DE19651579A1

DE19651579A1 - Magnetisches Aufnahmemedium und Verfahren zum Ausbilden desselben, sowie ein Magnetplattenantrieb

Info

Publication number: DE19651579A1
Application number: DE19651579A
Authority: DE
Inventors: Yoshinori Ohtsuka; Yoshifumi Mizoshita; Hiroshi Maeda
Original assignee: Fujitsu Ltd
Current assignee: Fujitsu Ltd
Priority date: 1995-12-14
Filing date: 1996-12-12
Publication date: 1997-06-19
Also published as: US6324032B1; US6055139A; KR970050282A; KR100241107B1

Description

Hintergrund der Erfindung 1. Technisches Gebiet der Erfindung

Die vorliegende Erfindung betrifft ein magnetisches Aufnahmemedium und ein Verfahren zum Ausbilden desselben sowie einen Magnetplattenantrieb, und mehr im einzelnen ein ein magnetisches Aufnahmemedium mit magnetischen Mustern, in die Servoinformationen (Spurortinformationen) geschrie ben werden, und eine magnetische Aufnahmeschicht, in die Daten geschrieben werden, und ein Verfahren zum Ausbilden derselben, sowie einen Magnetplattenantrieb, welcher mit dem magnetischen Aufnahmemedium ausgestattet ist.

2. Beschreibung des Standes der Technik

Um eine magnetische Aufnahmedichte zu verbessern, besteht eine Tendenz, auf dem Gebiet des Magnetplattenan triebes eine Spurdichte des magnetischen Aufnahmemediums (Magnetplatte) zu erhöhen. Verbesserungen bei der Spurfol gegenauigkeit des Magnetkopfes sind unerläßlich, um die hohe Spurdichte zu erreichen. Verschiedene Spurfolge-Servo mechanismen wie etwa ein Servooberflächen-Servomechanismus, ein Sektor-Servomechanismus, ein eingelagerter Servomecha nismus oder dergleichen können als ein Mittel zum Erfassen des Spurfolgeortes betrachtet werden.

Bei diesen Servomechanismen werden in die Magnetplatte geschriebene Servosignale mittels des Magnetkopfes gelesen, und ein Kopf-Stellantrieb wird auf der Basis der Servo signale gesteuert, um den Magnetkopf zu einem Ziel-Spurort zu verstellen.

Als magnetisches Aufnahmemedium mit einer Struktur zum Aufnehmen sowohl der Servosignale als auch der Dateninfor mationen, wie es in der Patentanmeldungsveröffentlichung (KOKAI) 2-218016 beispielsweise dargelegt ist, ist ein solches Verfahren vorgeschlagen worden, daß magnetisch zu lesende ungerade Bits auf der Oberfläche des magnetischen Aufnahmemediums vorgesehen sind, daß dann von den Enden der Bits erzeugte Magnetflüsse als Spurfolgesignale erfaßt werden, und daß dann der Ort des Magnetkopfes auf der Basis der Spurfolgesignale angesteuert wird. Die Struktur mit der magnetischen Aufnahmeschicht auf den Bits und die Struktur ohne die magnetische Aufnahmeschicht auf den Bits sind vorgeschlagen worden.

Allerdings verhindert das Vorhandensein der unebenen Oberfläche des magnetischen Aufnahmemediums, daß der Magnetkopf einen Zustand niedrigerer Flughöhe über der Magnetplatte annimmt. Eine solche unebene Oberfläche verur sacht Schwierigkeiten, wenn eine hohe Aufnahmedichte er reicht werden soll, indem man die Flughöhe des Magnetkopfes verringert. Wenn die Magnetplatte eine unebene Oberfläche hat, dann sammelt sich darüber hinaus leicht Staub in kon kaven Bereichen auf der unebenen Oberfläche des magneti schen Aufnahmemediums.

Andererseits ist in den Patentanmeldungsveröffentli chungen (KOKAIs) 59-72644 und 4-34718 ein magnetisches Aufnahmemedium mit einer Struktur dargelegt worden, bei der Magnetsubstanzmuster (nachfolgend als "Servomuster" be zeichnet) zum Aufnehmen von Servoinformationen in denselben auf dem Substrat ausgebildet werden, und bei der dann die nicht magnetische Schicht und die magnetische Aufnahme schicht auf den Servomustern und dem Substrat aufeinander folgend ausgebildet werden.

In der Patentanmeldungsveröffentlichung (KOKAI) 4-34718 ist dargelegt worden, daß die Servomuster durch ein Abhebeverfahren (lift-off method) ausgebildet werden müs sen, wodurch die Oberflächenebenheit der magnetischen Auf nahmeschicht verbessert wird.

Allerdings sind gemäß den Strukturen der in diesen Veröffentlichungen (KOKAIs) dargelegten Servomuster die Servomuster und der Magnetkopf mit einem ziemlich hohen Abstand zueinander angeordnet, da nicht nur ein Spalt in folge der Flughöhe des Magnetkopfes sondern auch die nicht magnetische Schicht und die magnetische Aufnahmeschicht zwischen den Servomustern und dem Magnetkopf vorhanden sind. Aus diesem Grund tritt leicht ein Lesefehler bei den Servosignalen auf, weil mit der größeren Distanz zwischen den Servomustern und dem Magnetkopf die zum Magnetkopf gelangenden, von den Servomustern erzeugten Signal-Magnet felder verringert werden.

Wenn das Abhebeverfahren verwendet wird, um die Servo muster auszubilden, besteht die Neigung zu Bildung von geneigten Graten um die Peripherien der Servomuster herum. Diese würden deshalb in der Region niedriger Flughöhe einen Kopfabsturz (head crash) des Magnetkopfes bewirken. Um eine hohe Spurdichte zu erreichen, muß die Präzision bei der Spurfolge des Magnetkopfes verbessert werden. Es wurde beispielsweise das Phasenservosystem verwendet, um Informationen bezüglich des Spurfolgeortes zu erfassen.

Beim Phasenservosystem sind die Servomuster so ausge bildet, daß sie die Phase des wiedergegebenen Servosignals entsprechend dem Ort des Magnetkopfes in der Spurrichtung (Umfangsrichtung) ändern.

Um solche Servomuster auf der Oberfläche des magneti schen Aufnahmemediums aufzunehmen, wurde beim Stand der Technik das folgende Verfahren verwendet. Während bei spielsweise, wie in Fig. 1A gezeigt ist, der Magnetkopf 120 in der Breitenrichtung der Spur 110 um die erste Teilung L1 verstellt wird, die eine Länge hat, welche in mehrere Län gen (z. B. drei bis vier Längen) in der Breitenrichtung (Durchmesserrichtung) der Spur 110 geteilt werden kann, und gleichzeitig der Magnetkopf 120 um die zweite Teilung L2 in der Umfangsrichtung verstellt wird, werden eine Vielzahl von Magnetisierungsinversionsmuster auf der Oberfläche des magnetischen Aufnahmemediums erzeugt. Die Magnetisierungs inversionsmuster werden als Servomuster 130 verwendet. Die Breite des Magnetpols eines Aufnahme-Induktivkopfes des Magnetkopfes 120 ist fast mit der Spurbreite identisch.

Die Präzision des Erfassens der Spurfolgeinformation (Spurausrichtung) beim Phasenservosystem wird größer, wenn die Anzahl der Aufteilungen in jeder Spur in der Durchmes serrichtung größer gemacht wird. Eine solche Präzision wird auch höher, wenn die Servomuster 130 schärfer ausgebildet werden.

Je größer die Anzahl der Aufteilungen in jeder Spur 110 ist, umso länger ist allerdings die Aufnahmezeit der Servomuster 110 für einen Bogen des magnetischen Aufnahme mediums. Wenn ferner die Anzahl der Aufteilungen in jeder Spur 110 erhöht wird, wird die Ausrichtepräzision des Magnetkopfes 120 in der Hochdichtespur beim Aufnehmen der Servomuster 130 reduziert. Außerdem treten, wie in Fig. 1B gezeigt ist, wegen eines magnetischen Streufeldes, welches von Endbereichen des Magnetpols des Magnetkopfes 120 er zeugt wird, Bit-Verbiegungen 131 am Ende des Servomusters 130 auf. Andernfalls treten wegen Aufzeichnungsauslaufs Löschregionen 132 am Ende des Servomusters 130 auf. Als Ergebnis entsteht ein Problem, indem die Qualität der Ser voinformation verschlechtert wird.

Da, wie in der Patentanmeldungsveröffentlichung (KOKAI) 59-72644 dargelegt ist, kleine Servomuster pro Bit in vielfacher Anzahl innerhalb einer Spur ausgebildet sind, würden beim Ätzen für das Ausbilden der Servomuster Auslas sungen derartiger Muster verursacht werden.

Zusammenfassung der Erfindung

Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein magnetisches Aufnahmemedium zu schaffen, welches in der Lage ist, ein präziseres Lesen von Servosignalen durch einen Magnetkopf zu gewährleisten und auch die Oberflä chenebenheit des magnetischen Aufnahmemediums zu verbes sern, ferner ein Verfahren zum Herstellen desselben, wel ches es erlaubt, die Oberflächenebenheit des magnetischen Aufnahmemediums noch weiter zu verbessern, und einen Magnetplattenantrieb, welcher mit dem magnetischen Aufnah memedium ausgestattet ist.

Da die Filmdicken der harten Magnetschicht, die auf einanderfolgend so ausgebildet wird, daß sie die magneti sche Aufnahmeschicht berührt, in der Spurlängenrichtung innerhalb der Servosignal-Aufnahmeregion variiert werden, werden gemäß der vorliegenden Erfindung die dickeren Berei che der harten Magnetschicht als Servomuster verwendet.

Da die Distanz zwischen den Servomustern und dem Magnetkopfextrem verringert werden kann, werden infolge dessen die von dem Magnetkopf gelesenen Servosignal-Magnet felder verbessert, und es kann deshalb verhindert werden, daß Lesefehler erzeugt werden.

Als erste Struktur des magnetischen Aufnahmemediums, bei welchem die Filmdicke der harten Magnetschicht in der Servosignal-Aufnahmeregion variiert wird, ist zuerst eine Struktur vorgesehen, bei welcher die aus einer harten magnetischen Substanz hergestellten Servoschichten unter halb der aus der harten magnetischen Substanz hergestellten magnetischen Aufnahmeschicht ausgebildet sind. In diesem Fall werden die Servosignale in die Servoschichten sowie in die magnetische Aufnahmeschicht geschrieben, so daß die Intensität der Servosignal-Magnetfelder erhöht wird. Neben bei gesagt bildet die Servoschicht eine Vielzahl von Servo mustern, wenn sie gemustert wird. Wenn die Oberfläche des dem Magnetkopf gegenüberliegenden magnetischen Aufnahmeme diums eingeebnet wird, indem die nicht magnetische Schicht unterhalb der magnetischen Aufnahmeschicht so ausgebildet wird, daß sie die Servomuster umgibt, kann verhindert wer den, daß der Magnetkopf im Zustand niedriger Flughöhe vor zeitig abstürzt oder anschlägt (crashes).

Als zweite Struktur des magnetischen Aufnahmemediums ist eine Struktur vorgesehen, bei der die aus harter magne tischer Substanz hergestellten Servoschichten über die aus harter magnetischer Substanz hergestellte magnetische Auf nahmeschicht gelegt wird. In diesem Fall werden die Servo signale sowohl in die Servoschichten als auch in die magne tische Aufnahmeschicht geschrieben, so daß die Intensität der von den Servosignalen erzeugten Magnetfelder erhöht wird. Ferner bildet die Servoschicht eine Vielzahl von Servomustern, wenn sie gemustert wird. Wenn die nicht magnetische Schicht auf der magnetischen Aufnahmeschicht so ausgebildet wird, daß sie die Servomuster umgibt, dann ist es möglich, daß die Oberfläche des dem Magnetkopf gegen überliegenden magnetischen Aufnahmemediums flach ist.

Für den Fall, daß die Servoschicht und die magnetische Aufnahmeschicht durch die gleiche Substanz gebildet sind, wurde experimentell bestätigt, daß das Magnetfeld der Spur folgeinformationen, welches die gleiche Größe wie das Magnetfeld der Datensignale hat, abgeleitet werden kann, wenn die Filmdicke der Servoschicht gleich 2,5 mal oder mehr dicker als die der magnetischen Aufnahmeschicht ist. Mit anderen Worten kann ein Betrag der Änderung in der Filmdicke der harten Magnetschicht in Richtung der Spur länge gleich 2,5 mal oder mehr größer als die Filmdicke der magnetischen Aufnahmeschicht sein.

Wenn die Servomuster in mehreren Reihen innerhalb jeder Spur aufgereiht sind, so daß sie verschiedene Phasen haben, und in den jeweiligen Spuren auch so ausgebildet sind, daß sie verschoben sind und Spur für Spur verschie dene Phasen in der Spurlängsrichtung haben, dann kann die Spurfolgepositions-Information durch Erfassen eines Versat zes bei den Wellenformen der Spurfolgeinformation-Magnet felder in der Spurlängsrichtung erfaßt werden, die infolge einer Phasendifferenz erzeugt wird.

In der vorliegenden Erfindung wird als Verfahren zum Ausbilden solcher Servomuster, nachdem die Servomuster durch das Abhebeverfahren gebildet worden sind, die Ober fläche der sich ergebenden Struktur durch Polieren oder Ätzen oder Walzen eingeebnet. Es kann demnach die Oberflä chenebenheit des magnetischen Aufnahmemediums erhalten bleiben, und das Auftreten eines head-crash kann im Vorhinein verhindert werden.

Als unterschiedliches Verfahren zum Ausbilden solcher Servomuster werden, nachdem die konkaven Bereiche auf der nicht magnetischen Schicht in den die Servomuster bildenden Regionen ausgebildet worden sind, die aus einer harten magnetischen Substanz hergestellten Servoschichten und der Einebnungsfilm dann aufeinanderfolgend auf der nicht magne tischen Schicht ausgebildet, und die Servoschichten und der Einebnungsfilm werden dann zurückgeätzt, so daß die Servo muster so ausgebildet werden, daß die Servoschichten nur innerhalb der konkaven Bereiche verbleiben. Gemäß diesem Verfahren entsteht kein Grat und die Ebenheit der Servo muster und der nicht magnetischen Schicht wird in keiner Weise beschädigt.

Als weiterhin unterschiedliches Verfahren zum Ausbil den solcher Servomuster wird die harte Magnetschicht ausge bildet, sodann werden die in den keine Servomuster bilden den Regionen angeordneten harten Magnetschichten durch Ionenimplantierung nicht magnetischer Elemente in die keine Servomuster bildenden Regionen in nicht magnetische Schich ten umgewandelt, und sodann werden die verbleibenden harten magnetischen Schichten als Servomuster verwendet. Als Er gebnis wird die Oberflächenebenheit der Servomuster und deren benachbarter Gebiete in keiner Weise beschädigt.

Für den Fall, daß die Struktur verwendet wird, bei der die Servomuster auf die magnetische Aufnahmeschicht ge schichtet werden, nachdem die harten Magnetschichten auf dem Substrat ausgebildet worden sind, werden die harten Magnetschichten in den keine Servomuster bildenden Regionen durch Ätzen verdünnt, und sodann wird die nicht magnetische Schicht in den geätzten Regionen aufgeschichtet. Wenn die dick verbliebenen harten Magnetschichten, die keiner Atzung unterworfen wurden, als Servomuster verwendet werden, dann werden infolgedessen die nicht magnetischen Schichten mit der gleichen Dicke wie die der Servomuster um jeweilige Servomuster herum ausgebildet. Auf diese Weise kann eine Oberflächenebenheit der Servomuster und ihrer benachbarten Gebiete sichergestellt werden. Wenn die harte Magnetschicht in den Datenschreib-Regionen verdünnt wird und solche dünn schichtigen harten Magnetschichten als magnetische Aufnah meschicht verwendet werden, dann können die Servomuster und die magnetische Aufnahmeschicht zur gleichen Zeit gebildet werden. Demnach können für die Filmausbildung in dem magne tischen Aufnahmemedium erforderliche Mannstunden reduziert werden.

Eine andere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein magnetisches Aufnahmemedium zu schaffen, auf welchem Servomuster mit hoher Präzision ausgebildet werden können, um so die Präzision bei der Erfassung des Ortes zu verbes sern, ferner ein Verfahren zum Herstellen desselben und ein Magnetaufnahmegerät.

Da lineare oder gekrümmte Servomuster als physikali sche Muster auf dem magnetischen Aufnahmemedium so ausge bildet werden, daß sie schräg über eine Vielzahl von Spuren kreuzen, entstehen gemäß einem anderen Aspekt der vorlie genden Erfindung beim Ausbilden der Servomuster weder Löschregionen noch Bit-Verbiegungen, anders als beim Stand der Technik, wodurch die Präzision beim Erfassen des Ortes verbessert wird. Da lineare oder gekrümmte Servomuster mit einem schrägen Winkel angeordnet sind, sind sie in diesem Falle den herkömmlichen Servomustern magnetisch äquivalent.

Solche herkömmlichen Servomuster werden in einer Spur nur auf einer magnetischen Basis aufgenommen, während sie um vorgegebene Teilungen sowohl in der Spurbreitenrichtung als auch in der Spurlängsrichtung jeweils versetzt werden.

Die Servomuster der vorliegenden Erfindung können unter Verwendung einer Änderung bei der Filmdicke der magnetischen Schicht, einer Änderung bei der Unebenheit der Magnetschicht und durch teilweise Verwendung der Magnet schicht realisiert werden. Durch kontinuierliches Aufbrin gen des Magnetfeldes der bestimmten Intensität von der Außenseite auf eine Vielzahl derartiger Servomuster entlang der bestimmten Richtung können Servoinformationen in jewei lige Servomuster geschrieben werden. Servoinformationen können aus der Änderung in dem magnetischen Feld abgeleitet werden.

Auf diese Weise sind lineare oder gekrümmte Servomu ster, die schräg über eine Vielzahl von Spuren kreuzen, einfach, und deshalb ergeben sich Auslassungen von Mustern weniger leicht als in dem Fall, in welchem Servomuster angeordnet werden, die man durch Teilen derartiger Servo muster in mehrere Teile erhält.

Ferner können solche Servomuster durch Verwendung von Abdeckmustern (Resistmustern) ausgebildet werden. Die Resistmuster können über einen Belichtungsschritt unter Verwendung einer Belichtungsmaske oder durch Laserstrahl- Bestrahlung ausgebildet werden.

In dem Fall, in welchem Latentbilder der Servomuster auf dem Resist unter Verwendung der Belichtungsmaske ausge bildet werden, wird die Belichtung dadurch bewirkt, daß ein Bogen einer Belichtungsmaske verwendet wird, während das Substrat für das magnetische Aufnahmemedium schrittweise gedreht wird. In diesem Fall kann der Belichtungsprozeß erleichtert werden, vorausgesetzt daß eine Teilbelichtung des Resist, die bei jedem Drehschritt des Substrates ausge führt wird, wiederholt wird. Alternativ dazu kann eine Ausrichtung oder Fokussierung der Belichtungsmaske jedesmal ausgeführt werden, wenn die Drehung des Substrates gestoppt wird.

Unterdessen kann in dem Fall, in dem das Resist durch Bestrahlung mit dem Laserstrahl belichtet wird, der Belich tungsprozeß beschleunigt werden, wenn die Belichtung ausge führt wird, während das Substrat, auf welchem die Servo muster ausgebildet werden sollen, schrittweise oder konti nuierlich gedreht wird.

Wenn die Servomuster in den Servoregionen durch Ätzen der Magnetschicht durch den Laserstrahl ausgebildet werden, können Servomuster mit guter Präzision ohne Belichtungs- und Entwicklungsprozeß für das Resist ausgebildet werden.

Kurze Beschreibung der Zeichnungen

Fig. 1A ist eine Draufsicht, welche ideale Servomuster zeigt, die gemäß dem Stand der Technik eines nach dem ande ren mit einem Magnetkopf geschrieben werden;

Fig. 1B ist eine Draufsicht auf Servomuster, welche gemäß dem Stand der Technik gerade geschrieben werden;

Fig. 2 ist eine Draufsicht, die ein Beispiel eines Magnetplattenantriebes mit einer Magnetplatte gemäß einer ersten Ausgestaltung der vorliegenden Erfindung zeigt;

Fig. 3 ist eine Teilschnittansicht, welche ein magne tisches Aufnahmemedium gemäß einer zweiten Ausgestaltung der vorliegenden Erfindung zeigt;

Fig. 4 ist eine Draufsicht, die das magnetische Auf nahmemedium gemäß der zweiten Ausgestaltung der vorliegen den Erfindung in Fig. 3 zeigt;

Fig. 5A ist eine Teildraufsicht, welche eine Anordnung von Servomustern in dem magnetischen Aufnahmemedium gemäß der zweiten Ausgestaltung der vorliegenden Erfindung in Fig. 3 zeigt;

Fig. 5B ist ein Wellenform-Diagramm, welches ein Bei spiel von Spurfolgesignalen zeigt, die man durch Lesen der Servomuster in der Fig. 5A mittels eines Magnetkopfes er hält;

Fig. 6A und 6B sind schematische perspektivische An sichten, welche jeweils Verfahren zum Schreiben der Spur folgesignale in das magnetische Aufnahmemedium gemäß der zweiten Ausgestaltung der vorliegenden Erfindung zeigen;

Fig. 7A ist eine Schnittansicht, welche ein Verfahren zum Lesen der Spurfolgesignale vom magnetischen Aufnahme medium gemäß der zweiten Ausgestaltung der vorliegenden Erfindung zeigt;

Fig. 7B ist eine Ansicht einer Charakteristik, welche eine Beziehung zwischen dem Spurfolgesignal und einer Film dicke der Servomuster in Fig. 7A zeigt;

Fig. 8A bis 8E sind Schnittansichten, welche ein er stes Verfahren zum Herstellen des magnetischen Aufnahme mediums gemäß der zweiten Ausgestaltung der vorliegenden Erfindung illustrieren;

Fig. 9A bis 9D sind Schnittansichten, welche ein zwei tes Verfahren zum Herstellen des magnetischen Aufnahmemedi ums gemäß der zweiten Ausgestaltung der vorliegenden Erfin dung illustrieren;

Fig. 10A bis 10D sind Schnittansichten, welche ein drittes Verfahren zum Herstellen des magnetischen Aufnahme mediums gemäß der zweiten Ausgestaltung der vorliegenden Erfindung illustrieren;

Fig. 11 ist eine Teilschnittansicht, welche ein magne tisches Aufnahmemedium gemäß einer dritten Ausgestaltung der vorliegenden Erfindung zeigt;

Fig. 12A bis 12D sind Schnittansichten, welche ein erstes Verfahren zum Herstellen des magnetischen Aufnahme mediums gemäß der dritten Ausgestaltung der vorliegenden Erfindung illustrieren;

Fig. 13A bis 13D sind Schnittansichten, welche ein zweites Verfahren zum Herstellen des magnetischen Aufnahme mediums gemäß der dritten Ausgestaltung der vorliegenden Erfindung illustrieren;

Fig. 14A ist eine Draufsicht, welche ein Beispiel von Servomustern der Magnetplatte gemäß einer vierten Ausge staltung der vorliegenden Erfindung zeigt;

Fig. 14B ist eine vergrößerte Teildraufsicht des Bei spieles in Fig. 14A;

Fig. 15 ist eine Schnittansicht, welche eine Konfigu ration der Magnetplatte gemäß der vierten Ausgestaltung der vorliegenden Erfindung zeigt;

Fig. 16A ist eine perspektivische Ansicht, welche ein Beispiel zeigt, bei welchem Servoinformationen in die Magnetplatte gemäß der vierten Ausgestaltung der vorliegen den Erfindung mit einem Magnetkopf geschrieben werden;

Fig. 16B ist eine perspektivische Ansicht, welche ein Beispiel zeigt, bei welchem Servoinformationen in die Magnetplatte gemäß der vierten Ausgestaltung der vorliegen den Erfindung mit einem Permanentmagneten geschrieben wer den;

Fig. 17 ist eine Schnittansicht, welche einen Mecha nismus zeigt, bei welchem Servoinformationen von der Magnetplatte gemäß der vierten Ausgestaltung der vorliegen den Erfindung gelesen werden, und ein Wellenformdiagramm, welches Ausgangswellenformen vom Magnetkopf zeigt;

Fig. 18 ist eine Draufsicht, welche Servomuster zeigt, um Phasenservo der Magnetplatte gemäß der vierten Ausge staltung der vorliegenden Erfindung zu illustrieren, sowie ein Wellenformdiagramm, welches Ausgangswellenformen vom Magnetkopf zeigt;

Fig. 19 ist eine Draufsicht, welche ein anderes Bei spiel von Servomustern der Magnetplatte gemäß der vierten Ausgestaltung der vorliegenden Erfindung zeigt;

Fig. 20A ist eine perspektivische Ansicht, welche ein erstes Beispiel eines Resist-Belichtungsverfahrens beim Ausbilden von Servomustern der Magnetplatte gemäß der vier ten Ausgestaltung der vorliegenden Erfindung zeigt;

Fig. 20B ist ein Zeitlagediagramm (timing chart), welches Zeitlagen (timings) für einen Schrittmotorantrieb und eine Laserstrahl-Bestrahlung illustriert;

Fig. 21A ist eine perspektivische Ansicht, welche ein zweites Beispiel eines Resist-Belichtungsverfahrens beim Ausbilden von Servomustern der Magnetplatte gemäß der vier ten Ausgestaltung der vorliegenden Erfindung zeigt;

Fig. 21B und 21C sind Zeitlagediagramme, welche Zeit lagen für eine Laserstrahl-Bestrahlung bzw. einen Schritt motorantrieb illustrieren;

Fig. 22A bis 22E sind Schnittansichten, welche erste Schritte zum Herstellen der vierten Magnetplatte gemäß der Ausgestaltung der vorliegenden Erfindung zeigen;

Fig. 23 ist eine Schnittansicht, welche ein zweites Beispiel einer Konfiguration der Magnetplatte gemäß einer fünften Ausgestaltung der vorliegenden Erfindung zeigt;

Fig. 24A bis 24E sind Schnittansichten, welche zweite Schritte zum Herstellen einer fünften Magnetplatte gemäß der Ausgestaltung der vorliegenden Erfindung zeigen;

Fig. 25A und 25B sind Schnittansichten, welche Schrit te zum Herstellen eines ersten Beispieles einer Konfigura tion der Magnetplatte gemäß einer sechsten Ausgestaltung der vorliegenden Erfindung zeigen; und

Fig. 26A bis 26C sind Schnittansichten, welche Schrit te zum Herstellen eines zweiten Beispieles einer Konfigura tion der Magnetplatte gemäß der sechsten Ausgestaltung der vorliegenden Erfindung zeigen.

Beschreibung der bevorzugten Ausgestaltungen

Es werden bevorzugte Ausgestaltungen der vorliegenden Erfindung nachfolgend mit Bezug auf die beigefügten Zeich nungen erläutert.

(Erste Ausgestaltung)

Fig. 2 ist eine Draufsicht, welche die Innenseite des Magnetplattenantriebes mit einer Magnetplatte (magnetisches Aufnahmemedium) gemäß einer Ausgestaltung der vorliegenden Erfindung zeigt.

In einem Gehäuse 41 eines in Fig. 2 gezeigten Magnet plattenantriebes 40 ist eine Magnetplatte 1 oder 42 vom Kreisscheibentyp untergebracht. Das Zentrum der Magnet platte 1 oder 42 ist an einer Rotationswelle 1a eines Spin delmotors befestigt.

Auf der Oberfläche einer magnetischen Aufnahmeschicht der Magnetplatte 1 oder 42 ist eine große Anzahl Spuren 44 ausgebildet, die in der radialen Richtung, ausgehend vom Rotationszentrum, angeordnet sind. Die jeweiligen Spuren 44 sind so ausgebildet, daß sie kreisförmige Bereiche einneh men, welche die Peripherie des Rotationszentrums umgeben. Darüber hinaus sind auf der Oberfläche der magnetischen Aufnahmeschicht Servoregionen 45 in vielfältiger Anzahl in der Umfangsrichtung angeordnet, die sich vom Rotationszen trum in der radialen Richtung zur Außenseite hin er strecken. Obwohl die Spuren 44 und die Servoregionen 45 in Fig. 2 zum leichten Verständnis der vorliegenden Erfindung illustriert sind, erscheinen sie nicht tatsächlich auf der Oberfläche der Magnetplatte 1 oder 42.

Ein mit dem Magnetkopf ausgestatteter Gleiter 46 ist am Vorderende eines Kopfarms 47 befestigt und dann auf der Magnetplatte 1 oder 42 positioniert. Die Position des Glei ters 46 kann entsprechend der Schwingbewegung des Kopfarms 47 auf der Magnetplatte 42 verändert werden. Der Kopfarm 47 ist etwa an seinem Zentralabschnitt an einer Rotationswelle 10b eines Schrittmotors befestigt. Der Kopfarm 47 wird zusammen mit der Rotationswelle 10b verstellt, welche durch ein von einem Spursteuerschaltkreis 10a geliefertes Signal gedreht wird. In Übereinstimmung mit Phasendifferenzen in den Spurfolge-Servomustern in den Servoregionen 45 kann der Spursteuerschaltkreis 10a den Spurort erkennen, welcher unter dem Magnetkopf liegt.

(Zweite Ausgestaltung)

Fig. 3 ist eine Teilschnittansicht, welche ein magne tisches Aufnahmemedium gemäß einer zweiten Ausgestaltung der vorliegenden Erfindung zeigt. Fig. 4 ist eine Drauf sicht, welche das magnetische Aufnahmemedium gemäß der zweiten Ausgestaltung der vorliegenden Erfindung in Fig. 3 zeigt.

Mit Bezug auf Fig. 3 umfaßt ein magnetisches Aufnahme medium 1 ein nicht magnetisches Substrat 2, welches aus einem mit NiP überdeckten Aluminium-Wafer, einem Silizium- Wafer, oder einem Glas-Wafer hergestellt ist, eine magneti sche Aufnahmeschicht 3, welche aus einer ersten harten, auf dem nicht magnetischen Substrat 2 ausgebildeten magneti schen Substanz wie etwa CoCr, CoCrPt, CoCrTa oder CoNiCr hergestellt ist, und eine Schutzschicht 4 zum Abdecken der magnetischen Aufnahmeschicht 3.

Das magnetische Aufnahmemedium 1 nimmt die Form der kreisförmigen Platte an, in deren Zentrum eine Wellenöff nung 1a ausgebildet ist, und umfaßt Datensignal-Aufnahme regionen A und Servosignal-Aufnahmeregionen B, wie in Fig. 4 gezeigt ist. Die Servosignal-Aufnahmeregionen B sind in einer Kreisbogenform ausgebildet, wie in Fig. 4 gezeigt ist, so daß sie der Schwenkkreisbahn des Magnetkopfes H entsprechen. Das ist deswegen so, weil eine solche Kreis bogenform eine Differenz beim Gierwinkel reduzieren kann, welche zwischen einer Innenperipherie und einer Außenperi pherie des magnetischen Aufnahmemediums 1 verursacht wird, wenn der Magnetkopf H durch einen Dreh-Stellantrieb 10b verschwenkt wird. Wenn die Differenz des Gierwinkels ver größert wird, dann wird eine Abweichung bei den von dem Magnetkopf H gelesenen Lesesignalen hervorgebracht.

In den Servosignal-Aufnahmeregionen B der Oberfläche des nicht magnetischen Substrates 2 ist, wie in Fig. 3 gezeigt ist, eine Vielzahl von konkaven Bereichen 2a mit einem Abstand so ausgebildet, daß sie die Form der Servo muster annehmen, und Servoschichten 5, die aus einer zwei ten harten magnetischen Substanz, wie beispielsweise CoCr, CoCrPt, CoCrTa oder CoNiCr hergestellt sind, sind in diesen konkaven Bereichen 2a eingelagert. Eine Servoschicht 5 in einem konkaven Bereich 2a und die auf der Servoschicht 5 ausgebildete magnetische Aufnahmeschicht 3 bilden im wesentlichen ein Servomuster 5p. Da die Servoschichten 5 die magnetische Aufnahmeschicht 3 in den Servosignal-Auf nahmeregionen B berühren, werden in die Servoschichten 5 zu schreibende Servoinformationen auch in die magnetische Aufnahmeschicht 3 auf den Servoschichten 5 geschrieben. Infolgedessen werden in der magnetischen Aufnahmeschicht 3 in den Servosignal-Aufnahmeregionen B keine Daten aufge zeichnet.

Entweder die gleiche Substanz wie die erste harte magnetische Substanz, welche die magnetische Aufnahme schicht 3 bildet, oder eine von der ersten harten magneti schen Substanz verschiedene Substanz kann als die zweite harte magnetische Substanz verwendet werden, welche die Servoschichten 5 bildet.

In den Servosignal-Aufnahmeregionen B sind, wie in den Fig. 3 und 5A gezeigt ist, streifenförmige Taktsignalmuster 7 auf der Oberfläche des nicht magnetischen Substrates 2 eingelagert. Ein Abstand zwischen zwei Taktsignalmustern 7 dient als ein Taktsignalintervall, und eine Vielzahl von Servomustern 5p ist zwischen zwei Taktsignalmustern 7 so angeordnet, daß sie im wesentlichen eine Matrixform anneh men.

Mit anderen Worten ist eine Vielzahl von Servomustern 5p in einem bestimmten Abstand in der Umfangsrichtung, d. h. der Spurlängsrichtung des magnetischen Aufnahmemediums 1 hintereinander ausgerichtet; sie sind jedoch in der Durch messerrichtung des magnetischen Aufnahmemediums 1 so ange ordnet, daß sie um einen festen Betrag α in jeder Spur längsrichtung versetzt sind. Wenn ein Reihenmuster durch eine Vielzahl von Servoschichten 5 definiert wird, welche in der Spurlängsrichtung aufgereiht sind, dann erscheint, wie in Fig. 5B gezeigt ist, eine Phasendifferenz α zwischen Signalmagnetfeld-Wellenformen, die von zwei benachbarten Reihenmustern erzeugt werden.

In Fig. 5A hat man sich für eine Größe der beiden Servomuster 5p entschieden, daß zwei Reihen der Servomuster 5p in einer Spurbreite untergebracht werden können.

Durch Detektieren einer solchen Phasendifferenz α zwischen den Servomustern 5p durch den Magnetkopf kann eine relative Positionsbeziehung zwischen dem Spurort im magne tischen Aufnahmemedium 1 und dem Magnetkopf H erfaßt wer den. Demzufolge kann beim Aufnehmen des Lesesignals vom Magnetkopf H ein Steuerschaltkreis 10 den Magnetkopf H über einen Stellantrieb 10b zu einem Zielort verstellen.

Als nächstes wird nachfolgend erläutert, wie Spurfol geinformationen in die Servomuster 5p zu schreiben sind.

Das Schreiben von Spurfolgeinformationen kann entweder mittels des in Fig. 6A gezeigten Magnetkopfes H oder des in Fig. 6B gezeigten Permanentmagneten P ausgeführt werden.

Wie in Fig. 6A gezeigt ist, werden im Falle des Schreibens der Spurfolgeinformationen durch den Magnetkopf H unter der Bedingung, daß das magnetische Aufnahmemedium 1 vom Kreisscheibentyp drehangetrieben wird, die gewünschten Servoschichten 5 und die um die gewünschten Servoschichten 5 herum ausgebildete magnetische Aufnahmeschicht 3 in Um fangsrichtung (d. h. in Spurlängsrichtung) durch ein vom Magnetkopf H erzeugtes Gleichstrom-Magnetfeld so magneti siert, daß sie die gleiche Magnetisierungsrichtung haben. Es wird bevorzugt, daß beim Schreiben des Servosignals in die Servoschichten 5 eine Aufnahmespaltlänge Lg für den Magnetkopf H länger als diejenige ist, die beim Schreiben von Daten in die magnetische Aufnahmeschicht 3 verwendet wird, da ein starkes Magnetfeld erzeugt werden kann.

Nachdem ein S-Pol und N-Pol des Permanentmagneten P entlang der Umfangsrichtung angeordnet sind, wie in Fig. 6B gezeigt ist, und sodann das magnetische Aufnahmemedium 1 unter solchen Bedingungen drehangetrieben wird, werden andererseits die gewünschten Servomuster 5p und die magne tische Aufnahmeschicht 3 um die Servoschichten 5p herum so magnetisiert, daß sie die gleiche Magnetisierungsrichtung haben.

Gemäß jedem der obengenannten Verfahren zum Schreiben von Spurfolgeinformationen werden sowohl die Servomuster 5p als auch die Taktsignalmuster 7 in der gleichen Richtung entlang der Spurlängsrichtung magnetisiert. Auch wenn gleichzeitig die Datensignal-Aufnahmeregionen A magneti siert werden, wenn die Spurfolgeinformationen geschrieben werden, dann können solche in die Datensignal-Aufnahme regionen A geschriebenen Spurfolgeinformationen durch Schreiben von Daten in diese gelöscht werden.

Die Spurfolgeinformationen, die wie oben dargestellt geschrieben wurden, werden über den Magnetkopf H gelesen, welcher eine Magnetowiderstandseinrichtung 8 oder eine induktive Einrichtung 9 hat, wie in Fig. 7A gezeigt ist. Da eine wesentliche Dicke der Servomuster 5p durch eine Summe von Filmdicken der Servoschicht 5 und der magnetischen Aufnahmeschicht 3 gegeben ist, werden in diesem Fall Servo- Streumagnetfelder Hs, die von den Servomustern 5p gestreut werden, im Vergleich mit dem Fall, in welchem die Servo schicht 5 und die magnetische Aufnahmeschicht 3 mit einem Abstand ausgebildet sind, vergrößert.

Da die Servomuster 5p auf der gleichen Ebene wie die magnetische Aufnahmeschicht 3 ausgebildet sind, wie in Fig. 7A gezeigt ist, wird zusätzlich ein Abstand zwischen dem Magnetkopf H und den Servomustern 5p im wesentlichen identisch mit einem Abstand zwischen dem Magnetkopf H und der magnetischen Aufnahmeschicht 3. Deshalb wird das in den Magnetkopf H eingegebene Servo-Magnetfeld verbessert und die Spurfolgeinformationen können zuverlässiger gelesen werden.

Ein experimentelles Ergebnis, welches man durch Über prüfung einer Beziehung zwischen der vom Magnetkopf H gele senen Spurfolgesignalausgabe und der Filmdicke der Servo muster 5p erhält, wird der Reihe nach erläutert.

Während man die Servomuster 5p auf der Spur unter dem Wiedergabe-Magnetkopf H laufen ließ, wie in Fig. 7A gezeigt ist, sind die Spurfolgeinformationen gelesen worden, um die Beziehung zwischen der Spurfolgesignalausgabe und der Film dicke der Servomuster 5p zu überprüfen. Als Folge wurde das in Fig. 7B gezeigte Ergebnis abgeleitet.

In Fig. 7B bezeichnet die Ordinate Spurfolgesignalwer te, welche normalisiert sind, indem man Datensignalausga ben, die man von der in der Datensignal-Aufnahmeregion A ausgebildeten magnetischen Aufnahmeschicht 3 erhält, auf "1" setzt. Wenn zusätzlich die Filmdicke der magnetischen Aufnahmeschicht 3 zu "1" angenommen wird und sodann die Anzahl der laminierten Schicht der Servoschicht 5 auf N eingestellt wird, dann kann die Filmdicke X der Servo schicht 5 durch x = Nt dargestellt werden (wobei t eine Filmdicke der magnetischen Aufnahmeschicht ist).

In Fig. 7B wächst mit dem Anwachsen der Schichtanzahl in der Servoschicht 5 auch das Spurfolgesignal an. Eine Spurfolgesignalausgabe in der gleichen Größenordnung wie die Datensignalausgabe erhält man, wenn die Filmdicke X der Servoschicht 5 etwa gleich dem 2,5-fachen derjenigen der magnetischen Aufnahmeschicht 3 ist. In dem Fall, daß kon kave Bits auf der magnetischen Aufnahmeschicht 3 ohne die Servoschicht 5 vorgesehen sind, wird die Spurfolgesignal ausgabe, die von diesen Bits abgeleitet wird, gleich "0,5".

Wie aus der obenstehenden Beschreibung offensichtlich ist, würde die Tatsache, daß die die Servomuster 5p bilden den benachbarten Servoschichten 5 in einem Abstand ausge bildet sind, als der Grund angegeben, warum die Servo signalausgabe die Datensignalausgabe nicht übersteigt, bis die Filmdicke der Servoschicht 5 gleich dem 2,5-fachen oder Mehrfachen dicker als diejenige der magnetischen Aufnahme schicht 3 ist.

Nachfolgend werden Verfahren zum Ausbilden der Servo muster 5p auf dem magnetischen Aufnahmemedium 1 erläutert, wie oben erwähnt wurde.

Erstes Beispiel

Zuerst wird, wie in Fig. 8A gezeigt ist, ein Resist 11 auf das nicht magnetische Substrat 2 geschichtet, sodann belichtet und entwickelt, so daß Fenster 12 in entsprechen den Servomuster-Ausbildungsregionen innerhalb der Servo signal-Aufnahmeregionen B gebildet werden.

Danach werden, wie in Fig. 8B gezeigt ist, Bereiche des nicht magnetischen Substrates 2, die durch die Fenster 12 des Resist 11 freigelegt sind, geätzt, so daß darin konkave Bereiche 2a ausgebildet werden. Ionenabtragverfah ren, Spritzätzen, chemisches Ätzen usw. können als Ätzver fahren eingesetzt werden. Wenn allerdings ein physikali sches Ätzverfahren (PVD-Verfahren), wie beispielsweise Ionenabtragen eingesetzt wird, besteht eine Möglichkeit, daß Grate an den Peripherien der konkaven Bereiche 2a aus gebildet werden. Es ist deshalb zwingend, einen geeigneten Ionenbestrahlungswinkel einzuhalten, um derartige Grate zu vermeiden.

Wenn der Silizium-Wafer als nicht magnetisches Substrat 2 verwendet wird, kann die Erzeugung solcher Grate verhindert werden, weil ein reaktives Ionenätzen bei dem Silizium-Wafer angewendet werden kann.

Als nächstes wird, wie in Fig. 8C gezeigt ist, die Servoschicht 5 auf einer gesamten Oberfläche der sich erge benden Struktur durch Spritzen ausgebildet, bis sie 5 bis 250 nm dick ist. Anschließend wird das Resist 11 durch Lösungsmittel abgezogen, so daß die Servoschichten 5 nur in den konkaven Bereichen 2a des nicht magnetischen Substrates 2 zurückbleiben.

Dann werden, wie in Fig. 8D gezeigt ist, das nicht magnetische Substrat 2 und die Servoschicht 5 mittels mechanischen Polierens, Ionenabtragens oder Spritzens ein geebnet. Da eine dem Magnetkopf zugewandte Aufnahmefläche des magnetischen Aufnahmemediums 1 durch diesen Einebnungs prozeß eingeebnet wird, besteht keine Möglichkeit, daß der Magnetkopf aus der Aufnahmefläche ausgehoben wird, oder daß der Magnetkopf, welcher über die Aufnahmefläche gleitet, durch den Vorsprung abgebrochen wird.

Nach einem solchen Einebnungsprozeß wird, wie in Fig. 8E gezeigt ist, die aus CoCrPt ausgebildete und die Servoschicht 5 sowie das nicht magnetische Substrat 2 über deckende magnetische Aufnahmeschicht 3 durch Spritzen aus gebildet, bis sie eine Dicke von 5 bis 100 nm hat, und sodann wird der Schutzfilm 4 auf dieser ausgebildet, womit das magnetische Aufnahmemedium fertiggestellt ist und die in Fig. 3A gezeigte Struktur hat.

Zweites Beispiel

Zuerst werden, wie in Fig. 9A gezeigt ist, die konka ven Bereiche 2a auf dem nicht magnetischen Substrat 2 durch das dem ersten Beispiel gleiche Verfahren ausgebildet.

Als nächstes wird, wie in Fig. 9B gezeigt ist, die aus CoCrPt hergestellte Servoschicht 5 durch Spritzen auf dem nicht magnetischen Substrat 2 und innerhalb der konkaven Bereiche 2a ausgebildet, bis sie 5 bis 250 nm dick sind, und anschließend wird das Fotoresist 15 auf die Servo schicht 5 geschichtet.

Nach diesem Prozeß verbleiben, wie in Fig. 9C gezeigt ist, dann, wenn das Fotoresist 15 und die Servoschicht 5 mittels Ionenabtragen, Spritzätzen oder dergleichen geätzt werden, die Servoschichten 5 nur in den konkaven Bereichen 2a, wenn die Oberfläche des nicht magnetischen Substrates 2 freigelegt wird.

In diesem Fall ist mechanisches Polieren oder derglei chen nicht erforderlich, da die oberen Flächen der Servo schichten 5 in den konkaven Bereichen 2a und die obere Fläche des nicht magnetischen Substrates 2 eingeebnet wer den.

Als nächstes wird, wie in Fig. 9D gezeigt ist, die aus CoCrPt gebildete magnetische Aufnahmeschicht 3 auf der Servoschicht 5 und dem nicht magnetischen Substrat 2 durch Spritzen ausgebildet, bis sie eine Dicke von 5 bis 100 nm haben. Zusätzlich wird der Schutzfilm 4 auf der magneti schen Aufnahmeschicht 3 ausgebildet. Die Servomuster 5p werden sowohl durch die in den konkaven Bereichen 2a ver bleibenden Servoschichten 5 als auch durch die magnetische Aufnahmeschicht 3 auf den Servoschichten 5 gebildet.

Drittes Beispiel

Obwohl die Servomuster 5a, die entsprechend den oben beschriebenen Herstellungsschritten in dem ersten zuvor erwähnten Beispiel und dem zweiten zuvor erwähnten Beispiel in den konkaven Bereichen 2a eingelagert sind, welche auf der Oberfläche des nicht magnetischen Substrates 2 ausge bildet sind, können Servomuster und eine nicht magnetische Schicht auf dem nicht magnetischen Substrat 2 gemäß den Herstellungsschritten ausgebildet werden, die nachfolgend erläutert werden.

Zuerst wird, wie in Fig. 10A gezeigt ist, eine aus CoCrPt hergestellte harte magnetische Schicht 16 auf dem nicht magnetischen Substrat 2 ausgebildet, bis sie 5 bis 250 nm dick ist.

Dann wird, wie in Fig. 10B gezeigt ist, ein Resist 17 auf die harte magnetische Schicht 16 aufgebracht, sodann belichtet und entwickelt, so daß die in Regionen außerhalb der das Servomuster bildenden Regionen ausgebildete harte magnetische Schicht 16 freigelegt wird.

Wie in Fig. 10C gezeigt ist, werden anschließend, wenn Chrom (Cr) in die harten magnetischen Schichten 16 inner halb der nicht durch das Resist 17 abgedeckten Regionen durch Ionenimplantierung eingebracht wird, diese harten magnetischen Schichten 16 in nicht magnetische Schichten 16a umgewandelt, da die innerhalb der Ionenimplantations regionen ausgebildeten harten magnetischen Schichten 16 einen Cr-reichen Zustand annehmen und auch einen besseren amorphen Zustand annehmen. Die harten magnetischen Schich ten 16, die unterhalb des Resist 17 angeordnet sind und in den Servomuster bildenden Regionen verbleiben, werden als Servomuster 5p verwendet.

Da durch Ionenimplantation keine Unebenheit auf der Oberfläche der harten magnetischen Schichten 16 verursacht wird, kann ein Einebnungsprozeß entfallen.

Nachdem das Resist 17 entfernt worden ist, wird, wie in Fig. 10D gezeigt ist, die aus 5 bis 100 nm dickem CoCrPt hergestellte magnetische Aufnahmeschicht 3 durch Spritzen gebildet, um die Servomuster 5a und die nicht magnetischen Schichten 16a abzudecken. Darüber hinaus wird der Schutz film 4 auf der magnetischen Aufnahmeschicht 3 gebildet, womit das magnetische Aufnahmemedium fertiggestellt wird.

In dieser Struktur berührt eine Vielzahl von Servo mustern 5p direkt die magnetische Aufnahmeschicht 3.

Es sollte verständlich sein, daß in der zweiten Ausge staltung der vorliegenden Erfindung die nicht magnetische Schicht auf der Oberfläche des Substrates gebildet werden kann und daß die konkaven Bereiche auf der nicht magneti schen Schicht ausgebildet sein können.

(Dritte Ausgestaltung)

Obwohl in der zweiten Ausgestaltung die magnetische Aufnahmeschicht auf den Servoschichten gebildet worden ist, können umgekehrt die Servoschichten auf der magnetischen Aufnahmeschicht gebildet werden, was als eine dritte Ausge staltung der vorliegenden Erfindung nachfolgend erläutert werden wird.

Fig. 11 ist eine Teilschnittansicht, welche ein mag netisches Aufnahmemedium gemäß der dritten Ausgestaltung der vorliegenden Erfindung zeigt. Eine Draufsicht des mag netischen Aufnahmemediums ist nicht gezeigt, weil diese gleich der in Fig. 4 gezeigten ist.

Es wird auf Fig. 11 Bezug genommen; ein magnetisches Aufnahmemedium 21 umfaßt ein aus einem Glas-Wafer, einem Silizium-Wafer, einem mit NiP abgedeckten Aluminium-Wafer oder dergleichen hergestelltes nicht magnetisches Substrat 22, eine aus CoCr, CoCrPt, CoCrTa oder CoNiCr oder derglei chen hergestellte magnetische Aufnahmeschicht 23, die auf dem nicht magnetischen Substrat 22 ausgebildet ist, eine nicht magnetische Schicht 26, die aus Cr, Ti, W, SiO₂ oder dergleichen hergestellt ist und die magnetische Aufnahme schicht 23 überdeckt, eine Vielzahl von Servoschichten 25, die aus CoCr, CoCrPt, CoCrTa, CoNiCr oder dergleichen her gestellt und von der nicht magnetischen Schicht 26 auf der magnetischen Aufnahmeschicht 23 umgeben sind, und eine Schutzschicht 24 zum Abdecken der magnetischen Aufnahme schicht 3. Servomuster 25p sind aus einer Vielzahl von getrennten Servoschichten 25 und der auf den Servoschichten 25 ausgebildeten magnetischen Aufnahmeschicht 23 zusammen gesetzt.

Das magnetische Aufnahmemedium 21 hat eine Kreisschei benform, die auch in der zweiten Ausgestaltung verwendet wurde. Wie bei der Fig. 4 sind Taktsignalmuster 27 in den Servosignal-Aufnahmeregionen B ausgebildet, und die Servo muster 25p sind zwischen zwei Taktsignalmustern 27 in einer ähnlichen Weise wie die der zweiten Ausgestaltung angeord net.

Das gleiche Verfahren wie das in der zweiten Ausge staltung kann verwendet werden, um Spurfolgeinformationen in solche Servomuster 25p zu schreiben. Die in die Servo muster 25p geschriebene Spurfolgeinformation wird über den Magnetkopf gelesen.

In diesem Fall ist der Magnetkopf H in der Lage, von den Servomustern 25p erzeugte Magnetfelder als die Spurfol geinformation zu lesen. Da jedes Servomuster 25p aus der Servoschicht 25 und der magnetischen Aufnahmeschicht 23 gebildet ist, werden abgesehen davon die Spurfolgesignal- Magnetfelder eher verstärkt als die durch herkömmliche Servomuster erzeugten Magnetfelder, welche vollständig isoliert sind.

Da die nicht magnetische Schicht 26 um die Servomuster 25p herum eingelagert ist, kann darüber hinaus ein Abstand zwischen den Servomustern 25p und dem Magnetkopf H durch eine Summe aus der Flughöhe des Magnetkopfes H und einer Filmdicke der Schutzschicht 24 angegeben werden. Als Folge davon werden die in den Magnetkopf eingegebenen Servo- Magnetfelder verbessert, so daß ein Lesen der Spurfolgein formation gewährleistet ist.

Wenn die Servomuster 25p übermäßig dick ausgebildet sind, dann wird bei dem magnetischen Aufnahmemedium 21 gemäß der dritten Ausgestaltung die benachbarte nicht magnetische Schicht 26 auch dick. Infolgedessen wird eine Entfernung zwischen der magnetischen Aufnahmeschicht 23 und dem Magnetkopf H zu groß. Es wird deswegen bevorzugt, daß dann, wenn sowohl die Servoschicht 25 als auch die magneti sche Aufnahmeschicht 23 aus dem gleichen Material gebildet sind, die Filmdicke der Servoschicht 25 etwa um das 2,5-fache dicker als die der magnetischen Aufnahmeschicht 23 gemacht werden sollte, basierend auf dem Versuchsergeb nis in Fig. 7B.

Weil die nicht magnetische Schicht 26 in der dritten Ausgestaltung auch um die Servoschichten 25 herum eingela gert ist, kann eine Ebenheit der Aufnahmefläche des magne tischen Aufnahmemediums 21 in ausreichender Weise erreicht werden.

In der dritten Ausgestaltung werden gleichfalls keine Daten in den in Fig. 4 gezeigten Servosignal-Aufnahmeregio nen B aufgezeichnet.

Ein Verfahren zum Bilden von Servomustern des oben beschriebenen magnetischen Aufnahmemediums 21 wird anhand von Beispielen nachfolgend beschrieben.

Erstes Beispiel

Wie in Fig. 12A gezeigt ist, wird zuerst durch Sprit zen auf dem nicht magnetischen Substrat 22 eine harte magnetische Schicht 31 aus CoCrPt ausgebildet, die 5 bis 250 nm Dicke aufweist. Darauffolgend wird auf die harte magnetische Schicht 31 ein Resist 32 geschichtet, sodann belichtet und in den Regionen außerhalb der die Servomuster bildenden Regionen bis auf die harte magnetische Schicht 31 entwickelt.

Dann wird, wie in Fig. 12B gezeigt ist, die harte magnetische Schicht 31, die nicht durch das Resist 32 abge deckt ist, durch Ätzen verdünnt, bis sie 5 bis 100 nm Dicke aufweist. Dadurch wird die Filmdicke der in den die Spur folgemuster bildenden Regionen verbleibenden harten magne tischen Schicht 31 dicker als die in anderen Regionen. Die dicke harte magnetische Schicht 31 wird als Servomuster 25p verwendet, während die dünne harte magnetische Schicht 31 als magnetische Aufnahmeschicht 23 dient.

Es gibt Ionenabtragen, Spritzätzen, chemisches Ätzen usw. als Ätzverfahren; es wird jedoch bevorzugt, das physi kalische Ätzverfahren (PVD), wie etwa Ionenabtragen, einzu setzen.

Wie in Fig. 12C gezeigt ist, wird als nächstes die aus Cr hergestellte nicht magnetische Schicht 26 durch Spritzen auf die Gesamtheit der sich ergebenden Struktur ausgebil det, so daß sie eine Dicke von 5 bis 100 nm hat. Dann wird das Resist 32 durch Lösemittel entfernt, so daß die nicht magnetische Schicht 26 nur in den Regionen verbleibt, die nicht durch das Resist 32 abgedeckt sind. Die nicht magne tische Schicht 26 ist um die gemusterten Servoschichten 25 herum eingelagert.

Wenn auf den Peripherien der Servoschichten 25 Grate der nicht magnetischen Schicht 26 verbleiben, nachdem das Resist 32 entfernt worden ist, ist es nötig, die Grate durch mechanisches Polieren, Ionenabtragen, Spritzen oder dergleichen zu entfernen und ebenso entsprechende Oberflä chen der Servoschichten 25 und der nicht magnetischen Schicht 26 einzuebnen.

Nach einem solchen Einebnungsprozeß wird, wie in Fig. 12D gezeigt ist, der Schutzfilm 24 auf den Servo schichten 25 und der nicht magnetischen Schicht 26 gebil det. Auf diese Weise ist die magnetische Aufnahmesubstanz mit der in Fig. 11 gezeigten Struktur fertiggestellt.

Zweites Beispiel

Wie in Fig. 13A gezeigt ist, werden zuerst die aus CrCoPt hergestellte magnetische Aufnahmeschicht 23 und eine aus CrCoPt hergestellte harte magnetische Schicht 33 durch Spritzen auf dem Substrat gebildet, bis sie eine Dicke von 5 bis 100 nm bzw. 5 bis 250 nm haben.

Wie in Fig. 13B gezeigt ist, wird als nächstes ein Resist 34 darüber geschichtet, und dann wird die magneti sche Aufnahmeschicht 23 in den die die Spurfolgemuster bildenden Regionen ausnehmenden Regionen durch Belichten und Entwickeln des Resist 34 freigelegt.

Danach wird, wie in Fig. 13C gezeigt ist, in die in nicht von dem Resist 34 abgedeckten Regionen gelegene harte magnetische Schicht 33 Chrom (Cr) ionenimplantiert, so daß die ionenimplantierten Regionen in nicht magnetische Schichten 33a umgewandelt werden. In diesem Fall kann die Tiefe der Ionenimplantation durch Justieren der Ionenbe schleunigungsenergie gesteuert werden. Mit dem oben be schriebenen Verfahren sind die Servomuster 25p aus der harten magnetischen Schicht 33 und der unter dem Resist 34 liegenden magnetischen Aufnahmeschicht 23 zusammengesetzt.

Da eine Unebenheit der harten magnetischen Schicht 33 infolge der Ionenimplantation nicht auftritt, kann ein Einebnungsprozeß entfallen.

Nach dem Abziehen des Resist 34 durch ein Lösungsmit tel wird, wie in Fig. 13D gezeigt ist, der die Servomuster 25p und die nicht magnetischen Schichten 33a überdeckende Schutzfilm 24 gebildet, womit das magnetische Aufnahme medium fertiggestellt wird.

Es sollte verständlich sein, daß in der dritten Ausge staltung die nicht magnetische Schicht auf der Oberfläche des Substrates geformt werden könnte.

(Vierte Ausgestaltung)

In den Servoregionen 45 der in Fig. 2 gezeigten Magnetplatte 42 sind, wie in Fig. 14A gezeigt ist, lineare Servomuster 51, welche mit einem vorgegebenen Winkel gegen die tangentiale Richtung der Spuren 44 geneigt sind, über eine Vielzahl von Spuren 44 hinweg ausgebildet. Die Servo muster 51 sind in vielfältiger Anzahl mit einem Abstand in der Umfangsrichtung ausgebildet. Wie in Fig. 14B gezeigt ist, ist die Breite W1 der Spur 44 im wesentlichen iden tisch mit einer Magnetpolbreite des Aufzeichnungskopfes in dem Magnetkopf 50 oder mit einer Tastbreite des Wiedergabe kopfes im Magnetkopf 50.

Die Magnetplatte 42 mit den Servomustern 51 darauf hat einen in Fig. 15 gezeigten Schnittaufbau.

Die in Fig. 15 gezeigte Magnetplatte 42 umfaßt ein aus einem Glas-Wafer, einem Silizium-Wafer, einem mit NiP be schichteten Aluminium-Wafer oder dergleichen hergestelltes nicht magnetisches Substrat 52; eine auf dem Substrat 52 angeordnete, aus nicht magnetischem Material wie Cr oder SiO₂ hergestellte Unterlageschicht 53; eine auf der Unter lageschicht 53 angeordnete, aus hartem magnetischen Mate rial wie CoCrTa, CoCrPt oder CoCr hergestellte magnetische Aufnahmeschicht 54; und eine die magnetische Aufnahmeschicht 54 abdeckende Schutzschicht 55. Bezüglich der Dicke dieser Schichten 53 bis 55 gilt mehr beispielhaft, daß die Unterlageschicht 53 = 50 nm, die magnetische Aufnahmeschicht 54 = 20 nm und die Schutz schicht 55 = 15 nm stark sind. Angenommen, daß eine solche Konfiguration verwendet und die Unterlageschicht 53 fortge lassen wird, dient die Oberfläche des Substrates 52 als die Unterlagefläche für die magnetische Aufnahmeschicht 54.

Auf der Unterlageschicht 53, welche in der Servoregion 45 besteht, werden Nuten 56, in die ein Teil der Servo muster 51 eingelagert werden sollen, ausgebildet. Eine harte magnetische Schicht 51a, wie etwa CoCrTa, CoCrPt oder CoCr wird in die Nuten 56 eingelagert. Jedes Servomuster 51 ist im wesentlichen aus der in eine Nut 56 eingelagerten harten magnetischen Schicht 51a und der magnetischen Auf nahmeschicht 54 hergestellt, die auf der harten magne tischen Schicht 51a ausgebildet ist. Da Servoinformationen in die harte magnetische Schicht 51a und in die auf der Nut 56 gebildeten magnetischen Aufnahmeschicht 54 geschrieben werden, können in der Servoregionen 45 andere Daten als Servoinformationen nicht auf der magnetischen Aufnahme schicht 54 aufgezeichnet werden. Die harte magnetische Schicht 51a kann aus Material ähnlich dem oder verschieden von dem magnetischen Material ausgebildet sein, welches die magnetische Aufnahmeschicht 54 bildet.

Für den Fall, daß die Unterlageschicht 53 fortgelassen werden sollte, werden die Nuten 56 auf dem Substrat 52 gebildet, und sodann wird die harte magnetische Schicht 51a in die Nuten 56 eingelagert.

Der Reihe nach wird ein Weg zum Schreiben von Servo informationen in die Servomuster 51 nachstehend beschrie ben.

Das Schreiben von Servoinformationen wird unter Ver wendung eines in Fig. 16A gezeigten Magnetkopfes oder eines in Fig. 16B gezeigten Permanentmagneten ausgeführt.

Wie in Fig. 16A gezeigt ist, wird in dem Fall, in dem Servoinformationen unter Verwendung des Magnetkopfes 50 geschrieben werden, ein Gleichstrom-Magnetfeld durch den Magnetkopf 50 erzeugt, während die Magnetplatte 42 vom Kreisscheibentyp gedreht wird, und dann werden gewünschte Servomuster 51 und deren periphere magnetische Aufnahme schicht 54 durch das Gleichstrom-Magnetfeld in der gleichen Umfangsrichtung magnetisiert.

Im Gegensatz dazu werden, wie in Fig. 16B gezeigt ist, S-Pole und N-Pole des Permanentmagneten 57 in der Umfangs richtung ausgerichtet, und dann wird die Magnetplatte 42 in diesem Zustand gedreht, um gewünschte Servomuster 51 in der gleichen Richtung zu magnetisieren.

Es ist in gleicher Weise für alle Wege zum Schreiben von Servoinformationen anwendbar, daß alle Servomuster 51 in der gleichen Umfangsrichtung zu magnetisieren sind. Die magnetische Aufnahmeschicht 54, die in Regionen außerhalb der Servoregionen 45 liegt, wird gleichzeitig beim Schrei ben von Servoinformationen magnetisiert, dennoch tritt kein Problem im einzelnen auf, da die Magnetisierungsrichtung durch das Schreiben von Daten geändert werden kann.

Wie in Fig. 17 gezeigt ist, können wie oben geschrie bene Servoinformationen durch eine magnetoresistive Ein richtung 50a (Wiedergabekopf) oder eine induktive Einrich tung 50b gelesen werden. Demzufolge können, wie in Fig. 17 gezeigt ist, Magnetfelder Hs über die beiden Enden der Servomuster 51 hinweg in Spannungswellenformen umgewandelt werden.

In diesem Fall wird, wie in Fig. 14B gezeigt ist, in den jeweiligen Spuren 44 der Ort des Wiedergabekopfes 50a um vorgegebene Teilungen jeweils in der Spurenlängsrichtung und in der Spurenbreitenrichtung verstellt. Mit anderen Worten sind lineare Servomuster 51, welche so ausgelegt sind, daß sie sich schräg mit einer Vielzahl von Spuren 44 kreuzen, äquivalent zu dem Fall, in welchem die Anzahl der Aufteilungen der in Fig. 1A gezeigten Servomuster 30 bis zum Erreichen des Limits erhöht wird.

Da eine erste Gruppe I und eine zweite Gruppe II der Servomuster 51 symmetrisch in der Umfangsrichtung ausgebil det sind, kann bei der Magnetplatte 42 in dem Phasen-Servo system, wie es in Fig. 18 gezeigt ist, ein Spurfolge-Steu erschaltkreis 10a Spurfolgeinformationen gemäß der Änderung bei der Phase (Intervall) β des Servosignals zwischen die sen Gruppen I und II erfassen.

Die vorangehenden Servomuster 51 sind nicht auf die linearen Muster beschränkt; sie können vielmehr, wie in Fig. 19 gezeigt ist, als gekrümmte Muster ausgebildet sein, welche sich mit einer Vielzahl von Spuren 44 kreuzen. Das ist deswegen der Fall, weil dann, wenn der Magnetkopf 50 zwischen der inneren Peripherie und der äußeren Peripherie der Magnetplatte 42 verschwenkt wird, eine Änderung beim Gierwinkel reduziert werden kann, wenn die Servomuster 51 solche gekrümmten Muster annehmen.

Die oben erwähnten linearen oder gekrümmten Servo muster 51 sind als physikalische Formmuster vorhanden, die Änderungen bei der Filmdicke entsprechen.

Deshalb kann gemäß solchen Servomustern 51 ein solcher Vorgang des Schreibens der Servomuster 51 eines nach dem anderen in einem Abstand mittels des Magnetkopfes mit guter Präzision vernachlässigt werden, so daß die Schreibzeit ab gekürzt werden kann. Da weiterhin die Dichte der Servomu ster 51 in Entsprechung mit einer Änderung in der Filmdicke allein bestimmt wird, besteht keine Notwendigkeit, eine Streuung des Magnetfeldes oder eine Aufnahmeverzweigung (recording bleeding) beim Schreiben der Servoinformationen in Betracht zu ziehen. Deshalb können die Servomuster mit hoher Präzision erzielt werden, und als Folge davon kann die Präzision der Ortserfassung verbessert werden.

Da die linearen oder gekrümmten Servomuster 51 so ausgebildet sind, daß sie eine Vielzahl von Spuren 44 schräg kreuzen, tritt zusätzlich eine Auslassung der Muster kaum auf im Gegensatz zu dem Fall, in welchem planare For men der Servomuster, wie sie in Fig. 1A gezeigt sind, ver wendet werden. Als Ergebnis kann die Herstellungsausbeute verbessert werden.

Als nächstes wird ein Weg zum Ausbilden der Servo muster 51 der oben beschriebenen Magnetplatte 42 (magnetisches Aufnahmemedium) nachfolgend erläutert.

Bei den später beschriebenen Schritten zum Ausbilden der Servomuster wird, obwohl die Prozedur des Ausbildens von Resistmustern zwei Schritte des Belichtens und Ent wickelns des Resistes umfassen, ein in der Fig. 20A oder Fig. 21A illustriertes Verfahren verwendet, um das Resist zu belichten.

Die Fig. 20A und 21A illustrieren, wie das Substrat 52 vom Kreisscheibentyp, auf das das Resist 58 geschichtet wird, auf die Drehwelle des Schrittmotors 59 aufgepaßt wird, und wie dann jeweils das Resist 58 in diesem Zustand belichtet wird.

Fig. 20A zeigt ein Belichtungsverfahren unter Verwen dung einer Lampe 60 und einer Belichtungsmaske 61. Es ist nicht zu bevorzugen, die Entwicklungsmaske 61 so auszubil den, daß sie der Magnetplatte 42 eins zu eins in der Größe entspricht, da die Entwicklungsausrüstung als Ganzes im Volumen vergrößert und eine Ausrichtung schwieriger wird. Inzwischen werden die auf der Magnetplatte 42 auszubilden den Servomuster 51 sich in der Umfangsrichtung wiederholend angeordnet. Deshalb sollte die Entwicklungsmaske 61 mit einer Größe der Belichtungsmusterregionen 61a, welche in der Lage sind, die Magnetplatte 42 in n (wobei n eine natürliche Zahl ist) gleiche Bereiche in der Umfangsrich tung zu teilen, vorbereitet werden. Danach wird die Belich tungsmaske 61 über dem Substrat 52 positioniert. Muster der Entwicklungsmaske 61 werden der Reihe nach auf das Resist 58 durch Einschalten der über der Belichtungsmaske 61 posi tionierten Lampe 60 für eine vorgegebene Zeit t1 übertra gen, und dann wird ein Drehabschnitt des Schrittmotors 59 um 360/n° gedreht. Wenn diese Operationen n mal wiederholt worden sind, kann die Belichtung der ganzen Oberfläche des Resist 58 beendet sein. Die Strahlung der Lampe 60 und der Antrieb des Schrittmotors 59 können bei in Fig. 20B gezeig ten Zeitlagen durch die Steuerung 62 gesteuert werden.

Ausrichtung und Fokussierung der Belichtungsmaske 61 können entweder jedesmal, wenn der Schrittmotor 59 gestoppt wird, oder nur einmal bevor die Belichtung begonnen wird, ausgeführt werden.

Im Gegensatz dazu sind in Fig. 21A eine Laserlicht quelle 63 und ein Laser-Scansystemspiegel 64 vorgesehen. Basierend auf Daten, die von einem Musterdaten-Speicherab schnitt 65 geliefert werden, veranlaßt eine Steuerung 66 die Laserlichtquelle 63 ein- und auszuschalten und veran laßt den Laser-Scansystemspiegel 64 zu schwingen, womit das Substrat 52 mit dem Laserstrahl in der radialen Richtung gescannt wird.

Wie in Fig. 21B gezeigt ist, sind beispielsweise, nachdem ein Scanvorgang des Laserstrahls in der radialen Richtung beendet worden ist, solche Operationen wiederholt worden, bei denen die Steuerung 66 den Schrittmotor 59 veranlaßt, um vorgegebene Schritte zu drehen, und dann die Laserlichtquelle 63 veranlaßt, das Resist 58 in der radia len Richtung zu belichten. Wenn der Drehabschnitt des Schrittmotors 59 um 360° gedreht worden ist, dann ist der Belichtungsprozeß der gesamten Oberfläche des Resist 58 beendet.

Alternativ dazu kann eine Belichtung unter Verwendung des Laserstrahl in jeder Umfangsrichtung ausgeführt werden. In diesem Falle wird, wie in Fig. 21C gezeigt ist, der Schrittmotor 59 kontinuierlich mit einer vorgegebenen Dreh geschwindigkeit angetrieben, und gleichzeitig wird die Strahlung des Laserstrahls in Übereinstimmung mit Muster profilen ein- und ausgeschaltet.

Bei Verwendung des oben beschriebenen Belichtungsver fahrens wird nachfolgend ein Verfahren zum Herstellen der Magnetplatte 42 mit der in Fig. 15 gezeigten Schnittstruk tur erläutert.

Zu Anfang wird, wie in Fig. 22A gezeigt ist, eine Unterlageschicht 53 auf einem Substrat 52 ausgebildet, und sodann wird ein Resist 58 auf die Unterlageschicht 53 auf gelegt. Nachfolgend werden Latentbilder der Servomuster durch Belichten des Resist 58 entsprechend den in Fig. 20 oder Fig. 21 gezeigten Belichtungsverfahren ausgebildet. Danach werden, wie in Fig. 22B gezeigt ist, Öffnungen 58a durch Entwickeln des Resist 58 in entsprechenden Regionen ausgebildet, in denen die Servomuster 51 ausgebildet werden sollen.

Wie in Fig. 22C gezeigt ist, wird als nächstes die durch die Öffnungen 58a des Resist 58 freigelegte Unterla geschicht 53 geätzt, so daß die Nuten 56 ausgebildet wer den. Die Tiefe der Nut 56 kann so sein, daß das Substrat 52 nicht freigelegt wird, wie in Fig. 22C gezeigt ist, oder sie kann bis zu einem Maße ausgebildet sein, daß das Substrat freigelegt wird. Als Ätzverfahren gibt es Ionenab tragen, Spritzätzen, chemisches Ätzen usw. Vorausgesetzt, daß Silizium als das Substrat 52 bildende Material verwen det wird, dann ist reaktives Ionenätzen anwendbar.

Wie in Fig. 22D gezeigt ist, wird weiter noch auf der Gesamtheit eine harte magnetische Schicht 51a durch Sprit zen ausgebildet, um in die Nuten 56 Einlagerungen einzu bringen, und wenn das Resist 58 mittels Lösungsmittel ent fernt worden ist, verbleibt dann die harte magnetische Schicht 51a nur in den Nuten 56.

Als nächstes werden die Unterlageschicht 53 und die harte magnetische Schicht 51a mittels mechanischen Polie rens, Ionenabtragens oder dergleichen eingeebnet. Da die der Magnetplatte 50 gegenüberliegende Fläche durch dieses Einebnen abgeflacht wird, gibt es keine Möglichkeit, daß der über die Oberfläche der Magnetplatte 42 laufende Magnetkopf 50 durch Vorsprünge zerstört wird.

Wenn nach einem solchen Einebnungsprozeß die magneti sche Aufnahmeschicht 54 auf der harten magnetischen Schicht 51a und der Unterlageschicht 53 durch Spritzen ausgebildet wird, bis sie eine Dicke von 5 bis 100 nm hat, und wenn sodann ein Schutzfilm 55 auf der magnetischen Aufnahme schicht 54 ausgebildet ist, wie in Fig. 22E gezeigt ist, dann ist die die in Fig. 15 Schnittstruktur aufweisende Magnetplatte 42 fertiggestellt.

Nebenbei kann die Schutzschicht 55 mit einem Schmier mittel beschichtet werden.

(Fünfte Ausgestaltung)

Obwohl bei der ersten Ausgestaltung die magnetische Aufnahmeschicht 54 auf der harten magnetischen Schicht 56a als Servomuster 51 ausgebildet worden ist, können diese auch umgekehrt ausgebildet werden. Es wird deshalb eine andere Ausgestaltung nachfolgend beschrieben.

Fig. 23 ist eine Teil-Schnittansicht, welche eine Magnetplatte (magnetisches Aufnahmemedium) gemäß einer fünften Ausgestaltung der vorliegenden Erfindung zeigt. Da planare Formen und Anordnungen der Muster der harten magne tischen Schicht 51a, welche die Servomuster 51 darstellen, gleich denen sind, die in der ersten Ausgestaltung schon erläutert wurden, wird deren Beschreibung hier fortgelas sen.

In Fig. 23 umfaßt die Magnetplatte 42 ein nicht mag netisches Substrat 52 aus einem Glas-Wafer, einem Silizium- Wafer, einem mit NiP-Film beschichteten Aluminium-Wafer oder dergleichen; eine aus einem nicht magnetischen Mate rial wie etwa Cr oder SiO₂ hergestellte Unterlageschicht 53 auf dem Substrat 52; eine aus CoCr, CoCrPt, CoCrTa, CoNiCr oder dergleichen hergestellte magnetische Aufnahmeschicht 54 auf der Unterlageschicht 53; eine nicht magnetische Zwischenschicht 67 zum Abdecken der magnetischen Aufnahme schicht 54; eine aus CoCr, CoCrPt, CoCrTa, CoNiCr oder dergleichen hergestellte harte magnetische Schicht 51a, die in die Zwischenschicht 67 in den Servoregionen 45 eingela gert ist; und eine Schutzschicht 55 zum Abdecken der harten magnetischen Schicht 51a und der Zwischenschicht 67.

In der Zwischenschicht 67 sind die planaren Formen der Nuten 68 zum Einlagern der harten magnetischen Schichten 51a die gleichen wie die der Servomuster 51, die in der ersten Ausgestaltung erläutert wurden. Die harten magneti schen Schichten 51a in den Nuten 68 kommen am Grund der Nuten 68 in Kontakt mit der magnetischen Aufnahmeschicht 54. Die Servomuster 51 sind aus den harten magnetischen Schichten 51a in den Nuten 68 und der magnetischen Aufnah meschicht 54 zusammengesetzt, die direkt unterhalb der harten magnetischen Schichten 51a liegt.

Bei solchen Servomustern 51 ist der Weg zum Schreiben von Servoinformationen ähnlich dem, der bei der ersten Ausgestaltung erläutert wurde. In die Servomuster 51 ge schriebene Servoinformationen können durch den Magnetkopf 50 gelesen werden.

Da die nicht magnetische Zwischenschicht 67 um die Servomuster 51 herum eingelagert ist, kann ein Abstand zwischen den Servomustern 51 und dem Magnetkopf 50 als eine Gesamtgröße aus einer Flughöhe des Magnetkopfes 50 und einer Filmdicke der Schutzschicht 55 erhalten werden. Als Folge davon kann die Servo-Magnetfeldeingabe in den Magnet kopf 50 verbessert und so ein Lesen der Spurfolgeinforma tionen sichergestellt werden.

Bei der fünften Ausgestaltung sind in einer ähnlichen Weise wie der in Fig. 14A oder Fig. 19 gezeigten lineare oder gekrümmte Servomuster 51 ausgebildet, die eine Viel zahl von Spuren 44 in einer schrägen Richtung kreuzen; die Muster sind dann entsprechend der Änderung der Filmdicke in der Umfangsrichtung ausgebildet.

Demzufolge kann gemäß solchen Servomustern 51 wie bei der ersten Ausgestaltung eine Schreibzeit abgekürzt und können hochpräzise Muster erzielt werden.

Da die linearen oder gekrümmten Servomuster 51 so ausgebildet sind, daß sie eine Vielzahl von Spuren 44 mit schrägen Winkeln kreuzen, wird weiter noch die mechanische Festigkeit derartiger Muster verbessert, verglichen mit isolierten Mustern, so daß Schäden an den Mustern kaum auftreten.

Bei der fünften Ausgestaltung werden ähnlich wie bei der in Fig. 14 gezeigten keine Daten mit Ausnahme von Ser vodaten in der magnetischen Aufnahmeschicht 54 in den Ser voregionen 45 aufgezeichnet.

Als nächstes wird ein Verfahren zum Ausbilden der Servomuster 51 mit der in Fig. 23 gezeigten Struktur nach folgend erläutert.

Zuerst wird, wie in Fig. 24A gezeigt ist, die 50 nm dicke Unterlageschicht 53 aus Cr auf dem Substrat 52 ausge bildet, dann wird die aus CoCrPt hergestellte magnetische Aufnahmeschicht 54 ausgebildet, bis sie eine Dicke von beispielsweise 20 nm hat, und dann wird die aus SiO₂ herge stellte Zwischenschicht 67 ausgebildet, bis sie eine Dicke von 5 bis 20 nm hat. Diese Schichten 53, 54, 67 werden durch Spritzen ausgebildet. Darauf folgend wird das Resist 58 auf die Zwischenschicht 67 geschichtet, und dann werden Latentbilder der Servomuster auf dem Resist 58 durch Be lichten des Resistes 58 mittels des in Fig. 20A oder Fig. 21A gezeigten Belichtungsverfahrens ausgebildet.

Als nächstes wird, wie in Fig. 24B gezeigt ist, das Resist 58 durch Entwickeln des Resistes 58 gemustert, so daß die Öffnungen 58b in jeweiligen Regionen ausgebildet werden, in denen die Servomuster ausgebildet werden sollen.

Danach werden, wie in fig. 24C gezeigt ist, die Nuten 68 durch Entfernen der Zwischenschichten 67, die nicht mit dem Resist 58 abgedeckt sind, mittels Ätzen ausgebildet. Als Ätzverfahren können Ionenabtragen, Spritzätzen, chemi sches Ätzen usw. in Betracht gezogen werden.

Dann wird, wie in Fig. 24D gezeigt ist, die 5 bis 20 nm dicke harte magnetische Schicht 51a aus CoCrPt auf der Gesamtheit durch Spritzen ausgebildet, und anschließend verbleiben die harten magnetischen Schichten 51a nur in den Nuten 68, indem das Resist 58 mittels eines Lösemittels abgelöst wird. Die harte magnetische Schicht 51a und die Zwischenschicht 67 werden mittels Polieren oder dergleichen eingeebnet. Als Ergebnis sind die Servomuster 51 aus den harten magnetischen Schichten 51a und den magnetischen Aufnahmeschichten 54 unmittelbar unterhalb der harten mag netischen Schichten 51a zusammengesetzt.

Wenn nach einem derartigen Einebnungsprozeß der Schutzfilm 55 auf den harten magnetischen Schichten 51a und der Zwischenschicht 67 ausgebildet wird, wie in Fig. 24E gezeigt ist, dann ist die Magnetplatte mit der in Fig. 23 gezeigten Konfiguration fertiggestellt.

Die Unterlageschicht 53 wird oft fortgelassen. Ferner kann die Schutzschicht 55 mit einem Schmiermittel beschich tet sein.

(Sechste Ausgestaltung)

Die oben beschriebenen linearen oder gekrümmten Servo muster 51 können durch Mustern eines Teils der magnetischen Aufnahmeschicht 54 ausgebildet werden.

Zum Beispiel werden, wie in Fig. 25A gezeigt ist, die Unterlageschicht 53 und die magnetische Aufnahmeschicht 54 von etwa 20 nm Dicke in dieser Reihenfolge auf dem Substrat 52 ausgebildet, und dann wird das Resist 58 auf die magne tische Aufnahmeschicht 54 aufgelegt. Das Resist 58 wird sodann belichtet und entwickelt unter Verwendung des in Fig. 20A oder Fig. 21A gezeigten Verfahrens, um das Resist 58 zu mustern. Das Resist 58 deckt Regionen außerhalb der Servoregionen 45 ab. Öffnungen 58c sind um die Servomuster in den Servoregionen 45 herum angeordnet.

Anschließend werden durch Entfernen der nicht mit dem Resist 58 überdeckten magnetischen Aufnahmeschicht 54 mit tels Ionenabtragens, Spritzätzens, chemischen Atzens oder dergleichen die Nuten 54a ausgebildet, und auch die magne tische Aufnahmeschicht 54 außerhalb der Servoregion 45 wird belassen. Die in der Servoregion 51 verbleibende magneti sche Aufnahmeschicht 54 kann als die Servomuster 51 verwen det werden.

Nacheinander werden, wie in Fig. 25B gezeigt ist, die magnetische Aufnahmeschicht 54 und die Servomuster 51 mit dem Schutzfilm 55 abgedeckt, und dann werden die um die Servomuster 51 herum ausgebildeten Nuten mit dem Schutzfilm 55 gefüllt. Gleichzeitig kann der Schutzfilm 55 eingeebnet werden. Ferner kann die Magnetplatte fertiggestellt werden, wenn ein Schmiermittel 70 auf den Schutzfilm 55 aufgetragen wird.

Wenn die Servomuster 51 ausgebildet werden sollen, dann kann ein solcher Schritt eingesetzt werden, daß die magnetische Aufnahmeschicht 54 (harte magnetische Schicht) durch Strahlung des Laserstrahls mit hoher Energie gemu stert wird, so daß man Servomusterprofile erhält. Die Strahlung des Laserstrahls und deren Zeitlagen sind gleich den in den Fig. 21A bis 21C gezeigten.

Obwohl die in Fig. 25B gezeigten Servomuster 51 durch Mustern der magnetischen Aufnahmeschicht 54 in den Servo regionen 45 ausgebildet worden sind, wird ein 03468 00070 552 001000280000000200012000285910335700040 0002019651579 00004 03349 Verfahren zum Bilden der Servomuster 51 ohne Mustern der magnetischen Aufnahmeschicht 54 nachfolgend erläutert.

Zuerst wird, wie in Fig. 26A gezeigt ist, das Resist 58 gebildet, so daß es Regionen außer den Servoregionen 45 und den Servomuster bildenden Regionen auf dem Substrat 52 abdeckt. Mit anderen Worten wird das Resist 58 so ausgebil det, daß es Fenster 58d um die Servomuster bildenden Regio nen in den Servoregionen 45 aufweist. Die Fenster 58d in dem Resist 58 sind durch den in Fig. 20 oder Fig. 21 ge zeigten Belichtungsprozeß gebildet. Nacheinander werden die Nuten 72 in dem Substrat 52 durch Ätzen des Substrates 52 bis zu einer Tiefe von 20 nm beispielsweise ausgebildet, unter Verwendung des Resist 58 als Maske. Als Ergebnis dessen wird das in den Nuten 72 innerhalb der Servoregionen 45 abgelagerte harte magnetische Material 71 weit von dem Magnetkopf 50 entfernt gebildet.

Als nächstes wird, wie in Fig. 26B gezeigt ist, nach dem Entfernen des Resist 58 unter Verwendung von Lösungs mittel das harte magnetische Material 71 durch Spritzen ausgebildet, bis es eine Dicke von beispielsweise 20 nm hat. Dann wird, wie in Fig. 26C gezeigt ist, der Schutzfilm 55 auf dem harten magnetischen Material 71 gebildet, und dann wird ein Schmiermittel 70 darauf geschichtet.

Vorausgesetzt, daß das große externe Magnetfeld auf das harte magnetische Material 71 mittels des in Fig. 16A oder Fig. 16B gezeigten Weges aufgebracht wird, werden bei der in Fig. 26C gezeigten Magnetplatte die harten magneti schen Materialien 71 in den weiter entfernt angeordneten Nuten 72 schwächer magnetisiert als andere Regionen; zu sätzlich sind sie von dem magnetischen Wiedergabekopf 50 entfernt angeordnet. Als Ergebnis können die von den Nuten 72 emittierten magnetischen Felder extrem reduziert werden. Infolgedessen wirken in den Servoregionen 45 von den Nuten 72 umgebene konvexe Abschnitte des harten magnetischen Materials 71 als Servomuster 51. Daneben wirken die in den Regionen außerhalb der Servoregionen 45 angeordneten harten magnetischen Schichten 71 als die magnetische Aufnahme schicht 54.

Eine Änderung des Magnetfeldes, welche von den Servo mustern 51 in den Servoregionen 45 der Magnetplatte verur sacht wird, wie in den Fig. 25B und 26C gezeigt ist, und die Servoerfassungssignale sind im wesentlichen gleich den in Fig. 17 gezeigten.

Nebenbei haben die in den Fig. 25B und 26C gezeigten Servomuster 51 wie das dritte und vierte Ausführungsbei spiel lineare oder gekrümmte planare Formen und die Servo muster 51 sind in der gleichen Weise wie in den Fig. 14A oder 19 gezeigt so angeordnet, daß sie eine Vielzahl von Spuren 44 mit einem schrägen Winkel kreuzen.

Claims

1. Magnetisches Aufnahmemedium, umfassend:
eine magnetische Aufnahmeschicht (3, 23) mit einer ersten und einer zweiten Oberfläche und mit Servosignal regionen (B);
eine Vielzahl von harten magnetischen Schichten (5, 25), die direkt auf einer der ersten bzw. zweiten Oberflä che der magnetischen Aufnahmeschicht (3, 23) ausgebildet sind, wobei diese Vielzahl von harten magnetischen Schich ten (5, 25) in der Form von konzentrischen Kreisen und auf den Servosignalregionen (B) angeordnet sind; und
ein nicht magnetisches Substrat (2, 22), welches die zweite Oberfläche der magnetischen Aufnahmeschicht (3, 23) trägt.

2. Magnetisches Aufnahmemedium nach Anspruch 1, bei welchem die Vielzahl harter magnetischer Schichten (5, 25) auf der zweiten Oberfläche der magnetischen Aufnahmeschicht (3, 23) ausgebildet ist, und bei welcher das nicht magneti sche Substrat (2, 22) die zweite Oberfläche der magneti schen Aufnahmeschicht (3, 23) trägt.

3. Magnetisches Aufnahmemedium nach Anspruch 2, ferner umfassend eine Vielzahl von auf dem nicht magnetischen Substrat (3) ausgebildeten konkaven Bereichen (2a), und wobei die Vielzahl von harten magnetischen Schichten (5) in der Vielzahl von konkaven Bereichen (2a) ausgebildet ist.

4. Magnetisches Aufnahmemedium nach Anspruch 2, bei welchem die erste Oberfläche der magnetischen Aufnahme schicht (3, 23) abgeflacht ist.

5. Magnetisches Aufnahmemedium nach Anspruch 2, ferner umfassend eine Vielzahl von auf der zweiten Oberfläche der magnetischen Aufnahmeschicht (23) ausgebildeten Isolier schichten (26), wobei die nicht magnetische Schicht (26) zwischen jeder dieser Vielzahl harter magnetischer Schich ten (25) angeordnet ist.

6. Magnetisches Aufnahmemedium nach Anspruch 1, bei welchem die Vielzahl harter magnetischer Schichten (25) auf der ersten Oberfläche der magnetischen Aufnahmeschicht (23) ausgebildet ist, und bei welcher das nicht magnetische Substrat (22) die zweite Oberfläche der magnetischen Auf nahmeschicht (23) trägt.

7. Magnetisches Aufnahmemedium nach Anspruch 6, ferner umfassend eine auf der ersten Oberfläche der magnetischen Aufnahmeschicht (23) ausgebildete nicht magnetische Schicht (26), wobei die nicht magnetischen Schichten zwischen jeder der Vielzahl harter magnetischer Schichten (25) so angeord net sind, daß sie die oberen Oberflächen der Vielzahl har ter magnetischer Schichten (25) und die nicht magnetische Schicht (26) eben machen.

8. Magnetisches Aufnahmemedium nach Anspruch 1, bei welchem die Dicke der harten magnetischen Schichten (5, 25) gleich dem 2,5-fachen oder Mehrfachen größer als die Dicke der magnetischen Aufnahmeschicht (3, 23) ist.

9. Magnetisches Aufnahmemedium nach Anspruch 1, bei welchem die harten magnetischen Schichten (5, 25) aus einer von der der magnetischen Aufnahmeschicht (3, 23) verschie denen Substanz hergestellt ist.

10. Magnetisches Aufnahmemedium nach Anspruch 1, bei welchem die harten magnetischen Schichten (5, 25) aus einem der Materialien CoCr, CoCrPt, CoCrTa oder CoNiCr herge stellt sind.

11. Magnetisches Aufnahmemedium nach Anspruch 1, fer ner umfassend, daß eine Vielzahl von Spuren auf der magne tischen Aufnahmeschicht (3, 23) entlang der Form konzentri scher Kreise eingerichtet ist, und daß die harten magneti schen Schichten (5, 25) jeweils verschoben sind, so daß sie unterschiedliche Phasen in jeder dieser Spuren aufweisen.

12. Magnetisches Speichergerät, umfassend:
ein magnetisches Aufnahmemedium, umfassend eine magne tische Aufnahmeschicht (3, 23) mit einer ersten und einer zweiten Oberfläche, sowie mit Servosignalregionen (B), eine Vielzahl harter magnetischer Schichten (5, 25), die direkt auf einer der ersten bzw. zweiten Oberfläche der magneti schen Schicht (3, 23) ausgebildet ist, und ein nicht magne tisches Substrat, welches die zweiten Oberflächen der magnetischen Aufnahmeschicht (3, 23) trägt, wobei die Viel zahl harter magnetischer Schichten (5, 25) in der Form von konzentrischen Kreisen und auf den Servosignalregionen (B) angeordnet sind;
einen Magnetkopf (H) zum Aufzeichnen/Wiedergeben magnetischer Signale auf/von der magnetischen Aufnahme schicht (3, 23), und zum Detektieren magnetischer Felder, die von der Vielzahl harter magnetischer Schichten (5, 25) und der magnetischen Aufnahmeschicht (3, 23) erzeugt worden sind, als Spurfolgesignale.

13. Verfahren zum Herstellen eines magnetischen Auf nahmemediums, umfassend die Schritte:
Ausbilden konkaver Bereiche (2a) in Servomuster bil denden Regionen einer ersten nicht magnetischen Schicht (2) unter Verwendung einer Resistmaske (11);
Ausbilden einer Servoschicht (15) aus einer harten magnetischen Substanz innerhalb der konkaven Bereiche (2a) und auf der Resistmaske (11);
Ausbilden von aus der Servoschicht (5) hergestellten Servomustern (5p) in den konkaven Bereichen (2a) durch Abziehen der Resistmaske (11), so daß die Servoschicht (5) in den konkaven Bereichen belassen wird;
Einebnen der oberen Oberflächen der Servomuster (5p); und
Ausbilden einer aus der harten magnetischen Substanz hergestellten magnetischen Aufnahmeschicht (3) auf den Servomustern und der nicht magnetischen Schicht.

14. Verfahren zum Herstellen eines magnetischen Auf nahmemediums, umfassend die Schritte:
Ausbilden konkaver Bereiche (2a) in Servomuster bil denden Regionen in einer nicht magnetischen Schicht (2);
Ausbilden einer aus harter magnetischer Substanz her gestellten Servoschicht (5) auf der nicht magnetischen Schicht (2) und innerhalb der konkaven Bereiche (2);
Schichten eines einebnenden Films (15) in den konkaven Bereichen (2a) und auf der Servoschicht (5);
Zurückätzen des einebnenden Films (15) und der Servo schicht (5) gleichzeitig derart, daß die Servoschicht (5) nur innerhalb der konkaven Bereiche (2a) verbleibt; und
Ausbilden einer aus harter magnetischer Substanz her gestellten magnetischen Aufnahmeschicht (3) auf der nicht magnetischen Schicht (2) und den Servomustern (5p) inner halb der konkaven Bereiche (2a).

15. Verfahren zum Herstellen eines magnetischen Auf nahmemediums, umfassend die Schritte:
Ausbilden einer aus harter magnetischer Substanz her gestellten Servoschicht (16) auf einer ersten nicht magne tischen Schicht (2);
Abdecken von Servomuster bildenden Regionen der Servo schicht (16) durch die Öffnungen aufweisende Maske (17);
Ionenimplantieren nicht magnetischer Elemente in Regionen der Servoschicht (16), welche nicht durch die Maske (17) abgedeckt sind derart, daß diese Regionen in eine zweite nicht magnetische Schicht (16c) umgewandelt werden;
Entfernen der Maske (17); und
Ausbilden einer aus harter magnetischer Substanz her gestellten magnetischen Aufnahmeschicht (3) auf der zweiten nicht magnetischen Schicht (16c) und der Servoschicht (5).

16. Verfahren zum Herstellen eines magnetischen Auf nahmemediums, umfassend die Schritte:
Ausbilden einer harten magnetischen Schicht (31) auf einer nicht magnetischen Schicht (22);
Abdecken von Servomuster bildenden Regionen der harten magnetischen Schicht (3) durch eine Öffnungen aufweisende Maske (32);
Ätzen von Regionen in dieser harten magnetischen Schicht, welche Regionen nicht durch die Maske (32) abge deckt worden sind, so daß eine dünnschichtige harte magne tische Schicht (31) gebildet wird, wobei die dünnschichtige harte magnetische Schicht (31) als magnetische Aufnahme schicht (23) verwendet wird, während die unter der Maske (32) liegenden Regionen der harten magnetischen Schicht (31) als Servomuster (25) verwendet werden;
Ausbilden einer nicht magnetischen Schicht (26) auf der Maske (32) und der magnetischen Aufnahmeschicht (23);
Entfernen der auf der Maske (32) ausgebildeten nicht magnetischen Schicht durch Entfernen dieser Maske (32); und
Einebnen oberer Oberflächen der Servomuster (25) ent weder durch Polieren oder durch Ätzen der Servomuster (25).

17. Verfahren zum Herstellen eines magnetischen Auf nahmemediums, umfassen die Schritte:
Ausbilden einer aus harter magnetischer Substanz her gestellten magnetischen Aufnahmeschicht (23) auf einer nicht magnetischen Schicht (22);
Ausbilden einer aus harter magnetischer Substanz her gestellten Servoschicht (33) auf der magnetischen Aufnahme schicht (23);
Abdecken von Servomuster bildenden Regionen der Servo schicht (33) durch eine Öffnungen aufweisende Maske (34); und
Ionenimplantieren nicht magnetischer Elemente in Regionen der Servoschicht (34), welche Region nicht durch die Maske (34) abgedeckt worden ist, um diese Regionen in eine nicht magnetische Schicht (33a) umzuwandeln.

18. Magnetisches Aufnahmemedium, umfassend:
ein Substrat (52);
eine magnetische Aufnahmeschicht (54), welche auf dem Substrat (52) ausgebildet und zu einer Vielzahl von Spuren (44) eingerichtet ist; und
lineare oder gekrümmte Spurfolge-Servomuster (51), welche die Vielzahl von Spuren (44) in einem schrägen Win kel kreuzen.

19. Magnetisches Aufnahmemedium nach Anspruch 18, bei welchem die Spurfolge-Servomuster (51) so sind, daß sie in Übereinstimmung mit einer Änderung der Dicke von magneti schen Schichten einschließlich der magnetischen Aufnahme schicht (54) erscheinen, die auf dem Substrat (52) ausge bildet sind.

20. Magnetisches Aufnahmemedium nach Anspruch 18, bei welchem die Spurfolge-Servomuster (51) so sind, daß sie durch, partielles Teilen der magnetischen Aufnahmeschicht (54) ausgebildet sind.

21. Magnetisches Aufnahmemedium nach Anspruch 18, bei welchem die Spurfolge-Servomuster (51) so sind, daß sie in Übereinstimmung mit einer Änderung der Unebenheit erschei nen, welche partiell auf der magnetischen Aufnahmeschicht (54) ausgebildet ist.

22. Magnetisches Aufnahmemedium nach Anspruch 18, bei welchem die Spurfolge-Servomuster (51) in vielfältiger Anzahl angeordnet sind derart, daß sich die Phase eines Spursignals entsprechend der Differenz von Positionen in einer Spurbreitenrichtung in der Vielzahl von Spuren (44) sich ändert.

23. Magnetisches Aufnahmemedium nach Anspruch 22, bei welchem die Spurfolge-Servomuster (51) so sind, daß sie in Übereinstimmung mit einer Änderung der Dicke von auf dem Substrat (52) ausgebildeten Magnetschichten (51a, 54) er scheinen.

24. Magnetisches Aufnahmemedium nach Anspruch 22, bei welchem die Spurfolge-Servomuster (51) so sind, daß sie durch partielles Teilen der magnetischen Aufnahmeschicht (54) ausgebildet sind.

25. Magnetisches Aufnahmemedium nach Anspruch 22, bei welchem die Spurfolge-Servomuster (51) so sind, daß sie in Übereinstimmung mit einer Änderung der Unebenheit erschei nen, welche partiell auf der magnetischen Aufnahmeschicht (54) ausgebildet ist.

26. Magnetisches Aufnahmegerät, umfassend:
eine magnetische Aufnahmeschicht (54), welche auf einem nicht magnetischen Substrat (52) ausgebildet ist und zu einer Vielzahl von Spuren (44) eingerichtet ist;
ein magnetisches Aufnahmemedium (42) mit linearen oder gekrümmten Spurfolge-Servomustern (51), welche die Vielzahl von Spuren (44) in einem schrägen Winkel kreuzen;
Mittel (43) zum Antreiben des magnetischen Aufnahmeme diums (41);
einen Magnetkopf (46), welcher über dem magnetischen Aufnahmemedium (42) angeordnet ist;
einen Arm (47) zum Halten des Magnetkopfes (46); und
Mittel (48, 49) zum Bewegen des Armes (47).

27. Verfahren zum Herstellen eines magnetischen Auf nahmemediums, umfassend die Schritte:
Beschichten eines Substrates (52) oder einer auf die sem Substrat (52) ausgebildeten nicht magnetischen Schicht (53) mit einem Resist (58);
Belichten des Resistes (58) so, daß Latentbilder von linearen oder gekrümmten Servomustern ausgebildet werden, welche Regionen, in denen eine Vielzahl von Spuren anzuord nen ist, in einem schrägen Winkel kreuzen;
Entwickeln des Resistes (18) so, daß Öffnungen (58a, 58b) in Bereichen ausgebildet werden, in denen die Latent bilder der Servomuster (51) ausgebildet sind, oder in peri pheren Bereichen dieser Latentbilder der Servomuster (51); und
Ätzen des Substrates (52) oder der nicht magnetischen Schicht (53) über diese Öffnungen (58a, 58b) derart, daß Nuten (58, 58) ausgebildet werden, wodurch Formen von Ser vomustern (51) auf dem Substrat (52) oder der nicht magne tischen Schicht (53) ausgebildet werden.

28. Verfahren zum Herstellen eines magnetischen Auf nahmemediums nach Anspruch 27, bei welchem der Schritt des Belichtens des Resistes (58) aufgeteilt wird, so daß er zu mehreren Zeiten ausgeführt wird, während sich das Substrat schrittweise oder kontinuierlich dreht.

29. Verfahren zum Herstellen eines magnetischen Auf nahmemediums nach Anspruch 28, bei welchem der Belichtungs schritt durch Verwendung einer Belichtungsmaske (61) dann, wenn die schrittweise Drehung des Substrates (52) gestoppt wird, ausgeführt wird.

30. Verfahren zum Herstellen eines magnetischen Auf nahmemediums nach Anspruch 29, bei welchem die Ausrichtung der Belichtungsmaske (61) bei jeder Haltezeit zwischen schrittweisen Drehungen des Substrates (52) ausgeführt wird.

31. Verfahren zum Herstellen eines magnetischen Auf nahmemediums nach Anspruch 27, bei welchem der Belichtungs schritt ausgeführt wird, während das Resist (58) mit einem Laserstrahl gescannt wird.

32. Verfahren zum Herstellen eines magnetischen Auf nahmemediums, umfassend die Schritte:
Beschichten einer Oberfläche einer magnetischen Schicht, welche auf dem Substrat (52) ausgebildet ist und eine Vielzahl von Spurregionen hat, mit einem Resist;
Ausbilden von Latentbildern von linearen oder gekrümm ten Servomustern (51), welche die Vielzahl von Spurregionen mit einem schrägen Winkel kreuzen, auf dem Resist (58) zum Zwecke einer Belichtung;
Entwickeln des Resistes, so, daß die Latentbilder der linearen oder gekrümmten Servomuster (51) umgebende Öffnun gen ausgebildet werden; und
Ausbilden von Nuten (54a) durch Ätzen der magnetischen Schicht (54) über diese Öffnungen (58c) derart, daß die von den Nuten umgebene Magnetschicht als Servomuster (51) ver wendet wird.

33. Verfahren zum Herstellen eines magnetischen Auf nahmemediums nach Anspruch 32, bei welchem der Schritt des Belichtens des Resistes (58) aufgeteilt wird, so daß er zu mehreren Zeiten ausgeführt wird, während das Substrat sich schrittweise oder kontinuierlich dreht.

34. Verfahren zum Herstellen eines magnetischen Auf nahmemediums nach Anspruch 33, bei welchem der Belichtungs schritt durch Verwendung einer Belichtungsmaske (61) zu der Zeit ausgeführt wird, zu der die schrittweise Drehung des Substrates gestoppt wird.

35. Verfahren zum Herstellen eines magnetischen Auf nahmemediums nach Anspruch 34, bei welchem eine Ausrichtung der Belichtungsmaske (61) zu jeder Haltezeit zwischen schrittweisen Drehungen des Substrates (52) ausgeführt wird.

36. Verfahren zum Herstellen eines magnetischen Auf nahmemediums nach Anspruch 32, bei welchem der Belichtungs schritt ausgeführt wird, während das Resist (61) mit einem Laserstrahl gescannt wird.

37. Verfahren zum Herstellen eines magnetischen Auf nahmemediums, umfassend die Schritte:
Ausbilden einer magnetischen Schicht (54) auf einem Substrat (52); und
Ätzen der magnetischen Schicht (54) durch Bestrahlen mit einem Laserstrahl, um lineare oder gekrümmte Servomu ster (51) auszubilden, welche Regionen in einem schrägen Winkel kreuzen, die in eine Vielzahl von Spuren (44) aufge teilt sind.