JP6769112B2 - 電子写真感光体、画像形成装置、及びプロセスカートリッジ - Google Patents
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Description
本発明は、電子写真感光体、並びに前記電子写真感光体を用いた画像形成装置、及びプロセスカートリッジに関する。
画像形成装置を用いた画像形成方法において、画像は、電子写真感光体（以下、「感光体」と称することもある）に、帯電工程、露光工程、現像工程、転写工程、除電工程などの工程を施すことにより形成される。前記電子写真感光体は、一般的に、支持体と、該支持体上に形成された下引き層と、前記下引き層上に積層された感光層とを含む構成であり、前記下引き層、及び前記感光層には、可とう性、熱安定性、成膜性などにおける利点から、有機材料が広く用いられている。
前記電子写真感光体は、帯電工程と除電工程を繰り返すため、長期間にわたって使用すると、静電負荷によって、帯電性が低下するなど電気特性の低下が徐々に発生する。前記電気特性の低下は、出力画像の画像品質への影響が大きく、画像濃度の低下、地肌汚れ（以下、地汚れ、かぶり、黒ポチと称することもある）の発生、連続出力時の画像の均質性の低下など重大な問題を引き起こすことが知られている。
前記電子写真感光体の電気特性及び画像品質を安定化させるため、例えば、金属酸化物粒子、及びオキシム類を添加した下引き層を有する電子写真感光体が提案されている（例えば、特許文献１参照）。しかし、前記提案では、長期間使用時における安定した電気特性及び画像品質を維持できていない
したがって、長期にわたって十分に安定した電気特性及び画像品質を得ることができる電子写真感光体の開発が強く求められている。
したがって、長期にわたって十分に安定した電気特性及び画像品質を得ることができる電子写真感光体の開発が強く求められている。
本発明は、長期にわたって使用しても十分に安定した電気特性を得ることができ、長期にわたって使用しても画像形成時の残像や地肌汚れが発生しない優れた電子写真感光体を提供することを目的とする。
前記課題を解決するための手段としての本発明の電子写真感光体は、支持体と、該支持体上に、下引き層及び感光層をこの順に有し、前記下引き層が、酸化亜鉛粒子とウレタン結合を有する樹脂とメチルエチルケトンオキシムとを含有し、前記下引き層が、下記式を満たす。
（式） １０＜Ｍ／Ｌ＜４００
ただし、Ｍは、前記下引き層に含有される前記メチルエチルケトンオキシムの割合（ｐｐｍ）を表し、Ｌは、前記下引き層の平均厚み（μｍ）を表す。
（式） １０＜Ｍ／Ｌ＜４００
ただし、Ｍは、前記下引き層に含有される前記メチルエチルケトンオキシムの割合（ｐｐｍ）を表し、Ｌは、前記下引き層の平均厚み（μｍ）を表す。
本発明によると、長期にわたって使用しても十分に安定した電気特性を得ることができ、長期にわたって使用しても画像形成時の残像や地肌汚れが発生しない優れた電子写真感光体を提供することができる。
（電子写真感光体）
本発明の電子写真感光体は、支持体と、該支持体上に、下引き層及び感光層をこの順に有してなり、更に必要に応じてその他の層を有してなる。
本発明の電子写真感光体は、前記下引き層に本発明で規定する材料を有するものであり、前記支持体、前記感光層、及び前記その他の層については、従来と同様のものを適用することができる。
本発明の電子写真感光体は、支持体と、該支持体上に、下引き層及び感光層をこの順に有してなり、更に必要に応じてその他の層を有してなる。
本発明の電子写真感光体は、前記下引き層に本発明で規定する材料を有するものであり、前記支持体、前記感光層、及び前記その他の層については、従来と同様のものを適用することができる。
＜下引き層＞
前記下引き層は、酸化亜鉛粒子とウレタン結合を有する樹脂とメチルエチルケトンオキシムとを含有し、サリチル酸誘導体を含有することが好ましく、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
前記下引き層は、酸化亜鉛粒子とウレタン結合を有する樹脂とメチルエチルケトンオキシムとを含有し、サリチル酸誘導体を含有することが好ましく、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
前記下引き層は、支持体を均質な膜で完全に隠蔽されていること（耐リーク機能）と、支持体から感光層への不要な電荷（電子写真感光体の帯電極性と逆極性の電荷）の注入を抑制する機能（電荷注入阻止機能）と、感光層で形成された電荷のうち電子写真感光体の帯電極性と同極性の電荷を輸送する機能（電荷輸送機能）とを兼ね備え、長期にわたって安定な電子写真感光体を得るためにはこれらの特性が繰り返しの静電負荷によっても変化しないことが重要となる。従来の下引き層では、これら全てを兼ね備えることは困難であった。
これに対して、本発明者らが鋭意検討を重ねた結果、下引き層が、酸化亜鉛粒子とウレタン結合を有する樹脂とメチルエチルケトンオキシムとを含有し、前記下引き層が、下記式を満たすことでこれを達成できることを見出した。
（式） １０＜Ｍ／Ｌ＜４００
ただし、Ｍは、前記下引き層に含有される前記メチルエチルケトンオキシムの割合（ｐｐｍ）を表し、Ｌは、前記下引き層の平均厚み（μｍ）を表す。
これに対して、本発明者らが鋭意検討を重ねた結果、下引き層が、酸化亜鉛粒子とウレタン結合を有する樹脂とメチルエチルケトンオキシムとを含有し、前記下引き層が、下記式を満たすことでこれを達成できることを見出した。
（式） １０＜Ｍ／Ｌ＜４００
ただし、Ｍは、前記下引き層に含有される前記メチルエチルケトンオキシムの割合（ｐｐｍ）を表し、Ｌは、前記下引き層の平均厚み（μｍ）を表す。
＜＜酸化亜鉛粒子＞＞
前記酸化亜鉛粒子の個数基準の平均粒径（以下、「個数平均粒子径」と称することがある）としては、目的に応じて適宜選択することができるが、２０ｎｍ〜２００ｎｍが好ましく、５０ｎｍ〜１５０ｎｍがより好ましい。前記個数平均粒子径が、２０ｎｍ〜２００ｎｍであると、前記酸化亜鉛粒子が下引き層中に良好に分散され、電気特性が良好になる。
前記酸化亜鉛粒子の個数基準の平均粒径（以下、「個数平均粒子径」と称することがある）としては、目的に応じて適宜選択することができるが、２０ｎｍ〜２００ｎｍが好ましく、５０ｎｍ〜１５０ｎｍがより好ましい。前記個数平均粒子径が、２０ｎｍ〜２００ｎｍであると、前記酸化亜鉛粒子が下引き層中に良好に分散され、電気特性が良好になる。
前記酸化亜鉛粒子の製造方法としては、個数平均粒子径が２０ｎｍ〜２００ｎｍである酸化亜鉛粒子を製造できるものであれば、従来から知られている各種製造方法を用いることができ、例えば、乾式法、湿式法などが挙げられる。
前記乾式法としては、例えば、フランス法、アメリカ法などが挙げられる。前記フランス法は、金属亜鉛を加熱して亜鉛蒸気とし、酸化させた後に冷却する製造方法である。前記アメリカ法は、亜鉛鉱石に還元剤を加えて加熱し、還元、揮発させて得られる金属蒸気を空気酸化させる製造方法である。
前記湿式法としては、例えば、ドイツ法、水酸化亜鉛法などが挙げられる。前記ドイツ法としては、硫酸亜鉛または塩化亜鉛の水溶液にソーダ灰溶液を加えてできる白色の塩基性炭酸亜鉛の沈殿を水洗乾燥後か焼する製造方法である。前記水酸化亜鉛法は、水酸化亜鉛を生成させ、水洗乾燥後、約１，０００℃でか焼して、水酸化亜鉛粒子を数μｍに粒成長させる製造方法である。前記水酸化亜鉛法により製造された水酸化亜鉛は、陶磁器用などに用いられ、焼成亜鉛華とも言われる。
なお、前記湿式法により製造された酸化亜鉛粒子には、製法に由来してアルカリ金属イオンや硫酸イオン等が含まれている。
更に、超微粒子クラス（≦０．１μｍ）の酸化亜鉛粒子を得るのに蓚酸亜鉛の熱分解を利用する方法もある。
前記乾式法としては、例えば、フランス法、アメリカ法などが挙げられる。前記フランス法は、金属亜鉛を加熱して亜鉛蒸気とし、酸化させた後に冷却する製造方法である。前記アメリカ法は、亜鉛鉱石に還元剤を加えて加熱し、還元、揮発させて得られる金属蒸気を空気酸化させる製造方法である。
前記湿式法としては、例えば、ドイツ法、水酸化亜鉛法などが挙げられる。前記ドイツ法としては、硫酸亜鉛または塩化亜鉛の水溶液にソーダ灰溶液を加えてできる白色の塩基性炭酸亜鉛の沈殿を水洗乾燥後か焼する製造方法である。前記水酸化亜鉛法は、水酸化亜鉛を生成させ、水洗乾燥後、約１，０００℃でか焼して、水酸化亜鉛粒子を数μｍに粒成長させる製造方法である。前記水酸化亜鉛法により製造された水酸化亜鉛は、陶磁器用などに用いられ、焼成亜鉛華とも言われる。
なお、前記湿式法により製造された酸化亜鉛粒子には、製法に由来してアルカリ金属イオンや硫酸イオン等が含まれている。
更に、超微粒子クラス（≦０．１μｍ）の酸化亜鉛粒子を得るのに蓚酸亜鉛の熱分解を利用する方法もある。
前記酸化亜鉛粒子の個数平均粒子径は、下引き層中に観察される粒子を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）にて任意に１００個観察し、その投影面積を求め、得られた面積の円相当径を計算して平均粒子径を求め、その平均値を個数平均粒子径として求めることができる。
前記酸化亜鉛粒子の体積抵抗率（粉体抵抗率）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１０２Ω・ｃｍ〜１０１１Ω・ｃｍが好ましい。前記体積抵抗率が、１０２Ω・ｃｍ〜１０１１Ω・ｃｍであると、前記下引き層の耐リーク機能が得られ、地肌汚れなどの異常画像の発生が抑えられ、また、前記感光層から前記支持体への電荷輸送が十分行われ、残留電位上昇が抑えられる。
前記酸化亜鉛粒子の下引き層における含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１０質量％〜８０質量％が好ましく、３０質量％〜６０質量％がより好ましい。前記含有量が、１０質量％〜８０質量％であると、前記下引き層の体積抵抗が高くならず、良好な電気特定を維持することができ、また、製膜後にクラックなどによるリーク点が発生することなく、良好な電気特性を維持することができる。
＜＜＜表面処理剤＞＞＞
前記酸化亜鉛粒子は、表面処理剤により表面処理されていてもよい。前記表面処理剤としては、例えば、エチルトリメトキシシラン、ジイソプロピルジメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ジイソブチルジメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリエトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、ｎ−オクチルトリエトキシシラン、ｎ−デシルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
前記酸化亜鉛粒子を前記表面処理剤で処理する方法としては、乾式法、湿式法などが挙げられる。
前記酸化亜鉛粒子は、表面処理剤により表面処理されていてもよい。前記表面処理剤としては、例えば、エチルトリメトキシシラン、ジイソプロピルジメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ジイソブチルジメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリエトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、ｎ−オクチルトリエトキシシラン、ｎ−デシルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
前記酸化亜鉛粒子を前記表面処理剤で処理する方法としては、乾式法、湿式法などが挙げられる。
−乾式法−
前記乾式法としては、例えば、前記酸化亜鉛粒子をせん断力の大きなミキサー等で攪拌しながら、前記表面処理剤を直接的に滴下、又は有機溶剤に溶解させた前記表面処理剤を滴下し、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させることによって均一に処理する方法などが挙げられる。前記表面処理剤を滴下、噴霧する際には前記有機溶剤の沸点以下の温度で行われることが好ましい。前記有機溶剤の沸点より高い温度で噴霧すると、均一に攪拌される前に前記有機溶剤が蒸発し、前記表面処理剤が局所的に固まってしまい、均一な処理ができにくいことがある。前記表面処理剤を滴下、噴霧した後、更に１００℃以上で焼き付けを行うことができる。前記焼き付けは所望の電子写真特性が得られる温度、時間であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記乾式法としては、例えば、前記酸化亜鉛粒子をせん断力の大きなミキサー等で攪拌しながら、前記表面処理剤を直接的に滴下、又は有機溶剤に溶解させた前記表面処理剤を滴下し、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させることによって均一に処理する方法などが挙げられる。前記表面処理剤を滴下、噴霧する際には前記有機溶剤の沸点以下の温度で行われることが好ましい。前記有機溶剤の沸点より高い温度で噴霧すると、均一に攪拌される前に前記有機溶剤が蒸発し、前記表面処理剤が局所的に固まってしまい、均一な処理ができにくいことがある。前記表面処理剤を滴下、噴霧した後、更に１００℃以上で焼き付けを行うことができる。前記焼き付けは所望の電子写真特性が得られる温度、時間であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
−湿式法−
前記湿式法としては、例えば、前記酸化亜鉛粒子を、攪拌、超音波、サンドミルやアトライター、ボールミル等を用いて溶剤中に分散し、前記表面処理剤を添加し、攪拌あるいは分散したのち、溶剤除去することで均一に処理する方法などが挙げられる。前記溶剤除去の方法としては、例えば、ろ過、蒸留などが挙げられる。溶剤除去後、更に１００℃以上で焼き付けを行うことができる。前記焼き付けは、所望の電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。前記湿式法においては、前記表面処理剤を添加する前に前記酸化亜鉛粒子の含有水分を除去することもできる。前記含有水分を除去する方法としては、例えば、表面処理に用いる溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法などが挙げられる。
前記湿式法としては、例えば、前記酸化亜鉛粒子を、攪拌、超音波、サンドミルやアトライター、ボールミル等を用いて溶剤中に分散し、前記表面処理剤を添加し、攪拌あるいは分散したのち、溶剤除去することで均一に処理する方法などが挙げられる。前記溶剤除去の方法としては、例えば、ろ過、蒸留などが挙げられる。溶剤除去後、更に１００℃以上で焼き付けを行うことができる。前記焼き付けは、所望の電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。前記湿式法においては、前記表面処理剤を添加する前に前記酸化亜鉛粒子の含有水分を除去することもできる。前記含有水分を除去する方法としては、例えば、表面処理に用いる溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法などが挙げられる。
酸化亜鉛粒子の表面が前記表面処理剤により被覆されていることは、例えば、光電子分光法（ＥＳＣＡ）、オージェ電子分光法、飛行時間型二次イオン質量分析法（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）、フーリエ変換赤外分光法（ＦＴ−ＩＲ）などの表面分析法を用いることによって確認することができる。
＜＜ウレタン結合を有する樹脂＞＞
前記ウレタン結合を有する樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、イソシアネート基を有する化合物と水酸基を有する化合物とを熱硬化して得られたウレタン結合を有する樹脂であることが好ましい。
前記イソシアネート基を有する化合物としては、例えば、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、ＨＤＩが好ましい。
前記ウレタン結合を有する樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、イソシアネート基を有する化合物と水酸基を有する化合物とを熱硬化して得られたウレタン結合を有する樹脂であることが好ましい。
前記イソシアネート基を有する化合物としては、例えば、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、ＨＤＩが好ましい。
前記イソシアネート基を有する化合物としては、常温での反応の進行を抑制するためにブロック剤とも呼ばれる化合物で保護されているブロックイソシアネートであることが好ましい。
前記ブロック剤としては、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アルコール類、フェノール類、ラクタム類、オキシム類、アセト酢酸アルキルエステル類、マロン酸アルキルエステル類、フタルイミド類、イミダゾール類、塩化水素、シアン化水素、亜硫酸水素ナトリウムなどが挙げられる。これらの中でも、オキシム類が好ましい。
前記オキシム類としては、目的に応じて適宜選択することができるが、低沸点である点で、メチルエチルケトンオキシムが好ましい。前記ブロック剤が、低沸点であれば、下引き層中への残留が少なく、電気特性への影響が小さいという点で有利である。
前記ブロック剤としては、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アルコール類、フェノール類、ラクタム類、オキシム類、アセト酢酸アルキルエステル類、マロン酸アルキルエステル類、フタルイミド類、イミダゾール類、塩化水素、シアン化水素、亜硫酸水素ナトリウムなどが挙げられる。これらの中でも、オキシム類が好ましい。
前記オキシム類としては、目的に応じて適宜選択することができるが、低沸点である点で、メチルエチルケトンオキシムが好ましい。前記ブロック剤が、低沸点であれば、下引き層中への残留が少なく、電気特性への影響が小さいという点で有利である。
前記ブロックイソシアネートとしては、適宜合成したものを使用してもよいし、市販品を使用してもよい。前記市販品としては、例えば、スミジュールＢＬ３１７５（住友バイエルン株式会社製）などが挙げられる。
前記下引き層が、ウレタン結合を有する樹脂を含有していることは、例えば、フーリエ変換赤外分光（ＦＴ−ＩＲ）を用いることによって確認することができる。
前記下引き層が、ウレタン結合を有する樹脂を含有していることは、例えば、フーリエ変換赤外分光（ＦＴ−ＩＲ）を用いることによって確認することができる。
前記水酸基を有する化合物としては、前記イソシアネート基を有する化合物と反応してウレタン結合を有する樹脂を形成することができれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、樹脂であることが好ましい。
前記樹脂としては、例えば、ブチラール樹脂、ポリビニルアルコールなどが挙げられる。
前記樹脂としては、例えば、ブチラール樹脂、ポリビニルアルコールなどが挙げられる。
＜＜メチルエチルケトンオキシム＞＞
前記下引き層は、下記式を満たす。
（式）１０＜Ｍ／Ｌ＜４００
ただし、Ｍは、前記下引き層に含有される前記メチルエチルケトンオキシムの割合（ｐｐｍ）を表し、Ｌは、前記下引き層の平均厚み（μｍ）を表す。
前記Ｍ／Ｌは、１０より大きく、４００未満であり、５０以上３５０未満が好ましく、７０以上１２０未満がより好ましい。前記Ｍ／Ｌが、１０以下であると、前記下引き層の剥離、黒点の発生などの異常画像が発生することがあり、４００以上であると、前記下引き層における残留電位が高くなることがある。
前記下引き層は、下記式を満たす。
（式）１０＜Ｍ／Ｌ＜４００
ただし、Ｍは、前記下引き層に含有される前記メチルエチルケトンオキシムの割合（ｐｐｍ）を表し、Ｌは、前記下引き層の平均厚み（μｍ）を表す。
前記Ｍ／Ｌは、１０より大きく、４００未満であり、５０以上３５０未満が好ましく、７０以上１２０未満がより好ましい。前記Ｍ／Ｌが、１０以下であると、前記下引き層の剥離、黒点の発生などの異常画像が発生することがあり、４００以上であると、前記下引き層における残留電位が高くなることがある。
前記下引き層に含有される前記メチルエチルケトンオキシムの割合としては、２００ｐｐｍ〜５，０００ｐｐｍが好ましく、６００ｐｐｍ〜３，０００ｐｐｍがより好ましい。
前記下引き層における前記メチルエチルケトンオキシムの含有量を調節する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記下引き層の熱処理温度や熱処理時間で調節するのが好ましい。
前記メチルエチルケトンオキシムの含有量は、例えば、ＧＣ／ＭＳを用いることで測定することができる。
前記下引き層における前記メチルエチルケトンオキシムの含有量を調節する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記下引き層の熱処理温度や熱処理時間で調節するのが好ましい。
前記メチルエチルケトンオキシムの含有量は、例えば、ＧＣ／ＭＳを用いることで測定することができる。
＜＜サリチル酸誘導体＞＞
前記サリチル酸誘導体は、前記酸化亜鉛粒子の分散性、及び電気特性を向上させるために含有される。
前記サリチル酸誘導体としては、例えば、サリチル酸、アセチルサリチル酸、５−アセチルサリチル酸、３−アミノサリチル酸、５−アセチルサリチルアミド、５−アミノサリチル酸、４−アジドサリチル酸、サリチル酸ベンジル、サリチル酸４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル、サリチル酸ブチル、サリチル酸２−カルボキシフェニル、３，５−ジニトロサリチル酸、ジチオサリチル酸、アセチルサリチル酸エチル、サリチル酸２−エチルヘキシル、６−メチルサリチル酸エチル、サリチル酸エチル、５−ホルミルサリチル酸、４−（２−ヒドロキシエトキシ）サリチル酸、サリチル酸２−ヒドロキシエチル、サリチル酸イソアミル、サリチル酸イソブチル、サリチル酸イソプロピル、３−メトキシサリチル酸、４−メトキシサリチル酸、６−メトキシサリチル酸、アセチルサリチル酸メチル、５−アセチルサリチル酸メチル、５−アリル−３−メトキシサリチル酸メチル、５−ホルミルサリチル酸メチル、４−（２−ヒドロキシエトキシ）サリチル酸メチル、３−メトキシサリチル酸メチル、４−メトキシサリチル酸メチル、５−メトキシサリチル酸メチル、４−メチルサリチル酸メチル、５−メチルサリチル酸メチル、サリチル酸メチル、３−メチルサリチル酸、４−メチルサリチル酸、５−メチルサリチル酸、チオサリチル酸メチル、サリチル酸４−ニトロフェニル、５−ニトロサリチル酸、４−ニトロサリチル酸、３−ニトロサリチル酸、サリチル酸４−オクチルフェニル、サリチル酸フェニル、３−アセトキシ−２−ナフトアニリド、６−アセトキシ−２−ナフトエ酸、３−アミノ−２−ナフトエ酸、６−アミノ−２−ナフトエ酸、１，４−ジヒドロキシ−２−ナフトエ酸、３，５−ジヒドロキシ−２−ナフトエ酸、３，７−ジヒドロキシ−２−ナフトエ酸、２−エトキシ−１−ナフトエ酸、２−ヒドロキシ−１−（２−ヒドロキシ−４−スルホ−１−ナフチルアゾ）−３−ナフトエ酸、３−ヒドロキシ−７−メトキシ−２−ナフトエ酸、１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、２−ヒドロキシ−１−ナフトエ酸、３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、６−ヒドロキシ−１−ナフトエ酸、６−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸ヒドラジド、２−メトキシ−１−ナフトエ酸、３−メトキシ−２−ナフトエ酸、６−メトキシ−２−ナフトエ酸、６−アミノ−２−ナフトエ酸メチル、３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸メチル、６−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸メチル、３−メトキシ−２−ナフトエ酸メチル、１，４−ジヒドロキシ−２−ナフトエ酸フェニル、１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸フェニルなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記サリチル酸誘導体は、前記酸化亜鉛粒子の分散性、及び電気特性を向上させるために含有される。
前記サリチル酸誘導体としては、例えば、サリチル酸、アセチルサリチル酸、５−アセチルサリチル酸、３−アミノサリチル酸、５−アセチルサリチルアミド、５−アミノサリチル酸、４−アジドサリチル酸、サリチル酸ベンジル、サリチル酸４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル、サリチル酸ブチル、サリチル酸２−カルボキシフェニル、３，５−ジニトロサリチル酸、ジチオサリチル酸、アセチルサリチル酸エチル、サリチル酸２−エチルヘキシル、６−メチルサリチル酸エチル、サリチル酸エチル、５−ホルミルサリチル酸、４−（２−ヒドロキシエトキシ）サリチル酸、サリチル酸２−ヒドロキシエチル、サリチル酸イソアミル、サリチル酸イソブチル、サリチル酸イソプロピル、３−メトキシサリチル酸、４−メトキシサリチル酸、６−メトキシサリチル酸、アセチルサリチル酸メチル、５−アセチルサリチル酸メチル、５−アリル−３−メトキシサリチル酸メチル、５−ホルミルサリチル酸メチル、４−（２−ヒドロキシエトキシ）サリチル酸メチル、３−メトキシサリチル酸メチル、４−メトキシサリチル酸メチル、５−メトキシサリチル酸メチル、４−メチルサリチル酸メチル、５−メチルサリチル酸メチル、サリチル酸メチル、３−メチルサリチル酸、４−メチルサリチル酸、５−メチルサリチル酸、チオサリチル酸メチル、サリチル酸４−ニトロフェニル、５−ニトロサリチル酸、４−ニトロサリチル酸、３−ニトロサリチル酸、サリチル酸４−オクチルフェニル、サリチル酸フェニル、３−アセトキシ−２−ナフトアニリド、６−アセトキシ−２−ナフトエ酸、３−アミノ−２−ナフトエ酸、６−アミノ−２−ナフトエ酸、１，４−ジヒドロキシ−２−ナフトエ酸、３，５−ジヒドロキシ−２−ナフトエ酸、３，７−ジヒドロキシ−２−ナフトエ酸、２−エトキシ−１−ナフトエ酸、２−ヒドロキシ−１−（２−ヒドロキシ−４−スルホ−１−ナフチルアゾ）−３−ナフトエ酸、３−ヒドロキシ−７−メトキシ−２−ナフトエ酸、１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、２−ヒドロキシ−１−ナフトエ酸、３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、６−ヒドロキシ−１−ナフトエ酸、６−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸ヒドラジド、２−メトキシ−１−ナフトエ酸、３−メトキシ−２−ナフトエ酸、６−メトキシ−２−ナフトエ酸、６−アミノ−２−ナフトエ酸メチル、３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸メチル、６−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸メチル、３−メトキシ−２−ナフトエ酸メチル、１，４−ジヒドロキシ−２−ナフトエ酸フェニル、１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸フェニルなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
＜＜その他の成分＞＞
前記下引き層には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のためにその他の成分を含有させてもよい。
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電子輸送性物質；多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料；シランカップリング剤、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、フルオレノン化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、並びに後述の酸化防止剤、可塑剤、滑剤、紫外線吸収剤、及びレベリング剤などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
前記下引き層には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のためにその他の成分を含有させてもよい。
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電子輸送性物質；多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料；シランカップリング剤、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、フルオレノン化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、並びに後述の酸化防止剤、可塑剤、滑剤、紫外線吸収剤、及びレベリング剤などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
＜＜下引き層の形成方法＞＞
前記下引き層の形成方法としては、特に制限はなく、例えば、以下の方法により形成することができる。前記酸化亜鉛粒子、メチルエチルケトンオキシムによりブロックされたイソシアネート基を有する化合物、及び水酸基を有する化合物、必要に応じて、前記サリチル酸誘導体、及びその他の成分を適当な溶剤に溶解させた塗工液を調製する。次に、前記塗工液を適当な塗工法により前記支持体に塗工した後、加熱乾燥を行う。
前記加熱乾燥により、前記イソシアネート基を有する化合物と水酸基を有する化合物を反応させてウレタン結合を有する樹脂を形成することができる。
なお、前記塗工液に用いる下引き層用塗工液に前記イソシアネート基を有する化合物、及び水酸基を有する化合物を添加する時期としては、前記金属酸化物粒子の分散前後のどちらでも構わない。
前記下引き層の形成方法としては、特に制限はなく、例えば、以下の方法により形成することができる。前記酸化亜鉛粒子、メチルエチルケトンオキシムによりブロックされたイソシアネート基を有する化合物、及び水酸基を有する化合物、必要に応じて、前記サリチル酸誘導体、及びその他の成分を適当な溶剤に溶解させた塗工液を調製する。次に、前記塗工液を適当な塗工法により前記支持体に塗工した後、加熱乾燥を行う。
前記加熱乾燥により、前記イソシアネート基を有する化合物と水酸基を有する化合物を反応させてウレタン結合を有する樹脂を形成することができる。
なお、前記塗工液に用いる下引き層用塗工液に前記イソシアネート基を有する化合物、及び水酸基を有する化合物を添加する時期としては、前記金属酸化物粒子の分散前後のどちらでも構わない。
前記溶剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶剤；テトラヒドロフラン、ジオキサン、プロピルエーテル等のエーテル系溶剤；ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン系溶剤；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ系溶剤などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
前記酸化亜鉛粒子の下引き層塗工液中における分散方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ボールミル、サンドミル、振動ミル、３本ロールミル、アトライター、圧力式ホモジナイザー、超音波分散等を用いる分散方法などが挙げられる。
前記塗工法としては、特に制限はなく、塗工液の粘性、所望とする下引き層の平均厚みなどによって適宜選択することができ、例えば、浸漬塗工法、スプレーコート法、ビードコート法、リングコート法などが挙げられる。
前記加熱乾燥における加熱温度及び加熱時間としては、加熱乾燥する装置、支持体の材質、及び支持体の平均厚みにより異なるが、前記下引き層中の前記メチルエチルケトンオキシムの含有量が、上記（式）を満たせば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。これらの中でも、加熱温度としては、１４０℃〜１７０℃が好ましく、１５０℃〜１６０℃がより好ましく、加熱時間としては、２０分間以上３０分間以下が好ましい。
＜＜下引き層の平均厚み＞＞
前記下引き層の平均厚みとしては、特に制限はなく、製造したい電子写真感光体の電気特性や寿命に応じて適宜選択することができるが、７μｍ〜２５μｍが好ましく、７μｍ〜１５μｍがより好ましい。
前記平均厚みが、７μｍ〜２５μｍであると、電子写真感光体表面の帯電極性と逆極性の電荷が支持体から感光層中に流れ込むことによる帯電性不良と、前記帯電性不良に起因する地汚れ状の画像欠陥の発生、残留電位の上昇などの光減衰機能の低下、及び繰り返し安定性の低下を防ぐことができる。
前記下引き層の平均厚みとしては、特に制限はなく、製造したい電子写真感光体の電気特性や寿命に応じて適宜選択することができるが、７μｍ〜２５μｍが好ましく、７μｍ〜１５μｍがより好ましい。
前記平均厚みが、７μｍ〜２５μｍであると、電子写真感光体表面の帯電極性と逆極性の電荷が支持体から感光層中に流れ込むことによる帯電性不良と、前記帯電性不良に起因する地汚れ状の画像欠陥の発生、残留電位の上昇などの光減衰機能の低下、及び繰り返し安定性の低下を防ぐことができる。
また、前記平均厚みの測定方法としては、例えば、前記下引き層に対して任意の複数の点を選択し、前記複数の点の厚みの平均を算出することにより求める方法などが挙げられる。前記平均としては、５点の厚みの平均が好ましく、１０点の厚みの平均がより好ましく、２０点の厚みの平均が更に好ましい。なお、他の層の前記平均厚みについても同様に算出することができる。
前記平均厚みの測定機器としては、例えば、マイクロメータなどが挙げられる。
前記平均厚みの測定機器としては、例えば、マイクロメータなどが挙げられる。
＜感光層＞
前記感光層としては、単層型感光層であってもよく、積層型感光層であってもよい。
前記感光層としては、単層型感光層であってもよく、積層型感光層であってもよい。
＜＜単層型感光層＞＞
前記単層型感光層は、電荷発生機能と電荷輸送機能とを同時に有する層である。
前記単層型感光層は、電荷発生物質、電荷輸送物質、及び結着樹脂を含有してなり、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
前記単層型感光層は、電荷発生機能と電荷輸送機能とを同時に有する層である。
前記単層型感光層は、電荷発生物質、電荷輸送物質、及び結着樹脂を含有してなり、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
−電荷発生物質−
前記電荷発生物質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、後述する積層型感光層で用いられるものと同様の物質などが挙げられる。前記電荷発生物質の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる
が、前記結着樹脂１００質量部に対し、５質量部〜４０質量部が好ましい。
前記電荷発生物質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、後述する積層型感光層で用いられるものと同様の物質などが挙げられる。前記電荷発生物質の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる
が、前記結着樹脂１００質量部に対し、５質量部〜４０質量部が好ましい。
−電荷輸送物質−
前記電荷輸送物質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、後述する積層型感光層で用いられるものと同様の物質などが挙げられる。前記電荷輸送物質の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記結着樹脂１００質量部に対して、１９０質量部以下が好ましく、５０質量部〜１５０質量部がより好ましい。
前記電荷輸送物質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、後述する積層型感光層で用いられるものと同様の物質などが挙げられる。前記電荷輸送物質の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記結着樹脂１００質量部に対して、１９０質量部以下が好ましく、５０質量部〜１５０質量部がより好ましい。
−結着樹脂−
前記結着樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、後述する積層型感光層で用いられるものと同様の結着樹脂などが挙げられる。
前記結着樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、後述する積層型感光層で用いられるものと同様の結着樹脂などが挙げられる。
−その他の成分−
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、後述する積層型感光層で用いられるものと同様の低分子電荷輸送物質、同様の溶剤、並びに後述の酸化防止剤、可塑剤、滑剤、紫外線吸収剤、レベリング剤などが挙げられる。
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、後述する積層型感光層で用いられるものと同様の低分子電荷輸送物質、同様の溶剤、並びに後述の酸化防止剤、可塑剤、滑剤、紫外線吸収剤、レベリング剤などが挙げられる。
−単層型感光層の形成方法−
前記単層型感光層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電荷発生物質、電荷輸送物質、結着樹脂、その他の成分等を分散機により適当な溶剤（例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジクロロエタン、シクロヘキサン等）に溶解させ分散して得られた塗工液を、塗布して乾燥することにより形成する方法などが挙げられる。
前記単層型感光層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電荷発生物質、電荷輸送物質、結着樹脂、その他の成分等を分散機により適当な溶剤（例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジクロロエタン、シクロヘキサン等）に溶解させ分散して得られた塗工液を、塗布して乾燥することにより形成する方法などが挙げられる。
前記塗工液を塗工する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、浸漬塗工法、スプレーコート、ビードコート、リングコートなどが挙げられる。また、必要に応じて、可塑剤、レベリング剤、酸化防止剤等を添加してもよい。
前記単層型感光層の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５μｍ〜２５μｍが好ましい。
前記単層型感光層の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５μｍ〜２５μｍが好ましい。
＜＜積層型感光層＞＞
前記積層型感光層は、電荷発生機能及び電荷輸送機能をそれぞれ独立した層が担うため、電荷発生層と、電荷輸送層とを有する。なお、前記電荷発生層、及び前記電荷輸送層は、従来公知のものを使用することができる。
前記積層型感光層において、前記電荷発生層と前記電荷輸送層との積層順としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記電荷発生層の上に前記電荷輸送層を積層することが好ましい。これは、多くの電荷発生材料は化学的安定性に乏しく、電子写真作像プロセスにおける帯電器周辺での放電生成物のような酸性ガスにさらされると電荷発生効率の低下などを引き起こすことを抑制するためである。
前記積層型感光層は、電荷発生機能及び電荷輸送機能をそれぞれ独立した層が担うため、電荷発生層と、電荷輸送層とを有する。なお、前記電荷発生層、及び前記電荷輸送層は、従来公知のものを使用することができる。
前記積層型感光層において、前記電荷発生層と前記電荷輸送層との積層順としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記電荷発生層の上に前記電荷輸送層を積層することが好ましい。これは、多くの電荷発生材料は化学的安定性に乏しく、電子写真作像プロセスにおける帯電器周辺での放電生成物のような酸性ガスにさらされると電荷発生効率の低下などを引き起こすことを抑制するためである。
−電荷発生層−
前記電荷発生層は、電荷発生物質を含み、結着樹脂を含むことが好ましく、更に必要に応じて後述の酸化防止剤等のその他の成分を含む。
前記電荷発生層は、電荷発生物質を含み、結着樹脂を含むことが好ましく、更に必要に応じて後述の酸化防止剤等のその他の成分を含む。
−−電荷発生物質−−
前記電荷発生物質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、無機系材料、有機系材料などが挙げられる。
前記電荷発生物質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、無機系材料、有機系材料などが挙げられる。
−−−無機系材料−−−
前記無機系材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、結晶セレン、アモルファス−セレン、セレン−テルル、セレン−テルル−ハロゲン、セレン−ヒ素化合物、アモルファス−シリコン（例えば、ダングリングボンドを水素原子、ハロゲン原子等でターミネートしたもの；ホウ素原子、リン原子等を含有したものなどが好適）などが挙げられる。
前記無機系材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、結晶セレン、アモルファス−セレン、セレン−テルル、セレン−テルル−ハロゲン、セレン−ヒ素化合物、アモルファス−シリコン（例えば、ダングリングボンドを水素原子、ハロゲン原子等でターミネートしたもの；ホウ素原子、リン原子等を含有したものなどが好適）などが挙げられる。
−−−有機系材料−−−
前記有機系材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニン等のフタロシアニン系顔料；アズレニウム塩顔料、スクエアリック酸メチン顔料、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料、トリフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジベンゾチオフェン骨格を有するアゾ顔料、フルオレノン骨格を有するアゾ顔料、オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ビススチルベン骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料、ペリレン系顔料、アントラキノン系又は多環キノン系顔料、キノンイミン系顔料、ジフェニルメタン及びトリフェニルメタン系顔料、ベンゾキノン及びナフトキノン系顔料、シアニン及びアゾメチン系顔料、インジゴイド系顔料、ビスベンズイミダゾール系顔料などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記有機系材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニン等のフタロシアニン系顔料；アズレニウム塩顔料、スクエアリック酸メチン顔料、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料、トリフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジベンゾチオフェン骨格を有するアゾ顔料、フルオレノン骨格を有するアゾ顔料、オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ビススチルベン骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料、ペリレン系顔料、アントラキノン系又は多環キノン系顔料、キノンイミン系顔料、ジフェニルメタン及びトリフェニルメタン系顔料、ベンゾキノン及びナフトキノン系顔料、シアニン及びアゾメチン系顔料、インジゴイド系顔料、ビスベンズイミダゾール系顔料などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
−−結着樹脂−−
前記結着樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリケトン樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリビニルケトン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール樹脂、ポリアクリルアミド樹脂などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記結着樹脂の他に、電荷輸送機能を有する電荷輸送性高分子材料を含んでもよく、例えば、アリールアミン骨格、ベンジジン骨格、ヒドラゾン骨格、カルバゾール骨格、スチルベン骨格、ピラゾリン骨格等を有する、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル、ポリシロキサン、アクリル樹脂等の高分子材料、ポリシラン骨格を有する高分子材料などを用いることができる。
前記結着樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリケトン樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリビニルケトン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール樹脂、ポリアクリルアミド樹脂などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記結着樹脂の他に、電荷輸送機能を有する電荷輸送性高分子材料を含んでもよく、例えば、アリールアミン骨格、ベンジジン骨格、ヒドラゾン骨格、カルバゾール骨格、スチルベン骨格、ピラゾリン骨格等を有する、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル、ポリシロキサン、アクリル樹脂等の高分子材料、ポリシラン骨格を有する高分子材料などを用いることができる。
−−その他の成分−−
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、低分子電荷輸送物質、溶剤、並びに後述の酸化防止剤、可塑剤、滑剤、紫外線吸収剤、及びレベリング剤などが挙げられる。
前記その他の成分の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択すること
ができるが、添加する層の総質量に対して、０．０１質量％〜１０質量％が好ましい。
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、低分子電荷輸送物質、溶剤、並びに後述の酸化防止剤、可塑剤、滑剤、紫外線吸収剤、及びレベリング剤などが挙げられる。
前記その他の成分の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択すること
ができるが、添加する層の総質量に対して、０．０１質量％〜１０質量％が好ましい。
−−−低分子電荷輸送物質−−−
前記低分子電荷輸送物質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電子輸送物質、正孔輸送物質などが挙げられる。
前記電子輸送物質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、クロルアニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロキサントン、２，４，８−トリニトロチオキサントン、２，６，８−トリニトロ−４Ｈ−インデノ〔１，２−ｂ〕チオフェン−４−オン、１，３，７−トリニトロジベンゾチオフェン−５，５−ジオキサイド、ジフェノキノン誘導体などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記正孔輸送物質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、モノアリールアミン誘導体、ジアリールアミン誘導体、トリアリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、α−フェニルスチルベン誘導体、ベンジジン誘導体、ジアリールメタン誘導体、トリアリールメタン誘導体、９−スチリルアントラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、ジビニルベンゼン誘導体、ヒドラゾン誘導体、インデン誘導体、ブタジェン誘導体、ピレン誘導体等、ビススチルベン誘導体、エナミン誘導体等などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記低分子電荷輸送物質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電子輸送物質、正孔輸送物質などが挙げられる。
前記電子輸送物質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、クロルアニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロキサントン、２，４，８−トリニトロチオキサントン、２，６，８−トリニトロ−４Ｈ−インデノ〔１，２−ｂ〕チオフェン−４−オン、１，３，７−トリニトロジベンゾチオフェン−５，５−ジオキサイド、ジフェノキノン誘導体などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記正孔輸送物質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、モノアリールアミン誘導体、ジアリールアミン誘導体、トリアリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、α−フェニルスチルベン誘導体、ベンジジン誘導体、ジアリールメタン誘導体、トリアリールメタン誘導体、９−スチリルアントラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、ジビニルベンゼン誘導体、ヒドラゾン誘導体、インデン誘導体、ブタジェン誘導体、ピレン誘導体等、ビススチルベン誘導体、エナミン誘導体等などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
−−−溶剤−−−
前記溶剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン、トルエン、ジクロロメタン、モノクロロベンゼン、ジクロロエタン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、アニソール、キシレン、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸エチル、酢酸ブチルなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記溶剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン、トルエン、ジクロロメタン、モノクロロベンゼン、ジクロロエタン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、アニソール、キシレン、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸エチル、酢酸ブチルなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
−−電荷発生層の形成方法−−
前記電荷発生層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記電荷発生物質及び前記結着樹脂を前記溶剤等の前記その他の成分に溶解させ分散して得られた塗工液を、前記支持体上に塗布して乾燥することにより形成する方法などが挙げられる。なお、前記塗工液は、キャスティング法などにより塗布することができる。
前記電荷発生層の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．０１μｍ〜５μｍが好ましく、０．０５μｍ〜２μｍがより好ましい。
前記電荷発生層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記電荷発生物質及び前記結着樹脂を前記溶剤等の前記その他の成分に溶解させ分散して得られた塗工液を、前記支持体上に塗布して乾燥することにより形成する方法などが挙げられる。なお、前記塗工液は、キャスティング法などにより塗布することができる。
前記電荷発生層の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．０１μｍ〜５μｍが好ましく、０．０５μｍ〜２μｍがより好ましい。
−電荷輸送層−
前記電荷輸送層は、帯電電荷を保持させ、かつ、露光により前記電荷発生層で発生分離した電荷を移動させて保持していた前記帯電電荷と結合させることを目的とする層である。前記帯電電荷を保持させる目的を達成するためには、電気抵抗が高いことが要求される。また、保持していた帯電電荷で高い表面電位を得る目的を達成するためには、誘電率が小さく、かつ、電荷移動性がよいことが要求される。
前記電荷輸送層は、電荷輸送物質を含み、結着樹脂を含むことが好ましく、更に必要に応じてその他の成分を含む。
前記電荷輸送層は、帯電電荷を保持させ、かつ、露光により前記電荷発生層で発生分離した電荷を移動させて保持していた前記帯電電荷と結合させることを目的とする層である。前記帯電電荷を保持させる目的を達成するためには、電気抵抗が高いことが要求される。また、保持していた帯電電荷で高い表面電位を得る目的を達成するためには、誘電率が小さく、かつ、電荷移動性がよいことが要求される。
前記電荷輸送層は、電荷輸送物質を含み、結着樹脂を含むことが好ましく、更に必要に応じてその他の成分を含む。
−−電荷輸送物質−−
前記電荷輸送物質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電子輸送物質、正孔輸送物質、高分子電荷輸送物質などが挙げられる。
前記電荷輸送層の全質量に対する前記電荷輸送物質の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２０質量％〜９０質量％が好ましく、３０質量％〜７０質量％がより好ましい。
前記含有量が、２０質量％〜９０質量％であると、電荷輸送層の電荷輸送性が小さくなることなく所望の光減衰特性が得られ、画像形成工程から電子写真感光体が受ける各種ハザードによる必要以上の摩耗が起こらない。
また、前記含有量が、３０質量％〜７０質量％であると、所望の光減衰性が得られるとともに、使用によっても摩耗量が少ない電子写真感光体を得ることができる点で有利である。
前記電荷輸送物質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電子輸送物質、正孔輸送物質、高分子電荷輸送物質などが挙げられる。
前記電荷輸送層の全質量に対する前記電荷輸送物質の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２０質量％〜９０質量％が好ましく、３０質量％〜７０質量％がより好ましい。
前記含有量が、２０質量％〜９０質量％であると、電荷輸送層の電荷輸送性が小さくなることなく所望の光減衰特性が得られ、画像形成工程から電子写真感光体が受ける各種ハザードによる必要以上の摩耗が起こらない。
また、前記含有量が、３０質量％〜７０質量％であると、所望の光減衰性が得られるとともに、使用によっても摩耗量が少ない電子写真感光体を得ることができる点で有利である。
−−−電子輸送物質−−−
前記電子輸送物質（電子受容性物質）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、クロルアニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロキサントン、２，４，８−トリニトロチオキサントン、２，６，８−トリニトロ−４Ｈ−インデノ〔１，２−ｂ〕チオフェン−４オン、１，３，７−トリニトロジベンゾチオフェン−５，５−ジオキサイドなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
前記電子輸送物質（電子受容性物質）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、クロルアニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロキサントン、２，４，８−トリニトロチオキサントン、２，６，８−トリニトロ−４Ｈ−インデノ〔１，２−ｂ〕チオフェン−４オン、１，３，７−トリニトロジベンゾチオフェン−５，５−ジオキサイドなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
−−−正孔輸送物質−−−
前記正孔輸送物質（電子供与性物質）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、トリフェニルアミン誘導体、９−（ｐ−ジエチルアミノスチリルアントラセン）、１，１−ビス−（４−ジベンジルアミノフェニル）プロパン、スチリルアントラセン、スチリルピラゾリン、フェニルヒドラゾン類、α−フェニルスチルベン誘導体、チアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、フェナジン誘導体、アクリジン誘導体、ベンゾフラン誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、チオフェン誘導体などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
前記正孔輸送物質（電子供与性物質）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、トリフェニルアミン誘導体、９−（ｐ−ジエチルアミノスチリルアントラセン）、１，１−ビス−（４−ジベンジルアミノフェニル）プロパン、スチリルアントラセン、スチリルピラゾリン、フェニルヒドラゾン類、α−フェニルスチルベン誘導体、チアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、フェナジン誘導体、アクリジン誘導体、ベンゾフラン誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、チオフェン誘導体などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
−−−高分子電荷輸送物質−−−
前記高分子電荷輸送物質は、後述する結着樹脂の機能と電荷輸送物質の機能を併せ持つ
材料である。
前記高分子電荷輸送物質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、カルバゾール環を有する重合体、ヒドラゾン構造を有する重合体、ポリシリレン重合体、トリアリールアミン構造を有する重合体（例えば、特許第３８５２８１２号公報、特許第３９９０４９９号公報等に記載のトリアリールアミン構造を有する重合体など）、電子供与性基を有する重合体、その他の重合体などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよく、摩耗耐久性や製膜性の点で、後述する結着樹脂と併用してもよい。
前記電荷輸送層全質量に対する前記高分子電荷輸送物質の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記高分子電荷輸送物質と後述する結着樹脂とを併用する場合、４０質量％〜９０質量％が好ましく、５０質量％〜８０質量％がより好ましい。
前記高分子電荷輸送物質は、後述する結着樹脂の機能と電荷輸送物質の機能を併せ持つ
材料である。
前記高分子電荷輸送物質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、カルバゾール環を有する重合体、ヒドラゾン構造を有する重合体、ポリシリレン重合体、トリアリールアミン構造を有する重合体（例えば、特許第３８５２８１２号公報、特許第３９９０４９９号公報等に記載のトリアリールアミン構造を有する重合体など）、電子供与性基を有する重合体、その他の重合体などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよく、摩耗耐久性や製膜性の点で、後述する結着樹脂と併用してもよい。
前記電荷輸送層全質量に対する前記高分子電荷輸送物質の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記高分子電荷輸送物質と後述する結着樹脂とを併用する場合、４０質量％〜９０質量％が好ましく、５０質量％〜８０質量％がより好ましい。
−−結着樹脂−−
前記結着樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、アルキッド樹脂、シリコーン樹脂、ポリビニルカルバゾール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、フェノキシ樹脂などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
なお、前記電荷輸送層は、架橋性の結着樹脂と架橋性の電荷輸送物質との共重合体を含むこともできる。
前記結着樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、アルキッド樹脂、シリコーン樹脂、ポリビニルカルバゾール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、フェノキシ樹脂などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
なお、前記電荷輸送層は、架橋性の結着樹脂と架橋性の電荷輸送物質との共重合体を含むこともできる。
−−その他の成分−−
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、溶剤、並びに後述の酸化防止剤、可塑剤、滑剤、紫外線吸収剤、及びレベリング剤などが挙げられる。
前記その他の成分の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、添加する層の総質量に対して、０．０１質量％〜１０質量％が好ましい。
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、溶剤、並びに後述の酸化防止剤、可塑剤、滑剤、紫外線吸収剤、及びレベリング剤などが挙げられる。
前記その他の成分の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、添加する層の総質量に対して、０．０１質量％〜１０質量％が好ましい。
−−−溶剤−−−
前記溶剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記電荷発生層と同様なものが使用できるが、前記電荷輸送物質及び前記結着樹脂を良好に溶解する溶剤が好ましい。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
前記溶剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記電荷発生層と同様なものが使用できるが、前記電荷輸送物質及び前記結着樹脂を良好に溶解する溶剤が好ましい。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
−−電荷輸送層の形成方法−−
前記電荷輸送層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記電荷輸送物質及び前記結着樹脂を前記溶剤等の前記その他の成分に溶解乃至分散して得られた塗工液を、前記電荷発生層上に塗布して加熱乃至乾燥することにより形成する方法などが挙げられる。
前記電荷輸送層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記電荷輸送物質及び前記結着樹脂を前記溶剤等の前記その他の成分に溶解乃至分散して得られた塗工液を、前記電荷発生層上に塗布して加熱乃至乾燥することにより形成する方法などが挙げられる。
前記電荷輸送層を形成する際に用いる前記塗工液の塗工方法としては、特に制限はなく、前記塗工液の粘性、前記電荷輸送層の所望する平均厚み等の目的に応じて適宜選択することができ、例えば、浸漬塗工法、スプレーコート法、ビードコート法、リングコート法などが挙げられる。
前記電荷輸送層は、電子写真特性や膜粘性の観点から、以下の加熱方法により前記溶剤を前記電荷輸送層の内部から取り除く必要がある。
前記加熱方法としては、例えば、空気、窒素等の気体、蒸気、各種熱媒体、赤外線、電磁波等の熱エネルギーを塗工面側又は支持体側から加熱する方法などが挙げられる。
加熱温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１００℃〜１７０℃が好ましい。
前記加熱温度が１００℃未満であると、膜中の有機溶剤を十分取り除くことができず、電子写真特性の低下や摩耗耐久性低下が生じることがあり、１７０℃を超えると、表面にゆず肌状の欠陥や亀裂の発生、隣接層との界面で剥離の発生などが生じるだけでなく、感光層中の揮発性成分が外部に霧散し、所望の電気特性が得られなくなることがある。
前記加熱方法としては、例えば、空気、窒素等の気体、蒸気、各種熱媒体、赤外線、電磁波等の熱エネルギーを塗工面側又は支持体側から加熱する方法などが挙げられる。
加熱温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１００℃〜１７０℃が好ましい。
前記加熱温度が１００℃未満であると、膜中の有機溶剤を十分取り除くことができず、電子写真特性の低下や摩耗耐久性低下が生じることがあり、１７０℃を超えると、表面にゆず肌状の欠陥や亀裂の発生、隣接層との界面で剥離の発生などが生じるだけでなく、感光層中の揮発性成分が外部に霧散し、所望の電気特性が得られなくなることがある。
前記電荷輸送層の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、解像度及び応答性の点から、５０μｍ以下が好ましく、４５μｍ以下がより好ましい。下限値に関しては、使用するシステム（特に帯電電位等）により異なるが、５μｍ以上が好ましい。
＜支持体＞
前記支持体としては、体積抵抗値が１×１０１０Ω・ｃｍ以下の導電性を有するものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。なお、エンドレスベルト（エンドレスニッケルベルト、エンドレスステンレスベルト等）を用いてもよい。
前記支持体としては、体積抵抗値が１×１０１０Ω・ｃｍ以下の導電性を有するものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。なお、エンドレスベルト（エンドレスニッケルベルト、エンドレスステンレスベルト等）を用いてもよい。
前記支持体の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、金属（アルミニウム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、金、銀、白金等）又は金属酸化物（酸化スズ、酸化インジウム等）を蒸着又はスパッタリングして、前記支持体（フィルム状、円筒状等のプラスチック、紙等）を被覆することにより形成する方法、あるいは金属（アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレス等）の板を押出し、引抜き等を行い、表面処理（素管化後、切削、超仕上げ、研摩等）を施して形成する方法などが挙げられる。
なお、前記支持体上には、導電性層を設けてもよい。
前記導電性層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、導電性粉体及び結着樹脂を、必要に応じて溶剤に分散させ溶解して得られた塗工液を前記支持体上に塗布することにより形成する方法、ポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、塩化ゴム、テフロン（登録商標）等の素材に前記導電性粉体を含有させた熱収縮チューブを用いて形成する方法などが挙げられる。
前記導電性層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、導電性粉体及び結着樹脂を、必要に応じて溶剤に分散させ溶解して得られた塗工液を前記支持体上に塗布することにより形成する方法、ポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、塩化ゴム、テフロン（登録商標）等の素材に前記導電性粉体を含有させた熱収縮チューブを用いて形成する方法などが挙げられる。
前記導電性粉体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、カーボンブラック、アセチレンブラック等の炭素微粒子；アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀等の金属粉；導電性酸化スズ、ＩＴＯ等の金属酸化物粉体などが挙げられる。
前記導電性層に用いる結着樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂などが挙げられ、具体的には、ポリスチレン樹脂、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリビニルトルエン樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂などが挙げられる。
前記導電性層に用いる溶剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、メチルエチルケトン、トルエンなどが挙げられる。
＜その他の層＞
前記その他の層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、保護層、中間層、第２の下引き層などが挙げられる。
前記その他の層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、保護層、中間層、第２の下引き層などが挙げられる。
＜＜保護層＞＞
前記保護層（以下、表面層と称することもある）は、前記電子写真感光体の耐久性向上や他の機能の向上を目的として、前記感光層の上に設けることができる。前記保護層は、結着樹脂、及びフィラーを含有してなり、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
前記保護層（以下、表面層と称することもある）は、前記電子写真感光体の耐久性向上や他の機能の向上を目的として、前記感光層の上に設けることができる。前記保護層は、結着樹脂、及びフィラーを含有してなり、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
−結着樹脂−
前記結着樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ＡＳ樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＡＣＳ樹脂、オレフィン−ビニルモノマー共重合体、塩素化ポリエーテル樹脂、アリル樹脂、フェノール樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリアリルスルホン樹脂、ポリブチレン樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエチン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリフェニレンオキシド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられる。これらは、これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、前記フィラーの分散性、残留電位、塗膜欠陥の点から、前記ポリカーボネート樹脂、及び前記ポリアクリレート樹脂が好ましい。
前記結着樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ＡＳ樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＡＣＳ樹脂、オレフィン−ビニルモノマー共重合体、塩素化ポリエーテル樹脂、アリル樹脂、フェノール樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリアリルスルホン樹脂、ポリブチレン樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエチン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリフェニレンオキシド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられる。これらは、これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、前記フィラーの分散性、残留電位、塗膜欠陥の点から、前記ポリカーボネート樹脂、及び前記ポリアクリレート樹脂が好ましい。
−フィラー−
前記フィラーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、金属酸化物微粒子などが挙げられる。
前記フィラーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、金属酸化物微粒子などが挙げられる。
前記金属酸化物微粒子としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズを含有した酸化インジウム、アンチモンやタンタルを含有した酸化スズ及びアンチモンを含有した酸化ジルコニウムなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。。
前記保護層の形成方法としては、特に制限はなく、前述の感光層の如く適当な溶剤及び塗工法を用いて形成することができ、例えば、浸漬塗工法、スプレーコート法、ビートコート法、ノズルコート法、スピナーコート法、リングコート法などが挙げられる。
前記保護層の形成方法に用いる溶剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、ジクロロメタン、モノクロロベンゼン、ジクロロエタン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトンなどが挙げられる。
前記保護層の形成方法に用いる溶剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、ジクロロメタン、モノクロロベンゼン、ジクロロエタン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトンなどが挙げられる。
前記溶剤としては、結着樹脂やフィラーの分散時には粘度が高く、塗工時には揮発性が高い溶剤が好ましい。これらの条件を満たす溶剤がない場合には、各々の物性を有する溶剤を２種以上混合させて使用することが可能であり、前記フィラーの分散性や残留電位に対して大きな効果を有する場合がある。
前記保護層に、前記電荷輸送層の説明で挙げた電荷輸送物質を添加することは、残留電位の低減及び画質向上に対して有効かつ有用である。
前記保護層に、前記電荷輸送層の説明で挙げた電荷輸送物質を添加することは、残留電位の低減及び画質向上に対して有効かつ有用である。
前記保護層の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、耐摩耗性の点で、１μｍ〜５μｍが好ましい。
＜＜中間層＞＞
前記中間層は、前記電荷輸送層と前記表面層との間に、前記表面層への電荷輸送層成分の混入を抑える又は両層間の接着性を改善することを目的として設けることができる。
前記中間層は、結着樹脂を含み、更に必要に応じて後述の酸化防止剤等のその他の成分を含む。前記中間層としては、表面層用塗工液に対し不溶性又は難溶性であるものが好ましい。
前記中間層は、前記電荷輸送層と前記表面層との間に、前記表面層への電荷輸送層成分の混入を抑える又は両層間の接着性を改善することを目的として設けることができる。
前記中間層は、結着樹脂を含み、更に必要に応じて後述の酸化防止剤等のその他の成分を含む。前記中間層としては、表面層用塗工液に対し不溶性又は難溶性であるものが好ましい。
前記中間層に含まれる結着樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリアミド、アルコール可溶性ナイロン、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコールなどが挙げられる。
前記中間層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記感光層と同様の適当な溶剤及び塗工法を用いて形成する方法などが挙げられる。
前記中間層の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．０５μｍ〜２μｍが好ましい。
＜＜第２の下引き層＞＞
前記電子写真感光体においては、前記支持体と前記下引き層の間、もしくは前記下引き層と前記感光層の間に第２の下引き層を設けることも可能である。前記第２の下引き層は第２の結着樹脂を含有してなり、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
前記電子写真感光体においては、前記支持体と前記下引き層の間、もしくは前記下引き層と前記感光層の間に第２の下引き層を設けることも可能である。前記第２の下引き層は第２の結着樹脂を含有してなり、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
前記第２の結着樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリアミド、アルコール可溶性ナイロン、水溶性ポリビニルブチラール、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコールなどが挙げられる。
前記第２の下引き層の形成方法としては、特に制限はなく、適当な溶剤及び塗工法を用
いて形成することができる。
いて形成することができる。
前記第２の下引き層の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．０５μｍ〜２μｍが好ましい。
本発明の電子写真感光体においては、耐環境性の改善のため、とりわけ、感度低下、残留電位の上昇を防止する目的で、前記電荷発生層、前記電荷輸送層、前記下引き層、前記保護層、前記第２の下引き層等の各層にその他の成分を添加することができる。前記その他の成分としては、例えば、酸化防止剤、可塑剤、滑剤、紫外線吸収剤、レベリング剤などが挙げられる。
前記酸化防止剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、フェノ−ル系化合物、パラフェニレンジアミン類、ハイドロキノン類、有機硫黄化合物、有機燐化合物などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記可塑剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート等の一般樹脂の可塑剤などが挙げられるこれらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。。
前記滑剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、炭化水素系化合物、脂肪酸系化合物、脂肪酸アミド系化合物、エステル系化合物、アルコール系化合物、金属石けん、天然ワックス、その他の滑剤などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記紫外線吸収剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サルシレート系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、クエンチャー（金属錯塩系紫外線吸収剤）、ＨＡＬＳ（ヒンダードアミン系光安定剤）などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記レベリング剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオイル類；側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマー、又はオリゴマーなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
［電子写真感光体の実施形態］
以下では、本発明の電子写真感光体の実施形態について説明する。
以下では、本発明の電子写真感光体の実施形態について説明する。
＜第１の実施形態＞
第１の実施形態に係る電子写真感光体の層構成について、図１を参照して説明する。
図１は、単層型感光層を有する層構成を示しており、支持体３１上に、下引き層３２及び単層型感光層３３を順次積層した層構成である。
第１の実施形態に係る電子写真感光体の層構成について、図１を参照して説明する。
図１は、単層型感光層を有する層構成を示しており、支持体３１上に、下引き層３２及び単層型感光層３３を順次積層した層構成である。
＜第２の実施形態＞
第２の実施形態に係る電子写真感光体の層構成について、図２を参照して説明する。
図２は、積層型感光層を有する層構成を示しており、支持体３１上に、下引き層３２、電荷発生層３５、及び電荷輸送層３７を順次積層した層構成である。なお、電荷発生層３５及び電荷輸送層３７が前記感光層に該当する。
第２の実施形態に係る電子写真感光体の層構成について、図２を参照して説明する。
図２は、積層型感光層を有する層構成を示しており、支持体３１上に、下引き層３２、電荷発生層３５、及び電荷輸送層３７を順次積層した層構成である。なお、電荷発生層３５及び電荷輸送層３７が前記感光層に該当する。
＜第３の実施形態＞
第３の実施形態に係る電子写真感光体の層構成について、図３を参照して説明する。
図３は、単層型感光層を有する層構成を示しており、支持体３１上に、下引き層３２、感光層３３、及び保護層３９を順次積層した層構成である。
第３の実施形態に係る電子写真感光体の層構成について、図３を参照して説明する。
図３は、単層型感光層を有する層構成を示しており、支持体３１上に、下引き層３２、感光層３３、及び保護層３９を順次積層した層構成である。
＜第４の実施形態＞
第４の実施形態に係る電子写真感光体の層構成について、図４を参照して説明する。
図４は、積層型感光層を有する層構成を示しており、支持体３１上に、下引き層３２、電荷発生層３５、電荷輸送層３７、及び保護層３９を順次積層した層構成である。なお、電荷発生層３５及び電荷輸送層３７が前記感光層に該当する。
第４の実施形態に係る電子写真感光体の層構成について、図４を参照して説明する。
図４は、積層型感光層を有する層構成を示しており、支持体３１上に、下引き層３２、電荷発生層３５、電荷輸送層３７、及び保護層３９を順次積層した層構成である。なお、電荷発生層３５及び電荷輸送層３７が前記感光層に該当する。
（画像形成装置）
本発明の画像形成装置は、電子写真感光体と、前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電手段と、帯電された前記電子写真感光体表面を露光して静電潜像を形成する露光手段と、前記静電潜像をトナーを用いて現像して可視像を形成する現像手段と、前記可視像を記録媒体に転写する転写手段と、を有する画像形成装置であって、を有してなり、更に必要に応じて、その他の手段を有してなる。前記画像形成装置において使用する電子写真感光体が、前述の本発明の電子写真感光体である。なお、前記帯電手段と、前記露光手段とを合わせて静電潜像形成手段と称することもある。
本発明の画像形成装置は、電子写真感光体と、前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電手段と、帯電された前記電子写真感光体表面を露光して静電潜像を形成する露光手段と、前記静電潜像をトナーを用いて現像して可視像を形成する現像手段と、前記可視像を記録媒体に転写する転写手段と、を有する画像形成装置であって、を有してなり、更に必要に応じて、その他の手段を有してなる。前記画像形成装置において使用する電子写真感光体が、前述の本発明の電子写真感光体である。なお、前記帯電手段と、前記露光手段とを合わせて静電潜像形成手段と称することもある。
［画像形成装置の実施形態］
以下では、本発明の画像形成装置の実施形態について説明する。
図５は、本発明の画像形成装置における電子写真感光体近傍の一例を示す概略図であり、電子写真感光体１の周りに、帯電手段３、露光手段５、現像手段６、転写手段１０などが配置されていることを示している。
以下では、本発明の画像形成装置の実施形態について説明する。
図５は、本発明の画像形成装置における電子写真感光体近傍の一例を示す概略図であり、電子写真感光体１の周りに、帯電手段３、露光手段５、現像手段６、転写手段１０などが配置されていることを示している。
図５において、まず、帯電手段３が、電子写真感光体１を平均的に帯電させる。帯電手段３としては、コロトロンデバイス、スコロトロンデバイス、固体放電素子、針電極デバイス、ローラー帯電デバイス、導電性ブラシデバイス等が用いられ、公知の方式が使用可能である。
次に、露光手段５が、均一に帯電された電子写真感光体１の表面に静電潜像を形成する。露光手段５の光源には、蛍光灯、タングステンランプ、ハロゲンランプ、水銀灯、ナトリウム灯、発光ダイオード（ＬＥＤ）、半導体レーザー（ＬＤ）、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）などの発光物全般を用いることができる。所望の波長域の光のみを照射するために、シャープカットフィルター、バンドパスフィルター、近赤外カットフィルター、ダイクロイックフィルター、干渉フィルター、色温度変換フィルターなどの各種フィルターを用いることもできる。
次に、現像手段６が、電子写真感光体１の表面に形成された静電潜像をトナーで可視化したトナー像に現像する。現像方式としては、乾式トナーを用いた一成分現像法、二成分現像法、湿式トナーを用いた湿式現像法などが挙げられる。電子写真感光体１に正（負）帯電を施し、画像露光を行うと、電子写真感光体表面上には正（負）の静電潜像が形成される。これを負（正）極性のトナー（検電微粒子）で現像すれば、ポジ画像が得られるし、また正（負）極性のトナーで現像すれば、ネガ画像が得られる。
次に、転写手段１０が電子写真感光体１の表面で可視化されたトナー像（可視像）を記録媒体９に転写する。また、転写をより良好に行うために転写前チャージャ７を用いてもよい。転写手段１０としては、転写チャージャ、バイアスローラー等を用いる静電転写方式；粘着転写法、圧力転写法等の機械転写方式；磁気転写方式などが利用可能である。
更に必要に応じて、記録媒体９を電子写真感光体１より分離する手段として分離チャージャ１１、分離爪１２を用いてもよい。その他分離手段としては、静電吸着誘導分離、側端ベルト分離、先端グリップ搬送、曲率分離等が用いられる。分離チャージャ１１としては、前記帯電手段が利用可能である。また、転写後、電子写真感光体の表面に残されたトナーをクリーニングするために、ファーブラシ１４、クリーニングブレード１５等のクリーニング手段が用いられ、クリーニングをより効率的に行うためにクリーニング前チャージャ１３を用いてもよい。その他のクリーニング手段としては、ウェブ方式、マグネットブラシ方式等があるが、それぞれ単独又は複数の方式を一緒に用いてもよい。また、電子写真感光体１の表面の静電潜像を取り除くために除電手段２を用いてもよい。除電手段２としては、除電ランプ、除電チャージャなどが用いられ、それぞれ露光手段５の光源、帯電手段３が利用できる。その他、電子写真感光体１に近接していない原稿読み取り、給紙、定着、排紙等のプロセスは公知のものが使用できる。
以上説明した画像形成装置における前記帯電手段、前記露光手段、前記現像手段、前記転写手段などは、複写装置、ファクシミリ、プリンタ内に固定して組み込まれてもよいが、以下に説明するプロセスカートリッジの形で画像形成装置内に組み込まれてもよい。
（プロセスカートリッジ）
本発明のプロセスカートリッジは、電子写真感光体、前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電手段、帯電された前記電子写真感光体表面を露光して静電潜像を形成する露光手段、前記静電潜像をトナーを用いて現像して可視像を形成する現像手段、及び前記可視像を記録媒体に転写する転写手段から選択されるいずれかの手段を有してなり、更に必要に応じてその他の手段を有してなる。
本発明のプロセスカートリッジにおいて使用する電子写真感光体は、前述した本発明の電子写真感光体である。
本発明のプロセスカートリッジは、電子写真感光体、前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電手段、帯電された前記電子写真感光体表面を露光して静電潜像を形成する露光手段、前記静電潜像をトナーを用いて現像して可視像を形成する現像手段、及び前記可視像を記録媒体に転写する転写手段から選択されるいずれかの手段を有してなり、更に必要に応じてその他の手段を有してなる。
本発明のプロセスカートリッジにおいて使用する電子写真感光体は、前述した本発明の電子写真感光体である。
［プロセスカートリッジの実施形態］
以下では、本発明のプロセスカートリッジの実施形態について説明する。
図６は、本発明のプロセスカートリッジの一例を示す概略図である。
図６において、プロセスカートリッジは、電子写真感光体１０１を備え、他に帯電手段１０２、現像手段１０４、転写手段１０６、クリーニング手段１０７、除電手段の一つを具備し、画像形成装置本体に着脱可能とした装置（部品）である。
プロセスカートリッジによる画像形成工程について説明すると、電子写真感光体１０１は、図６中矢印で示す方向に回転しながら、帯電手段１０２で帯電された後、露光手段１０３で露光されることにより、表面に静電潜像が形成される。前記静電潜像は、現像手段１０４でトナー像に現像され、前記トナー像は転写手段１０６により記録媒体１０５に転写され、出力（プリントアウト）される。前記トナー像を転写した後、電子写真感光体１０１の表面は、クリーニング手段１０７によりクリーニングされ、更に除電手段（不図示）により除電されて、再び以上の操作を繰り返すものである。
以下では、本発明のプロセスカートリッジの実施形態について説明する。
図６は、本発明のプロセスカートリッジの一例を示す概略図である。
図６において、プロセスカートリッジは、電子写真感光体１０１を備え、他に帯電手段１０２、現像手段１０４、転写手段１０６、クリーニング手段１０７、除電手段の一つを具備し、画像形成装置本体に着脱可能とした装置（部品）である。
プロセスカートリッジによる画像形成工程について説明すると、電子写真感光体１０１は、図６中矢印で示す方向に回転しながら、帯電手段１０２で帯電された後、露光手段１０３で露光されることにより、表面に静電潜像が形成される。前記静電潜像は、現像手段１０４でトナー像に現像され、前記トナー像は転写手段１０６により記録媒体１０５に転写され、出力（プリントアウト）される。前記トナー像を転写した後、電子写真感光体１０１の表面は、クリーニング手段１０７によりクリーニングされ、更に除電手段（不図示）により除電されて、再び以上の操作を繰り返すものである。
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。ただし、「部」は、特に明示しない限り「質量部」を表す。
（実施例１）
＜下引き層用塗布液１＞
下記材料を混合し、直径０．３ｍｍのジルコニアビーズとビーズミルを用いて５時間攪拌し、下引き層用塗布液１を調製した。
・ブチラール樹脂 ・・・ １０部
（ＢＭ−１、積水化学株式会社製）
・メチルエチルケトンオキシムを含むブロックイソシアネート ・・・ １３．３部
（スミジュールＢＬ３１７５、住友バイエルン株式会社製）
・酸化亜鉛粒子 ・・・ ８０部
（ＭＺ−２００、テイカ株式会社製）
・溶剤：２−ブタノン ・・・ １１１．７部
＜下引き層用塗布液１＞
下記材料を混合し、直径０．３ｍｍのジルコニアビーズとビーズミルを用いて５時間攪拌し、下引き層用塗布液１を調製した。
・ブチラール樹脂 ・・・ １０部
（ＢＭ−１、積水化学株式会社製）
・メチルエチルケトンオキシムを含むブロックイソシアネート ・・・ １３．３部
（スミジュールＢＬ３１７５、住友バイエルン株式会社製）
・酸化亜鉛粒子 ・・・ ８０部
（ＭＺ−２００、テイカ株式会社製）
・溶剤：２−ブタノン ・・・ １１１．７部
＜電荷発生層用塗布液＞
下記材料を混合し、直径１ｍｍのガラスビーズとビーズミルを用いて８時間攪拌し、電荷発生層用塗布液を調製した。なお、図６に、下記チタニルフタロシアニンの粉末Ｘ線回折スペクトルを示す。
・電荷発生物質：チタニルフタロシアニン・・・８部
・バインダー樹脂：ポリビニルブチラール（エスレックＢＸ−１、積水化学工業社製）・・・５部
・溶剤：２−ブタノン・・・４００部
下記材料を混合し、直径１ｍｍのガラスビーズとビーズミルを用いて８時間攪拌し、電荷発生層用塗布液を調製した。なお、図６に、下記チタニルフタロシアニンの粉末Ｘ線回折スペクトルを示す。
・電荷発生物質：チタニルフタロシアニン・・・８部
・バインダー樹脂：ポリビニルブチラール（エスレックＢＸ−１、積水化学工業社製）・・・５部
・溶剤：２−ブタノン・・・４００部
＜電荷輸送層用塗布液＞
下記材料を混合し、材料が全て溶解するまで攪拌することで電荷輸送層用塗布液を調製した。
・電荷輸送物質：下記構造式（１）に示す電荷輸送物質・・・７部
＜構造式（１）＞
・バインダー樹脂：ポリカーボネート（ＴＳ−２０５０、帝人化成社製）・・・１０部
・レベリング剤：シリコーンオイル（ＫＦ−５０、信越化学工業社製）・・・０．０００５部
・溶剤：テトラヒドロフラン・・・１００部
下記材料を混合し、材料が全て溶解するまで攪拌することで電荷輸送層用塗布液を調製した。
・電荷輸送物質：下記構造式（１）に示す電荷輸送物質・・・７部
＜構造式（１）＞
・レベリング剤：シリコーンオイル（ＫＦ−５０、信越化学工業社製）・・・０．０００５部
・溶剤：テトラヒドロフラン・・・１００部
アルミニウムシリンダー（直径１００ｍｍ、長さ３８０ｍｍ）上に、前記下引き層用塗布液１を浸漬塗工法により塗布した後、１５０℃で２０分間の乾燥を行い、平均厚みが７．５μｍの下引き層を積層した。次に、前記下引き層の上に、前記電荷発生層用塗布液を浸漬塗工法により塗布した後、９０℃で３０分間の乾燥を行うことで、平均厚みが０．２μｍの電荷発生層を積層した。更に、前記電荷発生層の上に、前記電荷輸送層用塗布液を浸漬塗工法により塗布した後、１３０℃で３０分間の乾燥を行い、平均厚みが２５μｍの電荷輸送層を積層し、実施例１の電子写真感光体を作製した。
（実施例２）
実施例１において、下引き層用塗布液１を塗布した後の乾燥を、１６５℃で３０分間行い、平均厚みが２３．２μｍの下引き層を積層した以外は、実施例１と同様の方法で実施例２の電子写真感光体を作製した。
実施例１において、下引き層用塗布液１を塗布した後の乾燥を、１６５℃で３０分間行い、平均厚みが２３．２μｍの下引き層を積層した以外は、実施例１と同様の方法で実施例２の電子写真感光体を作製した。
（実施例３）
実施例１において、下引き層用塗布液１を下記の下引き層用塗布液２に変更したこと、及び下引き層用塗布液を塗布した後の乾燥を、１５０℃で３０分間行い、平均厚みが１０．３μｍの下引き層を積層した以外は、実施例１と同様の方法で実施例３の電子写真感光体を作製した。
実施例１において、下引き層用塗布液１を下記の下引き層用塗布液２に変更したこと、及び下引き層用塗布液を塗布した後の乾燥を、１５０℃で３０分間行い、平均厚みが１０．３μｍの下引き層を積層した以外は、実施例１と同様の方法で実施例３の電子写真感光体を作製した。
＜下引き層用塗布液２＞
下記材料を混合し、直径０．３ｍｍのジルコニアビーズとビーズミルを用いて５時間攪拌し、下引き層用塗布液２を調製した。
・ブチラール樹脂 ・・・ １０部
（ＢＭ−１、積水化学株式会社製）
・メチルエチルケトンオキシムを含むブロックイソシアネート ・・・ １３．３部
（スミジュールＢＬ３１７５、住友バイエルン株式会社製）
・酸化亜鉛粒子 ・・・ ８０部
（ＭＺ−２００、テイカ株式会社製）
・サリチル酸誘導体：サリチル酸・・・１．５部
・溶剤：２−ブタノン ・・・ １１１．７部
下記材料を混合し、直径０．３ｍｍのジルコニアビーズとビーズミルを用いて５時間攪拌し、下引き層用塗布液２を調製した。
・ブチラール樹脂 ・・・ １０部
（ＢＭ−１、積水化学株式会社製）
・メチルエチルケトンオキシムを含むブロックイソシアネート ・・・ １３．３部
（スミジュールＢＬ３１７５、住友バイエルン株式会社製）
・酸化亜鉛粒子 ・・・ ８０部
（ＭＺ−２００、テイカ株式会社製）
・サリチル酸誘導体：サリチル酸・・・１．５部
・溶剤：２−ブタノン ・・・ １１１．７部
（実施例４）
実施例１において、下引き層用塗布液１を下記の下引き層用塗布液３に変更したこと、及び下引き層用塗布液を塗布した後の乾燥を、１５０℃で２０分間行い、平均厚みが１９．５μｍの下引き層を積層した以外は、実施例１と同様の方法で実施例４の電子写真感光体を作製した。
実施例１において、下引き層用塗布液１を下記の下引き層用塗布液３に変更したこと、及び下引き層用塗布液を塗布した後の乾燥を、１５０℃で２０分間行い、平均厚みが１９．５μｍの下引き層を積層した以外は、実施例１と同様の方法で実施例４の電子写真感光体を作製した。
＜下引き層用塗布液３＞
下記材料を混合し、直径０．３ｍｍのジルコニアビーズとビーズミルを用いて５時間攪拌し、下引き層用塗布液３を調製した。
・ブチラール樹脂 ・・・ １０部
（ＢＭ−１、積水化学株式会社製）
・メチルエチルケトンオキシムを含むブロックイソシアネート ・・・ １３．３部
（スミジュールＢＬ３１７５、住友バイエルン株式会社製）
・酸化亜鉛粒子 ・・・ ８０部
（ＭＺ−２００、テイカ株式会社製）
・サリチル酸誘導体：３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルサリチル酸（ＤＢＳＡ）・・・１．５部
・溶剤：２−ブタノン ・・・ １１１．７部
下記材料を混合し、直径０．３ｍｍのジルコニアビーズとビーズミルを用いて５時間攪拌し、下引き層用塗布液３を調製した。
・ブチラール樹脂 ・・・ １０部
（ＢＭ−１、積水化学株式会社製）
・メチルエチルケトンオキシムを含むブロックイソシアネート ・・・ １３．３部
（スミジュールＢＬ３１７５、住友バイエルン株式会社製）
・酸化亜鉛粒子 ・・・ ８０部
（ＭＺ−２００、テイカ株式会社製）
・サリチル酸誘導体：３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルサリチル酸（ＤＢＳＡ）・・・１．５部
・溶剤：２−ブタノン ・・・ １１１．７部
（実施例５）
実施例１において、下引き層用塗布液１を下引き層用塗布液２に変更したこと、及び下引き層用塗布液を塗布した後の乾燥を、１６０℃で３０分間行い、平均厚みが８．５μｍの下引き層を積層した以外は、実施例１と同様の方法で実施例５の電子写真感光体を作製した。
実施例１において、下引き層用塗布液１を下引き層用塗布液２に変更したこと、及び下引き層用塗布液を塗布した後の乾燥を、１６０℃で３０分間行い、平均厚みが８．５μｍの下引き層を積層した以外は、実施例１と同様の方法で実施例５の電子写真感光体を作製した。
（実施例６）
実施例１において、下引き層用塗布液１を下引き層用塗布液２に変更したこと、及び下引き層用塗布液を塗布した後の乾燥を、１５０℃で３０分間行い、平均厚みが２２．３μｍの下引き層を積層した以外は、実施例１と同様の方法で実施例６の電子写真感光体を作製した。
実施例１において、下引き層用塗布液１を下引き層用塗布液２に変更したこと、及び下引き層用塗布液を塗布した後の乾燥を、１５０℃で３０分間行い、平均厚みが２２．３μｍの下引き層を積層した以外は、実施例１と同様の方法で実施例６の電子写真感光体を作製した。
（実施例７）
実施例１において、下引き層用塗布液１を下引き層用塗布液２に変更したこと、及び下引き層用塗布液を塗布した後の乾燥を、１４０℃で３０分間行い、平均厚みが１３．５μｍの下引き層を積層した以外は、実施例１と同様の方法で実施例７の電子写真感光体を作製した。
実施例１において、下引き層用塗布液１を下引き層用塗布液２に変更したこと、及び下引き層用塗布液を塗布した後の乾燥を、１４０℃で３０分間行い、平均厚みが１３．５μｍの下引き層を積層した以外は、実施例１と同様の方法で実施例７の電子写真感光体を作製した。
（実施例８）
実施例１において、下引き層用塗布液１を下引き層用塗布液３に変更したこと、及び下引き層用塗布液を塗布した後の乾燥を、１５０℃で３０分間行い、平均厚みが１７．７μｍの下引き層を積層した以外は、実施例１と同様の方法で実施例８の電子写真感光体を作製した。
実施例１において、下引き層用塗布液１を下引き層用塗布液３に変更したこと、及び下引き層用塗布液を塗布した後の乾燥を、１５０℃で３０分間行い、平均厚みが１７．７μｍの下引き層を積層した以外は、実施例１と同様の方法で実施例８の電子写真感光体を作製した。
（実施例９）
実施例１において、下引き層用塗布液１を下引き層用塗布液３に変更したこと、及び下引き層用塗布液を塗布した後の乾燥を、１５０℃で２０分間行い、平均厚みが９．７μｍの下引き層を積層した以外は、実施例１と同様の方法で実施例９の電子写真感光体を作製した。
実施例１において、下引き層用塗布液１を下引き層用塗布液３に変更したこと、及び下引き層用塗布液を塗布した後の乾燥を、１５０℃で２０分間行い、平均厚みが９．７μｍの下引き層を積層した以外は、実施例１と同様の方法で実施例９の電子写真感光体を作製した。
（比較例１）
実施例１において、下引き層用塗布液１を塗布した後の乾燥を、１３５℃で３０分間行い、平均厚みが１９．３μｍの下引き層を積層した以外は、実施例１と同様の方法で比較例１の電子写真感光体を作製した。
実施例１において、下引き層用塗布液１を塗布した後の乾燥を、１３５℃で３０分間行い、平均厚みが１９．３μｍの下引き層を積層した以外は、実施例１と同様の方法で比較例１の電子写真感光体を作製した。
（比較例２）
実施例１において、下引き層用塗布液１を下引き層用塗布液２に変更したこと、及び下引き層用塗布液を塗布した後の乾燥を、１７０℃で４０分間行い、平均厚みが１１．１μｍの下引き層を積層した以外は、実施例１と同様の方法で比較例２の電子写真感光体を作製した。
実施例１において、下引き層用塗布液１を下引き層用塗布液２に変更したこと、及び下引き層用塗布液を塗布した後の乾燥を、１７０℃で４０分間行い、平均厚みが１１．１μｍの下引き層を積層した以外は、実施例１と同様の方法で比較例２の電子写真感光体を作製した。
（比較例３）
実施例１において、下引き層用塗布液１を下記下引き層用塗布液４に変更したこと、及び下引き層用塗布液を塗布した後の乾燥を、１７０℃で４０分間行い、平均厚みが２３．０μｍの下引き層を積層した以外は、実施例１と同様の方法で比較例３の電子写真感光体を作製した。なお、乾燥温度が、１７０℃より高くなると、Ｍ／Ｌの値はより小さくなる。
実施例１において、下引き層用塗布液１を下記下引き層用塗布液４に変更したこと、及び下引き層用塗布液を塗布した後の乾燥を、１７０℃で４０分間行い、平均厚みが２３．０μｍの下引き層を積層した以外は、実施例１と同様の方法で比較例３の電子写真感光体を作製した。なお、乾燥温度が、１７０℃より高くなると、Ｍ／Ｌの値はより小さくなる。
＜下引き層用塗布液４＞
下記材料を混合し、直径０．３ｍｍのジルコニアビーズとビーズミルを用いて５時間攪拌し、下引き層用塗布液４を調製した。なお、添加剤のうちアリザリン以外はジルコニアビーズとボールミルでの攪拌が終了した後に添加した。
・ブチラール樹脂 ・・・ ７．６部
（ＢＭ−１、積水化学株式会社製）
・メチルエチルケトンオキシムを含むブロックイソシアネート ・・・ １８部
（スミジュールＢＬ３１７５、住友バイエルン株式会社製）
・酸化亜鉛粒子 ・・・ ８０部
（ＭＺ−３００、テイカ株式会社製）
・溶剤：２−ブタノン ・・・ ７６．４部
・添加剤：アリザリン・・・０．８部
・添加剤：ジオクチルスズジラウレート・・・０．００５部
・添加剤：シリコーン樹脂粒子(トスパール１４５,ＧＥ東芝シリコーン社製)・・・５．３部
・添加剤：メチルエチルケトンオキシム・・・１．３部
下記材料を混合し、直径０．３ｍｍのジルコニアビーズとビーズミルを用いて５時間攪拌し、下引き層用塗布液４を調製した。なお、添加剤のうちアリザリン以外はジルコニアビーズとボールミルでの攪拌が終了した後に添加した。
・ブチラール樹脂 ・・・ ７．６部
（ＢＭ−１、積水化学株式会社製）
・メチルエチルケトンオキシムを含むブロックイソシアネート ・・・ １８部
（スミジュールＢＬ３１７５、住友バイエルン株式会社製）
・酸化亜鉛粒子 ・・・ ８０部
（ＭＺ−３００、テイカ株式会社製）
・溶剤：２−ブタノン ・・・ ７６．４部
・添加剤：アリザリン・・・０．８部
・添加剤：ジオクチルスズジラウレート・・・０．００５部
・添加剤：シリコーン樹脂粒子(トスパール１４５,ＧＥ東芝シリコーン社製)・・・５．３部
・添加剤：メチルエチルケトンオキシム・・・１．３部
（比較例４）
実施例１において、下引き層用塗布液１を下記下引き層用塗布液５に変更したこと、及び下引き層用塗布液を塗布した後の乾燥を、１５０℃で３０分間行い、平均厚みが１５．３μｍの下引き層を積層した以外は、実施例１と同様の方法で比較例３の電子写真感光体を作製した。
実施例１において、下引き層用塗布液１を下記下引き層用塗布液５に変更したこと、及び下引き層用塗布液を塗布した後の乾燥を、１５０℃で３０分間行い、平均厚みが１５．３μｍの下引き層を積層した以外は、実施例１と同様の方法で比較例３の電子写真感光体を作製した。
＜下引き層用塗布液５＞
下記材料を混合し、直径０．３ｍｍのジルコニアビーズとビーズミルを用いて５時間攪拌し、下引き層用塗布液４を調製した。なお、添加剤のうちアリザリン以外はジルコニアビーズとボールミルでの攪拌が終了した後に添加した。
・ブチラール樹脂 ・・・ １０部
（ＢＭ−１、積水化学株式会社製）
・メチルエチルケトンオキシムを含むブロックイソシアネート ・・・ １３．３部
（スミジュールＢＬ３１７５、住友バイエルン株式会社製）
・酸化チタン粒子 ・・・ ８０部
（ＴＴＯ−５５Ａ、石原産業株式会社製）
・溶剤：２−ブタノン ・・・ １１１．７部
下記材料を混合し、直径０．３ｍｍのジルコニアビーズとビーズミルを用いて５時間攪拌し、下引き層用塗布液４を調製した。なお、添加剤のうちアリザリン以外はジルコニアビーズとボールミルでの攪拌が終了した後に添加した。
・ブチラール樹脂 ・・・ １０部
（ＢＭ−１、積水化学株式会社製）
・メチルエチルケトンオキシムを含むブロックイソシアネート ・・・ １３．３部
（スミジュールＢＬ３１７５、住友バイエルン株式会社製）
・酸化チタン粒子 ・・・ ８０部
（ＴＴＯ−５５Ａ、石原産業株式会社製）
・溶剤：２−ブタノン ・・・ １１１．７部
＜下引き層に含まれるメチルエチルケトンオキシムの割合＞
得られた電子写真感光体について、長手方向中心部より５０ｍｍ×３０ｍｍ程度の部分を切りとり、電荷輸送層、電荷発生層を剥離し、下引き層及び支持体を取り出した。その後更に１０ｍｍ×３ｍｍ程度の小片に切り取り、得られた前記小片をＧＣ／ＭＳ(ＧＣ−２０１０及びＧＣＭＳ−Ｑ２０１０、いずれも島津製作所製)、並びにパイロライザー（ＥＧＡ／ＰＹ−３０３０、フロンティアラボ製）にて測定した。
前記測定により得られたｍ／ｚ＝８７のピーク面積、及び既知の濃度のメチルエチルケトンオキシム希釈液から得られたｍ／ｚ＝８７のピーク面積から、前記小片に含まれるメチルエチルケトンオキシムの量を算出した。
測定した後の小片から下引き層を除去し、測定前後の質量を比較することで測定に用いた下引き層の質量を算出し、算出した前記小片に含まれる下引き層の質量と、前記小片に含有していたメチルエチルケトンオキシムの量とから、小片に含まれるメチルエチルケトンオキシムの割合を算出し、比［メチルエチルケトンオキシムの割合（ｐｐｍ）／下引き層の平均厚み（μｍ）］を算出した。結果を表１に示す。
得られた電子写真感光体について、長手方向中心部より５０ｍｍ×３０ｍｍ程度の部分を切りとり、電荷輸送層、電荷発生層を剥離し、下引き層及び支持体を取り出した。その後更に１０ｍｍ×３ｍｍ程度の小片に切り取り、得られた前記小片をＧＣ／ＭＳ(ＧＣ−２０１０及びＧＣＭＳ−Ｑ２０１０、いずれも島津製作所製)、並びにパイロライザー（ＥＧＡ／ＰＹ−３０３０、フロンティアラボ製）にて測定した。
前記測定により得られたｍ／ｚ＝８７のピーク面積、及び既知の濃度のメチルエチルケトンオキシム希釈液から得られたｍ／ｚ＝８７のピーク面積から、前記小片に含まれるメチルエチルケトンオキシムの量を算出した。
測定した後の小片から下引き層を除去し、測定前後の質量を比較することで測定に用いた下引き層の質量を算出し、算出した前記小片に含まれる下引き層の質量と、前記小片に含有していたメチルエチルケトンオキシムの量とから、小片に含まれるメチルエチルケトンオキシムの割合を算出し、比［メチルエチルケトンオキシムの割合（ｐｐｍ）／下引き層の平均厚み（μｍ）］を算出した。結果を表１に示す。
＜下引き層の平均厚み＞
下引き層の平均厚みは、電子マイクロメーター（アンリツ株式会社製）を用いて厚み測定し、１０点の厚みの平均値より求めた。
下引き層の平均厚みは、電子マイクロメーター（アンリツ株式会社製）を用いて厚み測定し、１０点の厚みの平均値より求めた。
＜電子写真感光体の評価＞
＜＜評価装置＞＞
デジタル複写機（ＲＩＣＯＨ ＰｒｏＣ９００、株式会社リコー製）の改造機を用い、帯電部材としてスコロトロン方式の帯電部材（放電ワイヤーは直径５０μｍの金メッキを施したタングステン−モリブデン合金）を用い、画像露光光源として７８０ｎｍのＬＤ光（ポリゴンミラーによる画像書き込み、解像度１，２００ｄｐｉ）を用い、現像は黒色トナーを用いた２成分現像を行い、転写部材として転写ベルトを用い、除電は除電ランプを用いた。
＜＜評価装置＞＞
デジタル複写機（ＲＩＣＯＨ ＰｒｏＣ９００、株式会社リコー製）の改造機を用い、帯電部材としてスコロトロン方式の帯電部材（放電ワイヤーは直径５０μｍの金メッキを施したタングステン−モリブデン合金）を用い、画像露光光源として７８０ｎｍのＬＤ光（ポリゴンミラーによる画像書き込み、解像度１，２００ｄｐｉ）を用い、現像は黒色トナーを用いた２成分現像を行い、転写部材として転写ベルトを用い、除電は除電ランプを用いた。
＜＜電子写真感光体の劣化試験＞＞
２３℃で５５％ＲＨの常温常湿環境下でブラック単色のテストチャート（画像面積率５％）を２万枚連続出力し、感光体に負荷を加えた。
２３℃で５５％ＲＨの常温常湿環境下でブラック単色のテストチャート（画像面積率５％）を２万枚連続出力し、感光体に負荷を加えた。
＜＜電気特性評価（帯電性、残留電位、及び露光部電位変動）＞＞
電子写真感光体の劣化試験前後で、電子写真感光体の表面電位測定を行った。電位測定は、評価装置の現像ユニットを改造し、電位センサーを取り付け、このユニットを評価装置にセットして以下の方法で行った。
ワイヤーへの印加電圧を−１，８００μＡ、グリッド電圧を−８００Ｖとし、Ａ３サイズの紙を縦方向で全ベタ画像を１００枚印刷した時の１枚目と１００枚目の帯電電位（ＶＤ）及び露光部電位（ＶＬ）をそれぞれ測定した。測定には表面電位計（ＭＯＤＥＬ３４４表面電位計 トレックジャパン（株）製）を用い、表面電位計の数値はオシロスコープで毎秒１００シグナル以上の条件で記録し、下記評価基準により評価した。劣化試験前の評価結果を表２に、劣化試験後の評価結果を表３に示す。
なお、比較例１及び比較例４の電子写真感光体は、劣化試験前の露光部電位が高く、所望の画像濃度を得ることができないため、以後の評価（劣化試験前の帯電電位変動、露光部電位変動、地肌汚れ、及び残像の評価、並びに劣化試験後のすべての評価）を実施しないこととした。
電子写真感光体の劣化試験前後で、電子写真感光体の表面電位測定を行った。電位測定は、評価装置の現像ユニットを改造し、電位センサーを取り付け、このユニットを評価装置にセットして以下の方法で行った。
ワイヤーへの印加電圧を−１，８００μＡ、グリッド電圧を−８００Ｖとし、Ａ３サイズの紙を縦方向で全ベタ画像を１００枚印刷した時の１枚目と１００枚目の帯電電位（ＶＤ）及び露光部電位（ＶＬ）をそれぞれ測定した。測定には表面電位計（ＭＯＤＥＬ３４４表面電位計 トレックジャパン（株）製）を用い、表面電位計の数値はオシロスコープで毎秒１００シグナル以上の条件で記録し、下記評価基準により評価した。劣化試験前の評価結果を表２に、劣化試験後の評価結果を表３に示す。
なお、比較例１及び比較例４の電子写真感光体は、劣化試験前の露光部電位が高く、所望の画像濃度を得ることができないため、以後の評価（劣化試験前の帯電電位変動、露光部電位変動、地肌汚れ、及び残像の評価、並びに劣化試験後のすべての評価）を実施しないこととした。
［露光部電位］
前記表面電位計で得られた１枚目の露光部電位を示す。
前記表面電位計で得られた１枚目の露光部電位を示す。
［帯電電位変動の評価基準］
○：１枚目と１００枚目の帯電電位差（ΔＶＤ）が１０Ｖ未満
△：１枚目と１００枚目の帯電電位差（ΔＶＤ）が１０Ｖ以上２０Ｖ未満
×：１枚目と１００枚目の帯電電位差（ΔＶＤ）が２０Ｖ以上
○：１枚目と１００枚目の帯電電位差（ΔＶＤ）が１０Ｖ未満
△：１枚目と１００枚目の帯電電位差（ΔＶＤ）が１０Ｖ以上２０Ｖ未満
×：１枚目と１００枚目の帯電電位差（ΔＶＤ）が２０Ｖ以上
［露光部電位変動の評価基準］
○：１枚目と１００枚目の露光部電位差（ΔＶＬ）が１０Ｖ未満
△：１枚目と１００枚目の露光部電位差（ΔＶＬ）が１０Ｖ以上３０Ｖ未満
×：１枚目と１００枚目の露光部電位差（ΔＶＬ）が３０Ｖ以上
○：１枚目と１００枚目の露光部電位差（ΔＶＬ）が１０Ｖ未満
△：１枚目と１００枚目の露光部電位差（ΔＶＬ）が１０Ｖ以上３０Ｖ未満
×：１枚目と１００枚目の露光部電位差（ΔＶＬ）が３０Ｖ以上
＜画像評価（地肌汚れ、及び残像評価）＞
電子写真感光体の劣化試験前後において、以下のようにして地肌汚れ評価、及び残像評価を行った。劣化試験前の結果を表２に、劣化試験後の結果を表３に示す。
地肌汚れ評価は、グロスコート紙を用いて全面白地画像を５枚連続出力し、下記評価基準により、地肌汚れの評価を行った。
残像評価は、３ｃｍ×３ｃｍの「×」形状パターンを有する画像を３枚連続で出力した後に、ハーフトーン出力を３枚連続で行い、残像発生有無を目視で確認し、下記評価基準により、残像評価を行った。
電子写真感光体の劣化試験前後において、以下のようにして地肌汚れ評価、及び残像評価を行った。劣化試験前の結果を表２に、劣化試験後の結果を表３に示す。
地肌汚れ評価は、グロスコート紙を用いて全面白地画像を５枚連続出力し、下記評価基準により、地肌汚れの評価を行った。
残像評価は、３ｃｍ×３ｃｍの「×」形状パターンを有する画像を３枚連続で出力した後に、ハーフトーン出力を３枚連続で行い、残像発生有無を目視で確認し、下記評価基準により、残像評価を行った。
［地肌汚れ、及び残像の評価基準］
○：異常画像(残像、地肌汚れ)は見られない
△：軽微な異常画像が見られる
×：明瞭な異常画像が見られる
○：異常画像(残像、地肌汚れ)は見られない
△：軽微な異常画像が見られる
×：明瞭な異常画像が見られる
本発明の態様としては、例えば、以下のとおりである。
＜１＞ 支持体と、該支持体上に、下引き層及び感光層をこの順に有する電子写真感光体であって、前記下引き層が、酸化亜鉛粒子とウレタン結合を有する樹脂とメチルエチルケトンオキシムとを含有し、前記下引き層が、下記式を満たすことを特徴とする電子写真感光体である。
（式） １０＜Ｍ／Ｌ＜４００
ただし、Ｍは、前記下引き層に含有される前記メチルエチルケトンオキシムの割合（ｐｐｍ）を表し、Ｌは、前記下引き層の平均厚み（μｍ）を表す。
＜２＞ 前記下引き層が、下記式を満たすことを特徴とする前記＜１＞に記載の電子写真感光体である。
（式） ５０＜Ｍ／Ｌ＜３５０
＜３＞ 前記下引き層が、サリチル酸誘導体を更に含有する前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の電子写真感光体である。
＜４＞ 前記サリチル酸誘導体が、サリチル酸、及び３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルサリチル酸のいずれかである前記＜３＞に記載の電子写真感光体である。
＜５＞ 前記下引き層の平均厚みが、７μｍ〜２５μｍである前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の電子写真感光体である。
＜６＞ 前記下引き層の平均厚みが、７μｍ〜１５μｍである前記＜５＞に記載の電子写真感光体である。
＜７＞ 前記下引き層に含有される前記メチルエチルケトンオキシムの割合が、２００ｐｐｍ〜５，０００ｐｐｍである前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の電子写真感光体である。
＜８＞ 前記下引き層に含有される前記メチルエチルケトンオキシムの割合が、６００ｐｐｍ〜３，０００ｐｐｍである前記＜７＞に記載の電子写真感光体である。
＜９＞ 前記酸化亜鉛粒子の個数基準の平均粒径が、２０ｎｍ〜２００ｎｍである前記＜１＞から＜８＞のいずれかに記載の電子写真感光体である。
＜１０＞ 前記酸化亜鉛粒子の個数基準の平均粒径が、５０ｎｍ〜１５０ｎｍである前記＜９＞に記載の電子写真感光体である。
＜１１＞ 前記支持体が、導電性支持体である前記＜１＞から＜１０＞のいずれかに記載の電子写真感光体である。
＜１２＞ 前記支持体が、アルミニウムを含む前記＜１１＞に記載の電子写真感光体である。
＜１３＞ 前記感光層が、電荷発生層と電荷輸送層とを有する前記＜１＞から＜１２＞のいずれかに記載の電子写真感光体である。
＜１４＞ 前記電荷発生層の上に前記電荷輸送層が積層されてなる前記＜１３＞に記載の電子写真感光体である。
＜１５＞ 前記電荷発生層の平均厚みが、０．０１μｍ〜５μｍである前記＜１３＞から＜１４＞のいずれかに記載の電子写真感光体である。
＜１６＞ 前記電荷輸送層の平均厚みが、５μｍ〜５０μｍである前記＜１３＞から＜１４＞のいずれかに記載の電子写真感光体である。
＜１７＞ 電子写真感光体と、前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電手段と、帯電された前記電子写真感光体表面を露光して静電潜像を形成する露光手段と、前記静電潜像をトナーを用いて現像して可視像を形成する現像手段と、前記可視像を記録媒体に転写する転写手段と、を有する画像形成装置であって、前記電子写真感光体が、前記＜１＞から＜１６＞のいずれかに記載の電子写真感光体であることを特徴とする画像形成装置である。
＜１８＞ 電子写真感光体、前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電手段、帯電された前記電子写真感光体表面を露光して静電潜像を形成する露光手段、前記静電潜像をトナーを用いて現像して可視像を形成する現像手段、及び前記可視像を記録媒体に転写する転写手段から選択されるいずれかの手段を有するプロセスカートリッジであって、前記電子写真感光体が、前記＜１＞から＜１７＞のいずれかに記載の電子写真感光体であることを特徴とするプロセスカートリッジである。
＜１＞ 支持体と、該支持体上に、下引き層及び感光層をこの順に有する電子写真感光体であって、前記下引き層が、酸化亜鉛粒子とウレタン結合を有する樹脂とメチルエチルケトンオキシムとを含有し、前記下引き層が、下記式を満たすことを特徴とする電子写真感光体である。
（式） １０＜Ｍ／Ｌ＜４００
ただし、Ｍは、前記下引き層に含有される前記メチルエチルケトンオキシムの割合（ｐｐｍ）を表し、Ｌは、前記下引き層の平均厚み（μｍ）を表す。
＜２＞ 前記下引き層が、下記式を満たすことを特徴とする前記＜１＞に記載の電子写真感光体である。
（式） ５０＜Ｍ／Ｌ＜３５０
＜３＞ 前記下引き層が、サリチル酸誘導体を更に含有する前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の電子写真感光体である。
＜４＞ 前記サリチル酸誘導体が、サリチル酸、及び３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルサリチル酸のいずれかである前記＜３＞に記載の電子写真感光体である。
＜５＞ 前記下引き層の平均厚みが、７μｍ〜２５μｍである前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の電子写真感光体である。
＜６＞ 前記下引き層の平均厚みが、７μｍ〜１５μｍである前記＜５＞に記載の電子写真感光体である。
＜７＞ 前記下引き層に含有される前記メチルエチルケトンオキシムの割合が、２００ｐｐｍ〜５，０００ｐｐｍである前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の電子写真感光体である。
＜８＞ 前記下引き層に含有される前記メチルエチルケトンオキシムの割合が、６００ｐｐｍ〜３，０００ｐｐｍである前記＜７＞に記載の電子写真感光体である。
＜９＞ 前記酸化亜鉛粒子の個数基準の平均粒径が、２０ｎｍ〜２００ｎｍである前記＜１＞から＜８＞のいずれかに記載の電子写真感光体である。
＜１０＞ 前記酸化亜鉛粒子の個数基準の平均粒径が、５０ｎｍ〜１５０ｎｍである前記＜９＞に記載の電子写真感光体である。
＜１１＞ 前記支持体が、導電性支持体である前記＜１＞から＜１０＞のいずれかに記載の電子写真感光体である。
＜１２＞ 前記支持体が、アルミニウムを含む前記＜１１＞に記載の電子写真感光体である。
＜１３＞ 前記感光層が、電荷発生層と電荷輸送層とを有する前記＜１＞から＜１２＞のいずれかに記載の電子写真感光体である。
＜１４＞ 前記電荷発生層の上に前記電荷輸送層が積層されてなる前記＜１３＞に記載の電子写真感光体である。
＜１５＞ 前記電荷発生層の平均厚みが、０．０１μｍ〜５μｍである前記＜１３＞から＜１４＞のいずれかに記載の電子写真感光体である。
＜１６＞ 前記電荷輸送層の平均厚みが、５μｍ〜５０μｍである前記＜１３＞から＜１４＞のいずれかに記載の電子写真感光体である。
＜１７＞ 電子写真感光体と、前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電手段と、帯電された前記電子写真感光体表面を露光して静電潜像を形成する露光手段と、前記静電潜像をトナーを用いて現像して可視像を形成する現像手段と、前記可視像を記録媒体に転写する転写手段と、を有する画像形成装置であって、前記電子写真感光体が、前記＜１＞から＜１６＞のいずれかに記載の電子写真感光体であることを特徴とする画像形成装置である。
＜１８＞ 電子写真感光体、前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電手段、帯電された前記電子写真感光体表面を露光して静電潜像を形成する露光手段、前記静電潜像をトナーを用いて現像して可視像を形成する現像手段、及び前記可視像を記録媒体に転写する転写手段から選択されるいずれかの手段を有するプロセスカートリッジであって、前記電子写真感光体が、前記＜１＞から＜１７＞のいずれかに記載の電子写真感光体であることを特徴とするプロセスカートリッジである。
前記＜１＞から＜１６＞のいずれかに記載の電子写真感光体、前記＜１７＞に記載の画像形成装置、及び前記＜１８＞に記載のプロセスカートリッジによると、従来における前記諸問題を解決し、前記本発明の目的を達成することができる。
１ 電子写真感光体
２ 除電手段
３ 帯電手段
５ 露光手段
６ 現像手段
７ 転写前チャージャ
９ 記録媒体
１０ 転写手段
１１ 分離チャージャ
１２ 分離爪
１３ クリーニング前チャージャ
１４ ファーブラシ
１５ クリーニングブレード
３１ 支持体
３２ 下引き層
３３ 単層型感光層
３５ 電荷発生層
３７ 電荷輸送層
３９ 保護層
１０１ 電子写真感光体
１０２ 帯電手段
１０４ 現像手段
１０５ 記録媒体
１０６ 転写手段
１０７ クリーニング手段
２ 除電手段
３ 帯電手段
５ 露光手段
６ 現像手段
７ 転写前チャージャ
９ 記録媒体
１０ 転写手段
１１ 分離チャージャ
１２ 分離爪
１３ クリーニング前チャージャ
１４ ファーブラシ
１５ クリーニングブレード
３１ 支持体
３２ 下引き層
３３ 単層型感光層
３５ 電荷発生層
３７ 電荷輸送層
３９ 保護層
１０１ 電子写真感光体
１０２ 帯電手段
１０４ 現像手段
１０５ 記録媒体
１０６ 転写手段
１０７ クリーニング手段
Claims (7)
- 支持体と、該支持体上に、下引き層及び感光層をこの順に有する電子写真感光体であって、
前記下引き層が、酸化亜鉛粒子と、ウレタン結合を有する樹脂と、メチルエチルケトンオキシムと、サリチル酸骨格を有する化合物及びナフトエ酸骨格を有する化合物から選択される少なくともいずれかと、を含有し、
前記下引き層の平均厚みが、７μｍ〜１３．５μｍであり、
前記下引き層が、下記式を満たすことを特徴とする電子写真感光体。
（式） ５０＜Ｍ／Ｌ＜４００
ただし、Ｍは、前記下引き層に含有される前記メチルエチルケトンオキシムの割合（ｐｐｍ）を表し、Ｌは、前記下引き層の平均厚み（μｍ）を表す。 - 前記下引き層が、下記式を満たす請求項１に記載の電子写真感光体。
（式） ５０＜Ｍ／Ｌ＜３５０
ただし、Ｍは、前記下引き層に含有される前記メチルエチルケトンオキシムの割合（ｐｐｍ）を表し、Ｌは、前記下引き層の平均厚み（μｍ）を表す。 - 前記下引き層が、下記式を満たす請求項１から２のいずれかに記載の電子写真感光体。
（式） ７０＜Ｍ／Ｌ＜１２０
ただし、Ｍは、前記下引き層に含有される前記メチルエチルケトンオキシムの割合（ｐｐｍ）を表し、Ｌは、前記下引き層の平均厚み（μｍ）を表す。 - 前記サリチル酸骨格を有する化合物及びナフトエ酸骨格を有する化合物が、サリチル酸、アセチルサリチル酸、５−アセチルサリチル酸、３−アミノサリチル酸、５−アセチルサリチルアミド、５−アミノサリチル酸、４−アジドサリチル酸、サリチル酸ベンジル、サリチル酸４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル、サリチル酸ブチル、サリチル酸２−カルボキシフェニル、３，５−ジニトロサリチル酸、ジチオサリチル酸、アセチルサリチル酸エチル、サリチル酸２−エチルヘキシル、６−メチルサリチル酸エチル、サリチル酸エチル、５−ホルミルサリチル酸、４−（２−ヒドロキシエトキシ）サリチル酸、サリチル酸２−ヒドロキシエチル、サリチル酸イソアミル、サリチル酸イソブチル、サリチル酸イソプロピル、３−メトキシサリチル酸、４−メトキシサリチル酸、６−メトキシサリチル酸、アセチルサリチル酸メチル、５−アセチルサリチル酸メチル、５−アリル−３−メトキシサリチル酸メチル、５−ホルミルサリチル酸メチル、４−（２−ヒドロキシエトキシ）サリチル酸メチル、３−メトキシサリチル酸メチル、４−メトキシサリチル酸メチル、５−メトキシサリチル酸メチル、４−メチルサリチル酸メチル、５−メチルサリチル酸メチル、サリチル酸メチル、３−メチルサリチル酸、４−メチルサリチル酸、５−メチルサリチル酸、チオサリチル酸メチル、サリチル酸４−ニトロフェニル、５−ニトロサリチル酸、４−ニトロサリチル酸、３−ニトロサリチル酸、サリチル酸４−オクチルフェニル、サリチル酸フェニル、３−アセトキシ−２−ナフトアニリド、６−アセトキシ−２−ナフトエ酸、３−アミノ−２−ナフトエ酸、６−アミノ−２−ナフトエ酸、１，４−ジヒドロキシ−２−ナフトエ酸、３，５−ジヒドロキシ−２−ナフトエ酸、３，７−ジヒドロキシ−２−ナフトエ酸、２−エトキシ−１−ナフトエ酸、２−ヒドロキシ−１−（２−ヒドロキシ−４−スルホ−１−ナフチルアゾ）−３−ナフトエ酸、３−ヒドロキシ−７−メトキシ−２−ナフトエ酸、１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、２−ヒドロキシ−１−ナフトエ酸、３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、６−ヒドロキシ−１−ナフトエ酸、６−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸ヒドラジド、２−メトキシ−１−ナフトエ酸、３−メトキシ−２−ナフトエ酸、６−メトキシ−２−ナフトエ酸、６−アミノ−２−ナフトエ酸メチル、３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸メチル、６−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸メチル、３−メトキシ−２−ナフトエ酸メチル、１，４−ジヒドロキシ−２−ナフトエ酸フェニル、及び１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸フェニルから選択される少なくとも１種である請求項１から３のいずれかに記載の電子写真感光体。
- 前記酸化亜鉛粒子の個数基準の平均粒径が、２０ｎｍ〜２００ｎｍである請求項１から４のいずれかに記載の電子写真感光体。
- 電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電手段と、
帯電された前記電子写真感光体表面を露光して静電潜像を形成する露光手段と、
前記静電潜像をトナーを用いて現像して可視像を形成する現像手段と、
前記可視像を記録媒体に転写する転写手段と、
を有する画像形成装置であって、
前記電子写真感光体が、請求項１から５のいずれかに記載の電子写真感光体であることを特徴とする画像形成装置。 - 電子写真感光体、前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電手段、帯電された前記電子写真感光体表面を露光して静電潜像を形成する露光手段、前記静電潜像をトナーを用いて現像して可視像を形成する現像手段、及び前記可視像を記録媒体に転写する転写手段から選択されるいずれかの手段とを有するプロセスカートリッジであって、
前記電子写真感光体が、請求項１から５のいずれかに記載の電子写真感光体であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
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