DE112013005738B4 - Elektrophotographisches photosensitives Element, Verfahren zum Herstellen eines elektrophotographischen photosensitiven Elements, Prozesskartusche und elektrophotographischer Apparat - Google Patents

Elektrophotographisches photosensitives Element, Verfahren zum Herstellen eines elektrophotographischen photosensitiven Elements, Prozesskartusche und elektrophotographischer Apparat Download PDF

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Abstract

Elektrophotographisches photosensitives Element, das umfasst:einen Träger;eine Grundierungsschicht, die auf dem Träger gebildet ist; undeine photosensitive Schicht, die auf der Grundierungsschicht gebildet ist,wobei die Grundierungsschicht umfasst:Metalloxidteilchen, deren Oberflächen mit einem Silankupplungsmittel behandelt worden sind;ein Bindmittelharz; undein Metallsalz einer organischen Säure mit zumindest einem Metallelement ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Bismut, Eisen, Nickel und Kupfer.

Description

  • Technisches Gebiet
  • Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein elektrophotographisches photosensitives Element, ein Verfahren zum Herstellen des elektrophotographischen photosensitiven Elements, und eine Prozesskartusche und einen elektrophotographischen Apparat, die jeweils das elektrophotographische photosensitive Element beinhalten.
  • Technischer Hintergrund
  • In einem elektrophotographischen photosensitiven Element, das in einem elektrophotographischen Apparat verwendet wird, ist eine Grundierungsschicht, die Metalloxidteilchen enthält, zwischen einem Träger und einer photosensitiven Schicht angeordnet. Die Metalloxidteilchen sind zum Verhindern von Bilddefekten schwarzer Flecken aufgrund von Ladungsinjektion von dem Träger in die photosensitive Schicht mit einem Silankupplungsmittel oberflächenbehandelt.
  • Kürzlich hat sich der Bedarf nach einer Reduktion der Variation des Lichtpotenzials eines elektrophotographischen photosensitiven Elements bei wiederholter Verwendung mehr als je zuvor im Zusammenhang mit der Geschwindigkeitssteigerung (Beschleunigung der Prozessgeschwindigkeit) elektrophotographischer Apparate erhöht. Insbesondere ist in einer Grundierungsschicht, die die oberflächenbehandelten Metalloxidteilchen enthält, der Widerstand der Grundierungsschicht erhöht, und das Potenzial (wie etwa das Lichtpotenzial) neigt dazu, bei wiederholter Verwendung signifikant zu variieren.
  • Als Technologien zum Verhindern der Variation des Lichtpotenzials eines elektrophotographischen photosensitiven Elements beschreibt die PTL 1 eine Grundierungsschicht, die Zinkoxidteilchen, die mit einer Akzeptorverbindung (organische Verbindung) ausgestattet sind, enthält; PTL 2 beschreibt eine Grundierungsschicht, die Metalloxidteilchen mit Oberflächen, die mit einem Farbstoff (organische Verbindung), der Licht in einem Wellenlängenbereich von 450 bis 950 nm absorbiert, ausgestattet sind, enthält; PTL 3 beschreibt eine Mehrzahl von Grundierungsschichten, die ein Silankupplungsmittel enthalten, so dass die Konzentration des Silankupplungsmittels in der Grundierungsschicht auf der Trägerseite höher ist als andere.
  • Unglücklicherweise führten Untersuchungen durch die Erfinder der vorliegenden Erfindung zu dem Ergebnis, dass die in den PTL 1 bis 3 offenbarten Technologien die folgenden Probleme aufweisen: Obwohl die Variation des Lichtpotenzials ausreichend bei wiederholter Verwendung unter einer Umgebung gewöhnlicher Temperatur und gewöhnlicher Feuchtigkeit (23°C/50% RH) unterdrückt werden kann, kann die Variation der Lichtspannung bei wiederholter Verwendung unter einer Hochtemperatur- und Hochfeuchtigkeits-(30°C/85% RH)-Umgebung in einigen Fällen nicht verhindert werden.
  • Ferner offenbart die JP 2009 - 058 603 A einen elektrophotographischen Photorezeptor mit einer Grundierungsschicht und einer photosensitiven Schicht auf einem leitfähigen Träger, wobei die Grundierungsschicht Metalloxidteilchen und Zinkacetatteilchen enthält. Die DE 690 26 129 T2 offenbart ein elektrophotographisches lichtempfindliches Element, bei dem eine Zwischenschicht zwischen einem Träger und einer lichtempfindlichen Schicht eine elektrisch leitfähige Verbindung enthält. Die DE 697 28 593 T2 offenbart einen elektrophotographischen Photorezeptor mit einer auf einem Substrat bereitgestellten Schicht, die mindestens eines aus einem Silankupplungsmittel und einer organischen Metallverbindung enthält.
  • Literaturverzeichnis
  • Patentliteratur
    • PTL 1 Japanisches Patent Veröffentlichungsnr. JP 2006 - 30 700 A
    • PTL 2 Japanisches Patent Veröffentlichungsnr. JP 2004 - 219 904 A
    • PTL 3 Japanisches Patent Veröffentlichungsnr. JP 2008 - 065 171 A
  • Zusammenfassung der Erfindung
  • Die vorliegende Erfindung stellt ein elektrophotographisches photosensitives Element bereit, das einen geringen Unterschied zwischen der Variation des Lichtpotenzials durch wiederholte Verwendung unter einer gewöhnlichen Temperatur und gewöhnlicher Feuchtigkeit und der Variation des Lichtpotenzials bei wiederholter Verwendung unter einer hohen Temperatur und hoher Feuchtigkeit aufzeigt und stellt ein Verfahren zum Herstellen solch eines elektrophotographischen photosensitiven Elements bereit. Die vorliegende Erfindung stellt ebenso eine Prozesskartusche und einen elektrophotographischen Apparat bereit, die jeweils das elektrophotographische photosensitive Element aufweisen.
  • Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein elektrophotographisches photosensitives Element, das einen Träger, eine Grundierungsschicht (bzw. Unterbeschichtungsschicht), die auf dem Träger vorgesehen ist, und eine photosensitive Schicht, die auf der Grundierungsschicht vorgesehen ist, umfasst, wobei die Grundierungsschicht enthält: Metalloxidteilchen, deren Oberflächen mit einem Silankupplungsmittel behandelt worden sind; ein Bindemittelharz; und ein Metallsalz einer organischen Säure mit zumindest einem Metallelement ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Bismut, Eisen, Nickel und Kupfer.
  • Die vorliegende Erfindung stellt ebenso eine Prozesskartusche bereit, die abnehmbar an einen Hauptkörper eines elektrophotographischen Apparats anbringbar ist, wobei die Prozesskartusche integral das elektrophotographische photosensitive Element und zumindest eine Vorrichtung ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Ladevorrichtungen, Entwicklervorrichtungen, Transfervorrichtungen und Reinigungsvorrichtungen stützt.
  • Die vorliegende Erfindung bezieht sich ebenso auf einen elektrophotographischen Apparat, der das elektrophotographische photosensitive Element, eine Ladevorrichtung, eine Belichtungsvorrichtung, eine Entwicklervorrichtung und eine Transfervorrichtung umfasst.
  • Die vorliegende Erfindung bezieht sich ebenso auf ein Verfahren zum Herstellen eines elektrophotographischen photosensitiven Elements, beinhaltend einen Träger, eine Grundierungsschicht, die auf dem Träger vorgesehen ist, und eine photosensitive Schicht, die auf der Grundierungsschicht vorgesehen ist, wobei das Verfahren die Schritte umfasst: Zubereiten einer Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht, die enthält: Metalloxidteilchen, deren Oberflächen mit einem Silankupplungsmittel behandelt worden sind, eine geblockte Isocyanatverbindung, ein Polyol und ein Metallsalz einer organischen Säure mit zumindest einem Metallelement ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Bismut, Eisen, Nickel und Kupfer; und Bilden eines Beschichtungsfilms aus der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht, und Trocknen und Härten des Beschichtungsfilms, um die Grundierungsschicht zu bilden.
  • Die vorliegende Erfindung kann ein elektrophotographisches photosensitives Element bereitstellen, das einen geringen Unterschied zwischen der Variation des Lichtpotenzials durch wiederholte Verwendung unter einer gewöhnlichen Temperatur und gewöhnlicher Feuchtigkeit und der Variation des Lichtpotenzials durch wiederholte Verwendung unter einer hohen Temperatur und hoher Feuchtigkeit aufzeigt und kann ein Verfahren zum Herstellen solch eines elektrophotographischen photosensitiven Elements bereitstellen. Die vorliegende Erfindung kann ebenso eine Prozesskartusche und einen elektrophotographischen Apparat bereitstellen, die jeweils das elektrophotographische photosensitive Element beinhalten.
  • Figurenliste
    • Die 1A und 1B sind Diagramme, die ein Beispiel der Schichtstruktur eines elektrophotographischen photosensitiven Elements zeigen.
    • Die 2 ist ein Diagramm, das schematisch ein Beispiel der Struktur eines elektrophotographischen Apparats zeigt, der mit einer Prozesskartusche ausgestattet ist, die ein elektrophotographisches photosensitives Element beinhaltet.
  • Beschreibung von Ausführungsformen
  • Das elektrophotographische photosensitive Element gemäß der vorliegenden Erfindung beinhaltet eine Grundierungsschicht zwischen einem Träger und einer photosensitiven Schicht. Die Grundierungsschicht enthält Metalloxidteilchen, ein Bindemittelharz und ein Metallsalz einer organischen Säure (Organosäuremetall) mit zumindest einem Metallelement ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Bismut, Eisen, Nickel und Kupfer.
  • Die Grundierungsschicht, die Metalloxidteilchen, deren Oberflächen mit einem Silankupplungsmittel behandelt worden sind, und das oben genannte spezifische Metallsalz einer organischen Säure enthält, kann den Unterschied zwischen der Variation des Lichtpotenzials durch wiederholte Verwendung unter einer gewöhnlichen Temperatur und gewöhnlicher Feuchtigkeit und der Variation des Lichtpotenzials durch wiederholte Verwendung unter einer hohen Temperatur und hoher Feuchtigkeit reduzieren. Die Erfinder der vorliegenden Erfindung nehmen an, dass die Gründe dafür wie folgt sind.
  • Die Metalloxidteilchen üben eine Elektronentransporteigenschaft durch die sauerstoffdefizienten Abschnitte der Metalloxidteilchen aus.
  • Allerdings ermöglicht es die wiederholte Verwendung des elektrophotographischen photosensitiven Elements einer Feuchtigkeit in der Luft, in den sauerstoffdefizienten Abschnitten der Metalloxidteilchen adsorbiert zu werden, was in einer Verringerung der Elektronentransporteigenschaft der Metalloxidteilchen resultiert, und somit den Widerstand der Grundierungsschicht im Vergleich zu dem vor der wiederholten Verwendung erhöht. Folglich verursacht die wiederholte Verwendung eine Variation (Veränderung) des Lichtpotenzials des elektrophotographischen photosensitiven Elements.
  • Insbesondere neigt, da die Luft unter einer Hochtemperatur- und Hochfeuchtigkeits-Umgebung eine große Menge an Feuchtigkeit enthält, die Feuchtigkeit in der Luft dazu, in den sauerstoffdefizienten Abschnitten der Metalloxidteilchen leicht adsorbiert zu werden, was leicht zu einer Erhöhung des Grads der Variation (Veränderung) des Lichtpotenzials des elektrophotographischen photosensitiven Elements bei wiederholter Verwendung führt. Die Adsorption von Feuchtigkeit in der Luft kann von Erhöhen der Menge an Silankupplungsmittel für die Oberflächenbehandlung der Metalloxidteilchen verhindert werden, aber die Erhöhung führt leicht zu einer Verringerung der elektrophotographischen Eigenschaften.
  • Demgemäß führten die Erfinder der vorliegenden Erfindung Untersuchungen durch und zeigen auf, dass der Unterschied zwischen der Variation des Lichtpotenzials eines elektrophotographischen photosensitiven Elements unter einer gewöhnlichen Temperatur und gewöhnlicher Feuchtigkeit und der Variation des Lichtpotenzials des elektrophotographischen photosensitiven Elements unter einer hohen Temperatur und hoher Feuchtigkeit verringert werden kann, indem man eine Grundierungsschicht verwendet, die ein spezifisches Metallsalz einer organischen Säure enthält. Die legt nahe, dass das spezifische Metallsalz einer organischen Säure die Adsorption von Feuchtigkeit in die sauerstoffdefizienten Abschnitte der Metalloxidteilchen verhindert.
  • Das spezifische Metallsalz einer organischen Säure weist eine Mobilität des organischen Säureteils und eine intramolekulare Polarität auf. Demgemäß wird angenommen, dass das spezifische Metallsalz einer organischen Säure Feuchtigkeit in der Luft zieht als es die Metalloxidteilchen tun und im Ergebnis die Feuchtigkeit davon abhält, in die sauerstoffdefizienten Abschnitte der Metalloxidteilchen zu adsorbieren.
  • Beispiele der Metalloxidteilchen, die in der Grundierungsschicht enthalten sind, beinhalten Teilchen, die Metalloxide beinhalten, wie etwa Titanoxid, Zinkoxid, Zinnoxid, Zirkonoxid oder Aluminiumoxid. Insbesondere können vom Gesichtspunkt des Verhinderns der Variation des Lichtpotenzials Teilchen, die zumindest ein Metalloxid ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Titanoxid, Zinkoxid und Zinnoxid (Titanoxidteilchen, Zinkoxidteilchen oder Zinnoxidteilchen) enthalten, verwendet werden.
  • Zusätzlich sollten vom Gesichtspunkt des Verhinderns des Auftretens von Bilddefekten schwarzer Flecken (schwarze Punkte) aufgrund von Ladungsinjektion (z.B. Lochinjektion) aus dem Träger in die photosensitive Schicht die Oberflächen der Metalloxidteilchen, die in der Grundierungsschicht enthalten sind, mit einem Oberflächenbehandlungsmittel, wie etwa einem Silankupplungsmittel, behandelt (oberflächenbehandelt) sein.
  • Das Silankupplungsmittel kann ein Aminosilankupplungsmittel sein. Beispiele des Silankupplungsmittels beinhalten N-2-(Aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilan, 3-Aminopropylmethyldiethoxysilan, (Phenylaminomethyl)methyldimethoxysilan, N-2-(Aminoethyl)-3-aminoisobutylmethyldimethoxysilan, N-Ethylaminoisobutylmethyldiethoxysilan, N-Methylaminopropylmethyldimethoxysilan, Vinyltrimethoxysilan, 3-Aminopropyltriethoxysilan, N-(2-Aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilan, Methyltrimethoxysilan, 3-Glycidoxypropyltrimethoxysilan, 3-Methacryloxypropyltrimethoxysilan, 3-Chlorpropyltrimethoxysilan und 3-Mercaptopropyltrimethoxysilan.
  • Beispiele des Bindemittelharzes, das in der Grundierungsschicht enthalten ist, beinhalten acrylische Harze, Allylharze, Alkydharze, Ethylcelluloseharze, Ethylen-Acrylsäure-Copolymere, Epoxyharze, Caseinharze, Silikonharze, Gelatinharze, Phenolharze, Urethanharze, Butyralharze, Melaminharze, Polyacrylate, Polyacetale, Polyamidimide, Polyamide, Polyallylether, Polyimide, Polyester, Polyethylene, Polycarbonate, Polystyrole, Polysulfone, Polyvinylalkohole, Polybutadiene und Polypropylene. Insbesondere können vom Gesichtspunkt des Verhinderns der Abhängigkeit von der Umgebung (Abhängigkeit von der Feuchtigkeit) der Variation des Lichtpotenzials die Urethanharze verwendet werden. Die Bindemittelharze können einzeln oder in Kombination zweier oder mehrerer davon verwendet werden.
  • Das Urethanharz wird üblicherweise aus einer Isocyanatverbindung und einem Polyol (Polyolharz) synthetisiert.
  • Beispiele der Isocyanatverbindung zum Herstellen des Urethanharzes beinhalten 2,4-Tolylendiisocyanat, 2,6-Tolylendiisocyanat, Diphenylmethan-4,4'-diisocyanat, 1-Isocyanato-3,3,5-trimethyl-5-isocyanatomethylcyclohexan (Isophorondiisocyanat, IPDI), Hexamethylendiisocyanat (HDI), HDI-Trimethylolpropan-Addukt-Produkte, HDI-Isocyanurat-Produkte und HDI-Biuret-Produkte. Insbesondere können vom Gesichtspunkt des Verbesserns der Vernetzungsdichte des Urethanharzes und des Verhinderns der Adsorption von Feuchtigkeit an die Metalloxidteilchen aliphatische Diisocyanate, wie etwa Hexamethylendiisocyanat und Isophorondiisocyanat, verwendet werden. Diese Isocyanatverbindungen können einzeln oder in Kombination zweier oder mehrerer davon verwendet werden. Überdies kann vom Gesichtspunkt des Steuerns der Reaktion der Isocyanatverbindung die Isocyanatgruppe der Isocyanatverbindung mit einem Blockungsmittel geblockt sein, d.h. eine geblockte Isocyanatverbindung kann verwendet werden.
  • Beispiele des Blockungsmittels zum Blocken der Isocyanatgruppe einer Isocyanatverbindung beinhalten Oximverbindungen, wie etwa Formaldehydoxim, Acetaldoxim, Methylethylketoxim, Cyclohexanonoxim, Acetonoxim und Methylisobutylketoxim, und Derivate davon; aktive Methylenverbindungen, wie etwa Meldrum-Säure, Dimethylmalonat, Diethylmalonat, di-n-Butylmalonat, Ethylacetat und Acetylaceton, und Derivate davon; Aminverbindungen, wie etwa Diisopropylamin, Diphenylanilin, Anilin und Carbazol, und Derivate davon; Iminverbindungen, wie etwa Ethylenimin und Polyethylenimin, und Derivate davon; Imidverbindungen, wie etwa Succinimid und Maleinimid, und Derivate davon; Imidazolverbindungen, wie etwa Malonat, Imidazol, Benzimidazol und 2-Methylimidazol, und Derivate davon; Triazolverbindungen, wie etwa 1,2,3-Triazol, 1,2,4-Triazol, 4-Amino-1,2,4-triazol und Benzotriazol, und Derivate davon; Säureamidverbindungen, wie etwa Acetoanilid, N-Methylacetamid und Essigsäureamid, und Derivate davon; Lactamverbindungen, wie etwa ε-Caprolactam, δ-Valerolactam und γ-Butyrolactam, und Derivate davon; Harnstoffverbindungen, wie etwa Harnstoff, Thioharnstoff und Ethylenharnstoff, und Derivate davon; Sulfite, wie etwa Natriumbisulfit; Mercaptanverbindungen, wie etwa Butylmercaptan und Dodecylmercaptan, und Derivate davon; Phenolverbindungen, wie etwa Phenol and Cresol, und Derivate davon; Pyrazolverbindungen, wie etwa Pyrazol, 3,5-Dimethylpyrazol und 3-Methylpyrazol, und Derivate davon; und Alkoholverbindungen, wie etwa Methanol, Ethanol, 2-Propanol und n-Butanol, und Derivate davon. Diese Blockungsmittel können einzeln oder in Kombination zweier oder mehrerer davon verwendet werden. Insbesondere kann das Blockungsmittel eine Oximverbindung oder ein Derivat davon, ein Pyrazolverbindung oder ein Derivat davon oder eine Lactamverbindung oder ein Derivat davon sein. Insbesondere kann das Blockungsmittel eine Pyrazolverbindung oder ein Derivat davon oder eine Lactamverbindung oder ein Derivat davon sein.
  • Beispiele des Polyols zum Herstellen des Urethanharzes beinhalten Polyvinylacetal, Polyphenol, Polyethylendiol, Polycarbonatdiol, Polyetherpolyol und Polyacrylpolyol. Insbesondere kann Polyvinylacetal verwendet werden. Diese Polyolharze können einzeln oder in Kombination zweier oder mehrerer davon verwendet werden.
  • Die Grundierungsschicht enthält zumindest ein Metallsalz einer organischen Säure ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus organische Säure-Bismutsalze, organische Säure-Eisensalze, organische Säure-Nickelsalze und organische Säure-Kupfersalze. Überdies kann vom Gesichtspunkt des Verhinderns der Variation des Lichtpotenzials die organische Säure der Organosäuremetallsalze eine monovalente (einwertige) Carbonsäure, wie etwa Octylsäure, Naphthensäure oder Salicylsäure sein.
  • Beispiele des organische Säure-Bismutsalzes beinhalten Bismutoctylat (Bismutoctanoat), Bismutnaphtenat und Bismutsalicylat. Beispiele des organische Säure-Eisensalzes beinhalten Eisenoctylat (Eisenoctanoat), Eisennaphtenat und Eisensalicylat. Beispiele des organische Säure-Nickelsalzes beinhalten Nickeloctylat (Nickeloctanoat), Nickelnaphtenat und Nickelsalicylat. Beispiele des organische Säure-Kupfersalzes beinhalten Kupferoctylat (Kupferoctanoat), Kupfernaphtenat und Kupfersalicylat. Insbesondere können Bismutoctylat, Eisenoctylat, Bismutnaphthenat, Eisennaphthenat, Nickeloctylat, Nickelnaphthenat und Kupfernaphthenat verwendet werden. Genauer können Bismutoctylat, Eisenocytlat und Nickeloctylat verwendet werden. Insbesondere kann Bismutoctylat verwendet werden. Diese Organosäuremetallsalze können einzeln oder in Kombination zweier oder mehrerer (einschließlich solcher, die das gleiche Metallelement mit unterschiedlichen Valenzzuständen aufweisen) davon verwendet werden.
  • Das spezifische Metallsalz einer organischen Säure ist ebenso kommerziell erhältlich. Beispiele kommerziell erhältlicher Produkte beinhalten Bismutoctylat (Handelsname: PUCAT 25 Bi 25%), Eisenoctylat (Handelsname: Nikkaoctics Iron), Bismutnaphthenat (Handelsname: PUCAT B7), Eisennaphthenat (Handelsname: Naphthecs Iron), Nickeloctylat (Handelsname: Nikkaoctics Nickel) und Kupfernaphthenat (Handelsname: Naphthecs Copper Cu 5%), hergestellt von Nihon Kagaku Sangyo Co., Ltd. In diesen Produkten von Nihon Kagaku Sangyo Co., Ltd., ist Eisenoctylat (Handelsname: Nikkaoctics Iron) eine Mischung aus Eisen(II)octylat und Eisen(III)octylat und Bismutoctylat (Handelsname: PUCAT 25 Bi 25%) ist eine Mischung aus Bismut(II)octylat und Bismut(III)octylat.
  • Das Verhältnis (Masseverhältnis) der Metalloxidteilchen zu dem Bindemittelharz (Metalloxidteilchen/Bindemittelharz), die in der Grundierungsschicht enthalten sind, sollte vom Gesichtspunkt des Verhinderns der Variation des Lichtpotenzials 1/1 oder mehr sein. In anderen Worten sollte die Menge an Metalloxidteilchen, die in der Grundierungsschicht enthalten ist, 100 Masse-% oder mehr basierend auf der Menge des Bindemittelharzes, das in der Grundierungsschicht enthalten ist, sein. Gleichzeitig sollte vom Gesichtspunkt des Verhinderns des Auftretens von Rissen in der Grundierungsschicht das Verhältnis (Masseverhältnis) der Metalloxidteilchen zu dem Bindmittelharz (Metalloxidteilchen/Bindemittelharz), die in der Grundierungsschicht enthalten sind, 4/1 oder weniger sein. In anderen Worten sollte die Menge an Metalloxidteilchen, die in der Grundierungsschicht enthalten sind, 400 Masse-% oder weniger basierend auf der Menge an Bindemittelharz, das in der Grundierungsschicht enthalten ist, sein. Das heißt, das Masseverhältnis sollte 1/1 oder mehr und 4/1 oder weniger sein.
  • Das Verhältnis (Masseverhältnis) des spezifischen Organosäuremetallsalzes zu den Metalloxidteilchen (Organosäuremetallsalz/Metalloxidteilchen), die in der Grundierungsschicht enthalten sind, kann 1/200 oder mehr und 2/10 oder weniger vom Gesichtspunkt des Verhinderns der Variation des Lichtpotenzials sein. In anderen Worten sollte die Menge des spezifischen Organosäuremetallsalzes, das in der Grundierungsschicht enthalten ist, 0,5 Masse-% oder mehr und 20 Masse-% oder weniger basierend auf der Menge der Metalloxidteilchen, die in der Grundierungsschicht enthalten sind, sein.
  • Im Fall des Verwendens zweier oder mehrerer Arten von Metalloxidteilchen, Bindemittelharzen oder spezifischer Organosäuremetallsalze sind die oben genannten Verhältnisse solche, die auf der Grundlage der Gesamtmasse davon berechnet sind.
  • Wie oben beschrieben, beinhaltet das elektrophotographische photosensitive Element der vorliegenden Erfindung einen Träger, eine Grundierungsschicht, die auf dem Träger angeordnet ist, und eine photosensitive Schicht, die auf der Grundierungsschicht angeordnet ist.
  • Die 1A und 1B zeigen ein Beispiel der Schichtstruktur des elektrophotographischen photosensitiven Elements der vorliegenden Erfindung. In 1A und 1B bezeichnet die Referenzzahl 101 einen Träger, Referenzzahl 102 bezeichnet eine Grundierungsschicht, Referenzzahl 103 bezeichnet eine photosensitive Schicht und Referenzzahl 104 bezeichnet eine Schutzschicht.
  • Die photosensitive Schicht kann eine mehrschichtige photosensitive Schicht sein, die aus einer ladungserzeugenden Schicht, die ein ladungserzeugendes Material enthält, und einer ladungstransportierenden Schicht, die ein ladungstransportierendes Material enthält, in dieser Reihenfolge von der Grundierungsschichtseite aufgebaut ist. Das in der ladungstransportierenden Schicht enthaltene ladungstransportierende Material kann ein lochtransportierendes Material sein.
  • Der Träger kann elektrisch leitfähig sein (elektrisch leitfähiger Träger), und Beispiele des Trägers beinhalten solche, die aus Metallen (Legierungen) hergestellt sind, wie etwa Aluminium, Aluminiumlegierungen, rostfreier Stahl, Kupfer, Nickel und Zink. Als ein Träger aus Aluminium oder einer Aluminiumlegierung kann beispielsweise eine ED-Röhre oder eine EI-Röhre verwendet werden.
  • Zusätzlich kann ein Metallträger oder ein Harzträger, der mit einem elektrisch leitfähigen Dünnfilm aus Aluminium, einer Aluminiumlegierung oder einer Indiumoxid-Zinnoxid-Legierung darauf ausgestattet ist, verwendet werden.
  • Die Oberfläche des Trägers kann einem Schneiden, einem Aufrauen, einer Alumitbehandlung, einem kombinierten Elektropolieren, einem Nasshonen oder einem Trockenhonen zum Verhindern des Auftretens von Interferenzrillen aufgrund von Streuung von Laserstrahlen unterzogen werden. Das kombinierte Elektropolieren ist aus Elektrophorese durch eine Elektrode mit elektrolytischer Aktivität und einer Elektrolytlösung und Polieren mit einem Schleifstein mit Polierwirkung zusammengesetzt.
  • Um das Auftreten von Interferenzstreifen aufgrund von Streuung von Laserstrahlen zu verhindern oder um Kratzer auf einem Träger zu maskieren (bedecken) kann eine elektrisch leitfähige Schicht zwischen dem Träger und der Grundierungsschicht angeordnet sein.
  • Die elektrisch leitfähige Schicht kann durch Bilden eines Beschichtungsfilms durch Aufbringen einer Beschichtungsflüssigkeit für eine elektrisch leitfähige Schicht, die durch Dispergieren von elektrisch leitfähigen Teilchen, wie etwa Kohleschwarz, Metallteilchen oder Metalloxidteilchen, und einem Bindemittelharz in einem Lösungsmittel zubereitet ist; und Trocknen des resultierenden Beschichtungsfilms gebildet werden.
  • Das Dispergieren wird beispielsweise durch ein Verfahren unter Verwendung eines Homogenisierers, eines Ultraschalldispergierers, einer Kugelmühle, einer Sandmühle, einer Walzenmühle (bzw. einem Walzenstuhl), einer Vibrationsmühle, einem Attritor, oder einem flüssigkollisionsartigen Hochgeschwindigkeitsdispergierers durchgeführt.
  • Beispiele des Bindemittelharzes, das in der elektrisch leitfähigen Schicht enthalten ist, beinhalten Polyester, Polycarbonate, Polyvinylbutyrale, acrylische Harze, Silikonharze, Epoxyharze, Melaminharze, Urethanharze, Phenolharze und Alkidharze. Diese Bindemittelharze können einzeln oder als eine Mischung oder ein Copolymer zweier oder mehrerer davon verwendet werden.
  • Beispiele des Lösungsmittels, das in der Beschichtungsflüssigkeit für eine elektrisch leitfähige Schicht verwendet wird, beinhalten Etherlösungsmittel, Alkohollösungsmittel, Ketonlösungsmittel und aromatisch-Kohlenwasserstofflösungsmittel. Diese Lösungsmittel können einzeln oder in Kombination zweier oder mehrerer davon verwendet werden.
  • Die elektrisch leitfähige Schicht kann eine Dicke von 5 µm oder mehr und 40 µm oder weniger, bevorzugt 10 µm oder mehr und 30 µm oder weniger aufweisen.
  • Die Grundierungsschicht, die oben beschrieben ist, ist zwischen dem Träger oder einer elektrisch leitfähigen Schicht und der photosensitiven Schicht (ladungserzeugende Schicht und ladungstransportierende Schicht) angeordnet.
  • Die Grundierungsschicht kann durch Bilden eines Beschichtungsfilms durch Aufbringen einer Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht, die durch Dispergieren von Metalloxidteilchen, einem Bindemittelharz und einem spezifischen Organosäuremetallsalz in einem Lösungsmittel zubereitet ist, auf einen Träger; und Trocknen und/oder Härten des resultierenden Beschichtungsfilms gebildet werden.
  • Das Dispergieren wird beispielsweise durch ein Verfahren unter Verwendung eines Homogenisierers, eines Ultraschalldispergierers, einer Kugelmühle, einer Sandmühle, einer Walzenmühle (bzw. einem Walzenstuhl), einer Vibrationsmühle, einem Attritor, oder einem flüssigkollisionsartigen Hochgeschwindigkeitsdispergierers durchgeführt werden.
  • Beispiele des Lösungsmittels, das zum Herstellen der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht verwendet wird, beinhalten Alkohollösungsmittel, Ketonlösungsmittel, Etherlösungsmittel, Esterlösungsmittel, halogenierte Kohlenwasserstofflösungsmittel, und aromatisch-Kohlenwasserstofflösungsmittel. Spezifische Beispiele des Lösungsmittels beinhalten Methylal, Tetrahydrofuran, Methanol, Ethanol, Isopropylalkohol, Butylalkohol, Methylcellosolve, Methyloxypropanol, Aceton, Methylethylketon, Cyclohexan, Methylacetat, Ethylacetat, Dioxan und Tetrahydrofuran. Diese Lösungsmittel können einzeln oder in Kombination zweier oder mehrerer davon verwendet werden.
  • Die Grundierungsschicht kann organische Harzteilchen oder ein Egalisiermittel (bzw. Verlaufmittel) enthalten. Beispiele der organischen Harzteilchen, die in der Grundierungsschicht enthalten sind, beinhalten hydrophobe organische Harzteilchen, wie etwa Silikonteilchen, und hydrophile organische Harzteilchen, wie etwa Teilchen aus quervernetztem Polymethylmethacrylat (PMMA).
  • Die Grundierungsschicht kann verschiedene Additive zum Verbessern der elektrischen Charakteristika, der Filmmorphologiestabilität oder der Bildqualität enthalten.
  • Beispiele der in der Grundierungsschicht enthaltenen Additive beinhalten Metallteilchen, wie etwa Aluminiumteilchen und Kupferteilchen; elektrisch leitfähige Teilchen, wie etwa Kohleschwarz (carbon black); elektronentransportierende Materialien, wie etwa Chinonverbindungen, Fluorenverbindungen, Oxadiazolverbindungen, Diphenochinonverbindungen, Alizarinverbindungen, Benzophenonverbindungen, polyzyklische kondensierte Verbindungen und Azoverbindungen; Metallchelatverbindungen; und Silankupplungsmittel.
  • Die Erwärmungstemperatur (Trockentemperatur) des Beschichtungsfilms aus der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht sollte 100°C oder mehr und 190°C oder weniger als vom Gesichtspunkt des Verhinderns des Auftretens von Rissen in der Grundierungsschicht und vom Gesichtspunkt der Festigkeit des Bindemittelharzes und der Grundierungsschicht sein. Insbesondere sollte, wenn das Bindemittelharz der Grundierungsschicht ein Urethanharz ist, die Erwärmtemperatur (Trockentemperatur) des Beschichtungsfilms aus der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht 130°C oder mehr und 170°C oder weniger vom Gesichtspunkt des Verhinderns des Auftretens von Rissen in der Grundierungsschicht und vom Gesichtspunkt der Härtungseigenschaften sein. Zusätzlich sollte, wenn das Bindemittelharz der Grundierungsschicht ein Urethanharz ist, die Erwärmzeit (Trockenzeit) des Beschichtungsfilms aus der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht 10 Minuten oder mehr und 120 Minuten oder weniger im Hinblick auf dieselben Gesichtspunkte sein.
  • Die Grundierungsschicht kann eine Dicke von 0,5 µm oder mehr und 40 µm oder weniger bevorzugt 0,5 µm oder mehr und 10 µm oder weniger aufweisen.
  • Wenn die elektrisch leitfähige Schicht nicht vorgesehen ist, sollte die Dicke der Grundierungsschicht 10 µm oder mehr, bevorzugt 15 µm oder mehr vom Gesichtspunkt des Maskierens (Bedeckens) von Kratzern in dem Träger sein, sollte aber 40 µm oder weniger, bevorzugt 35 µm oder weniger sein.
  • Auf der Grundierungsschicht ist eine photosensitive Schicht (ladungserzeugende Schicht und ladungstransportierende Schicht) vorgesehen.
  • Wenn die photosensitive Schicht eine mehrschichtige photosensitive Schicht ist, kann die ladungserzeugende Schicht durch Aufbringen einer Beschichtungsflüssigkeit für eine ladungserzeugende Schicht, die durch Dispergieren eines ladungserzeugenden Materials und eines Bindemittelharzes in einem Lösungsmittel zubereitet ist; und Trocknen des resultierenden Beschichtungsfilms gebildet werden. Die ladungserzeugende Schicht kann ein verdampfter Film (bzw. aufgedampfter Film) aus einem ladungserzeugenden Material sein.
  • Das Dispergieren wird beispielsweise durch ein Verfahren unter Verwendung eines Homogenisierers, eines Ultraschalldispergierers, einer Kugelmühle, einer Sandmühle, einer Walzenmühle (bzw. eines Walzenstuhls), einer Vibrationsmühle, eines Attritors, oder eines flüssigkollisionsartigen Hochgeschwindigkeitsdispergierers durchgeführt werden.
  • Beispiele des ladungserzeugenden Materials beinhalten Azopigmente, Phthalocyaninpigmente, Indigopigmente, Perylenpigmente, polyzyklische Chinonpigmente, Squaryliumfarbmittel, Thiapyryliumsalze, Triphenylmethanfarbstoffe, Chinacridonpigmente, Azuleniumsalzpigmente, Cyaninfarbstoffe, Anthanthronpigmente, Pyranthronpigmente, Xanthenfarbmittel, Chinon-Imin-Farbmittel und Styrylfarbmittel. Insbesondere können vom Gesichtspunkt der Sensitivität Oxytitanphthalocyanin, Chlorgalliumphthalocyanin oder Hydroxygalliumphthalocyanin, weiter insbesondere Hydroxygalliumphthalocyanin verwendet werden. Das Hydroxygalliumphthalocyanin kann eine Kristallform aufweisen, die starke Peaks bei einem Bragg-Winkel 2θ (± 0,3°) von 7,4° (± 0,3°) und einem Bragg-Winkel von 2θ (± 0,3°) von 28,2° (± 0,3°) bei CuKα charakteristischer Röntgenbeugung aufweisen. Diese ladungserzeugenden Materialien können einzeln oder in Kombination zweier oder mehrerer davon verwendet werden.
  • Wenn die photosensitive Schicht eine mehrschichtige photosensitive Schicht ist, beinhalten Beispiele des Bindemittelharzes, das in der ladungserzeugenden Schicht enthalten ist, Polycarbonate, Polyester, Butyralharze, Polyvinylacetale, acrylische Harze, Vinylacetatharze und Harnstoffharze. Insbesondere können Butyralharze verwendet werden. Diese Bindemittelharze können einzeln oder als eine Mischung oder ein Copolymer zweier oder mehrerer davon verwendet werden.
  • Beispiele des in der Beschichtungsflüssigkeit für eine ladungserzeugende Schicht verwendeten Lösungsmittels beinhalten Alkohollösungsmittel, Sulfoxidlösungsmittel, Ketonlösungsmittel, Etherlösungsmittel, Esterlösungsmittel und aromatisch-Kohlenwasserstofflösungsmittel. Diese Lösungsmittel können einzeln oder in Kombination zweier oder mehrerer davon verwendet werden.
  • Die ladungserzeugende Schicht kann eine Dicke von 0,01 µm oder mehr und 5 µm oder weniger bevorzugt 0,1 µm oder mehr und 2 µm oder weniger aufweisen.
  • Die ladungserzeugende Schicht kann optional verschiedene Additive, wie etwa ein Sensitivierungsmittel, ein Antioxidanz, einen Ultraviolettabsorber und einen Plastifizierer (bzw. Weichmacher) enthalten.
  • In dem elektrophotographischen photosensitiven Element mit einer mehrschichtigen photosensitiven Schicht ist eine ladungstransportierende Schicht auf der ladungserzeugenden Schicht angeordnet.
  • Die ladungstransportierende Schicht kann durch Aufbringen einer Beschichtungsflüssigkeit für eine ladungstransportierende Schicht, die durch Auflösen eines ladungstransportierenden Materials und eines Bindemittelharzes in einem Lösungsmittel zubereitet ist; und Trocknen des resultierenden Beschichtungsfilms gebildet werden.
  • Das ladungstransportierende Material wird grob in ein lochtransportierendes Material und ein elektronentransportierendes Material klassifiziert. Beispiele des lochtransportierenden Materials beinhalten Triarylaminverbindungen, Hydrazonverbindungen, Styrylverbindungen, Stilbenverbindungen und Butadienverbindungen. Insbesondere können Triarylaminverbindungen verwendet werden. Diese ladungstransportierenden Materialien können einzeln oder in Kombination zweier oder mehrerer davon verwendet werden.
  • Wenn die photosensitive Schicht eine mehrschichtige photosensitive Schicht ist, beinhalten Beispiele des Bindemittelharzes, das in der ladungstransportierenden Schicht enthalten ist, acrylische Harze, Acrylonitrilharze, Allylharze, Alkidharze, Epoxyharze, Silikonharze, Phenolharze, Phenoxyharze, Polyacrylamide, Polyamid-Imide, Polyamide, Polyallylether, Polyarylate, Polyimide, Urethanharze, Polyester, Polyethylene, Polycarbonate, Polysulfone, Polyphenylenoxide, Polybutadiene, Polypropylene und methacrylische Harze. Insbesondere können Polyarylate und Polycarbonate verwendet werden. Diese Bindemittelharze können einzeln oder als eine Mischung oder ein Copolymer zweier oder mehrerer davon verwendet werden.
  • Beispiele des Lösungsmittels, das in der Beschichtungsflüssigkeit für eine ladungstransportierende Schicht verwendet wird, beinhalten Alkohollösungsmittel, Sulfoxidlösungsmittel, Ketonlösungsmittel, Etherlösungsmittel, Esterlösungsmittel und aromatisch-Kohlenwasserstofflösungsmittel. Diese Lösungsmittel können einzeln oder in Kombination zweier oder mehrerer davon verwendet werden.
  • Das Verhältnis (Masseverhältnis) des ladungstransportierenden Materials zu dem Bindemittelharz (ladungstransportierendes Material/Bindemittelharz), die in der ladungstransportierenden Schicht enthalten sind, kann 0,3/1 oder mehr und 10/1 oder weniger sein.
  • Die Erwärmtemperatur (Trockentemperatur) des Beschichtungsfilms der Beschichtungsflüssigkeit für eine ladungstransportierende Schicht kann 60°C oder mehr und 150°C oder weniger, bevorzugt 80°C oder mehr und 120°C oder weniger sein. Die Erwärmzeit (Trockenzeit) kann 10 Minuten oder mehr und 60 Minuten oder weniger sein.
  • Wenn die ladungstransportierende Schicht des elektrophotographischen photosensitiven Elements eine Monoschicht ist, kann die Dicke der ladungstransportierenden Schicht 5 µm oder mehr und 40 µm oder weniger, bevorzugt 8 µm oder mehr und 30 µm oder weniger sein.
  • Wenn die ladungstransportierende Schicht eine Mehrschichtstruktur aufweist kann die Dicke der ladungstransportierenden Schicht auf der Trägerseite 5 µm oder mehr und 30 µm oder weniger sein und die Dicke der ladungstransportierenden Schicht auf der Oberflächenseite kann 1 µm oder mehr und 10 µm oder weniger sein.
  • Die ladungstransportierende Schicht kann optional ein Antioxidanz, einen Ultraviolettabsorber, einen Plastifizierer oder andere Additive enthalten.
  • In der vorliegenden Erfindung kann eine Schutzschicht auf der photosensitiven Schicht (ladungstransportierenden Schicht) zum Verbessern der Beständigkeit und der Reinigungseigenschaft des elektrophotographischen photosensitiven Elements angeordnet sein.
  • Die Schutzschicht kann durch Aufbringen einer Beschichtungsflüssigkeit für eine Schutzschicht, die durch Auflösen eines Harzes (oder dessen Monomer und/oder Oligomer) in einem Lösungsmittel zubereitet ist; und Trocknen und/oder Härten des resultierenden Beschichtungsfilms gebildet werden.
  • Beispiele des in der Schutzschicht enthaltenen Harzes beinhalten Polyvinylbutyrale, Polyester, Polycarbonate, Polyamide, Polyimide, Polyacrylate, Urethanharze, acrylische Harze, methacrylische Harze, Styrol-Butadien-Copolymere, Styrol-Acrylsäure-Copolymere und Styrol-Acrylnitirl-Copolymere. Insbesondere können acrylische Harze und methacrylische Harze verwendet werden. Diese Harze können einzeln oder in Kombination zweier oder mehrerer davon verwendet werden.
  • Alternativ kann eine Schutzschicht (zweite ladungstransportierende Schicht) mit einer ladungstransportierenden Eigenschaft durch Härten eines Monomers mit einer ladungstransportierenden Fähigkeit (Lochtransportfähigkeit) durch verschiedene Polymerisations- oder Vernetzungsreaktionen gebildet werden. Speziell kann eine Schutzschicht (zweite ladungstransportierende Schicht) durch Polymerisieren oder Vernetzen einer ladungstransportierenden Verbindung (lochtransportierende Verbindung) mit kettenpolymerisierbaren funktionellen Gruppen und Härten der polymerisierten und vernetzten Verbindung gebildet werden.
  • Beispiele der kettenpolymerisierbaren funktionellen Gruppe beinhalten Acryloyloxy, Methacryloyloxy, Alkoxysilyl und Epoxygruppen. Beispiele der Härtungsreaktion beinhalten Radikalpolymerisationsreaktionen und ionische Polymerisationsreaktionen. Die Härtungsreaktion kann beispielsweise Wärme, Licht, wie etwa ultraviolette Strahlen, oder Strahlung, wie etwa Elektronenstrahlung, verwenden.
  • Überdies kann die Schutzschicht optional elektrisch leitfähige Teilchen, einen Ultraviolettabsorber oder einen Abriebbeständigkeitsmodifikator enthalten. Beispiele der elektrisch leitfähigen Teilchen beinhalten Metalloxidteilchen, wie etwa Zinnoxidteilchen. Beispiele des Abriebbeständigkeitsmodifikators beinhalten Fluor-enthaltende Harzteilchen wie etwa Polytetrafluorethylenteilchen; Aluminiumoxid; und Siliziumoxid.
  • Die Schutzschicht kann eine Dicke von 0,5 µm oder mehr und 20 µm oder weniger bevorzugt 1 µm oder mehr und 10 µm oder weniger aufweisen.
  • Das Aufbringen der Beschichtungsflüssigkeit für jede Schicht kann beispielsweise durch ein Tauchaufbringen (Tauchbeschichtung), eine Sprühbeschichtung, eine Rotationsbeschichtung, eine Walzenbeschichtung, eine Meyer-Bar-Beschichtung, oder eine Rakelbeschichtung (bzw. Aufstreichen) durchgeführt werden.
  • 2 zeigt schematisch ein Beispiel der Struktur eines elektrophotographischen Apparats mit einer Prozesskartusche, die ein elektrophotographisches photosensitives Element gemäß einem Aspekt der vorliegenden Erfindung beinhaltet.
  • In 2 ist ein elektrophotographisches photosensitives Element 1 der vorliegenden Erfindung zylindrisch (trommelartig) und rotiert mit einer bestimmten peripheren Geschwindigkeit (Prozessgeschwindigkeit) in der Richtung des Pfeils mit einem Schaft 2 als ein Rotationszentrum.
  • Die Oberfläche (umlaufende Oberfläche) des elektrophotographischen photosensitiven Elements 1 ist auf ein bestimmtes Positiv- oder Negativpotenzial mit einer Ladevorrichtung 3 (primäre Ladevorrichtung: z.B. Ladewalze) während des Rotationsprozesses aufgeladen.
  • Nachfolgend wird die Oberfläche des elektrophotographischen photosensitiven Elements 1 mit Belichtungslicht 4 (Bildbelichtungslicht) von einer Belichtungsvorrichtung (Bildbelichtungsvorrichtung) (nicht gezeigt) bestrahlt. Somit wird ein elektrostatisches Latentbild auf der Oberfläche des elektrophotographischen photosensitiven Elements 1 gebildet.
  • Das auf der Oberfläche des elektrophotographischen photosensitiven Elements 1 gebildete elektrostatische Latentbild wird einer Entwicklung (normale Entwicklung oder reverse Entwicklung) mit einem Entwickler (Toner) in einer Entwicklervorrichtung 5 unterzogen, um ein Tonerbild auf der Oberfläche des elektrophotographischen photosensitiven Elements 1 zu bilden. Nachfolgend wird das auf der Oberfläche des elektrophotographischen photosensitiven Elements 1 gebildete Tonerbild auf ein Transfermaterial 7 durch eine Transfervorrichtung 6 (z.B. eine Transferwalze) transferiert.
  • Das Transfermaterial 7 wird aus einer Transfermaterialzuführvorrichtung (nicht gezeigt) in Synchronisation mit der Rotation des elektrophotographischen photosensitiven Elements 1 entnommen und zwischen dem elektrophotographischen photosensitiven Element 1 und der Transfervorrichtung 6 eingespeist (Kontaktabschnitt). Die Transfervorrichtung 6 ist mit einer Spannung (Transfergrundspannung) mit einer Polarität, die zu der des Toners revers ist, mittels einer Grundspannungsstromquelle (nicht gezeigt) beaufschlagt.
  • Das Transfermaterial 7, auf welches das Tonerbild transferiert worden ist, wird von der Oberfläche des elektrophotographischen photosensitiven Elements 1 getrennt und wird in eine Fixiervorrichtung 8 geschickt, um einer Toner-Bild-Fixierbehandlung unterzogen zu werden, und dann nach Außerhalb des elektrophotographischen Apparats als ein Bild-erzeugtes Produkt (Ausdruck, Kopie) weitergeleitet. Die Transfervorrichtung 6 kann ein Zwischentransfersystem sein, das ein primäres Transferelement, ein Zwischentransferelement und ein sekundäres Transferelement beinhaltet.
  • Die Oberfläche des elektrophotographischen photosensitiven Elements 1 wird nach dem Transfer des Tonerbildes auf das Transfermaterial 7 mit einer Reinigungsvorrichtung 9 (z.B. Reinigungsabstreifer) gereinigt, um anhaftende Materie, wie etwa nach dem Transfer verbleibender Entwickler (nach dem Transfer verbleibender Toner) zu entfernen. Der nach dem Transfer verbleibende Toner kann beispielsweise mit einer Entwicklervorrichtung gesammelt werden (reinigerfreies System).
  • Überdies wird die Oberfläche des elektrophotographischen photosensitiven Elements 1 mit Vorbelichtungslicht 10 von einer Vorbelichtungsvorrichtung (nicht gezeigt) zur Neutralisationsbehandlung bestrahlt und wird dann wieder für die Bilderzeugung verwendet. Wenn die Ladevorrichtung 3 eine Kontaktladevorrichtung ist, die beispielsweise eine Ladewalze wie in 2 gezeigt verwendet, wird die Vorbelichtung nicht notwendigerweise benötigt.
  • In der vorliegenden Verwendung können zwei oder mehr Bestandteile ausgewählt aus den strukturellen Bestandteilen, wie etwa das elektrophotographische photosensitive Element 1, die Ladevorrichtung 3, die Entwicklervorrichtung 5 und die Reinigungsvorrichtung 9 integral in einem Behälter, wie etwa einer Prozesskartusche, gestützt sein. Diese Prozesskartusche kann abnehmbar an dem Hauptkörper eines elektrophotographischen Apparats anbringbar sein. Beispielsweise sind das elektrophotographische photosensitive Element 1 und zumindest eine Vorrichtung ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus der Ladevorrichtung 3, der Entwicklervorrichtung 5, der Transfervorrichtung 6 und der Reinigungsvorrichtung 9 integral gestützt, um eine Prozesskartusche 11 aufzubauen, die abnehmbar an dem Hauptkörper eines elektrophotographischen Apparats mit einer Führungsvorrichtung 12, wie etwa eine Schiene des Hauptkörpers des elektrophotographischen Apparats, anbringbar ist. Beispiele des Belichtungslichts 4 beinhalten reflektiertes Licht und Durchlicht von einer Kopie und Licht, das beispielsweise durch Abtasten mit Laserstrahlen, Betrieb eines LED-Arrays oder Betrieb eines Flüssigkristall-Verschluss-Arrays, die gemäß den Signalen, die durch Einlesen der Information einer Kopie mit einem Sensor konvertiert sind, eingestrahlt wird.
  • Beispiele
  • Die vorliegende Erfindung wird nun detaillierter durch Beispiele beschrieben werden, ist allerdings nicht darauf begrenzt. Es ist anzumerken, dass „Teil(e)“ in den Beispielen „Masseteil(e)“ bedeutet.
  • Beispiel 1
  • Ein Aluminiumzylinder mit einem Durchmesser von 30 mm und einer Länge von 357,5 mm wurde als ein Träger verwendet (elektrisch leitfähiger Träger).
  • Nachfolgend wurden 100 Teile Zinkoxidteilchen (durchschnittlicher Teilchendurchmesser: 70 nm, spezifische Oberfläche: 15 m2/g, Pulverwiderstand: 3,7×105 Ω·cm) und 500 Teile Toluol unter Rühren vermischt. Zu der Mischung wurden 1,5 Teile Silankupplungsmittel, N-(2-Aminoethyl)-3-Aminopropyltrimethoxysilan (Handelsname: KBM603, hergestellt von Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) zugegeben, gefolgt von Rühren für 6 Stunden. Nachfolgend wurde Toluol unter reduziertem Druck abdestilliert, und der Rest wurde unter Erwärmen bei 140°C für 6 Stunden getrocknet, um Zinkoxidteilchen zu ergeben, deren Oberflächen mit dem Silankupplungsmittel behandelt waren.
  • Nachfolgend wurden 15 Teile Butyralharz (Handelsname: BM-1, hergestellt von Sekisui Chemical Co., Ltd.) als ein Polyolharz und 15 Teile eines geblockten Isocyanats (Handelsname: Desmodur BL3175/1, hergestellt von Sumika Bayer Urethane Co., Ltd.) in einer Lösungsmittelmischung aus 73,5 Teilen Methylethylketon und 73,5 Teilen 1-Butanol aufgelöst. Zu der resultierenden Lösung wurden 81 Teile der Zinkoxidteilchen, deren Oberflächen mit dem Silankupplungsmittel behandelt waren, 0,8 Teile Alizarin (hergestellt von Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), und 0,81 Teile Zinkoctylat (Handelsname: Nikkaoxtics Zinc Zn 8%, hergestellt von Nihon Kagaku Sangyo, Co., Ltd.) gegeben. Die Mischung wurde einer Dispersionsbehandlung einer Sandmühle unter Verwendung von Glaskügelchen mit 0,8 mm Durchmesser bei einer Atmosphärentemperatur von 23±3°C für 3 Stunden unterzogen. Zu der resultierenden Mischung wurden 0,01 Teile Silikonöl (Handelsname: SH28PA, hergestellt von Dow Corning Toray Co., Ltd.) und 5,6 Teile Silikonharzteilchen (Handelsname: Tospearl 145, hergestellt von GE Toshiba Silicone Co., Ltd.) zugegeben, gefolgt von Rühren, um eine Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht zuzubereiten. Das Blockungsmittel, das dem geblockten Isocyanat (Desmodur BL3175/1) zu eigen war, war ein Oximderivat.
  • Diese Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht wurde auf den oben genannten Träger aufgebracht, um einen Beschichtungsfilm zu bilden. Der resultierende Beschichtungsfilm wurde getrocknet und bei 155°C für 30 Minuten gehärtet, um eine Grundierungsschicht mit einer Dicke von 20 µm zu bilden.
  • Nachfolgend wurden 2 Teile Polyvinylbutyral (Handelsname: S-Lek BX-1, hergestellt von Sekisui Chemical Co., Ltd.) in 100 Teilen Cyclohexan aufgelöst. Zu dieser Lösung wurden 4 Teile Hydroxygalliumphthalocyaninkristalle (ladungserzeugendes Material) mit einer Kristallform, die starke Peaks bei einem Bragg-Winkel 2θ±0,2° von 7,4° und einem Bragg-Winkel 2θ±0,2° von 28,1° bei CuKα charakteristischer Röntgenbeugung aufzeigt, und 0,04 Teile einer Verbindung, die durch die folgende strukturelle Formel (A) dargestellt ist, zugegeben:
    Figure DE112013005738B4_0001
  • Die Mischung wurde einer Dispersionsbehandlung mit einer Sandmühle unter Verwendung von Glaskügelchen von 1 mm Durchmesser bei einer Atmosphärentemperatur von 23±3°C für eine Stunde unterzogen. Nach der Dispersionsbehandlung wurden 100 Teile Ethylacetat zu der resultierenden Dispersion zugegeben, um eine Beschichtungsflüssigkeit für eine ladungserzeugende Schicht zu bilden.
  • Diese Beschichtungsflüssigkeit für eine ladungserzeugende Schicht wurde auf die Grundierungsschicht durch Eintauchen aufgebracht, um einen Beschichtungsfilm zu bilden. Der resultierende Beschichtungsfilm wurde bei 90°C für 10 Minuten getrocknet, um eine ladungserzeugende Schicht mit einer Dicke von 0,20 µm zu bilden.
  • Nachfolgend wurde eine Beschichtungsflüssigkeit für eine ladungstransportierende Schicht durch Auflösen von 50 Teilen einer Aminverbindung (ladungstransportierendes Material (lochtransportierendes Material)), die durch die folgende strukturelle Formel (B) dargestellt ist:
    Figure DE112013005738B4_0002
    50 Teilen einer Aminverbindung (ladungstransportierendes Material (lochtransportierendes Material)), das durch die folgende strukturelle Formel (C) dargestellt ist:
    Figure DE112013005738B4_0003
    und 100 Teilen eines Polycarbonats (Handelsname: Iupilon Z400, hergestellt von Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.) in einer Lösungsmittelmischung aus 650 Teilen Chlorbenzol und 150 Teilen Dimethoxymethan zubereitet.
  • Diese Beschichtungsflüssigkeit für eine ladungstransportierende Schicht wurde für einen Tag stehengelassen. Nachfolgend wurde die Beschichtungsflüssigkeit für eine ladungstransportierende Schicht auf die ladungserzeugende Schicht durch Tauchen aufgebracht, um einen Beschichtungsfilm zu bilden. Der resultierende Beschichtungsfilm wurde bei 110°C für 30 Minuten getrocknet, um eine ladungstransportierende Schicht mit einer Dicke von 21 µm zu bilden.
  • Nachfolgend wurden 36 Teile einer durch die folgende strukturelle Formel (D) dargestellten Verbindung:
    Figure DE112013005738B4_0004
    4 Teile Polytetrafluorethylenteilchen (Handelsname: Lubron L-2, hergestellt von Daikin Industries, Ltd.), und 60 Teile n-Propylalkohol gemischt. Die Mischung wurde einer Dispersionsbehandlung mit einem Ultrahochdruckdispergierer unterzogen, um eine Beschichtungsflüssigkeit für eine Schutzschicht (Beschichtungsflüssigkeit für eine zweite ladungstransportierende Schicht) zu bilden.
  • Diese Beschichtungsflüssigkeit für eine Schutzschicht wurde auf die ladungstransportierende Schicht durch Tauchen aufgebracht, um einen Beschichtungsfilm zu bilden. Der resultierende Beschichtungsfilm wurde bei 50°C für 5 Minuten getrocknet. Nach dem Trocknen wurde der Beschichtungsfilm mit Elektronenstrahlen bei einer Beschleunigungsspannung von 70 kV und einer absorbierten Dosis von 8000 Gy für 1,6 Sekunden unter einer Stickstoffatmosphäre bestrahlt, während der Träger rotiert wurde. Der Beschichtungsfilm wurde dann unter einer Stickstoffatmosphäre so wärmebehandelt, dass die Temperatur des Beschichtungsfilms für 3 Minuten bei 130°C gehalten wurde. Die Sauerstoffkonzentration während der Behandlung von der Bestrahlung mit Elektronenstrahlen bis zu der Wärmebehandlung für 3 Minuten war 20 ppm. Nachfolgend wurde der Beschichtungsfilm in der Luft so wärmebehandelt, dass die Temperatur des Beschichtungsfilms für 30 Minuten bei 100°C gehalten wurde, um eine Schutzschicht (zweite ladungstransportierende Schicht) mit einer Dicke von 5 µm zu bilden.
  • Somit wurde ein zylindrisches elektrophotographisches photosensitives Element (photosensitive Trommel) mit einem Träger, einer Grundierungsschicht, einer ladungserzeugenden Schicht, einer ladungstransportierenden Schicht und einer Schutzschicht (zweite ladungstransportierende Schicht) in dieser Reihenfolge hergestellt.
  • Die Auswertung wird nun beschrieben werden. Auswertung der Variation des Lichtpotenzials bei wiederholter Verwendung.
  • Ein Kopierer (Handelsname: GP405) eines elektrophotographischen Systems, das von Canon Kabushiki Kaisha hergestellt war, wurde so modifiziert, dass die Prozessgeschwindigkeit 300 mm/s war und dass die Ladevorrichtung ein System zum Aufbringen einer durch Überlagern einer AC-Spannung (bzw. Wechselspannung) über eine DC-Spannung (bzw. Gleichspannung) erhaltenen Spannung auf die Ladewalze war, und wurde für die Auswertung verwendet. Das elektrophotographische photosensitive Element, das oben hergestellt wurde, wurde auf die Trommelkartusche des Apparats zur Auswertung montiert, und eine Auswertung wurde wie folgt durchgeführt.
  • Der Apparat für die Auswertung wurde unter einer Umgebung gewöhnlicher Temperatur und gewöhnlicher Feuchtigkeit-(23°C/50% RH) oder unter einer Hochtemperatur- und Hochfeuchtigkeitsumgebung (30°C/85% RH) aufgesetzt. Das Laden wurde unter Bedingungen ausgeführt, so dass die Spitzenspannung des Wechselspannungsbestandteils der Spannung, die an die Ladewalze angelegt war, 1500 V war, die Frequenz 1500 Hz war und der Gleichspannungsbestandteil -850 V war. Die Belichtungsbedingungen wurden so gesteuert, dass das initiale Lichtpotenzial (VIA) (vor der wiederholten Verwendung), wenn die Oberfläche eines elektrophotographischen photosensitiven Elements mit Laserstrahlung als Bildbelichtungslicht bestrahlt wurde, -200 V war. Die Steuerung der Belichtungsbedingungen wurde für jedes elektrophotographische photosensitive Element einschließlich des elektrophotographischen photosensitiven Elements der Beispiele und Vergleichsbeispiele, die nachfolgend beschrieben sind, durchgeführt.
  • Das Oberflächenpotenzial eines elektrophotographischen photosensitiven Elements wurde durch Herausnehmen der Entwicklerkartusche aus dem Auswertungsapparat, Fixieren einer Potenzialsonde (Handelsname: Model 6000B-8, hergestellt von Trek Co., Ltd.) daran, und Verbinden eines Oberflächenpotenziometers (Handelsname: Model 344, hergestellt von Trek Co., Ltd.) daran gemessen. Die Potenzialsonde wurde an der Mitte relativ zu dem elektrophotographischen photosensitiven Element in der axialen Richtung des elektrophotographischen photosensitiven Elements plattiert, und so, dass sie von der Oberfläche des elektrophotographischen photosensitiven Elements 3 mm entfernt war.
  • Die Auswertung wird nun beschrieben werden. Die Auswertung wurde ohne ändern der Ladebedingungen und der Belichtungsbedingungen, die zu Anfang eingestellt wurden, durchgeführt.
  • Das elektrophotographische photosensitive Element wurde bei einer Umgebung gewöhnlicher Temperatur und gewöhnlicher Feuchtigkeit (23°C/50% RH) für 24 Stunden stehengelassen. Nachfolgend wurde das elektrophotographische photosensitive Element auf eine Trommelkartusche montiert, und die Trommelkartusche wurde an dem Auswertungsapparat angebracht, gefolgt von der Ausgabe von 50.000 Blatt (wiederholte Verwendung des elektrophotographischen photosensitiven Elements durch kontinuierliche Zuführung).
  • Nach der Bildausgabe auf 50.000 Blatt wurde der Auswertungsapparat 5 Minuten stehengelassen, und die Kartusche für die Entwicklung wurde durch einen Potenzialmessapparat, der aus der Potenzialsonde und dem Oberflächenpotenziometer aufgebaut war, ersetzt. Das Lichtpotenzial (VINB) der Oberfläche des elektrophotographischen photosensitiven Elements nach der Ausgabe auf 50.000 Blatt (nach wiederholter Verwendung) wurde gemessen, um die Variationsmenge, ΔVIN (ΔVIN = | VINB | - | VINA |) des Lichtpotenzials der Oberfläche des elektrophotographischen photosensitiven Elements bei wiederholter Verwendung zu berechnen, wobei VINA das Lichtpotenzial der Oberfläche des elektrophotographischen photosensitiven Elements vor der wiederholten Verwendung (initiales Lichtpotenzial) bezeichnet; und | VINB | und | VINA | die Absolutwerte von VINB und VINAbezeichnen.
  • Das unter denselben obigen Bedingungen hergestellte elektrophotographische photosensitive Element wurde bei einer Hochtemperatur- und Hochfeuchtigkeits-(30°C/85% RH)-Umgebung für 72 Stunden stehengelassen. Nachfolgend wurde das elektrophotographische photosensitive Element auf eine Trommelkartusche montiert und die Trommelkartusche wurde an dem Auswertungsapparat angebracht, gefolgt von der Ausgabe auf 50.000 Blatt (wiederholte Verwendung des elektrophotographischen photosensitiven Elements durch kontinuierliches Zuführen).
  • Nach der Bildausgabe auf 50.000 Blatt wurde der Auswertungsapparat 5 Minuten stehengelassen, und die Kartusche für die Entwicklung wurde durch einen Potenzialmessapparat, der aus der Potenzialsonde und dem Oberflächenpotenziometer aufgebaut war, ersetzt. Das Lichtpotenzial (VIHB) der Oberfläche des elektrophotographischen photosensitiven Elements nach der Ausgabe auf 50.000 Blatt (nach wiederholter Verwendung) wurde gemessen, um die Variationsmenge, ΔVIH (ΔVIH = | VIHB | - | VIHA |) des Lichtpotenzials der Oberfläche des elektrophotographischen photosensitiven Elements bei wiederholter Verwendung zu berechnen, wobei VIHA das Lichtpotenzial der Oberfläche des elektrophotographischen photosensitiven Elements vor der wiederholten Verwendung (initiales Lichtpotenzial) bezeichnet; und | VIHB | und | VIHA | die Absolutwerte von VIHB und VIHA bezeichnen.
  • Der Unterschied ΔVI (ΔVI = | VIH | - | VIN |) zwischen der Variationsmenge (ΔVIN) des Lichtpotenzials bei wiederholter Verwendung unter der Normaltemperatur- und Normalfeuchtigkeits-(23°C/50% RH)-Umgebung und der Variationsmenge (ΔVIH) des Lichtpotenzials bei wiederholter Verwendung unter der Hochtemperatur- und Hochfeuchtigkeits-(30°C/85% RH)-Umgebung wurde ausgewertet, wobei | ΔVIH | und | VIN | die Absolutwerte von ΔVIH und ΔVIN bezeichnen. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.
  • Beispiel 2
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 1 hergestellt, mit der Ausnahme, dass 0,81 Teile Bismutoctylat (Handelsname: PUCAT 25 Bi 25%, hergestellt von Nihon Kagaku Sangyo Co., Ltd.) anstatt 0,81 Teile des Zinkoctylats, das in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 1 enthalten war, verwendet wurden, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.
  • Beispiel 3
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 1 hergestellt, mit der Ausnahme, dass 0,81 Teile Kobaltoctylat (Handelsname: Nikkaoctics Cobalt, hergestellt von Nihon Kagaku Sangyo Co., Ltd.) anstatt 0,81 Teile des Zinkoctylats, das in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 1 enthalten war, verwendet wurden, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.
  • Beispiel 4
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 1 hergestellt, mit der Ausnahme, dass 0,81 Teile Eisenoctylat (Handelsname: Nikkaoctics, hergestellt von Nihon Kagaku Sangyo Co., Ltd.) anstatt 0,81 Teile des Zinkoctylats, das in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 1 enthalten war, verwendet wurden, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.
  • Beispiel 5
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 1 hergestellt, mit der Ausnahme, dass 0,81 Teile Zinknaphthenat (Handelsname: Naphthecs Zinc, hergestellt von Nihon Kagaku Sangyo Co., Ltd.) anstatt 0,81 Teile des Zinkoctylats, das in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 1 enthalten war, verwendet wurden, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.
  • Beispiel 6
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 1 hergestellt, mit der Ausnahme, dass 0,81 Teile Bismutnaphthenat (Handelsname: PUCAT B7, hergestellt von Nihon Kagaku Sangyo Co., Ltd.) anstatt 0,81 Teile des Zinkoctylats, das in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 1 enthalten war, verwendet wurden, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.
  • Beispiel 7
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 1 hergestellt, mit der Ausnahme, dass 0,81 Teile Kobaltnaphthenat (Handelsname: Naphthecs Cobalt, hergestellt von Nihon Kagaku Sangyo Co., Ltd.) anstatt 0,81 Teile des Zinkoctylats, das in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 1 enthalten war, verwendet wurden, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.
  • Beispiel 8
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 1 hergestellt, mit der Ausnahme, dass 0,81 Teile Eisennaphthenat (Handelsname: Naphthecs Iron, hergestellt von Nihon Kagaku Sangyo Co., Ltd.) anstatt 0,81 Teile des Zinkoctylats, das in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 1 enthalten war, verwendet wurden, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.
  • Beispiel 9
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 1 hergestellt, mit der Ausnahme, dass die Menge des Zinkoctylats, das in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht enthalten war, auf 0,41 Teile von 0,81 Teilen in Beispiel 1 geändert wurde, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.
  • Beispiel 10
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 1 hergestellt, mit der Ausnahme, dass die Menge des Zinkoctylats, das in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht enthalten war, auf 4,1 Teile von 0,81 Teilen in Beispiel 1 geändert wurde, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.
  • Beispiel 11
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 1 hergestellt, mit der Ausnahme, dass die Menge des Zinkoctylats, das in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht enthalten war, auf 8,2 Teile von 0,81 Teilen in Beispiel 1 geändert wurde, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.
  • Beispiel 12
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 2 hergestellt, mit der Ausnahme, dass die Menge des Zinkoctylats, das in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht enthalten war, auf 16 Teile von 0,81 Teilen in Beispiel 1 geändert wurde, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.
  • Beispiel 13
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 2 hergestellt, mit der Ausnahme, dass die Menge des Bismutoctylats, das in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht enthalten war, auf 0,41 Teile von 0,81 Teilen in Beispiel 2 geändert wurde, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.
  • Beispiel 14
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 2 hergestellt, mit der Ausnahme, dass die Menge des Bismutoctylats, das in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht enthalten war, auf 4,1 Teile von 0,81 Teilen in Beispiel 2 geändert wurde, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.
  • Beispiel 15
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 2 hergestellt, mit der Ausnahme, dass die Menge des Bismutoctylats, das in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht enthalten war, auf 8,2 Teile von 0,81 Teilen in Beispiel 2 geändert wurde, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.
  • Beispiel 16
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 2 hergestellt, mit der Ausnahme, dass die Menge des Bismutoctylats, das in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht enthalten war, auf 16 Teile von 0,81 Teilen in Beispiel 2 geändert wurde, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.
  • Beispiele 17 bis 24
  • Elektrophotographische photosensitive Elemente wurden wie in den Beispielen 1 bis 8 hergestellt, mit der Ausnahme, dass 100 Teile der Zinkoxidteilchen (spezifische Oberfläche: 15 m2/g, Pulverwiderstand: 3,7×105 Ω·cm), die vor der Oberflächenbehandlung zum Anfertigen der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in jedem der Beispiel 1 bis 8 verwendet wurden, gegen 100 Teile anderer Zinkoxidteilchen (durchschnittlicher Teilchendurchmesser: 35 nm, spezifische Oberfläche: 40 m2/g, Pulverwiderstand: 1,6×106 Ω·cm) vor der Oberflächenbehandlung geändert wurden, und wurden ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.
  • Beispiel 25
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 1 hergestellt, mit der Ausnahme, dass 15 Teile des Butyralharzes, das zum Anfertigen der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 1 verwendet wurde, zu 20 Teilen eines anderen Butyralharzes (Handelsname: BM-S, hergestellt von Sekisui Chemical Co., Ltd.) geändert wurden, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 2 gezeigt.
  • Beispiel 26
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 1 hergestellt, mit der Ausnahme, dass 15 Teile des Butyralharzes, das zum Anfertigen der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 1 verwendet wurde, zu 17 Teilen Polyacrylpolyol (Handelsname: Burnock WE-310, hergestellt von DIC Corporation) geändert wurden, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 2 gezeigt.
  • Beispiel 27
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 1 hergestellt, mit der Ausnahme, dass 15 Teile des Butyralharzes, das zum Anfertigen der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 1 verwendet wurde, zu 15 Teilen eines anderen Butyralharzes (Handelsname: BX-1, hergestellt von Sekisui Chemical Co., Ltd.) geändert wurden, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 2 gezeigt.
  • Beispiele 28 bis 31
  • Elektrophotographische photosensitive Elemente wurden wie in den Beispielen 1 bis 4 hergestellt, mit der Ausnahme, dass 15 Teile des Butyralharzes, das zum Anfertigen der Beschichtungsflüssigkeit in der Grundierungsschicht in jedem der Beispiele 1 bis 4 verwendet wurde, zu 15 Teilen eines anderen geblockten Isocyanats (Handelsname: Desmodur BL3575/1, hergestellt von Sumika Bayer Urethane Co., Ltd.) geändert wurde, und dass die Bedingungen für das Trocknen des Beschichtungsfilms der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht zu 150°C für 20 Minuten von 155°C für 30 Minuten geändert wurden, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 2 gezeigt. Das dem geblockten Isocyanat (Desmodur BL3575/1) zu eigene Blockungsmittel war ein Pyrazolderivat.
  • Beispiele 32 bis 39
  • Elektrophotographische photosensitive Elemente wurden wie in den Beispielen 9 bis 16 hergestellt, mit der Ausnahme, dass 15 Teile des geblockten Isocyanats, das zum Anfertigen der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in jedem der Beispiele 9 bis 16 verwendet wurde, zu 15 Teilen eines anderen geblockten Isocyanats (Handelsname: Desmodur BL3575/1, hergestellt von Sumika Bayer Urethane Co., Ltd.) geändert wurden, und dass die Bedingungen für das Trocknen des Beschichtungsfilms aus der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht zu 150°C für 20 Minuten von 155°C für 30 Minuten geändert wurden, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 2 gezeigt.
  • Beispiel 40
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 1 hergestellt, mit der Ausnahme, dass 30 Teile eines Phenolharzes (Handelsname: Plyophen J325, hergestellt von DIC Corporation) anstatt des Butyralharzes und des geblockten Isocyanats zum Herstellen der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 1 verwendet wurden, und wurde wie in Beispiel 1 ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 2 gezeigt.
  • Beispiel 41
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 1 hergestellt, mit der Ausnahme, dass 15 Teile N-Methoxynylon und 3 Teile Copolymernylon anstatt des Butyralharzes und des geblockten Isocyanats zum Herstellen der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 1 verwendet wurden, und das die Bedingungen zum Trocknen des Beschichtungsfilms der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht auf 100°C für 20 Minuten von 155°C für 30 Minuten geändert wurden, und dass die Dicke der Grundierungsschicht auf 2,0 µm geändert wurde, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 gezeigt.
  • Beispiel 42
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 1 hergestellt, mit der Ausnahme, dass 15 Teile eines Alkidharzes (Handelsname: Beckolite M-6401-50, hergestellt von DIC Corporation) und 15 Teile eines Melaminharzes (Handelsname: Super Beckamine G-821-60, hergestellt von DIC Corporation) anstatt des Butyralharzes und des geblockten Isocyanats, die zum Herstellen der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 1 verwendet wurden, verwendet wurden, und dass die Dicke der Grundierungsschicht auf 2,0 µm geändert wurde, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 gezeigt.
  • Beispiel 43
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 1 produziert, mit der Ausnahme, dass das Silankupplungsmittel, das zum Anfertigen der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 1 verwendet wurde, zu 1,5 Teilen eines anderen Silankupplungsmittels, N-(2-Aminoethyl)-3-Aminopropyl-Methyldimethoxysilan, (Handelsname: KBM602, hergestellt von Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) geändert wurde, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 gezeigt.
  • Beispiel 44
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 43 produziert, mit der Ausnahme, dass 15 Teile des geblockten Isocyanats, das zum Anfertigen der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 43 verwendet wurde, zu 15 Teilen eines anderen geblockten Isocyanats (Desmodur BL3575/1) geändert wurden, und dass die Bedingungen zum Trocknen des Beschichtungsfilms aus der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht auf 150°C für 20 Minuten von 155°C für 30 Minuten geändert wurden, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 gezeigt.
  • Beispiel 45
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 44 produziert, mit der Ausnahme, dass 0,8 Teile 2,3,4-Trihydroxybenzophenon (hergestellt von Tokyo Chemical Industry, Co., Ltd.) anstatt 0,8 Teilen des Alyzerins, das in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 44 enthalten war, verwendet wurden, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 gezeigt.
  • Beispiel 46
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 45 produziert, mit der Ausnahme, dass 0,81 Teile Bismutoctylat (PUCAT 25 Bi 25%) anstatt 0,81 Teile des Zinkoctylats, das in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 45 enthalten war, verwendet wurden, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 gezeigt.
  • Beispiel 47
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 45 produziert, mit der Ausnahme, dass 5,6 Teile der Silikonharzteilchen, die in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 45 enthalten sind, zu 5,6 Teile anderer Silikonharzteilchen (Handelsname: Tospearl 120, hergestellt von GE Toshiba Silicone Co., Ltd.) geändert wurden, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 gezeigt.
  • Beispiel 48
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 45 produziert, mit der Ausnahme, dass 5,6 Teile vernetzte Polymethylmethacrylat-(PMMA)-Teilchen (Handelsname: TECHPOLYMERSSX-102, hergestellt von Sekisui Plastics Co., Ltd., durchschnittlicher Teilchendurchmesser: 2,5 µm) anstatt 5,6 Teile der Silikonharzteilchen in Beispiel 45 verwendet wurden, und dass die Dicke der Grundierungsschicht auf 32 µm geändert wurde, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 gezeigt.
  • Beispiel 49
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 1 produziert, mit der Ausnahme, dass 81 Teile Titanoxidteilchen, die mit sauerstoffdefizientem Zinnoxid (SnO2) beschichtet waren, anstatt 81 Teile der oberflächenbehandelten Zinkoxidteilchen, die in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 1 enthalten sind, verwendet wurden, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 gezeigt. Die Titanoxidteilchen, die mit sauerstoffdefizientem Zinnoxid beschichtet sind, hatten einen durchschnittlichen Teilchendurchmesser von 70 nm, eine spezifische Oberfläche von 30 m2/g, einen Pulverwiderstand von 120 Ω·cm, und eine Bedeckung mit Zinnoxid (SnO2) von 40% (Masseverhältnis).
  • Beispiel 50
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 1 produziert, mit der Ausnahme, dass 0,8 Teile des Alizarins, das in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 1 enthalten war, nicht verwendet wurden, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 gezeigt.
  • Beispiel 51
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 50 produziert, mit der Ausnahme, dass 30 Teile eines Phenolharzes (Plyophen J325) anstatt des Butyralharzes und des geblockten Isocyanats, die in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 50 enthalten waren, verwendet wurden, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 gezeigt.
  • Beispiel 52
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 50 produziert, mit der Ausnahme, dass 15 Teile N-Methoxynylon und 3 Teile Copolymernylon anstatt des Butyralharzes und des geblockten Isocyanats, die in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 50 enthalten sind, verwendet wurden, dass 5,6 Teile der Silikonharzteilchen nicht verwendet wurden, dass die Bedingungen für das Trocknen des Beschichtungsfilms aus der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht auf 100°C für 20 Minuten von 155°C für 30 Minuten geändert wurden, und dass die Dicke der Grundierungsschicht auf 2,0 µm geändert wurde, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 gezeigt.
  • Beispiel 53
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 50 produziert, mit der Ausnahme, dass 12 Teile Polyacrylpolyol (Burnock WE-300) und 16 Teile geblocktes Isocyanat (Handelsname: Takenate WB-920, hergestellt von Mitsui Chemicals Polyurethanes, Inc.) anstatt des Butyralharzes und des geblockten Isocyanats, die in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 50 enthalten waren, verwendet wurden, dass 5,6 Teile der Silikonharzteilchen nicht verwendet wurden, und dass die Dicke der Grundierungsschicht auf 2,0 µm geändert wurde, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 gezeigt. Das Blockungsmittel, das dem geblockten Isocyanat zu eigen war (Takenate WB-920), war ein Lactamderivat.
  • Beispiel 54
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 53 produziert, mit der Ausnahme, dass 0,81 Teile Bismutoctylat (PUCAT 25 Bi 25%) anstatt 0,81 Teilen Zinkoctylat, das in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 53 enthalten war, verwendet wurden, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 gezeigt.
  • Beispiel 55
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 53 produziert, mit der Ausnahme, dass 0,81 Teile Cobaltoctylat (Nikkaoctics Cobalt) anstatt 0,81 Teilen Zinkoctylat, das in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 53 enthalten war, verwendet wurden, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 gezeigt.
  • Beispiel 56
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 53 produziert, mit der Ausnahme, dass 0,81 Teile Eisenoctylat (Nikkaoctics) anstatt 0,81 Teilen Zinkoctylat, das in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 53 enthalten war, verwendet wurden, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 gezeigt.
  • Beispiel 57
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 53 produziert, mit der Ausnahme, dass 81 Teile Zinkoxidteilchen (durchschnittlicher Teilchendurchmesser: 35 nm, spezifische Oberfläche: 40 m2/g, Pulverwiderstand: 1,6×106 Ω·cm) anstatt 81 Teilen der Zinkoxidteilchen, die in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 53 enthalten waren, verwendet wurden, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 gezeigt.
  • Beispiel 58
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 53 produziert, mit der Ausnahme, dass 70 Teile Zinkoxidteilchen (durchschnittlicher Teilchendurchmesser: 50 nm, spezifische Oberfläche: 30 m2/g, Pulverwiderstand: 1,2×105 Ω·cm) anstatt 81 Teilen der Zinkoxidteilchen, die in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 53 enthalten waren, verwendet wurden, und dass 1 Teil wasserlösliche Cellulose (Handelsname: Metolose 65SH-50, hergestellt von Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) und 18 Teile einer geblockten Isocyanatverbindung (Handelsname: Bayhydur VPLS2310, hergestellt von Sumika Bayer Urethane Co., Ltd.) anstatt 12 Teilen des Polyacrylpolyols und 16 Teilen des geblockten Isocyanats verwendet wurden, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 gezeigt. Das Blockungsmittel, das der geblockten Isocyanatverbindung (Bayhydur VPLS2310) zu eigen war, war ein Lactamderivat.
  • Beispiel 59
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 57 produziert, mit der Ausnahme, dass 10 Teile wasserlösliches Nylon (Handelsname: Tresin FS350E5AS, hergestellt von Nagase ChemteX Corporation) und 15 Teile geblocktes Isocyanat (Handelsname: Takenate WB-920, hergestellt von Mitsui Chemicals Polyurethanes, Inc.) anstatt 12 Teilen des Polyacrylpolyols und 16 Teilen des geblockten Isocyanats, die in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 57 enthalten waren, verwendet wurden, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 gezeigt. Das Blockungsmittel, das dem geblockten Isocyanat (Takenate WB-820) zu eigen war, war ein Lactamderivat.
  • Beispiel 60
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 42 produziert, mit der Ausnahme, dass 81 Teile Titanoxidteilchen, deren Oberfläche mit N-(2-Aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilan (Handelsname: KBM603, hergestellt von Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) behandelt war, anstatt 81 Teilen der Zinkoxidteilchen, die in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 42 enthalten waren, verwendet wurden, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 gezeigt. Die Titanoxidteilchen, die verwendet wurden, wiesen einen durchschnittlichen Teilchendurchmesser von 70 nm, eine spezifische Oberfläche von 15 m2/g und einen Pulverwiderstand von 7,8×104 Ω·cm auf.
  • Beispiel 61
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 60 produziert, mit der Ausnahme, dass 0,81 Teile Bismutoctylat (PUCAT 25 Bi 25%) anstatt 0,81 Teile des Zinkoctylats, das in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 60 enthalten war, verwendet wurden, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 4 gezeigt.
  • Beispiel 62
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 60 produziert, mit der Ausnahme, dass 0,81 Teile Cobaltoctylat (Nikkaoctics Cobalt) anstatt 0,81 Teilen des Zinkoctylats, das in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 60 enthalten war, verwendet wurden, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 4 gezeigt.
  • Beispiel 63
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 60 produziert, mit der Ausnahme, dass 0,81 Teile Eisenoctylat (Nikkaoctics) anstatt 0,81 Teilen des Zinkoctylats, das in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 60 enthalten war, verwendet wurden, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 4 gezeigt.
  • Beispiele 64 bis 68
  • Elektrophotographische photosensitive Elemente wurden wie in Beispielen 49 bis 53 produziert, mit der Ausnahme, dass 81 Teile Titanoxidteilchen anstatt 81 Teilen der Zinkoxidteilchen, die in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in jedem der Beispiele 49 bis 53 enthalten waren, verwendet wurden, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 4 gezeigt. Die Titanoxidteilchen, die verwendet wurden, wiesen einen durchschnittlichen Teilchendurchmesser von 70 nm, eine spezifische Oberfläche von 15 m2/g und einen Pulverwiderstand von 3,2×105 Ω·cm auf.
  • Beispiel 69
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 60 produziert, mit der Ausnahme, dass 81 Teile Zinkoxidteilchen anstatt 81 Teilen der Titanoxidteilchen, die in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 60 enthalten waren, verwendet wurden, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 4 gezeigt. Die Zinkoxidteilchen, die verwendet wurden, wiesen einen durchschnittlichen Teilchendurchmesser von 35 nm, eine spezifische Oberfläche von 40 m2/g und einen Pulverwiderstand von 1,6×106 Ω·cm auf.
  • Beispiel 70
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 66 produziert, mit der Ausnahme, dass 81 Teile Zinnoxidteilchen, die mit Antimon dotiert sind, anstatt 81 Teilen der Titanoxidteilchen, die in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 66 enthalten sind, verwendet wurden, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 4 gezeigt. Die Zinnoxidteilchen, die mit Antimon dotiert sind, wiesen einen durchschnittlichen Teilchendurchmesser von 50 nm, eine spezifische Oberfläche von 30 m2/g und einen Pulverwiderstand von 6,9×106 Ω·cm auf.
  • Beispiel 71
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 1 produziert, mit der Ausnahme, dass 0,81 Teile Nickeloctylat (Handelsname: Nikkaoctics Nickel, hergestellt von Nihon Kagaku Sangyo Co., Ltd.) anstatt 0,81 Teilen des Zinkoctylats, das in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 1 enthalten war, verwendet wurden, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.
  • Beispiel 72
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 1 produziert, mit der Ausnahme, dass 0,81 Teile Kupfernaphthenat (Handelsname: Naphthecs Copper Cu 5%, hergestellt von Nihon Kagaku Sangyo Co., Ltd.) anstatt 0,81 Teilen des Zinkoctylats, das in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 1 enthalten war, verwendet wurden, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.
  • Vergleichsbeispiel 1
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 1 produziert, mit der Ausnahme, dass 81 Teile der Zinkoxidteilchen nicht in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 1 enthalten waren, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 5 gezeigt.
  • Vergleichsbeispiel 2
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 11 produziert, mit der Ausnahme, dass 81 Teile der Zinkoxidteilchen nicht in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 11 enthalten waren, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 5 gezeigt.
  • Vergleichsbeispiele 3 bis 5
  • Elektrophotographische photosensitive Elemente wurden wie in Beispielen 2 bis 4 produziert, mit der Ausnahme, dass 81 Teile der Zinkoxidteilchen nicht in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht jedes der Beispiele 2 bis 4 enthalten waren, und wurden ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 5 gezeigt.
  • Vergleichsbeispiel 6
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 1 produziert, mit der Ausnahme, dass 0,81 Teile des Zinkoctylats nicht in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 1 enthalten waren, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 5 gezeigt.
  • Vergleichsbeispiele 7 bis 9
  • Elektrophotographische photosensitive Elemente wurden wie in Beispielen 40 bis 42 produziert, mit der Ausnahme, dass 0,81 Teile des Zinkoctylats nicht in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht jedes der Beispiele 40 bis 42 enthalten waren, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 5 gezeigt.
  • Vergleichsbeispiel 10
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 60 produziert, mit der Ausnahme, dass 0,81 Teile des Zinkoctylats nicht in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 60 enthalten waren, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 5 gezeigt.
  • Vergleichsbeispiel 11
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 64 produziert, mit der Ausnahme, dass 0,81 Teile des Zinkoctylats nicht in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 64 enthalten waren, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 5 gezeigt.
  • Vergleichsbeispiele 12 bis 14
  • Elektrophotographische photosensitive Elemente wurden wie in Beispielen 66 bis 68 produziert, mit der Ausnahme, dass 0,81 Teile des Zinkoctylats nicht in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht jedes der Beispiele 66 bis 68 enthalten waren, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 5 gezeigt.
  • Vergleichsbeispiel 15
  • Ein elektrophotographisches photosensitives Element wurde wie in Beispiel 70 produziert, mit der Ausnahme, dass 0,81 Teile des Zinkoctylats nicht in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in Beispiel 70 enthalten waren, und wurde ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 5 gezeigt.
  • Vergleichsbeispiele 16 und 17
  • Elektrophotographische photosensitive Elemente wurden wie in Beispielen 71 und 72 produziert, mit der Ausnahme, dass 81 Teile der Zinkoxidteilchen nicht in der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht in jedem der Beispiele 71 und 72 enthalten waren, und wurden ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 5 gezeigt.
    [Tabelle 1] Tabelle 1
    Grundierungsschicht ΔVI [V]
    Material Filmdicke [µm]
    (1) Metalloxidteilchen (2) Bindemittelharz (3) Organosäure-Metall (4) weitere Additive
    Verhältnis zu (1) [Masse-%]
    Beispiel 1* Zinkoxidteilchen Urethanharz Zinkoctylat 1 Alizarin 20 6
    Beispiel 2 Zinkoxidteilchen Urethanharz Bismutoctylat 1 Alizarin 20 6
    Beispiel 3* Zinkoxidteilchen Urethanharz Cobaltoctylat 1 Alizarin 20 10
    Beispiel 4 Zinkoxidteilchen Urethanharz Eisenoctylat 1 Alizarin 20 13
    Beispiel 5* Zinkoxidteilchen Urethanharz Zinknaphthenat 1 Alizarin 20 12
    Beispiel 6 Zinkoxidteilchen Urethanharz Bismutnaphthenat 1 Alizarin 20 12
    Beispiel 7* Zinkoxidteilchen Urethanharz Cobaltnaphthenat 1 Alizarin 20 16
    Beispiel 8 Zinkoxidteilchen Urethanharz Eisennaphthenat 1 Alizarin 20 16
    Beispiel 9* Zinkoxidteilchen Urethanharz Zinkoctylat 0,5 Alizarin 20 9
    Beispiel 10* Zinkoxidteilchen Urethanharz Zinkoctylat 5 Alizarin 20 5
    Beispiel 11* Zinkoxidteilchen Urethanharz Zinkoctylat 10 Alizarin 20 4
    Beispiel 12* Zinkoxidteilchen Urethanharz Zinkoctylat 20 Alizarin 20 4
    Beispiel 13 Zinkoxidteilchen Urethanharz Bismutoctylat 0,5 Alizarin 20 9
    Beispiel 14 Zinkoxidteilchen Urethanharz Bismutoctylat 5 Alizarin 20 5
    Beispiel 15 Zinkoxidteilchen Urethanharz Bismutoctylat 10 Alizarin 20 4
    Beispiel 16 Zinkoxidteilchen Urethanharz Bismutoctylat 20 Alizarin 20 4
    Beispiel 17* Zinkoxidteilchen Urethanharz Zinkoctylat 1 Alizarin 20 6
    Beispiel 18 Zinkoxidteilchen Urethanharz Bismutoctylat 1 Alizarin 20 6
    Beispiel 19* Zinkoxidteilchen Urethanharz Cobaltnaphthenat 1 Alizarin 20 11
    Beispiel 20 Zinkoxidteilchen Urethanharz Eisennaphthenat 1 Alizarin 20 10
    *Referenzbeispiel

    [Tabelle 2] Tabelle 2
    Grundierungsschicht ΔVI [V]
    Material Filmdicke [µm]
    (1) Metalloxidteilchen (2) Bindemittelharz (3) OrganosäureMetall (4) weitere Additive
    Verhältnis zu (1) [Masse-%]
    Beispiel 21 Zinkoxidteilchen Urethanharz Bismutnaphthenat 1 Alizarin 20 12
    Beispiel 22* Zinkoxidteilchen Urethanharz Zinknaphthenat 1 Alizarin 20 12
    Beispiel 23* Zinkoxidteilchen Urethanharz Cobaltnaphthenat 1 Alizarin 20 17
    Beispiel 24 Zinkoxidteilchen Urethanharz Eisennaphthenat 1 Alizarin 20 18
    Beispiel 25* Zinkoxidteilchen Urethanharz Zinkoctylat 1 Alizarin 20 6
    Beispiel 26* Zinkoxidteilchen Urethanharz Zinkoctylat 1 Alizarin 20 7
    Beispiel 27* Zinkoxidteilchen Urethanharz Zinkoctylat 1 Alizarin 20 6
    Beispiel 28* Zinkoxidteilchen Urethanharz Zinkoctylat 1 Alizarin 20 8
    Beispiel 29 Zinkoxidteilchen Urethanharz Bismutoctylat 1 Alizarin 20 6
    Beispiel 30* Zinkoxidteilchen Urethanharz Cobaltoctylat 1 Alizarin 20 16
    Beispiel 31 Zinkoxidteilchen Urethanharz Eisenoctylat 1 Alizarin 20 15
    Beispiel 32* Zinkoxidteilchen Urethanharz Zinkoctylat 0,5 Alizarin 20 8
    Beispiel 33* Zinkoxidteilchen Urethanharz Zinkoctylat 5 Alizarin 20 6
    Beispiel 34* Zinkoxidteilchen Urethanharz Zinkoctylat 10 Alizarin 20 5
    Beispiel 35* Zinkoxidteilchen Urethanharz Zinkoctylat 20 Alizarin 20 5
    Beispiel 36 Zinkoxidteilchen Urethanharz Bismutoctylat 1 Alizarin 20 8
    Beispiel 37 Zinkoxidteilchen Urethanharz Bismutoctylat 1 Alizarin 20 6
    Beispiel 38 Zinkoxidteilchen Urethanharz Bismutoctylat 1 Alizarin 20 5
    Beispiel 39 Zinkoxidteilchen Urethanharz Bismutoctylat 1 Alizarin 20 5
    Beispiel 40* Zinkoxidteilchen Phenolharz Zinkoctylat 1 Alizarin 20 8
    *Referenzbeispiel

    [Tabelle 3] Tabelle 3
    Grundierungsschicht ΔVI [V]
    Material Filmdicke [µm]
    (1) Metalloxidteilchen (2) Bindemittelharz (3) Organosäure-Metall (4) Weitere Additive
    Verhältnis zu (1) [Masse-%]
    Beispiel 41* Zinkoxidteilchen Amidharz Zinkoctylat 1 Alizarin 2 25
    Beispiel 42* Zinkoxidteilchen Alkid-Melaminharz Zinkoctylat 1 Alizarin 2 23
    Beispiel 43* Zinkoxidteilchen Urethanharz Zinkoctylat 1 Alizarin 20 8
    Beispiel 44* Zinkoxidteilchen Urethanharz Zinkoctylat 1 Alizarin 20 10
    Beispiel 45* Zinkoxidteilchen Urethanharz Zinkoctylat 1 Benzophenon 20 5
    Beispiel 46 Zinkoxidteilchen Urethanharz Bismutoctylat 1 Benzophenon 20 7
    Beispiel 47 Zinkoxidteilchen Urethanharz Bismutoctylat 1 Benzophenon 20 8
    Beispiel 48 Zinkoxidteilchen Urethanharz Bismutoctylat 1 Benzophenon 20 7
    Beispiel 49* Titanoxidteilchen Urethanharz Zinkoctylat 1 Alizarin 32 10
    Beispiel 50* Zinkoxidteilchen Urethanharz Zinkoctylat 1 keine 20 19
    Beispiel 51* Zinkoxidteilchen Phenolharz Zinkoctylat 1 keine 20 14
    Beispiel 52* Zinkoxidteilchen Amidharz Zinkoctylat 1 keine 2 14
    Beispiel 53* Titanoxidteilchen Urethanharz Zinkoctylat 1 keine 2 17
    Beispiel 54 Titanoxidteilchen Urethanharz Bismutoctylat 1 keine 20 15
    Beispiel 55* Titanoxidteilchen Urethanharz Cobaltoctylat 1 keine 20 21
    Beispiel 56 Titanoxidteilchen Urethanharz Eisenoctylat 1 keine 20 23
    Beispiel 57* Titanoxidteilchen Urethanharz Zinkoctylat 1 keine 20 9
    Beispiel 58* Titanoxidteilchen Urethanharz Zinkoctylat 1 keine 20 12
    Beispiel 59* Titanoxidteilchen Urethanharz Zinkoctylat 1 keine 20 11
    Beispiel 60* Titanoxidteilchen Alkid-Melaminharz Zinkoctylat 1 keine 2 13
    *Referenzbeispiel
    [Tabelle 4] Tabelle 4
    Grundierungsschicht ΔVI [V]
    Material Filmdicke [µm]
    (1) Metalloxidteilchen (2) Bindemittelharz (3) OrganosäureMetall (4) Weitere Additive
    Verhältnis zu (1) [Masse-%]
    Beispiel 61 Titanoxidteilchen Alkid-Melaminharz Bismutoctylat 1 keine 2 12
    Beispiel 62* Titanoxidteilchen Alkid-Melaminharz Cobaltoctylat 1 keine 2 19
    Beispiel 63 Titanoxidteilchen Alkid-Melaminharz Eisenoctylat 1 keine 2 22
    Beispiel 64* Titanoxidteilchen Urethanharz Zinkoctylat 1 Alizarin 20 10
    Beispiel 65* Titanoxidteilchen Urethanharz Zinkoctylat 1 keine 20 19
    Beispiel 66* Titanoxidteilchen Phenolharz Zinkoctylat 1 keine 20 17
    Beispiel 67* Titanoxidteilchen Amidharz Zinkoctylat 1 keine 2 26
    Beispiel 68* Titanoxidteilchen Urethanharz Zinkoctylat 1 keine 20 14
    Beispiel 69* Zinkoxidteilchen Urethanharz Zinkoctylat 1 keine 20 13
    Beispiel 70* mit Antimon dotierte Zinnoxidteilchen Phenolharz Zinkoctylat 1 keine 20 21
    Beispiel 71 Zinkoxidteilchen Urethanharz Nickeloctylat 1 Alizarin 20 8
    Beispiel 72 Zinkoxidteilchen Urethanharz Kupfernaphthenat 1 Alizarin 20 9
    *Referenzbeispiel
    [Tabelle 5] Tabelle 5
    Grundierungsschicht ΔVI [V]
    Material Filmdicke [µm]
    (1) Metalloxidteilchen (2) Bindemittelharz (3) Organosäure-Metall (4) Weitere Additive
    Verhältnis zu (1) [Masse-%]
    Vergleichsbeispiel 1 keine Urethanharz Zinkoctylat Alizarin 20 150
    Vergleichsbeispiel 2 keine Urethanharz Zinkoctylat Alizarin 20 140
    Vergleichsbeispiel 3 keine Urethanharz Bismutoctylat Alizarin 20 150
    Vergleichsbeispiel 4 keine Urethanharz Cobaltoctylat Alizarin 20 160
    Vergleichsbeispiel 5 keine Urethanharz Eisenoctylat Alizarin 20 150
    Vergleichsbeispiel 6 Zinkoxidteilchen Urethanharz keine 0 Alizarin 20 40
    Vergleichsbeispiel 7 Zinkoxidteilchen Phenolharz keine 0 Alizarin 20 80
    Vergleichsbeispiel 8 Zinkoxidteilchen Amidharz keine 0 Alizarin 2 90
    Vergleichsbeispiel 9 Zinkoxidteilchen Alkid-Melaminharz keine 0 Alizarin 2 50
    Vergleichsbeispiel 10 Titanoxidteilchen Urethanharz keine 0 keine 20 100
    Vergleichsbeispiel 11 Titanoxidteilchen Phenolharz keine 0 keine 20 95
    Vergleichsbeispiel 12 Titanoxidteilchen Amidharz keine 0 keine 2 130
    Vergleichsbeispiel 13 Titanoxidteilchen Urethanharz keine 0 keine 2 110
    Vergleichsbeispiel 14 Titanoxidteilchen Alkid-Melaminharz keine 0 keine 2 120
    Vergleichsbeispiel 15 mit Antimon dotierte Zinnoxidteilchen Phenolharz keine 0 Alizarin 20 70
    Vergleichsbeispiel 16 keine Urethanharz Nickeloctylat Alizarin 20 150
    Vergleichsbeispiel 17 keine Urethanharz Kupfernaphthenat Alizarin 20 140
  • Während die vorliegende Erfindung mit Bezug auf exemplarische Ausführungsformen beschrieben worden ist, ist zu verstehen, dass die Erfindung nicht auf die offenbarten exemplarischen Ausführungsformen begrenzt ist. Dem Schutzbereich der folgenden Ansprüche ist die breiteste Interpretation zuzumessen, so dass sie all solche Modifikationen und äquivalenten Strukturen und Funktionen mit einschließt.
  • Diese Anmeldung beansprucht den Vorteil der japanischen Patentanmeldung Nr. JP 2012 - 263 255 A angemeldet am 30. November 2012 und Nr. JP 2013 - 030 117 A , angemeldet am 19. Februar 2013 und Nr. JP 2013 - 219 644 A , angemeldet am 22. Oktober 2013, welche hiermit in ihrer Gesamtheit durch Bezugnahme mit eingeschlossen sind.

Claims (20)

  1. Elektrophotographisches photosensitives Element, das umfasst: einen Träger; eine Grundierungsschicht, die auf dem Träger gebildet ist; und eine photosensitive Schicht, die auf der Grundierungsschicht gebildet ist, wobei die Grundierungsschicht umfasst: Metalloxidteilchen, deren Oberflächen mit einem Silankupplungsmittel behandelt worden sind; ein Bindmittelharz; und ein Metallsalz einer organischen Säure mit zumindest einem Metallelement ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Bismut, Eisen, Nickel und Kupfer.
  2. Elektrophotographisches photosensitives Element nach Anspruch 1, wobei das Metallsalz einer organischen Säure zumindest ein Metallelement aufweist ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Bismut und Eisen.
  3. Elektrophotographisches photosensitives Element nach Anspruch 1 oder 2, wobei das Metallsalz einer organischen Säure ein Metallsalz einer monovalenten Carbonsäure ist.
  4. Elektrophotographisches photosensitives Element nach Anspruch 3, wobei die monovalente Carbonsäure Octylsäure, Naphthensäure oder Salicylsäure ist.
  5. Elektrophotographisches photosensitives Element nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei das Bindemittelharz ein Urethanharz ist.
  6. Elektrophotographisches photosensitives Element nach Anspruch 5, wobei das Urethanharz ein Polymerprodukt aus einer Zusammensetzung ist, die eine geblockte Isocyanatverbindung und ein Polyol enthält, wobei die geblockte Isocyanatverbindung ein Blockungsmittel aufweist, das eine Pyrazolverbindung oder ein Derivat davon oder eine Lactamverbindung oder ein Derivat davon ist.
  7. Elektrophotographisches photosensitives Element nach einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei die Metalloxidteilchen zumindest ein Metalloxid ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Zinkoxid, Titanoxid und Zinnoxid enthalten.
  8. Elektrophotographisches photosensitives Element nach einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei das Silankupplungsmittel ein Aminosilankupplungsmittel ist.
  9. Elektrophotographisches photosensitives Element nach einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei ein Verhältnis (Massenverhältnis) der Metalloxidteilchen zu dem Bindemittelharz (Metalloxidteilchen/Bindemittelharz), die in der Grundierungsschicht enthalten sind, 1/1 oder mehr und 4/1 oder weniger ist.
  10. Elektrophotographisches photosensitives Element nach einem der Ansprüche 1 bis 9, wobei ein Verhältnis (Masseverhältnis) des Metallsalzes einer organischen Säure zu den Metalloxidteilchen (Metallsalz einer organischen Säure/Metalloxidteilchen), die in der Grundierungsschicht enthalten sind, 1/200 oder mehr und 2/10 oder weniger ist.
  11. Prozesskartusche, die abnehmbar an einen Hauptkörper eines elektrophotographischen Apparats anbringbar ist, wobei die Prozesskartusche integral trägt: ein elektrophotographisches photosensitives Element nach einem der Ansprüche 1 bis 10; und zumindest eine Vorrichtung ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Ladevorrichtungen, Entwicklervorrichtungen, Transfervorrichtungen und Reinigungsvorrichtungen.
  12. Elektrophotographischer Apparat, der umfasst: ein elektrophotographisches photosensitives Element nach einem der Ansprüche 1 bis 10, eine Ladevorrichtung, eine Belichtungsvorrichtung, eine Entwicklervorrichtung, und eine Transfervorrichtung.
  13. Verfahren zum Herstellen eines elektrophotographischen photosensitiven Elements, umfassend einen Träger, eine Grundierungsschicht, die auf dem Träger gebildet ist, und eine photosensitive Schicht, die auf der Grundierungsschicht gebildet ist, wobei das Verfahren umfasst: Zubereiten einer Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht, die enthält: Metalloxidteilchen, deren Oberflächen mit einem Silankupplungsmittel behandelt worden sind, eine geblockte Isocyanatverbindung, ein Polyol, und ein Metallsalz einer organischen Säure mit zumindest einem Metallelement ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Bismut, Eisen, Nickel und Kupfer; und Bilden eines Beschichtungsfilms aus der Beschichtungsflüssigkeit für eine Grundierungsschicht, und Trocknen und Härten des Beschichtungsfilms, um die Grundierungsschicht zu bilden.
  14. Verfahren zum Herstellen eines elektrophotographischen photosensitiven Elements nach Anspruch 13, wobei das Metallsalz einer organischen Säure zumindest ein Metallelement aufweist ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Bismut und Eisen.
  15. Verfahren zum Herstellen eines elektrophotographischen photosensitiven Elements nach Anspruch 13 oder 14, wobei das Metallsalz einer organischen Säure ein Metallsalz einer monovalenten Carbonsäure ist.
  16. Verfahren zum Herstellen eines elektrophotographischen photosensitiven Elements nach Anspruch 15, wobei die monovalente Carbonsäure Octylsäure, Naphthensäure oder Salicylsäure ist.
  17. Verfahren zum Herstellen eines elektrophotographischen photosensitiven Elements nach einem der Ansprüche 13 bis 16, wobei die Metalloxidteilchen zumindest ein Metalloxid ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Zinkoxid, Titanoxid und Zinnoxid enthalten.
  18. Verfahren zum Herstellen eines elektrophotographischen photosensitiven Elements nach einem der Ansprüche 13 bis 17, wobei das Silankupplungsmittel ein Aminosilankupplungsmittel ist.
  19. Verfahren zum Herstellen eines elektrophotographischen photosensitiven Elements nach einem der Ansprüche 13 bis 18, wobei ein Verhältnis (Masseverhältnis) des Metallsalzes einer organischen Säure zu den Metalloxidteilchen (Metallsalz einer organischen Säure/Metalloxidteilchen), die in der Grundierungsschicht enthalten sind, 1/200 oder mehr und 2/10 oder weniger ist.
  20. Verfahren zum Herstellen eines elektrophotographischen photosensitiven Elements nach einem der Ansprüche 13 bis 19, wobei die geblockte Isocyanatverbindung ein Blockungsmittel aufweist, das eine Pyrazolverbindung oder ein Derivat davon oder eine Lactamverbindung oder ein Derivat davon ist.
DE112013005738.7T 2012-11-30 2013-11-18 Elektrophotographisches photosensitives Element, Verfahren zum Herstellen eines elektrophotographischen photosensitiven Elements, Prozesskartusche und elektrophotographischer Apparat Active DE112013005738B4 (de)

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Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9766562B2 (en) * 2015-05-13 2017-09-19 Ricoh Company, Ltd. Photoconductor, image forming apparatus, and process cartridge
JP6717004B2 (ja) * 2016-03-31 2020-07-01 コニカミノルタ株式会社 電子写真感光体およびこれを用いた画像形成装置
JP6711107B2 (ja) * 2016-04-25 2020-06-17 株式会社リコー 感光体、画像形成装置、及びプロセスカートリッジ
JP6769112B2 (ja) * 2016-05-25 2020-10-14 株式会社リコー 電子写真感光体、画像形成装置、及びプロセスカートリッジ
JP6781396B2 (ja) * 2016-05-30 2020-11-04 株式会社リコー 感光体、画像形成装置及びプロセスカートリッジ
JP6838324B2 (ja) * 2016-09-05 2021-03-03 富士ゼロックス株式会社 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、画像形成装置
JP2019015776A (ja) * 2017-07-04 2019-01-31 株式会社リコー 電子写真感光体、画像形成装置およびプロセスカートリッジ
JP7034655B2 (ja) 2017-10-03 2022-03-14 キヤノン株式会社 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置
US10948838B2 (en) * 2018-08-24 2021-03-16 Canon Kabushiki Kaisha Electrophotographic photosensitive member, process cartridge and electrophotographic apparatus
JP7330807B2 (ja) * 2018-08-24 2023-08-22 キヤノン株式会社 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置
JP7167588B2 (ja) * 2018-09-21 2022-11-09 富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置
US10754266B2 (en) * 2018-09-21 2020-08-25 Fuji Xerox Co., Ltd. Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus
JP7225784B2 (ja) 2018-12-21 2023-02-21 富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69026129T2 (de) 1989-04-20 1996-08-29 Canon Kk Elektrophotographisches lichtempfindliches Element
JP2004219904A (ja) 2003-01-17 2004-08-05 Kinzuiji Kagi Kofun Yugenkoshi 電子写真感光体
DE69728593T2 (de) 1996-01-22 2005-03-31 Fuji Xerox Co., Ltd. Verschweissbares Gewebe
JP2006030700A (ja) 2004-07-16 2006-02-02 Fuji Xerox Co Ltd 電子写真感光体、電子写真用カートリッジおよび電子写真装置
JP2008065171A (ja) 2006-09-08 2008-03-21 Fuji Xerox Co Ltd 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置
JP2009058603A (ja) 2007-08-30 2009-03-19 Fuji Xerox Co Ltd 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置
JP2013030117A (ja) 2011-07-29 2013-02-07 Kyocera Document Solutions Inc 情報処理装置、アプリケーション生成システム、及びアプリケーション生成プログラム
JP2013219644A (ja) 2012-04-11 2013-10-24 Sharp Corp 放送受信装置

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62133465A (ja) * 1985-12-05 1987-06-16 Nippon Mining Co Ltd 電子写真用積層型有機感光体
JPS62239163A (ja) 1986-04-11 1987-10-20 Nippon Mining Co Ltd 電子写真用積層型有機感光体
JPH07225449A (ja) 1994-02-16 1995-08-22 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀画像形成材料
JPH08262776A (ja) 1995-03-22 1996-10-11 Konica Corp 電子写真感光体とそれを用いた装置ユニット及び画像形成装置
DE69629632T2 (de) * 1995-07-05 2004-06-17 Canon K.K. Fixierteil und Fixiergerät hiermit
JP3336846B2 (ja) 1996-01-22 2002-10-21 富士ゼロックス株式会社 電子写真感光体
US5795690A (en) 1995-11-21 1998-08-18 Fuji Xerox Co., Ltd. Electrophotographic photoreceptor, image forming apparatus and image forming process
JP3604914B2 (ja) 1998-08-24 2004-12-22 シャープ株式会社 電子写真感光体およびそれを用いた画像形成装置
JP2001249480A (ja) * 1999-12-28 2001-09-14 Ricoh Co Ltd 電子写真感光体
JP4514759B2 (ja) * 1999-12-28 2010-07-28 株式会社リコー 電子写真感光体
JP2001330972A (ja) 2000-05-23 2001-11-30 Fuji Denki Gazo Device Kk 電子写真用感光体およびそれを備えた電子写真装置
US6849367B2 (en) 2001-09-14 2005-02-01 Ricoh Company, Ltd. Electrophotographic photoconductor, process for forming an image, image forming apparatus and a process cartridge for the same
JP4228793B2 (ja) * 2003-06-20 2009-02-25 富士ゼロックス株式会社 画像形成装置及びプロセスカートリッジ
JP2008216812A (ja) 2007-03-06 2008-09-18 Fuji Xerox Co Ltd 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置
US7579126B2 (en) * 2007-03-06 2009-08-25 Xerox Corporation Hole blocking layer containing photoconductors
JP2008220356A (ja) 2007-03-14 2008-09-25 Sakaue Shibaen Co Ltd サイレージ製造方法及び製造装置
JP2011118299A (ja) * 2009-12-07 2011-06-16 Sharp Corp 電子写真感光体、それを備えた画像形成装置および画像形成方法
JP2014123114A (ja) * 2012-11-20 2014-07-03 Mitsubishi Chemicals Corp 電子写真感光体、電子写真感光体カートリッジ、及び画像形成装置
JP6263982B2 (ja) * 2012-11-20 2018-01-24 三菱ケミカル株式会社 電子写真感光体、電子写真感光体カートリッジ、及び画像形成装置
JP6307850B2 (ja) * 2012-11-20 2018-04-11 三菱ケミカル株式会社 電子写真感光体、電子写真感光体カートリッジ、及び画像形成装置

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69026129T2 (de) 1989-04-20 1996-08-29 Canon Kk Elektrophotographisches lichtempfindliches Element
DE69728593T2 (de) 1996-01-22 2005-03-31 Fuji Xerox Co., Ltd. Verschweissbares Gewebe
JP2004219904A (ja) 2003-01-17 2004-08-05 Kinzuiji Kagi Kofun Yugenkoshi 電子写真感光体
JP2006030700A (ja) 2004-07-16 2006-02-02 Fuji Xerox Co Ltd 電子写真感光体、電子写真用カートリッジおよび電子写真装置
JP2008065171A (ja) 2006-09-08 2008-03-21 Fuji Xerox Co Ltd 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置
JP2009058603A (ja) 2007-08-30 2009-03-19 Fuji Xerox Co Ltd 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置
JP2013030117A (ja) 2011-07-29 2013-02-07 Kyocera Document Solutions Inc 情報処理装置、アプリケーション生成システム、及びアプリケーション生成プログラム
JP2013219644A (ja) 2012-04-11 2013-10-24 Sharp Corp 放送受信装置

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