］で表されるα−ヒドロキシイ
   ソ酪酸アルキルエステル 【化３】 （ただし、前記各式中のＲ¹およびＲ²は炭素数１〜４の
   アルキル基を表す。）から選ばれた少なくとも一種のオ
   キシイソ酪酸エステルを有効成分として含むことを特徴
   とする溶剤組成物。
2. 【請求項２】 少なくとも一種のオキシイソ酪酸エステ
   ルに、水、メタノール、エタノール、イソプロパノー
   ル、ブタノール、メチルイソブチルカルビノール、ヘプ
   タノール、オクタノール、ノナノール、３−メチルブタ
   ノール、プロピレングリコール、３−メトキシブタノー
   ル、３−メチル−３−メトキシブタノール、３，５，５
   −トリメチル−１−ヘキサノール、２−エチル−１−ヘ
   キサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコー
   ル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
   ケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、ピロリドン、
   Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチ
   ルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、
   酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、３
   −メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキ
   シブチルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブ
   チル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシ
   プロピオン酸エチル、２−エチルヘキシルアセテート、
   シクロヘキシルアセテート、ベンジルアセテート、ジベ
   ンジルエーテル、ニトロメタン、ニトロエタン、アセト
   ニトリル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコール
   モノメチルエーテルアセテート、トルエン、キシレン、
   ヘキサンおよびシクロヘキサンよりなる群から選ばれた
   少なくとも一種の化合物を加えてなる請求項１記載の溶
   剤組成物。
3. 【請求項３】 オキシイソ酪酸エステルが、α−メトキ
   シイソ酪酸メチル、α−メトキシイソ酪酸エチル、α−
   エトキシイソ酪酸メチル、α−エトキシイソ酪酸エチ
   ル、β−メトキシイソ酪酸メチル、β−メトキシイソ酪
   酸エチル、β−エトキシイソ酪酸メチル、β−エトキシ
   イソ酪酸エチル、β−イソプロポキシイソ酪酸メチル、
   β−イソプロポキシイソ酪酸エチル、β−イソプロポキ
   シイソ酪酸ブチル、β−ブトキシイソ酪酸メチル、β−
   ブトキシイソ酪酸エチル、β−ブトキシイソ酪酸ブチ
   ル、α−ヒドロキシイソ酪酸メチル、α−ヒドロキシイ
   ソ酪酸エチル、α−ヒドロキシイソ酪酸イソプロピルま
   たはα−ヒドロキシイソ酪酸ブチルである請求項１また
   は２記載の溶剤組成物。
4. 【請求項４】 請求項１、２または３記載の溶剤組成物
   よりなることを特徴とする脱脂用洗浄剤。
5. 【請求項５】 請求項１、２または３記載の溶剤組成物
   よりなることを特徴とするインキ洗浄剤。
6. 【請求項６】 請求項１、２または３記載の溶剤組成物
   よりなることを特徴とするフラックス洗浄剤。
7. 【請求項７】 請求項１、２または３記載の溶剤組成物
   よりなることを特徴とする液晶セル用洗浄剤。
8. 【請求項８】 請求項１、２または３記載の溶剤組成物
   よりなることを特徴とするレジスト剥離剤。