JPH06180840A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH06180840A JPH06180840A JP33161892A JP33161892A JPH06180840A JP H06180840 A JPH06180840 A JP H06180840A JP 33161892 A JP33161892 A JP 33161892A JP 33161892 A JP33161892 A JP 33161892A JP H06180840 A JPH06180840 A JP H06180840A
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- magnetic
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Abstract
(57)【要約】
【目的】光を利用したヘッド位置決め用パターン層をも
つ磁気ディスクにおいて、ヘッドと磁気記録層の間隔を
小さくして記録密度を向上する。 【構成】磁気記録媒体の磁気記録層３下部に入射光の反
射率の異なる非磁性層５及び６で形成された光サーボパ
ターン等の光情報記録層を形成する。 【効果】磁気記録層上部のに形成される層を薄くでき、
磁気ヘッドと磁気記録層とのスペースが低減できるた
め、磁気記録密度が向上する。
つ磁気ディスクにおいて、ヘッドと磁気記録層の間隔を
小さくして記録密度を向上する。 【構成】磁気記録媒体の磁気記録層３下部に入射光の反
射率の異なる非磁性層５及び６で形成された光サーボパ
ターン等の光情報記録層を形成する。 【効果】磁気記録層上部のに形成される層を薄くでき、
磁気ヘッドと磁気記録層とのスペースが低減できるた
め、磁気記録密度が向上する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体、更に詳
しく言えば、例えば、光を用いたヘッドの位置決め用の
光パターン等の光情報記録層も含む磁気記録媒体に関
し、特に、コンピューター用、オーディオ用、ビデオ用
等の高密度記録に適した磁気記録媒体に関する。
しく言えば、例えば、光を用いたヘッドの位置決め用の
光パターン等の光情報記録層も含む磁気記録媒体に関
し、特に、コンピューター用、オーディオ用、ビデオ用
等の高密度記録に適した磁気記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、情報社会の発展とともに、大量の
情報を高密度に記録しておきたいという社会的要求があ
り、磁気ディスク装置でも、情報の高密度記録化が望ま
れている。磁気ディスク装置で高密度記録化、すなわ
ち、面記録密度を向上させるためには、トラック幅、ト
ラック間距離を縮め、トラック記録密度を増大させる必
要がある。この場合、トラック間隔が縮まるため、情報
を読み書きするヘッドは従来よりも高精度に位置決めを
行う必要が生じ、高感度、高精度のヘッド位置検出技術
が必要となる。この位置検出の一手段として、磁気記録
媒体の磁気記録層上部に光反射率の変化をもたらす光サ
ーボパターンを記録したサーボトラック層を形成し、ス
ライダー上に搭載したレーザー光検出機を用いて、この
光反射率の差を利用したサーボパターンを検出すること
によりヘッドの位置検出をする技術が知られている（特
許出願公告公報 特公昭６４―９６６７号）。
情報を高密度に記録しておきたいという社会的要求があ
り、磁気ディスク装置でも、情報の高密度記録化が望ま
れている。磁気ディスク装置で高密度記録化、すなわ
ち、面記録密度を向上させるためには、トラック幅、ト
ラック間距離を縮め、トラック記録密度を増大させる必
要がある。この場合、トラック間隔が縮まるため、情報
を読み書きするヘッドは従来よりも高精度に位置決めを
行う必要が生じ、高感度、高精度のヘッド位置検出技術
が必要となる。この位置検出の一手段として、磁気記録
媒体の磁気記録層上部に光反射率の変化をもたらす光サ
ーボパターンを記録したサーボトラック層を形成し、ス
ライダー上に搭載したレーザー光検出機を用いて、この
光反射率の差を利用したサーボパターンを検出すること
によりヘッドの位置検出をする技術が知られている（特
許出願公告公報 特公昭６４―９６６７号）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】磁気記録においては、
高密度記録を実現するためには、線記録密度を増大させ
ればよい。線記録密度を増大させるためには、１ビット
あたりのビット長が短くなるため、ビットの書き込み、
読みだし時におけるヘッドの空間分解能を上げる必要が
あり、磁気記録媒体の磁気記録層と磁気ヘッドとの実効
的なスペースを低減する必要がある。これに対し、上述
の従来の光位置決め用サーボトラック層、すなわち光情
報記録層をもつ磁気記録媒体では、光情報記録層が磁気
記録層上に形成されているため、光情報記録層の分だけ
磁気ヘッドと磁気記録層との距離が広がる。
高密度記録を実現するためには、線記録密度を増大させ
ればよい。線記録密度を増大させるためには、１ビット
あたりのビット長が短くなるため、ビットの書き込み、
読みだし時におけるヘッドの空間分解能を上げる必要が
あり、磁気記録媒体の磁気記録層と磁気ヘッドとの実効
的なスペースを低減する必要がある。これに対し、上述
の従来の光位置決め用サーボトラック層、すなわち光情
報記録層をもつ磁気記録媒体では、光情報記録層が磁気
記録層上に形成されているため、光情報記録層の分だけ
磁気ヘッドと磁気記録層との距離が広がる。
【０００４】一般に、光の吸収係数をａ、膜厚をｄとす
ると、透過率はｅｘｐ（−ａ・ｄ）に比例することか
ら、膜厚が薄いほど透過光が増大し、その分、反射光が
減少する。従って、光パターン記録層の膜厚を薄くして
も、反射光が減少するため、位置検出に十分な反射率の
変化を得ることが不可能である。本発明の目的は、光位
置決め用サーボトラック等の光情報記録層の十分な反射
率の変化を得ると同時に磁気ヘッドと磁気記録媒体の磁
気記録層との間の実効的なスペースを低減する磁気記録
媒体を実現することである。
ると、透過率はｅｘｐ（−ａ・ｄ）に比例することか
ら、膜厚が薄いほど透過光が増大し、その分、反射光が
減少する。従って、光パターン記録層の膜厚を薄くして
も、反射光が減少するため、位置検出に十分な反射率の
変化を得ることが不可能である。本発明の目的は、光位
置決め用サーボトラック等の光情報記録層の十分な反射
率の変化を得ると同時に磁気ヘッドと磁気記録媒体の磁
気記録層との間の実効的なスペースを低減する磁気記録
媒体を実現することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の磁気記録媒体は、光情報記録層を磁気記録
層の内部又は磁気記録層の下部に形成した。上記磁気記
録層の内部に光情報記録層を形成する形態としては、上
記磁気記録層が複数の磁気記録層で構成される場合は、
複数の磁気記録層の間に光情報記録層を配置する場合、
複数の磁気記録層の一部が光情報記録層と兼用される場
合がある。上記光情報記録層は、光反射率の異なる材料
を平面的に特定のパターンを形成する場合が主である
が、これに限定されない。
め、本発明の磁気記録媒体は、光情報記録層を磁気記録
層の内部又は磁気記録層の下部に形成した。上記磁気記
録層の内部に光情報記録層を形成する形態としては、上
記磁気記録層が複数の磁気記録層で構成される場合は、
複数の磁気記録層の間に光情報記録層を配置する場合、
複数の磁気記録層の一部が光情報記録層と兼用される場
合がある。上記光情報記録層は、光反射率の異なる材料
を平面的に特定のパターンを形成する場合が主である
が、これに限定されない。
【０００６】
【作用】光情報記録層を磁気記録層の内部又は磁気記録
層の下部に形成するので、磁気記録層の上部に形成され
る層は保護層のみとなるので、磁気ヘッドと磁気記録層
とのスペースを少なくすることがでる。光情報記録層上
部の磁気記録層は２０nm程度では、光の減衰は光情報記
の検出には支障とならない程度となるため、磁気記録層
の下の光情報記録層からの光情報検出ができる。
層の下部に形成するので、磁気記録層の上部に形成され
る層は保護層のみとなるので、磁気ヘッドと磁気記録層
とのスペースを少なくすることがでる。光情報記録層上
部の磁気記録層は２０nm程度では、光の減衰は光情報記
の検出には支障とならない程度となるため、磁気記録層
の下の光情報記録層からの光情報検出ができる。
【０００７】
＜実施例１＞図１は、本発明による磁気記録媒体の一実
施例の断面構造図である。図示のように、磁気記録媒体
はＮｉＰメッキ製アルミ円板、強化ガラス円板に代表さ
れる一般的な磁気ディスク用基板１上に下地層２、光反
射用非磁性層５、６、磁気記録層３及び保護層４を順次
積層した構造をもつ。光反射用非磁性層５及び６は光反
射率が磁気記録層３に対し高い物質で構成され、磁気記
録層３を透過した光が非磁性層５、６により反射された
とき、両者の形状により光サーボパターンを形成され、
反射率の差により生じる磁気記録層３表面での反射光強
度の相違を利用して磁気ヘッドに近接して配置された光
位置検出機によって磁気ヘッドの位置検出を行う。ま
た、非磁性層５及び６の一方に光反射率が高い物質を、
他方に光吸収率の高い物質を選ぶことにより磁気記録層
３表面での反射率を変化させても良い。あるいは、単体
での光吸収率が反射率に比べて高い物質を非磁性層５、
６として用い、両者の吸収率の差により生じる磁気記録
層３表面での反射率の相違を利用して、光情報記録層を
形成してもよい。
施例の断面構造図である。図示のように、磁気記録媒体
はＮｉＰメッキ製アルミ円板、強化ガラス円板に代表さ
れる一般的な磁気ディスク用基板１上に下地層２、光反
射用非磁性層５、６、磁気記録層３及び保護層４を順次
積層した構造をもつ。光反射用非磁性層５及び６は光反
射率が磁気記録層３に対し高い物質で構成され、磁気記
録層３を透過した光が非磁性層５、６により反射された
とき、両者の形状により光サーボパターンを形成され、
反射率の差により生じる磁気記録層３表面での反射光強
度の相違を利用して磁気ヘッドに近接して配置された光
位置検出機によって磁気ヘッドの位置検出を行う。ま
た、非磁性層５及び６の一方に光反射率が高い物質を、
他方に光吸収率の高い物質を選ぶことにより磁気記録層
３表面での反射率を変化させても良い。あるいは、単体
での光吸収率が反射率に比べて高い物質を非磁性層５、
６として用い、両者の吸収率の差により生じる磁気記録
層３表面での反射率の相違を利用して、光情報記録層を
形成してもよい。
【０００８】非磁性層５、６はＡｇ、Ａｌ、Ａｕ、Ｃ
ｒ、Ｃｕ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｚｎ等の金属単体、あるいは、
これらの元素を少なくとも一種類以上含む合金、Ｂ、Ｃ
等の単体物質、これらの元素を含む化合物又は入射光の
エネルギーに相当するようなエネルギーのバンドギャッ
プを有する物質からなる。非磁性層５が形成されている
領域の磁気記録層３表面での入射光に対する第１の反射
率と、非磁性層６が形成されている領域の磁気記録層３
表面での入射光に対する第２の反射率とが異なるように
する。特に、第１及び第２の反射率の差が５０％以上あ
ると位置検出の感度が向上する。
ｒ、Ｃｕ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｚｎ等の金属単体、あるいは、
これらの元素を少なくとも一種類以上含む合金、Ｂ、Ｃ
等の単体物質、これらの元素を含む化合物又は入射光の
エネルギーに相当するようなエネルギーのバンドギャッ
プを有する物質からなる。非磁性層５が形成されている
領域の磁気記録層３表面での入射光に対する第１の反射
率と、非磁性層６が形成されている領域の磁気記録層３
表面での入射光に対する第２の反射率とが異なるように
する。特に、第１及び第２の反射率の差が５０％以上あ
ると位置検出の感度が向上する。
【０００９】下地層２は、Ａｌ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｍ
ｎ、Ｍｏ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｗ、Ｚｎ、Ｚ
ｒ等の単体又はこれらの元素を少なくとも一種類以上含
む合金からなり、下地層２の構造は、前記物質の単層膜
に加え、これらの物質を２層以上積層した多層構造膜で
もよい。また、下地層２を設けず、直接、基板１上に非
磁性層５、６を形成してもよい。磁気記録層３は、Ｃ
ｏ、Ｆｅ、Ｎｉのうち少なくとも一種類の元素を含む磁
性合金からなり、磁性膜の単層膜、磁性膜を２層以上積
層した多層構造膜又は磁性膜と非磁性膜を交互に積層し
た構造の膜である。保護層４には、Ｂ、Ｃ、Ｓｉの単層
膜、あるいは、これらの元素のうち少なくとも一種類以
上を含む化合物で構成される。
ｎ、Ｍｏ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｗ、Ｚｎ、Ｚ
ｒ等の単体又はこれらの元素を少なくとも一種類以上含
む合金からなり、下地層２の構造は、前記物質の単層膜
に加え、これらの物質を２層以上積層した多層構造膜で
もよい。また、下地層２を設けず、直接、基板１上に非
磁性層５、６を形成してもよい。磁気記録層３は、Ｃ
ｏ、Ｆｅ、Ｎｉのうち少なくとも一種類の元素を含む磁
性合金からなり、磁性膜の単層膜、磁性膜を２層以上積
層した多層構造膜又は磁性膜と非磁性膜を交互に積層し
た構造の膜である。保護層４には、Ｂ、Ｃ、Ｓｉの単層
膜、あるいは、これらの元素のうち少なくとも一種類以
上を含む化合物で構成される。
【００１０】上記の試料薄膜は、スパッタリング法、蒸
着法、ＣＶＤ法、イオンビームスパッタリング法等の一
般的な薄膜成膜法で形成する。また、非磁性層５、６の
形成は、下地層２の上部に非磁性層５を成膜し、その上
部にフォトレジスト法を用いてサーボ・パターンを転
写、イオンミリング法を用いてパターン部以外を削除し
た後、非磁性層６を形成し、最後に非磁性層５、６の表
面を平滑化する。
着法、ＣＶＤ法、イオンビームスパッタリング法等の一
般的な薄膜成膜法で形成する。また、非磁性層５、６の
形成は、下地層２の上部に非磁性層５を成膜し、その上
部にフォトレジスト法を用いてサーボ・パターンを転
写、イオンミリング法を用いてパターン部以外を削除し
た後、非磁性層６を形成し、最後に非磁性層５、６の表
面を平滑化する。
【００１１】図４及び図５は、上記磁気記録媒体を用い
た磁気ディスクにおける上記光情報層の平面図である。
本実施例の光情報層は光サーボトラックの光パターンを
構成したものである。非磁性層５及び６が磁気ディスク
の中心から一定の周期条件を満足する半径を有する同心
状かつ円周方向に連続的なパターンが形成されたもので
ある。また、図５の光パターン記録層は、非磁性層５及
び６の一方が磁気ディスクの中心から一定の周期条件を
満足する半径を有する同心状かつ円周方向に非連続的な
パターンで形成されたものである。図面は模式的に示し
たもので、実際には、半径方向に更に多数のストライプ
が形成される。
た磁気ディスクにおける上記光情報層の平面図である。
本実施例の光情報層は光サーボトラックの光パターンを
構成したものである。非磁性層５及び６が磁気ディスク
の中心から一定の周期条件を満足する半径を有する同心
状かつ円周方向に連続的なパターンが形成されたもので
ある。また、図５の光パターン記録層は、非磁性層５及
び６の一方が磁気ディスクの中心から一定の周期条件を
満足する半径を有する同心状かつ円周方向に非連続的な
パターンで形成されたものである。図面は模式的に示し
たもので、実際には、半径方向に更に多数のストライプ
が形成される。
【００１２】図１の磁気記録媒の具体的実施例として、
強化ガラス製の基板１上に、下地層２としてＣｒ単層膜
（膜厚：２００ｎｍ）、光反射用非磁性層５としてＡｇ
膜（膜厚：５０ｎｍ）、非磁性層６としてＣ膜（膜厚：
５０ｎｍ）、磁気記録層３としてＣｏ−５ａｔ％Ｃｒ−
２０ａｔ％Ｐｔ単層膜（膜厚：１５ｎｍ）、保護層４と
してＣ膜（膜厚：１０ｎｍ）をスパッタリング法で成膜
した。この試料について、Ａｇ膜を積層した部分とＣ膜
を積層した部分の媒体表面での光反射率を測定すると、
波長６８０ｎｍに対してＡｇ膜を積層した領域では反射
率が０．８０、Ｃ膜を積層した領域では０．３となり、
この反射率の差を利用して位置検出信号が得られた。ま
た、このときの磁気ヘッドの保護膜４からの浮上量は５
０ｎｍ、磁気記録層と磁気ヘッドとの実効的距離は６０
ｎｍであり、線記録密度が３０％向上した。
強化ガラス製の基板１上に、下地層２としてＣｒ単層膜
（膜厚：２００ｎｍ）、光反射用非磁性層５としてＡｇ
膜（膜厚：５０ｎｍ）、非磁性層６としてＣ膜（膜厚：
５０ｎｍ）、磁気記録層３としてＣｏ−５ａｔ％Ｃｒ−
２０ａｔ％Ｐｔ単層膜（膜厚：１５ｎｍ）、保護層４と
してＣ膜（膜厚：１０ｎｍ）をスパッタリング法で成膜
した。この試料について、Ａｇ膜を積層した部分とＣ膜
を積層した部分の媒体表面での光反射率を測定すると、
波長６８０ｎｍに対してＡｇ膜を積層した領域では反射
率が０．８０、Ｃ膜を積層した領域では０．３となり、
この反射率の差を利用して位置検出信号が得られた。ま
た、このときの磁気ヘッドの保護膜４からの浮上量は５
０ｎｍ、磁気記録層と磁気ヘッドとの実効的距離は６０
ｎｍであり、線記録密度が３０％向上した。
【００１３】＜実施例２＞図２は、本発明による磁気記
録媒体の他の実施例の断面構造図である。図示のよう
に、本磁気記録媒体は、ＮｉＰメッキ製アルミ円板、強
化ガラス円板に代表される一般的な磁気ディスク用基板
１上に下地層２、磁気記録層７、光反射用非磁性層５、
６、磁気記録層３及び保護層４を順次積層した構造の媒
体である。磁気記録層３、７は、磁性層間を非磁性層で
分離した構造をもつ磁気記録層のうち、磁気記録層最表
面側の磁性層を磁気記録層３、非磁性層を挟んで下部側
の磁性層を磁気記録層７としており、この両者を分離す
る非磁性層を光反射用非磁性層５、６で構成している。
磁気記録層３、７の各構成元素、各層内の構造は、実施
例１の磁気記録層３と同様である。また、下地層２、保
護層４、光反射用非磁性層５、６の各構成元素、各層内
構造も、実施例１と同様である。
録媒体の他の実施例の断面構造図である。図示のよう
に、本磁気記録媒体は、ＮｉＰメッキ製アルミ円板、強
化ガラス円板に代表される一般的な磁気ディスク用基板
１上に下地層２、磁気記録層７、光反射用非磁性層５、
６、磁気記録層３及び保護層４を順次積層した構造の媒
体である。磁気記録層３、７は、磁性層間を非磁性層で
分離した構造をもつ磁気記録層のうち、磁気記録層最表
面側の磁性層を磁気記録層３、非磁性層を挟んで下部側
の磁性層を磁気記録層７としており、この両者を分離す
る非磁性層を光反射用非磁性層５、６で構成している。
磁気記録層３、７の各構成元素、各層内の構造は、実施
例１の磁気記録層３と同様である。また、下地層２、保
護層４、光反射用非磁性層５、６の各構成元素、各層内
構造も、実施例１と同様である。
【００１４】図２の構造の具体的実施例として、強化ガ
ラス製の基板１上に、下地層２としてＣｒ単層膜（膜
厚：２００ｎｍ）、磁気記録層３としてＣｏ−５ａｔ％
Ｃｒ−２０ａｔ％Ｐｔ単層膜（膜厚：１０ｎｍ）、磁気
記録層７としてＣｏ−５ａｔ％Ｃｒ−２０ａｔ％Ｐｔ単
層膜（膜厚：２０ｎｍ）、光反射用非磁性層５としてＡ
ｇ膜（膜厚：１０ｎｍ）、光反射用非磁性層６としてＣ
膜（膜厚：１０ｎｍ）、保護層４としてＣ膜（膜厚：１
０ｎｍ）をスパッタリング法で成膜した。この試料につ
いて、Ａｇ膜を積層した部分とＣ膜を積層した部分の媒
体表面での光反射率を測定すると、波長６８０ｎｍに対
してＡｇ膜を積層した領域では反射率が０．８５、Ｃ膜
を積層した領域では０．４５となり、この反射率の差を
利用して位置検出信号が得られた。また、このときのヘ
ッドの保護膜４からの浮上量は５０ｎｍ、磁気記録層と
ヘッドとの実効的距離は６０ｎｍであり、線記録密度が
１５％向上した。
ラス製の基板１上に、下地層２としてＣｒ単層膜（膜
厚：２００ｎｍ）、磁気記録層３としてＣｏ−５ａｔ％
Ｃｒ−２０ａｔ％Ｐｔ単層膜（膜厚：１０ｎｍ）、磁気
記録層７としてＣｏ−５ａｔ％Ｃｒ−２０ａｔ％Ｐｔ単
層膜（膜厚：２０ｎｍ）、光反射用非磁性層５としてＡ
ｇ膜（膜厚：１０ｎｍ）、光反射用非磁性層６としてＣ
膜（膜厚：１０ｎｍ）、保護層４としてＣ膜（膜厚：１
０ｎｍ）をスパッタリング法で成膜した。この試料につ
いて、Ａｇ膜を積層した部分とＣ膜を積層した部分の媒
体表面での光反射率を測定すると、波長６８０ｎｍに対
してＡｇ膜を積層した領域では反射率が０．８５、Ｃ膜
を積層した領域では０．４５となり、この反射率の差を
利用して位置検出信号が得られた。また、このときのヘ
ッドの保護膜４からの浮上量は５０ｎｍ、磁気記録層と
ヘッドとの実効的距離は６０ｎｍであり、線記録密度が
１５％向上した。
【００１５】＜実施例３＞図３は本発明による磁気記録
媒体の更に他の一実施例の断面構造図である。図示のよ
うに、本磁気記録媒体は、ＮｉＰメッキ製アルミ円板、
強化ガラス円板に代表される一般的な磁気ディスク用基
板１上に下地層２、磁気記録層３、光反射用磁性層８、
９及び保護層４を順次積層した構造の媒体である。この
うち、磁気記録層３、８、９は、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｎｉのう
ち少なくとも一種類の元素を含む磁性合金又は化合物か
らなり、単層膜又は磁性膜を２層以上積層した多層構造
膜、あるいは、磁性膜と非磁性膜を交互に積層した構造
の膜である。磁気記録層８、９は、元素構成、あるい
は、層内の構造が異なることにより、磁気記録層８及び
９表面での反射率に差が生じている。磁気記録層３は、
磁気記録層８又は９の一方と同一の構成を有してもよ
く、あるいは、磁性層３を形成することなしに下地層２
上に直接磁性層８、９を形成してもよい。また、下地層
２、保護層４の構成元素、層構造は、実施例１と同様で
ある。
媒体の更に他の一実施例の断面構造図である。図示のよ
うに、本磁気記録媒体は、ＮｉＰメッキ製アルミ円板、
強化ガラス円板に代表される一般的な磁気ディスク用基
板１上に下地層２、磁気記録層３、光反射用磁性層８、
９及び保護層４を順次積層した構造の媒体である。この
うち、磁気記録層３、８、９は、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｎｉのう
ち少なくとも一種類の元素を含む磁性合金又は化合物か
らなり、単層膜又は磁性膜を２層以上積層した多層構造
膜、あるいは、磁性膜と非磁性膜を交互に積層した構造
の膜である。磁気記録層８、９は、元素構成、あるい
は、層内の構造が異なることにより、磁気記録層８及び
９表面での反射率に差が生じている。磁気記録層３は、
磁気記録層８又は９の一方と同一の構成を有してもよ
く、あるいは、磁性層３を形成することなしに下地層２
上に直接磁性層８、９を形成してもよい。また、下地層
２、保護層４の構成元素、層構造は、実施例１と同様で
ある。
【００１６】図２の構造の具体的実施例として、強化ガ
ラス製の基板１上に、下地層２としてＣｒ単層膜（膜
厚：２００ｎｍ）、磁気記録層３、８としてＣｏ−５ａ
ｔ％Ｃｒ−２０ａｔ％Ｐｔ単層膜（膜厚：１５ｎｍ）、
光反射用磁性層としてＦｅ３Ｏ４単層膜（膜厚：１５ｎ
ｍ）、保護層４としてＣ単層膜（膜厚：１０ｎｍ）をス
パッタリング法で成膜した。この試料について、磁性層
８を積層した部分と磁性層９を積層した部分の媒体表面
での光反射率を測定すると、波長６８０ｎｍに対して前
者では反射率が０．８５、後者では０．３５となり、こ
の反射率の差を利用して位置検出信号が得られた。ま
た、このときのヘッドの保護膜４からの浮上量は５０ｎ
ｍ、磁気記録層とヘッドとの実効的距離は６０ｎｍであ
り、線記録密度が１５％向上した。
ラス製の基板１上に、下地層２としてＣｒ単層膜（膜
厚：２００ｎｍ）、磁気記録層３、８としてＣｏ−５ａ
ｔ％Ｃｒ−２０ａｔ％Ｐｔ単層膜（膜厚：１５ｎｍ）、
光反射用磁性層としてＦｅ３Ｏ４単層膜（膜厚：１５ｎ
ｍ）、保護層４としてＣ単層膜（膜厚：１０ｎｍ）をス
パッタリング法で成膜した。この試料について、磁性層
８を積層した部分と磁性層９を積層した部分の媒体表面
での光反射率を測定すると、波長６８０ｎｍに対して前
者では反射率が０．８５、後者では０．３５となり、こ
の反射率の差を利用して位置検出信号が得られた。ま
た、このときのヘッドの保護膜４からの浮上量は５０ｎ
ｍ、磁気記録層とヘッドとの実効的距離は６０ｎｍであ
り、線記録密度が１５％向上した。
【００１７】
【発明の効果】本発明よれば、光情報記録層を磁気記録
層内又は磁気記録層より下部層に形成することより、磁
気記録層上部の非磁性層の膜厚を薄くすることができ、
磁気記録層とヘッドとの実効的なスペースを低減するこ
とができ、磁気記録密度を向上することができる。な
お、実施例では光情報記録層として光反射層５、６が光
位置決め機構用のサーボパターン層の実施例について述
べたが、上記実施例に限定されるものではなく、他の情
報、例えば、アドレス情報等の情報記録層としても使用
できる。
層内又は磁気記録層より下部層に形成することより、磁
気記録層上部の非磁性層の膜厚を薄くすることができ、
磁気記録層とヘッドとの実効的なスペースを低減するこ
とができ、磁気記録密度を向上することができる。な
お、実施例では光情報記録層として光反射層５、６が光
位置決め機構用のサーボパターン層の実施例について述
べたが、上記実施例に限定されるものではなく、他の情
報、例えば、アドレス情報等の情報記録層としても使用
できる。
【図１】本発明による磁気記録媒体の一実施例の断面構
造図
造図
【図２】本発明による磁気記録媒体の他の実施例の断面
構造図
構造図
【図３】本発明による磁気記録媒体の更に他の実施例の
断面構造図
断面構造図
【図４】本発明による磁気ディスクにおけるサーボパタ
ーン層の平面図
ーン層の平面図
【図５】本発明による磁気ディスクにおけるサーボパタ
ーン層の平面図
ーン層の平面図
１…基板 ２…下地層 ３…磁気記録層 ４…保護層 ５…光反射用非磁性層 ６…光反射用非磁性層 ７…磁気記録層 ８…光反射用磁性層 ９…光反射用磁性層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松田 好文 東京都国分寺市東恋ケ窪１丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 鈴木 幹夫 東京都国分寺市東恋ケ窪１丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 二本 正昭 東京都国分寺市東恋ケ窪１丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内
Claims (6)
- 【請求項１】磁気記録層及び光情報記録層をもつ記録媒
体において、上記光情報記録層が磁気記録層よりも下部
に形成されたことを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】磁気記録層及び光情報記録層をもつ記録媒
体において、上記磁気記録層が複数の磁気記録層から構
成され、上記光情報記録層が上記複数の磁気記録層の間
に積層されて形成されたことを特徴とする磁気記録媒
体。 - 【請求項３】磁気記録層及び光情報記録層をもつ記録媒
体において、上記磁気記録層が複数の磁気記録層から構
成され、上記光情報記録層が上記複数の磁気記録層の１
つと兼ねて構成されたことを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項４】請求項１、２又は３記載の磁気記録記体に
おいて、上記光情報記録層が光反射率の異なる少なくと
も２種類の材質からなる固定の光パターン層であるであ
ることを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項５】請求項３記載の磁気記録媒体がディスクで
あって、上記光パターン層が光反射率の異なる物質が同
心状かつ連続的又は断続的に形成されたことを特徴とす
る磁気記録媒体。 - 【請求項６】請求項４は５記載の磁気記録記体におい
て、上記光パターン層がサーボトラックを構成すること
を特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33161892A JPH06180840A (ja) | 1992-12-11 | 1992-12-11 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33161892A JPH06180840A (ja) | 1992-12-11 | 1992-12-11 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06180840A true JPH06180840A (ja) | 1994-06-28 |
Family
ID=18245672
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33161892A Pending JPH06180840A (ja) | 1992-12-11 | 1992-12-11 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06180840A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100241107B1 (ko) * | 1995-12-14 | 2000-02-01 | 아끼구사 나오유끼 | 자기기록매체와 그 제조방법 및 자기기록장치 |
-
1992
- 1992-12-11 JP JP33161892A patent/JPH06180840A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100241107B1 (ko) * | 1995-12-14 | 2000-02-01 | 아끼구사 나오유끼 | 자기기록매체와 그 제조방법 및 자기기록장치 |
| US6055139A (en) * | 1995-12-14 | 2000-04-25 | Fujitsu Limited | Magnetic recording medium and method of forming the same and magnetic disk drive |
| US6324032B1 (en) | 1995-12-14 | 2001-11-27 | Fujitsu Limited | Magnetic recording medium having linear or curved tracking servo patterns formed obliquely relative to direction of tracks, and magnetic recording apparatus using the same |
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