DE19731174C2 - Wafer-Träger - Google Patents

Description

Diese Erfindung betrifft einen Wafer-Träger nach dem Oberbegriff des Anspru­ ches 1.

Ein derartiger Wafer-Träger ist aus der EP 0 663 686 A1 bekannt geworden. Nachteilig hat sich nach dieser vorbekannten Lehre bemerkbar gemacht, daß sich die Wafer in einem gewissen Ausmaß hin und her bewegen, wodurch Abriebparti­ kel erzeugt werden.

Ferner ist aus der US 4,696,395 bekannt, daß derartige Wafer-Träger von ei­ nem transparenten Kunststoffgehäuse aufgenommen werden können. Eine noch weitere Ausführungsform eines Wafer-Trägers wird in der EP 0 684 631 A1 be­ schrieben, dessen Behälter aus statisch dissipativem Material besteht.

Nachdem die Halbleiter im Maßstab größer geworden sind, d. h. die Anzahl der Schaltkreise pro Einheitsbereich zugenommen hat, hat die Bedeutung der Partikel zugenommen. Die Größe der Partikel, die einen Schaltkreis zerstören können, hat abgenommen und nähert sich dem molekularen Niveau. Die Partikelsteuerung ist während sämtlicher Phasen der Herstellung, der Verarbeitung, des Transports und der Lagerung von Halbeiter-Wafern erforderlich. Die Partikelerzeugung wäh­ rend des Einsetzens und der Entfernung von Wafern bzw. aus den Trägern und von der Bewegung der Wafer in den Trägern während des Transports muß mini­ miert oder vermieden werden.

Der Aufbau und die Entladung statischer Ladungen in der Nähe der Halbleiter- Wafer kann katastrophal sein. Die statische Dissipationsfähigkeit ist eine äußerst wünschenswerte Eigenschaft für Wafer-Träger oder -Halter. Statische Ladungen können abgeführt werden durch einen Weg oder eine Bahn zum Boden durch den Träger hindurch bzw. durch Erdung. Jegliche Teile, die durch die Ausrüstung be­ rührt werden oder die Wafer berühren können oder die durch das Betriebsperso­ nal berührt werden können, sollten geerdet sein. Derartige Teile von Trä­ gern oder Haltern umfassen die Wafer-Träger, die automatische Hand­ habung und Ausrüstungsschnittstellen.

Die Sichtbarkeit von Wafern innerhalb geschlossener Behälter ist äu­ ßerst wünschenswert und kann durch die Endverbraucher erforderlich sein. Transparente Kunststoffe, die für solche Behälter geeignet sind, wie z. B. Polycarbonate, sind wünschenswert insofern, als ihr Kunststoff bezüglich der Kosten niedrig ist, jedoch haben derartige Kunststoffe weder ausreichende statisch dissipative Eigenschaften, noch wün­ schenswerten Abriebwiderstand.

Materialien für Wafer müssen ebenfalls starr sein, um eine Beschädi­ gung der Wafer während des Transports zu verhindern und müssen dimensionsstabil durch die sich verändernden Bedingungen hindurch sein.

Konventionelle ideale Trägermaterialien mit geringen Partikelerzeu­ gungseigenschaften, Dimensionsstabilität und anderen wünschens­ werten physikalischen Eigenschaften, wie z. B. Polyetheretherketone (PEEK) sind nicht transparent, relativ teuer und schwierig in einheitlich große und komplexe Formen zu formen, wie es Träger und Behälter sind.

Generell sind Behälter und Träger zum Lagern und Transportieren von Wafern ausgelegt worden, um dieselben in senkrechten Ebenen zu transportieren und zu halten. Derartige Träger sind typischerweise so gestaltet, daß sie ebenfalls eine Trägerposition mit den Wafern in einer horizontalen Position zum Verarbeiten und/oder Einsatz und Entfernung der Wafer ermöglichen. In der horizontalen Position der Wafer werden diese üblicherweise durch Rippen gestützt oder getragen, die die Wa­ ferschlitze bilden und sich über die Länge der Innenseite des Trägers erstrecken. Die Trägerseite ist teilweise abgebogen, um den Wafer­ kantenumriß zu folgen. Derartige Träger berühren und tragen die Wafer über zwei Bögen an oder angrenzend an die Waferkante. Diese Stütz- oder Tragart ist für eine einheitliche standhafte und positive Wa­ feranordnung zu den Wafer-Trägern und in Bezug zur zugehörigen Ausrüstung nicht förderlich.

Zusätzlich kann die Verschiebung konventioneller Träger von der senkrechten Transportposition zur horizontalen, verfahrensgemäßen Einsetz- Entfernungsposition bewirken, daß die Wafer klappern, sich verschieben, instabil werden, Partikel erzeugt und Wafer beschädigt werden.

Die Industrie entwickelt sich allmählich größere Wafer herzustellen und zu verar­ beiten, d. h. solche mit 300 mm Durchmesser und dementsprechend besteht Be­ darf an größeren Trägern und Behältern zum Halten von Wafern. Darüber hinaus bewegt sich die Industrie in Richtung auf horizontale Waferanordnungen bei Trä­ gern und Behältern zu. Die Zunahme in der Größe der Träger hat zu einer Ver­ schlimmerung der Schrumpf- und Krümmungseigenschaften der Formung geführt. Die erhöhte Abhängigkeit von Automaten, insbesondere bei der Entfernung und dem Einsatz von Wafern in Träger und Behälter hat die Toleranzen insgesamt kritischer gemacht. Es besteht Bedarf an einem optimalen, preiswerten, wenig Partikel erzeugenden, statisch dissipativem Träger, in dem die Wafer stabil, be­ ständig und positiv positioniert sind, und außerdem im umhüllten Zustand sichtbar sind.

Gegenüber diesem Stand der Technik liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, den eingangs genannten Wafer-Träger so zu gestalten, daß das Schaukeln oder die Hin- und Herbewegung der einzelnen Wafer minimiert wird, während die gleichmäßige und positive Wafer-Positionierung aufrechterhalten wird, wobei möglichst wenig Partikel erzeugt werden und eine statisch dissipative Ausbildung angestrebt wird.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch den im Anspruch 1 gekennzeichne­ ten Wafer-Träger gelöst.

Ein erfindungsgemäßer Vorteil und Merkmal ist der, daß das zusammengesetzte Design eine optimale Verwendung von Materialien ermöglicht, z. B. die teureren abriebfesten und statisch dissipativen Materialien, z. B. PEEK für die Teile des Behälters, die die Wafer oder die Ausrüstung berühren, und den Einsatz weniger teuren klarsichtigen Kunststoffs, z. B. Polycarbonat, für die strukturelle Abstützung des Behälters und die Sichtbarkeit der Wafer im Behälter. Auf diese Art und Wei­ se können die Formparameter und die Materialauswahl für jeden separat ge­ formten Teil ausgewählt werden, um die Wirksamkeit zu optimieren und die Ko­ sten zu minimieren.

Ein weiterer erfindungsgemäßer Vorteil und Merkmal liegt darin, daß die zusam­ mengesetzte Konstruktion die negativen Wirkungen minimiert, die mit der For­ mung großer Träger zusammenhängen, wie z. B. Wölbung und Schrumpfung.

Ein weiterer erfindungsgemäßer Vorteil und Merkmal liegt darin, daß kritische Teile leitend mit dem Boden durch den Ausrüstungsschnittstellenteil des Trägers verbunden werden können.

Ein weiterer erfindungsgemäßer Vorteil und Merkmal liegt darin, daß Wafer passiv in einer spezifischen Sitzposition durch die geeignet geformten Fächer gehalten werden.

Ein noch weiterer Vorteil und Merkmal der Erfindung liegt darin, daß der zusam­ mengesetzte Behälter zusammengebaut und schließlich die Teile gemeinsam unter Verwendung von Ansätzen, Zungen und Laschen miteinander befestigt werden, die zur seitlichen Handhabung gehören.

Ein noch weiterer Vorteil und Merkmal der Erfindung liegt darin, daß Wafer- Führungen vorgesehen werden, die von den Wafer-Tragfächern getrennt sind, wodurch die Führungen leicht visuell gewährleisten, daß der Behälter und/oder die Einsetzausrichtung in geeigneter Weise vor der nahezu vollständigen Bele­ gung positioniert sind und bevor der Wafer in Kontakt mit den Wafer-Tragfächern und den Rippen kommt. Dieses erleichtert die Ausrichtung insofern, als daß der Wafer nicht vollständig eingesetzt werden muß, um die grobe Ausrichtung zu überprüfen.

Ein weiteres Merkmal und Vorteil der Erfindung liegt darin, daß die länglichen Rippen die einfache Formung erleichtern. Ein Knoten erfordert die zusätzliche maschinelle Bearbeitung nach dem Formen oder erfordert kompliziertere und teu­ rere Formen.

Ein weiteres Merkmal und Vorteil der bevorzugten Ausführungsform der Erfindung liegt darin, daß der Vier-Punktkontakt das Schaukeln oder Hin- und Herbewegung der individuellen Wafer minimiert und größere Variationsfähigkeit bei der Formung liefert, während die gleichmäßige und positive Wafer-Positionierung noch auf­ rechterhalten wird.

Ein noch weiteres vorteilhaftes Merkmal der Erfindung liegt darin, daß der Tür­ rahmen mit sich nach hinten erstreckender Oberseite und sich nach hinten er­ streckender Basis, die zu einem U-förmigen transparenten Gehäuse verbunden sind, einen aufbaumäßig festen Träger mit einer annähernd 270° Sichtbarkeit um die Wafer herum und eine Leitungsbahn zum Boden liefern.

Kurze Beschreibung der Zeichnungen

Fig. 1 ist eine perspektivische Ansicht, teilweise in Explosionsdarstellung ei­ nes zusammengesetzten Wafer-Behälters, der eine verriegelbare Tür besitzt.

Fig. 2 ist eine perspektivische Frontansicht eines Wafer-Behälters, mit drei Wafer-Tragsäulen, die an einem U-förmigen transparenten Gehäuse befestigt sind.

Fig. 3 ist eine perspektivische Ansicht von hinten auf einen Träger, ähnlich zu der der Fig. 2, wobei Kunststoffüberbrückungen eine Erdung durch die Ausrüstungsschnittstelle vorsehen.

Fig. 4 ist eine perspektivische Frontansicht eines zusammenge­ setzten Behälters mit seitlichen Handgriffen, einem Auto­ matikflansch und einer verriegelten Tür.

Fig. 5 ist eine perspektivische Frontansicht eines erfindungsge­ mäßen offenen Wafer-Trägers.

Fig. 6 ist eine seitliche Querschnittsansicht eines Trägers.

Fig. 7 ist eine perspektivische Frontansicht einer Ausführungs­ form des ersten Formteiles eines Wafer-Trägers.

Fig. 8 ist eine perspektivische Ansicht von hinten eines ersten Formteils einer Ausführungsform des Wafer-Trägers.

Fig. 9 ist eine perspektivische Frontansicht des Gehäuses oder des zweiten Formteils einer Ausführungsform des Wafer- Trägers.

Fig. 10 ist eine perspektivische Ansicht eines seitlichen Handgriffs für einen zusammengesetzten Träger.

Fig. 11 ist eine detaillierte Querschnittsansicht einer Verbindung zwischen dem ersten Formteil und dem zweiten Formteil.

Fig. 12 ist eine perspektivische Ansicht einer Wafer-Tragsäule für einen Wafer-Behälter.

Fig. 13 ist eine perspektivische Ansicht einer Wafer-Tragsäule für den Träger der Fig. 5.

Fig. 14 ist eine detaillierte perspektivische Ansicht eines Teiles einer Wafer-Tragsäule.

Fig. 15 ist eine Querschnittsansicht von oben auf einen Wafer- Träger.

Fig. 16 ist eine Querschnittsansicht entlang der Linie 16-16 der Fig. 15.

Fig. 17 ist eine Draufsicht auf einen Kantenabschnitt eines Wa­ fers, der den minimalen Punktkontakt von Wafer und Ab­ stützung aufzeigt.

Detaillierte Beschreibung

Es wird auf die perspektivische Ansicht der Fig. 1 Bezug genommen, die eine bevorzugte Ausführungsform des Horizontal-Wafer-Trägers auf einer Einrichtung 22 zeigt. Die Fig. 2, 3, 4 und 5 zeigen weitere Ausfüh­ rungsformen. Die Wafer-Träger umfassen generell einen Behälterteil 26, einschließlich Wafer-Tragsäulen 27 und einer damit zusammenwir­ kenden Tür 28. Der Behälterteil 26 besitzt eine offene Vorderseite 30, eine linke Seite 32, eine Rückseite 34, eine rechte Seite 36, eine Ober­ seite 38 und einen Boden 40. Die Ausführungsformen der Fig. 1, 2, 3 und 4 besitzen geschlossene Rückseiten und geschlossene linke und rechte Seiten. Die Ausführungsform der Fig. 5 ist ein generell offener Träger mit einer offenen Rückseite, wobei die Oberseite und der Boden verbunden und abgestützt wird durch Wafer-Tragsäulen.

Es wird auf die Fig. 1, 4, und 6 Bezug genommen, deren Ausführungs­ formen den Behälterteil 26 zeigen, der aus einem ersten Formteil 50 und einem zweiten Formteil 52 geformt sein kann. Andererseits kann er aus einem einzigen einheitlichen Formteil geformt werden, wie es in den Fig. 2 und 3 gezeigt wird. Der erste Formteil 50, der isoliert in den Fig. 7 und 8 gezeigt wird, weist einen rechteckigen Türrahmen 56 mit einem horizontalen oberen Rahmenteil 58 auf, sowie ein Paar aufrech­ ter senkrechter Rahmenabschnitte 60, 62 und einem unteren Rahmen­ abschnitt 64.

Der obere Rahmenabschnitt 58 und die senkrechten Rahmenabschnitte 60, 62 besitzen abgewinkelte Fläche 66, 68, 70 zum Aufnehmen und Führen der Tür während des Verschließens. Der untere Rahmenteil 64 besitzt eine im wesentlichen horizontale Fläche 72, die am besten in Fig. 6 gezeigt wird. Der Türrahmen 56 nimmt mittels der gewinkelten Flächen 66, 68, 70 und der horizontalen Fläche 72 die Tür 28 auf, um die offene Front 30 zu schließen. Die Türrahmenflächen können Öff­ nungen oder Ausnehmungen 73 haben, um Zungen 75 aufzunehmen, die sich rückziehbar von der Tür 28 erstrecken. Vom oberen Rahmen­ abschnitt 58 erstreckt sich rückwärts ein im wesentlich horizontaler ober Abschnitt 74. Vom unteren Rahmenabschnitt 64 erstreckt sich rück­ wärts ein unterer Basisabschnitt 76, der eine Einrichtungsschnittstelle 82 besitzt, die als eine kinematische Kupplung ausgebildet ist. Ein hori­ zontaler oberer Abschnitt 74 besitzt einen horizontalen Kantenabschnitt 88 und die vertikalen Rahmenabschnitte 60, 62 besitzen senkrechte Kantenabschnitte 92, 94. Auf gleiche Weise besitzt der untere Basisab­ schnitt 76 einen unteren horizontalen Kantenabschnitt 96. Der horizon­ tale obere Abschnitt 74 kann Eingriffsflansche 98 besitzen, um einen Handgriff oder einen Automatikflansch 100 zu befestigen. Wie in Fig. 7 gezeigt wird, besitzt der horizontale obere Abschnitt 74 ein Paar ge­ schlitzte Glieder 106, 108, die den geschlitzten Gliedern 110, 112 ent­ sprechen, die am unteren Basisabschnitt 76 positioniert sind. Diese ge­ schlitzten Glieder sind größen- und formmäßig gestaltet, um die Wafer- Tragsäulen 27 aufzunehmen. Von den senkrechten Rahmenabschnit­ ten 60, 62 erstrecken sich eine Vielzahl länglicher Wafer-Führungen 120. Wie es am besten in den Fig. 4 und 8 gezeigt wird, können zusätz­ liche Merkmale zum ersten Formteil 50 hinzugefügt werden, um die Verbindung mit dem zweiten Formteil 52 zu erleichtern und um die An­ bringung der seitlichen Handgriffe 128 zu erleichtern. Vom horizontalen oberen Abschnitt 74 erstrecken sich Haken 134, wobei Ausnehmungen 136 in den oberen Abschnitt 74 eingesetzt sind. Am unteren Basisab­ schnitt 76 sind Laschen 138 vorgesehen, die eine Ausnehmung 140 besitzen.

Bezug nehmend auf Fig. 9 ist das zweite Formteil 52 als ein durchsich­ tiges Kunststoffgehäuse mit einem sacht U-förmigen abgebogenen Pa­ neel 150, einem oberen Paneelabschnitt 152, einem oberen Kantenab­ schnitt 154, der als erweiterte Lippe ausgestaltet ist, senkrechte Seiten­ paneele 156, 158, die ebenfalls erweiterte Lippenabschnitte 160 besit­ zen, eine untere horizontale erweiterte Lippe 162 und ein Paar nach außen sich erstreckender Seitenvorsprünge 164, 166 ausgestaltet.

Bezugnehmend auf Fig. 11 wird eine sich erweiternde Lippe 162 im Detail gezeigt, die mit einem Kantenabschnitt 96 des ersten Form­ teils 50 verbunden ist. Die Verbindung ist als Nut-und-Federverbindung 170 ausgestaltet.

Es wird Bezug genommen auf Fig. 10, die eine perspektivische Einzel­ teilfigur eines rechten Handgriffs 128 zeigt. Der seitliche Handgriff besitzt einen Griffteil 174, der mittels der Pfosten 176, 178 an einer Hand­ griffbasis 180 befestigt ist, die als Streifen ausgebildet ist. Der Streifen besitzt einen geteilten Y-förmigen Abschnitt 182, der abgebogene Ab­ schnitte 184, 186 besitzt, die sich um den abgebogenen oberen Kan­ tenabschnitt des klarsichtigen Kunststoffgehäuses herumlegen, sowie zwei sich nach unten erstreckende Stege 188, 190, die in die Ausneh­ mungen 136 im horizontalen oberen Abschnitt 74 des ersten Formteils 50 hineinpassen. Die horizontalen oberen Enden 189, 191 des seitli­ chen Handgriffs 128 besitzen ebenfalls seitliche Eingriffsabschnitte 194, 196, um mit den Haken 134 in Eingriff zu treten, die ebenfalls am hori­ zontalen oberen Abschnitt 74 positioniert sind. Das untere Ende 200 des seitlichen Handgriffs 128 besitzt einen Aufnahmeschlitz 202 für die Lasche 138 am unteren Basisabschnitt 76 des ersten Formteils 50. Das untere Ende 200 besitzt ebenfalls einen Schlitz 208, um mit dem Vor­ sprung 176 am senkrechten Seitenpaneel 156 des klarsichtigen Kunst­ stoffgehäuses in Eingriff zu treten und es zu befestigen.

Der Seitenhandgriff 128 ist aus einem starren, jedoch nachgiebigen flexiblen Kunststoffmaterial geformt, so daß der Handgriff stark in der in Fig. 10 gezeigten Form vorgespannt ist. Dieses ermöglicht dem Hand­ griff, daß er schnell an Ort und Stelle eingeschnappt und an den Seiten 32, 36 und der Oberseite 38 des Trägers festgemacht werden kann, um sowohl den ersten Formteil 50, als auch den zweiten Formteil 52 mit­ einander zu verbinden und diesen Zusammenbau fest zusammen zu halten.

Bezugnehmend auf die Fig. 12, 13, 14, 15 und 16, so werden in diesen Wafer-Tragsäulen 27 in zwei prinzipiellen Ausgestaltungsformen ge­ zeigt. Fig. 13 ist eine Wafer-Tragsäule, die für den offenen Träger ge­ eignet ist, der in Fig. 5 gezeigt ist. Die Fig. 12 und 14 zeigen eine Aus­ gestaltung der Wafer-Tragsäulen 27, die zur Verwendung in der Trä­ gerausführungsform der Fig. 1 und 4 geeignet ist. Beide Wafer- Tragsäulen 27 werden in ihrem entsprechenden Träger mittels La­ schen 138 oder Haken 134 befestigt. Alternative mechanische Befesti­ gungsmittel können ebenfalls eingesetzt werden. Es wird nunmehr ins­ besondere auf die Fig. 12, 13 und 14 Bezug genommen, in denen die Wafer-Tragsäule 27 eine Vielzahl Fächer 220 umfaßt, die mit einem senkrechten Tragglied 222 und einem hinteren Pfosten 225 mit hinteren Anschlägen 226 verbunden sind. Obere und untere Zungenabschnitte oder La­ schen 228, 229 erstrecken sich von dem senkrechten Tragglied 222 und sind mit den entsprechenden Ausnehmungen oder geschlitzten Gliedern 106, 108, 110, 112 verbunden. Eine alternative Ausgestaltung der Wafer-Tragsäule 27 ist in den Fig. 2 und 3 gezeigt. Diese Wafer-Tragsäulen 27 werden mit direkter Befestigung um U-förmigen Paneel 150 gezeigt, z. B. durch Schrauben 231. Die Wafer- Tragsäulen der Fig. 2 und 3 besitzen jeweils eine Vielzahl einzelner Wafer- Stützen oder Fächer 220, wobei jedes Fach einen Einzelwafer-Eingriffsvorsprung 230 besitzt, der als länglicher Ansatz ausgestaltet ist. Man beachte, daß die Wa­ fer-Tragsäulen bei einigen Ausführungsformen der Erfindung integral mit dem Be­ hälterteil ausgebildet sein können und dennoch viele Vorteile und Merkmale vor­ sehen, die oben angegeben sind.

Bezugnehmend auf die Fig. 6, 14, 15, und 16, so werden dort weitere Details und die Positionierung der Wafer-Tragsäulen 27 und der Fächer gezeigt. Jedes Fach 236 besitzt ein entsprechend gegenüberliegendes Fach 238 auf der gegenüber­ liegenden Seite des Trägers. Die gegenüberliegenden Wafer-Tragsäulen 27 mit den gegenüberliegenden Fächern sind auf einer Mittellinie durch den Wafer par­ allel zur offenen Frontseite 30 und dem Türrahmen 56 und senkrecht zur Richtung 229 des Einsetzens und des Entfernens des Wafers W positioniert. Um die Wafer zu tragen, sind die gegenüberliegenden Fächer jeweils geringer voneinander be­ abstandet als ein Waferdurchmesser D. Jede Waferführung 120 besitzt eine ge­ genüberliegende Waferführung an der gegenüberliegenden Seite des Behälters.

Bezugnehmend auf die Fig. 6, 15 und 16 bildet der Raum zwischen den jeweils vertikal aneinander grenzenden Waferführungspaaren und der Entfernung über das Innere des Trägers einen Wafer-Einsatz- und Herausnahmeniveau und einen Waferschlitz 244. Auf gleiche Weise ist ein Einsetzniveau durch den Bereich zwi­ schen den vertikal angrenzenden Wafer-Tragflächen 220 definiert. Der Wafer­ schlitz ist ferner als Bereich über den Träger zwischen den Senkrechten Tragglie­ der der Wafer-Tragsäule definiert. Jedes Fach besitzt ein Paar nach oben ge­ richteter Wafer-Eingriffsvorsprünge 230, die als Rippen ausgebildet sind. Eine Rippe kann ein Knoten sein, der generell als Halbkugel geformt ist, wie es in Fig. 14 als Bezugszeichen 231 dargestellt ist oder als teilzylindrische Stange mit glatten Enden, wie es das Bezugszeichen 230 an­ deutet. Unter Bezugnahme auf Fig. 17 sehen diese einen minimalen Punktkontakt vor oder einen minimalen im wesentlichen radial orientierten Linienkontakt 248 an der Spitze 233 der Vorsprungsspitze, die die Unterseite oder untere Fläche 235 des Wafers W am Kantenteil 236 berührt. Die länglichen Rippen erstrecken sich wie gezeigt im wesentlichen radial nach innen. Jedes Waferfach 220 besitzt einen nach vorne gerichteten, d. h. in Richtung auf die Vorderseite zu, Waferanschlag 232 (siehe Fig. 14 und 16), der als vertikale Kontaktfläche ausgestaltet ist, die der Umfangsform des Wafers W folgt, wenn der Wafer in seiner in Fig. 15 gezeigten Sitz- oder Lagerposition ist. Der nach vorn gerichtete Waferanschlag 232 erstreckt sich nicht in das Wafereinsetz- und -entfernungsniveau, stört jedoch die nach au­ ßen gerichtete Bewegung der Wafers, die in der Lagerposition sitzen. Die Entfer­ nung D1 zwischen den entsprechend nach vorn ausgerichteten Waferanschlägen jedes gegenüberliegenden Wafer-Tragfaches ist geringer als der Durchmesser D der Wafer W.

Jedes Tragfach besitzt einen hinteren Waferanschlag 226 als Teil des hinteren Pfostens 225. Der hintere Waferanschlag erstreckt sich nach oben, um die hinte­ ren Begrenzungen des Waferschlitzes zu bilden. Die Entfernung D2 zwischen den entsprechenden hinteren Waferanschlägen 226 jedes gegenüberliegenden Wa­ ferfaches ist geringer als der Waferdurchmesser D. Die hinteren Waferanschläge 226 erstrecken sich in senkrechter Höhe des Waferschlitzes. Der hintere Wa­ feranschlag 226 kann ebenfalls dazu dienen, die Wafer nach dem Einsetzen in die Wafersitzposition 237 zu führen, wie es am besten in den Fig. 15 und 16 ge­ zeigt ist.

Die oben aufgezeigten Bestandteile, die als Teil des ersten Formteils 50 gezeigt werden, können einteilig geformt werden, und sind deshalb integral mit jedem der anderen Teile. Auf gleiche Weise ist das Formteil 52 als durchsichtiges Kunst­ stoffgehäuse einteilig geformt. Die Wafer-Tragsäulen 27 werden aus einem sta­ tisch dissipativem, hochabriebfestem Material geformt. Die Seitenhandgriffe und der Automatikflansch werden ebenfalls aus statisch dissipativem Material geformt. Dadurch, daß das erste Formteil 50 ebenfalls aus einem statisch dissipativem Material geformt ist, wird eine leitende Bahn für den Automatikflansch, den Seitenhandgriffen und den Waferfächern 220 und den Wafer-Tragsäulen 27 durch die Einrichtungsschnittstelle hindurch zum Boden vorgesehen, was Teil des ersten Formteils 50 und mit einer ge­ erdeten Schnittstelle an der Einrichtung in Eingriff tritt. Es ist zu beach­ ten, daß die Einrichtungsschnittstelle eine kinematische Dreifachkupp­ lung mit Sphären und Nuten sein kann, wie sie gezeigt wird oder eine übliche H-Stangenschnittstelle oder andere geeignete Schnittstellen. Als Alternative zum direkten Verbinden jedes der Teile, die aus statisch dissipativem Material gebildet sind, wie es in den Fig. 1, 4 und 5 gezeigt wird, können die Teile leitend verbunden werden, z. B. durch leitende Kunststoffüberbrückungen 241, die in geeigneter Weise mit den Teilen verbunden werden, wie es in Fig. 3 gezeigt wird.

Generell nimmt man von einem Träger oder einem Bestandteil an, daß er statisch dissipativ ist, wenn er eine Oberflächenwiderstandsfähigkeit im Bereich von 10⁵ bis 10¹² Ohm/Quadrat aufweist. Für ein Material, das eine leitende Bahn vorsieht, z. B. zum Erdungswiderstand, kann weniger als dies geeignet sein.

Es ist bedeutet, daß die Formparameter und die Materialauswahl für jedes getrennt geformte Teil gemacht werden kann, um die Leistungs­ fähigkeit oder Funktion zu optimieren und die Kosten zu minimieren.

Die vorliegende Erfindung kann in anderen besonderen Formen aus­ geführt werden, ohne seinen Rahmen oder die wichtigen Eigenschaften zu verlassen, weshalb es wünschenswert ist, daß die vorliegende Aus­ führungsform in jeglicher Hinsicht als illustrativ und nicht einschränkend aufgefaßt wird. Hierzu wird eher Bezug auf die anhängenden Ansprü­ che genommen als die vorstehende Beschreibung, um den Rahmen der Erfindung aufzuzeigen.

Claims (15)

1. Wafer-Träger zum Halten von Wafern (W) in einer im we­ sentlichen horizontalen Anordnung und der Träger (26) eine offene Vorderseite (30), eine Rückseite (34), eine Oberseite (38), einen Boden (40), eine linke (32) und rechte Seite (36) besitzt und ferner folgendes umfaßt:
ein Paar Wafer-Tragsäulen (27), die sich von der Ober­ seite (38) zum Boden (40) erstrecken, wobei eine Trag­ säule (27) an der rechten Seite (36) und eine Tragsäule (27) an der linken Seite (32) angeordnet ist, wobei jede Wafer-Tragsäule (27) eine Vielzahl senkrecht angeordne­ ter Regale oder Fächer (220) umfaßt,
dadurch gekennzeichnet, daß
jedes Fach (220) mindestens zwei sich nach oben erstrec­ kende integrale Rippen (230) zum minimalen Kontakt (233) mit der unteren Fläche (235) eines Wafers (W) bei jeder Rippe (230) umfaßt.

2. Träger nach Anspruch 1, bei dem jedes Fach (220) ferner einen vorderen Anschlag (232) umfaßt, der am Sitzniveau zumindest teilweise vorn und innen von den sich nach oben erstreckenden Rippen (230) positioniert ist, wobei jedes Fach (220) ferner rückwärtige Anschläge (226) be­ sitzt, die rückwärtig und innen von den sich nach oben erstreckenden Rippen (230) positioniert sind, und wobei die vorderen Anschläge (232) sich nicht in das Einsetz­ niveau erstrecken, wodurch die Wafer (W) am Einsatzni­ veau ohne Störung mit den vorderen Anschlägen (232) ein­ gesetzt und entfernt werden können.

3. Träger nach Anspruch 1, ferner umfassend ein integral geformtes äußeres transparentes Gehäuse, das sich um die linke Seite (32), die Rückseite (34) und die rechte Sei­ te (36) herum erstreckt und diese umhüllt.

4. Träger nach Anspruch 1, bei dem die Oberseite (38), der Boden (40) und die Wafer-Tragsäulen (27) getrennt von­ einander aus statisch dissipativem Material geformt und mechanisch miteinander verbunden sind.

5. Träger nach Anspruch 4, bei dem die Wafer-Kontaktrippen (232) länglich und nach innen ausgerichtet sind.

6. Träger nach Anspruch 5, bei dem jede Säule (27) der Wa­ fer-Tragfächer (220) getrennt vom äußeren Gehäuse ausge­ bildet sind, und wobei die Säulen (27) am äußeren Gehäu­ se befestigt sind.

7. Träger nach Anspruch 1, ferner umfassend ein integral geformtes Außengehäuse, das der Oberseite (38) und den Boden (40) umfaßt und sich um die linke Seite (32), die Rückseite (34) und die rechte Seite (26) herum erstreckt und diese einschließt.

8. Träger nach Anspruch 7, bei dem jede Säule (27) der Fä­ cher (220) getrennt vom Außengehäuse geformt wird und jede Säule (27) auf einem statisch dissipativem Material gebildet ist, und wobei der Träger ferner einen Boden (40) umfaßt, der eine Ausrüstungsschnittstelle (82) be­ sitzt, und wobei der Boden (40) getrennt vom Außengehäu­ se geformt ist, und aus einem statisch dissipativem Ma­ terial gebildet ist, wobei jede Säule (27) der Fächer (220) und der Boden leitend miteinander verbunden sind.

9. Träger nach Anspruch 8, bei dem die Wafer jeweils eine derartige Sitzposition auf den entsprechenden Fächern (229) besitzen, daß die Sitzposition unterhalb des Ein­ setzniveaus liegt.

10. Träger nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch einen rechteckigen Türrahmen (56), der eine Öffnung zur Einga­ be und Entfernung von Wafers (W) aus dem Behälter bil­ det,
ein transparentes, nicht statisch dissipatives Kunst­ stoffgehäuse (52), das eine U-Form besitzt, wobei das Gehäuse mit dem Türrahmen (56) verbunden ist,
mindestens zwei Wafer-Tragsäulen (27), die dem Inneren des Behälters gegenüberliegen, wobei die Tragsäulen (27) an den Seiten des Behälters befestigt und aus statisch dissipativem Material gebildet sind,
eine Ausrüstungsschnittstelle (82), die am Boden (40) des Behälters (26) angeordnet ist, wobei die Schnitt­ stelle (82) so gestaltet ist, daß sie mit der Verarbei­ tungsausrüstung in Eingriff tritt, wobei die Ausrü­ stungsschnittstelle (82) aus statisch dissipativem Mate­ rial gebildet ist, und wobei die Wafer-Tragsäulen (27) leitend mit der Ausrüstungsschnittstelle verbunden sind.

11. Träger nach Anspruch 10, ferner umfassend einen automa­ tischen Aufnahmehandhabe, die an der Ausrüstung angeord­ net ist, um die automatische Aufnahme zu erleichtern, wobei die automatische Aufnahme aus statisch dissipati­ vem Material gebildet ist und leitend mit der Ausrü­ stungsschnittstelle (82), dem Türrahmen (56) und den Wa­ fer-Tragaufbauten, der Ausrüstungsschnittstelle verbun­ den ist, wodurch ein Weg zur Erdung für den Türrahmen (56), die Wafer-Tragaufbauten und die automatische Auf­ nahmehandhabe vorgesehen ist.

12. Träger nach Anspruch 10, bei dem der Türrahmen (56) aus statisch dissipativem Material gebildet und leitend mit der Ausrüstungsschnittstelle (82) verbunden ist.

13. Träger nach Anspruch 10, ferner umfassend ein Paar von Handgriffen (128), die an der linken Seite (32) bzw. der rechten Seite (36) befestigt sind, wobei die Handgriffe (128) aus statisch dissipativem Material gebildet und leitend mit der Ausrüstungsschnittstelle (82) verbunden sind.

14. Träger nach Anspruch 11, bei dem die Ausrüstungsschnitt­ stelle, die Wafer-Tragaufbauten, die Aufnahmehandhabun­ gen leitend durch leitende Kunststoffüberbrückungen (241) zum Teil verbunden sind.

15. Träger nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Rippen (230) als teilzylindrische Stange mit glatten En­ den ausgebildet sind.