DE1032555B - Verfahren und Vorrichtung zum Zonenschmelzen - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung zum ZonenschmelzenInfo
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Description
IaM
Pat. Bl. ν. ■/¥?/*
DEUTSCHES
ANMELDETAG: 28. M AR Z 1 9 5 2
BEKANNTMACHUNG
DER ANMELDUNG
UND AUSGABE DER
AUSLEGESCHRIFT: 19.JUNI1958
DER ANMELDUNG
UND AUSGABE DER
AUSLEGESCHRIFT: 19.JUNI1958
Durch die Erfindung sollen Aufgaben gelöst werden, die in erster Linie die Halbleitermetallurgie betreffen,
nämlich Einkristallzüchten, Herstellen hochreiner Halbleiter.grundstoffe und gezieltes Verteilen
der vom Grundstoff in fester Lösung aufgenommenen, den Leitfähigketitscharakter bestimmenden Fremdstoffkomponenten.
Bisher wurden solche hochreinen Stoffe unter anderem durch fraktioniertes Umkristallisieren gewonnen.
Bei einem solchen Verfahren läßt man ein Schmelzbad normal erstarren, und der Teil des Werkstücks,,
der zuletzt erstarrte und die meisten Steigerungen enthält, wird abgetrennt. Dieses Verfahren
wird mehrfach wiederholt, bis der gewünschte Konzentrationszustand des Werkstücks erreicht ist.
Ein weiteres Reinigungsverfahren ist das Einkristallzüchten. So ist vom B ridgman-Verfahren her
bekannt, daß ein aus der Schmelze wachsender homogener Einkristall an dem zuletzt gebildeten Ende
größere Seigerungen (Zonenmischkristallbildung) hat als an dem Ende, welches zuerst aus der Schmelze
entstanden ist. Ein aus der Schmelze wachsender Kristall hat somit die bemerkenswerte Fähigkeit,
Verunreinigungen vor sich herzuschieben.
Sowohl das fraktionierte Umkristallisieren als auch das obengenannte Erakristallzüchtungsverfähren haben
insofern Nachteile, als immer die gesamte Stoffmenge eingeschmolzen werden muß, was hohen Zeitaufwand,
Werkstoffverlust und Verunreinigungen durch die Atmosphäre über dem ausgedehnten Schmelzbad bewirkt.
Durch die Erfindung sollen diese Nachteile ctes bisherigen Umkristallisierens vermieden werden.
Die Erfindung geht von einer Arbeitsweise aus, die bisher bei dem sogenannten Pintsch-Verfahren angewendet
worden ist, wo aus polykristallinen Stäben Einkristalle gezüchtet werden, indem durch den Stab
kontinuierlich eine hocherhitzte Zone geführt wird. In der Zone wird der Stab fraktioniert bzw. portionsweise in ei non Einkristall umgewandelt.
In einer Ausführungsform des Pintsch-Verfährens wird die Erhitzung der Zone so weit getrieben, daß
der Werkstoff teigig wird.
Die Erfindung geht nun einen Schritt weiter, indem die genannte Zone als Schmelzzone mit Eiiischnielz-
und Erstarrungsfront ausgebildet wird.
Dieses Zonenschmelzen ist ein bemerkenswert anpassungsfähiges Verfahren, das durch geeignete
Steuerung den Konzentrationsgradienten der gelösten Substanz im Enderzeugnis nach Wunsch bestimmt.
Die Konzentration an gelöster Substanz kann in gewünschten Bezirken in verschiedener Art vermehrt
oder verringert werden; durch Änderung der Größe der geschmolzenen Zone, durch Änderung der Geschwindigkeit,
mit der die Zone das Material durch-Verfahren
und Vorrichtung
zum Zonenschmelzen
zum Zonenschmelzen
Anmelder:
Western Electric Company,
Incorporated, New York, N. Y. (V. St. A.)
Incorporated, New York, N. Y. (V. St. A.)
Vertreter: Dr. Dr. R. Herbst, Rechtsanwalt,
Fürth (Bay.), Breitscheidstr. 7
Fürth (Bay.), Breitscheidstr. 7
Beanspruchte Priorität:
V. St. v. Amerika vom 16. November 1951
V. St. v. Amerika vom 16. November 1951
William Gardner Pfarm, Basking Ridge, N. J. (V. St. Α.),
ist als (Erfinder genannt worden
2
wandert, durch Einimpfen fester, flüssiger oder gasförmiger Zusätze oder durch Rühren mit variabler
Geschwindigkeit, wenn die Diffusion der gelösten Substanz in der Schmelze nicht augenblicklich erfolgt,
und zwar während des ZonenschmeJzens selbst.
Es ist bekannt, daß manche Verunreinigungen rascher ausseigern als andere, und es ist gleichfalls
bekannt, daß bei normalen, Erstarrungsvorgängen die Konzentration an fester gelöster Substanz zu, Beginn
der Erstarrung hoch ist, während bei anderen Substanzen die Konzentration erst gegen Ende des Erstarrens
hohe Werte annimmt. Das heißt, daß — gemessen an der Durchschnittskonzentration — einige
Systeme aus Lösungsmittel und gelöster Substanz Gammawerte größer als 1 und einige von kleiner als
1 haben. Wenn das zu behandelnde Material zwei odier mehr Verunreinigungen enthält, ist es somit
möglich, zunächst ein Überwiegen der ersten und später der anderen lediglich durch Änderung des
Volumens herbeizuführen. Gleiche Wirkungen können durch Regelung des Vorrückens der Sohmelzzone oder
durch Rühren mit gleichförmiger oder veränderlicher Geschwindigkeit in der Schmelzzone hervorgebracht
werden.
An Hand der Zeichnungen werden die physikalischen Grundlagen, weitere Ausführungsformen
und Anwendungen des Verfahrens der Erfindung beschrieben.
809 557/390
Fig. 1 ist eine graphische Darstellung eines Festkörpers, der einen normalen Erstarrungsvorgang
durdh.ma.dbt, wobei das gesamte Material geschmolzen
ist und lediglich durch Abkühlung des geschmolzenen Körpers unter 'dem Schmelzpunkt zum Erstarren
kommt und wobei die Abkühlungsgeschwindigkeit so klein ist, daß keine Flüssigkeitseinschlüsse erfolgen
und völlige- Diffusion der gelösten Substanz in der flüssigen Phase gewährleistet ist; in
Fig. 2 a und 2b sind unter Mischkristallbildung erstarrende
Zweistoffsysteme dargestellt, wobei Fig. 2a den Normalfalil zeigt, wo das Verhältnis von y und
der isothermen Solidus liquidus Abschnitte kleiner als 1 ist, während Fig. 2 b ein System darstellt, wo γ
größer als 1 ist;
Fig. 3 ist eine Darstellung der Konzentration an im Mischkristall gelösten Stoff im Verhältnis zu dem
verfestigten Anteil für Systeme nach Fig. 1, 2 a und 2 b, wobei die verschiedenen Kurven verschiedene
Werte von γ darstellen;
Fig. 4 stellt ein polykristallines Werkstück dar, das ein einfaches Zonenschmelzen erfährt;
Fig. 5 ist eine graphische Darstellung der in den Mischkristallen gelösten Stoffe im Abhängigkeit von
der Werkstücklänge. Sie veranschaulicht eine Art der Verteilung der gelösten Substanz, wie man sie im
Werkstück nach Fig. 4 durch einmaliges Zonenschmelzen erhält;
Fig. 6 zeigt die Konzentration des Gelösten als Funktion von der Werkstücklänge, wobei die verschiiedenen
Kurven verschiedene Werte von γ darstellen und die Art der Verteilung des Gelösten veranschaulichen,
die durch einmaliges Zonenschmelzen erreicht wird;
Fig. 7 a zeigt die Konzentration C an Seigerungen als Funktion in Werkstücken zurückgelegten Schmelzzonenweges·
χ nach dem Vorwärts-Rückwärts-Zonenschmelzen, d. h. wenn nach dem Durchlauf der
Schmelzzone durch das Werkstück in einer Richtung noch ein Durchlauf in entgegengesetzter Richtung erfolgt;
Fig. 7 b zeigt die Konzentration C als Funktion des Schmelzzonenweges χ für nach dem Zonenschmelzen
mit Startdharge, wobei der anfänglichen geschmolzenen Zone eines bereits im Mischkristall gelöste
Stoffe enthaltenden Werkstücks zusätzlich eine Charge gelöster Stoffe zugefügt worden ist;
Fig. 8 zeigt die Konzentration C als Funktion des Schmelzzonenweges x, wo ebenfalls mit Startcharge
zonengesehmolzen wurde, wie in Fdg. 7 b, mit dem Unterschied, daß zwei im Mischkristall gelöste Stoffe
zugegen sind und der Zusatz beide Stoffe enthält;
Fig. 9 zeigt die Ausseigerungskurve des Enderzeugnisses
eines Zonenschmelzvorgangs, wobei, eine Startcharge der gewünschten Verunreinigung der
Anfangszone zugesetzt wird und wobei der Ausgangsstoff im wesentlichen frei von Gelöstem ist;
Fig. 10 zeigt die Konzentration C als Funktion des Schmelzzonenweges χ für verschiedene «-Werte bei
dem Verfahren nach Fig. 9;
Fig. 11 veranschaulicht ein Zonenschmelzverfahren
an einem sich verjüngenden Werkstück, bei dem sich das Volumen der Schmelzzone in dem Maße stetig
verändert, wie das Erstarren f ortsahreitet;
Fig. 12 zeigt ein ringförmig ausgebildetes Werkstück,
an dem ein vielfaches Zonenschmelzen vorgenommen worden ist;
Fig. 13 a und 13 b sind Schnittdarstellungen von zwei ZonenscShmelzvorriehtungen für stabförmige
Werkstücke; Fig. 14a und' 14b sind schematische Darstellungen von zwei Vorrichtungen zur »Zonen-Raffination«,
also schnelle Reinigung des Werkstücks aiuf höchste Reinheitsgrade;
Fig. 15 zeigt die Konzentration C als Funktion des Sdhmelzzonenw'eges x, an welchem ein Vorwärts-Rückwärts-Zonensdhmelzen
vorgenommen worden ist; die Kurven B bis E beziehen sich auf Werkstück^ <
von denen Teile der Endzone, welche mit gelöstem Stoff angereichert ist, entfernt wurden, bevor mit der
Zone rückwärts gefahren worden ist;
Fig. 16 a und 16 b dienen zur Erläuterung eines Zonenschmelzverfahrens zur Herstellung von Transistoren:
mit eingewachsenem n-p-n-Zonen.
1. Seigerung bei normaler Erstarrung
Bei dem im, Fig. 1 dargestellten Körper handelt es sich um eine unter Mischkristallbildung erstarremdse
Legierung, die in eimer Richtung, nämlich1 vom '
Ende O zum Ende P mit einer so geringen Geschwindigkeit
erstarren kann, daß ein Einfluß am flüssiger Substanz verhindert und ausreichende Diffusion,
des. Gelösten im flüssigen Anteil ermöglicht ist. " Diese Art des Erstarrems wird als normales Erstarren
bezeichnet. Es findet dabei meistens eine Aus- , seigerung statt, wodurch das Gelöste an dem einen
oder anderen Ende des Körpers angereichert wird- " Wenn das Sdhaubild der Gleichgewichtsphase nach
Fig. 2 a für das System gilt, dann ist der Konzentrationsgradient γ des Gelösten bzw. der Löslicihkeitskoeffizient,
d. h. das Verhältnis der Konzentration des Gelösten im festen. Anteil C5 zu der im
flüssigen Anteil CL bzw. das Verhältnis der isothermen
Solidus-Liquidus-Absdbnitte kleiner als 1, und das Gelöste reichert sich zunächst in der Schmelze an>
und seigert in dem zuletzt, erstarrenden Teil des Werkstücks aus. Wenn das Gelöste dagegen den Schmelzpunkt
erhöht wie in Fig. 2 b, dann ist γ größer als 1, und das Gelöste reichert sich im zuerst Erstarrten, an.
C0 ist in beiden Fällen, die mittlere Konzentration an
Gelöstem im Ausgangsmaterial. Die Konzentration C an Seigerungsstoffian an einem beliebigen Punkt χ
der Fig. 1 läßt sich durch die Gleichung
C = C (Ί — x\— ι (Ϋ\
ausdrücken, wobei χ den bereits verfestigten Anteil darstellt.
Die Ableitung dieser Gleichung beruht auf folgenden Annahmen: ■;;
a) Die Diffusion im festen Anteil ist vernaeh- )
lässigbar;
b) die Diffusion im flüssigen Anteil erfolgt schnell;
c) γ ist konstant.
Für Systeme, in denen der y-Wert des Gelösten im ;
Lösungsmittel kleiner als 1 ist, ist der kleinstmögliehe ',,. Wert für γ der, der sich aus dem Diagramm der
Fig. 2 a errechnet. Für Systeme, in denen der y-Wert größer als 1 ist, stellt der theoretische Wert, der sich '
aus dem Diagramm der Fig. 2b errechnet, den Maximalwert dar. Diese theoretischen Werte sdmd %
unter der Voraussetzung richtig, daß nur geringe oder ■■
keine Diffusion im festen Zustand erfolgt und daß die Diffusion im flüssigen Zustand vollständig ist. .
Eine Diffusion im festen Zustand bzw. ihr Ausbleiben" χ
im flüssigen Zustand bewirkt, daß γ sich dem Wert 1 , ;
nähert. Andere Faktoren, die den j<-Wert beeinnussien; V'f
indem sie die Diffusion im flüssigen Anteil flüssen, sind die folgenden:
a) Rühren bewirkt Zunahme der Diffusion im flüssigen Zustand und damit eine Annäherung der
wirklichen Werte für y an den theoretischen Wert des in Frage kommenden Mehrstoffsystems.
b) Bildung von Dendriten bewirkt abnehmende Diffusion
im flüssigen Zustand und damit Annäherung der y-Werte des in Frage kommenden
Systems an den Wert 1. Ebenso erhöht ein schnelleres
Fortschreiten, der Grenzfläche fest — flüssig die y-Werte, die kleiner als 1 sind, und verkleinert
die y-Werte, die größer als 1 sind.
c) Augenscheinlich ist die wirksame Diffusionsgeschwindigkeit im flüssigen Anteil um so höher,
je -höher der Temperatur,abfall von der flüssigen Zone zum festen Anteil ist. Dies wirkt also in
Richtung einer Annäherung der y-Werte des betreffenden Systems an den theoretischen Wert des
Gleichgewichtsdiagramms der Fig. 3.
In Fig. 3 ist der berechnete Anteil in den Mischkristallen
gelöster Stoffe gegen den erstarrten Anteil des Werkstücks aufgetragen, und zwar für einen
Stab, der normaler Erstarrung unterworfen war, wie in Fig. 1 gezeigt. Für jeden der Parameter A bis H
werden die Kurven gezeigt, die y-Werten von 5, 3, 2,
0, 9, 0,5, 0,2, 0,1 und 0,01 entsprechen. Die Kurven sind aus der obigen Gleichung (1) berechnet. C0, die
mittlere Konzentration an im Werkstoff Gelöstem wird durch den Wert 1 der senkrechten Koordinate
dargestellt. Die übrigen Konzentrationswerte werden (in logarithmischem Maßstab) als Bruchteile oder
Vielfache von C0 dargestellt. Aus diesen Kurven sind die folgenden Schlüsse zu ziehen:
a) Je größer der absolute Wert von (1—y) ist, um so;
größer sind die durch Steigerung hervorgerufenen Extreme in der Konzentration, d. h., je kleiner y
bei Werten unter 1 bzw. größer y bei Werten über 1 ist, um so größer ist der Unterschied zwischen
der mittleren Konzentration C0 an gelöster Substanz
und dem Konzentrationswert y C0 an gelöster Substanz im bereits erstarrten Anteil.
b) Für γ kleiner als 1 entsprechen kleinere y-Werte
schnellerer Steigerung. Das heißt, daß beim Vergleich der Kurven für zwei gelöste Substanzen bei
gleicher Konzentration und gleich großem verfestigtem Anteil diejenige mit kleinerem y stets in
allen Punkten die steilere Neigung -^- hat. Für
einen solchen Vergleich können die Kurven senkrecht ohne Änderung des Verlaufs parallel zu sich
selbst verschoben werden, bis sie sich bei irgendeiner gegebenen Konzentration oder erstarrtem
Anteil schneiden, da ja die Konzentration logarithmisch aufgetragen ist. Für y größer ails I
entspricht kleinerer y-Wert langsamer Seigerung
mit negativem -j—.
c) Für y-Werte in der Nähe von 0,1 wächst die Konzentration ungefähr um den Faktor 8 in den ersten
neun Zehnteln des erstarrten Blocks.
Die weitere Untersuchung der Kurven in Fig. 3 zeigt, daß der prozentuelle Zuwachs in der Konzentration
des- Gelösten über den für χ = 0 geltenden Wert hinaus in den ersten neun Zehnteln des Blocks
verhältnismäßig belanglos für die y-Werte ist, solange
diese im Bereich 0,01 bis etwa 0,2 liegen. Dies ist sehr wichtig, da diese Größenordnung gerade die
y-Werte gewisser gelöster bedeutsamer Verunreinigungen darstellt, die gegenwärtig in Germaniumhalbleitern
verwendet werden. Beispiele sind: die Elektronenempfängerstoffe Indium, Aluminium und
Gallium mit y-Werten von etwa 0,002, 0,07 und 0,12 und den ElektiOnengeberverunreinigungen Arsen und
Antimon mit den y-Werten 0,07 und 0,007.
Es ist zu beachten, daß Gleichung (1) zwar auf _ jedes Teilstück des Werkstücks, aber nicht auf das
Werkstück als Ganzes angewendet werden kann, da gemäß dieser Gleichung für y kleiner als 1 die Konzentration
unendlich wird, wenn sich χ dem Wert 1 nähert. Für jede Legierung tritt an einem Punkt des
Erstarrungsprozesses eine von zwei Alternativen ein :-
a) Die Schmelze erreicht einen eutektischen oder peritektischen Punkt mit dem Auftreten einer
zweiten Phase im festen Anteil, oder
b) wenn das System völlige Löslichkeit im festen Zustand; hat und darum eine zweite Phase nicht
auftreten kann,, ändert sich mit der Zusammensetzung, bis·-Gleichförmigkeit erreicht ist, was bei
x=l eintritt in dem Augenblick, da der letzte Tropfen erstarrt.
2. Seigerung beim Zonenschmelzen mit einmaligem Durchlauf
Wie die vorstehenden Betrachtungen zeigen, verursacht normales. Erstarren besonders für sehr große
oder sehr kleine Werte von y eine Änderung der Konzentration des Gelösten über das ganze Werkstück
hin in der Richtung, in der das Erstarren fortschreitet. Diese Änderungen können durch das Zonenschmelzen
ausgeschaltet werden. Auch wo zwei gelöste Stoffe zugegen sind, kamn das Konzentrationsdifferential Δ C durch Zonenschmelzen konstant gehalten
werden, während dies durch normales Erstarren nicht erreichbar ist.
Grundsätzlich besteht das Zonenschmelzverfafaren, wie oben erörtert worden ist, darin, daß eine kleine
Schmelzzone einen verhältnismäßig langen Stab aus einem Mehrstoffsystem mit Mischkristallbildung mit
gleichförmiger Geschwindigkeit durchwandert, wie in Fig. 4 gezeigt. In dieser Figur stellt L die Länge der
Schmelzzone dar und X den Anteil des wieder erstarrten. Werkstücks.
Die Erstarrung an der hinteren Zonengrenzfläche ist von d'er normalen Erstarrung aus dem Schmelzbad1
grundsätzlich verschieden, wiie in Fig. S veranschaulicht
wird:, wo die Konzentration gegen die Werkstücklänge für ein Mehrstoffsystem, in dem y
kleiner als 1 ist, aufgetragen ist. Bei der Zusammenstellung der Fig. 5 ist zusätzlich zu den bereits getroffenen
Voraussetzungen als vierte Voraussetzung unterstellt, daß die Länge L der Schmelzzone in einem
Werkstück von gleichbleibendem Querschnitt konstant bleibt. Anwendungsbereiche, wo es sich als
vorteilhaft erweist, die Länge oder das Volumen der Zone L zu variieren, werden weiter unten besprochen.
In Fig. 5 ist die mittlere Konzentration C0 von in
den Mischkristallen Gelöstem gestrichelt als gleichförmig dargestellt. Mittel zur Erreichung einer solchen
gleichförmigen Verteilung des Gelösten im Werkstück werden nachstehend beschrieben. In Fig. 5
rückt die Schmelzzone von konstanter Länge L mit ganz gleichförmiger Geschwindigkeit von links nach
rechts in einem Werkstück von konstantem Querschnitt vor, wobei eine Schicht dx ausfriert und eine
Schicht dx einschmilzt und der erste feste Anteil bei x = 0 die Konzentration C1= ■ C0 hat. Da y kleiner
als 1 ist und C1 eine größere Verdünnung als C0 darstellt,
reichert sich die Schmelze an. Mit dem Vorrücken der Erstarrung von A nach B wird die
Schmelze fortgesetzt angereichert, wenn auch in abnehmendem Maße, bis die Schmelzzone die Konzen-
tration C0/y im Punkt B erreicht. Im ZustandseChaubild
ist der Punkt 5 durch dien Schnittpunkt der Liquidus mit einer Isothermen bestimmt, die durch
den Schnittpunkt -der Burchschnittskonzentration der
Legierungskomponenten mit der Solidus gelegt wird. In diesem Punkt 'haben die in die Schmelzzone eintretenden
und die sie verlassenden festen Mischkristalle die gleiche Konzentration an Gelöstem, und
die Konzentration der Schmelze bei C0Iy bleibt konstant.
Dies ist als stetiger Zustand zu betrachten, und die Konzentration des erstarrenden festen Anteils
bleibt konstant auf dem Wert C0 bis zum Punkt C, der um Zonenlänge L vom Ende D des Kristalls entfernt
ist. Im Punkt C verfestigt sich der ganze Anteil in normaler Erstarrung, da ja kein neues Material
eingeschmolzen wird, und die Kurve C-D verläuft so, wie es Gleichung (1) vorwegnimmt.
So ergibt sich aus Fig. 5, daß bei einfachem Zonenschmelzen eines gleichförmig polykristallinen Werkstücks
ein anfänglicher Übergangsbereich, in welchem die Konzentration, gelöster Substanz in der Schmelze
sich fortschreitend der Gleiahgewichtskonzentration C0Zy nähert, ein Bereich mit gleichbleibender Konzentration
C0Iy in der Schmelze und C0 im festen Anteil,
dessen Länge, in Zonenlängen ausgedrückt, nur von der Werkstückslänge bestimmt wird und ein Bereich
von der Länge einer Schmelzzone, in welchem die normale Erstarrung aus dem Schmelzbad stattfindet,
gebildet wird.
Diese Konzentrationsverteilumg im zonengesdbmolzenen
Werkstück kann durch folgende Gleichung erfaßt werden:
Die Anizahl von Schmelzzonendurchläufen, die erforderlich
sind, damit C die Gleichgewichtskonzentration C0 erreicht, ist in der Tabelle für verschiedene
Werte von y angegeben, wobei diie Grenze der Zone an die Stelle gelegt wurde, wo C=0,9C0 ist. Es ist
augenscheinlich, daß für einen Kristall von ungefähr zwanzig Zonenlängen das einfache Zonenschmelzen
kein sehr wirksames Verfahren zur Erzielung einer gleichförmigen Zusammensetzung ist, wenn γ kleiner
als etwa 0,2 ist.
J | XIL |
0,9 | 0 |
0,5 | 3,2 |
0,1 | 22 |
0,01 | 230 |
0,001 | 2300 |
CZC0=I-(I-/)
(2)
in der C die Konzentration des in den Mischkristallen Gelösten, C0 die mittlere Konzentration des kristallinen
Ausgangsmaterials, L die Länge der Schmelzzone, γ der oben definierte Verteilungskoeffizient und
XIL diie Entfernung vom Startende, ausgedrückt in
Zonenlängen, bedeutet. (Man beachte, daß X nicht dien erstarrten Anteil χ wie in Gleichung (1) darstellt.)
Fig. 6 ist eine aus Gleichung (2) berechnete Zusammenstellung
mit den Koordinaten Konzentration gegen XIL, wobei die von der Schmelzzone durchlaufene
Entfernung in Zonenlängen L gemessen und y der Parameter ist. Die Kurven A bis G stellen Werte
für γ von 5, 2, 0,9, 0,5, 0,2, 0,1 und 0,01 dar, wie sie
beim einfachen Zonenschmelzen erhalten werden.. Nur neun Zonenlängen sind dargestellt, da die zehnte
normal erstarrt. Aus den Kurven in Fig. 6 ist ersichtlich, daß
a) mit wachsendem γ die örtliche Konzentration C an
Gelöstem in dem zonengeschmolzenen Festkörper sich C0 bei geringeren Werten von XIL nähert.
Für einen gegebenen Wert von γ bewirkt eine Verkörperung der Schmelzzone Annäherung (L)
von C an C0.
b) Wie sich aus den Kurven F und G der Fig. 6 ergibt,
ist die Stoffverteilung im Werkstück für v-Werte von etwa 0,1 oder weniger keineswegs
gleichförmig auf der angegebenen Stablänge von zehn Zonenläugen.
c) Der Unterschied zwischen anfänglicher und mittlerer Konzentration ist proportional (1— y) wie
bei gewöhnlichem Erstarren.
d) Für einen gegebenen. y-Wert kann der Anteil des Werkstücks mit Stoffverteilung durch Vergrößerung
der Stablänge und/oder Verkleinerung der Länge L der Schmelzzone vergrößert werden.
3. Seigerung beim Vorwärts-Rückwärts-Zonenschmelzen
Wie aus der obigen Erläuterung hervorgeht und! «j
aus Fig. 5 zu ersehen ist, ergibt einfaches einstufiges Zonenschmelzen eines Werkstücks mit einheitlicher ί
Stoffverteilung an den Werkstücksenden zwei Zonen, ■:
in denen die Konzentration von der mittleren Zusammensetzung abweicht. Fig. 7a zeigt einen W^,. '■'
diese Abweichung auf ein Minimum zu verringein;" ijt
Das hier geschilderte Verfahren soll als »Vorwärts-Rückwärts-Zonensehmelzen«
bezeichnet werden. Wenn \ C den Wert C0 für einen Punkt der Kurve α in ':
Fig. 7 a im ersten Durchgang ganz erreicht hat, d!ann '
führt das erneute Zonenschmelzen in entgegenr Λ
gesetzter Richtung mit gleichförmiger Geschwindlig- '» ke.it annähernd, zu einer Verteilung des Gelösten, wie
sie Kurve b der Fig. 7 a zeigt (die beiden Kurven sind j_
im wesentlichen identisch und haben gleichförmige Durchschnittsverteilung C0 für die Werkstückslänge =
A-B). Es zeigt sich, daß die Abweichung rechts, d.h. L
des Werkstücksendes, das bei einstufigen Zonen- }:
schmelzen gewöhnliches Erstarren erfuhr, beseitigt worden ist, während, die Konzentrationsabweichung
am Stabanfang verringert worden ist.
Wenn y sehr klein, etwa von der Größenordnung 0,01 ist (wie dies für mehrere Germaniumlegierungen ':,
gilt, die jetzt beim Bau von Halbleitervorrichtungen, wie Transistoren und Gleichrichtern, verwendet wer- ::
den), dann wird die gleichförmige Verteilung durch ;, einmaligen Zonendurchlauf auch nicht auf einem ...
Bruchteil der Stablänge erreicht, wie aus Kurve B der Fig. 6 ersichtlich ist, mit Ausnahme eines Punk- ,„,
tes am Ende des Stabes, nämlich dort, wo normale Erstarrung erfolgt. Analytisch ist es nicht zu er- «
warten, daß irgendein Teil eines solchen. Stabes bei umgekehrtem Zonenschmelzen eine exakt gleich- .;
förmige Zusammensetzung erlangt. Wie jedoch später in Verbindung mit Fig. 10 zu zeigen ist, sind: die ■
Schwankungen in der Konzentration niehtsdesto- ,
weniger recht gering, und umgekehrtes Zonenschmelzen ergibt eine im wesentlichen gleichförmige
Verteilung in der festen Lösung. s
4. Seigerung beim Zonenschmelzen mit Startcharge :
Ein Mittel zur Beseitigung der anfänglichen Über- « gangszone ist die Verwendung einer Startcharge. -. ΐ
Dies ist das Verfahren nach Fig. 7 b. Das Start- ' chargenverfahren besteht darin, daß eine ausreichend^.;^;
Menge der gelösten Legierungskomponente der ersten Schmelzzone zugesetzt wird, so daß deren K
tration auf den Wert C0Zy gebracht wird, wonach die
Bedingungen denen des Verfahrens nach Fig. 5 ähnlich werden. Wenn dies geschehen ist, beträgt die
Konzentration des ersten Anteils des erstarrenden festen Körpers C0.
Die Konzentration des Gelösten in der auskristallisierenden Legierung bleibt auf diesem Wert, bis die
letzte Schmelzzone zu erstarren beginnt. Die ausgezogene Kurve A BCD der Fig. 7 b entspricht dem
Endzustand, des Werkstücks, während die gestrichelte Linie den Anfangszustand des Werkstücks darstellt.
Ä B' B ist die Charge, die der ersten Schmelzzone zugesetzt
wird, um die Konzentration der Schmelze auf dien Wert C0// zu bringen, wobei der Rest des Materials
in der Konzentration C0 im Makromaßstab bleibt. Im Bereich B-C sind die Kurven der besseren
Übersichtlichkeit halber getrennt gezeichnet. Wenn in einem Werkstück aus einer Legierung mit zwei im
Mischkristall gelösten Stoffen konstantes Konzentrationsdifferential
AC erzielt werden soll, kann das Verfahren nach Fig. 8 angewandt werden. Voraussetzung
ist allerdings, daß die gesamte Konzentration der beiden gelösten Stoffe im Mischkristall gering ist.
Hier wird das Zonenschmelzen mit Startcharge nach Fig. 7b angewendet. Es ist jedoch notwendig, eine
ausreichende Menge von beiden gelösten Stoffen zu verwenden, um den Spiegel einer jeden auf den
Wert C0/;' in der ersten Schmelzzone zu bringen. In Fig. 8 sind die Konzentrationen an gelöster Substanz
durch die Kurven α und b dargestellt. Da vorausgesetzt wird, daß die /-Werte voneinander unabhängig
sind, wird jeder Konzentrationsspiegel der Form nach mit dem der Fig. 7b identisch sein, und dementsprechend
wird das Konzentrationsdifferential AC in allen
mit Ausnahme der letzten Zone eine Konstante sein. Dies wird im Diagramm als Kurve d gezeigt. Es ist
zu beachten, daß diese Kurve konstanten Wert hat, mit Ausnahme der letzten Zone, wo ihr Wert nicht
konstant zu bleiben braucht, sondern steigen oder sinken muß, je nach der normalen Abkühlungscharakteristik dför beiden gelösten Stoffe 1 und 2, was aus
der Gleichung (1) vorausgesagt werden kann. Diese Kurven für normale Entfernung am Werkstücksende
sind die punktierten Linien e und /.
Das Verfahren nach Fig. 8 ist besonders für Halbleiter wichtig. Hier muß der Widerstand des Werkstücks
genau bestimmbar sein, und da bei diesen Stoffen der Widerstand nur von Δ C des Gebers und
Empfängers abhängt, ist es möglich, ein Werkstück vorbestimmten und gleichbleibenden Widerstands aus
weniger reinem und daher auch billigerem Ausgangsmaterial herzustellen. Das durch diese Ausführungsform desZonenschmelzens hergestellte Erzeugnis findet
Verwendung als Ausgangsmaterial bei, der Präparierung von »Umschmelz-p-n-Verbindungen«, worauf
im Zusammenhang mit Fig. 16 bis 19 noch zurückgekommen wird.
Es ist zu beachten., daß auch dann, wenn die /-Werte
der beiden Verunreinigungen nicht voneinander unabhängig sind·, ein Endprodukt von konstantem A C hergestellt
werden kann, und zwar dadurch, daß ihre Mengen in dem Ausgangsmaterial verändert werden
und so die Schmelzzone auf den wirksamen C0A/-Wert
zu bringen, wobei die -/-Werte für das System empirisch bestimmt werden.
5. Seigerung beim Zonenschmelzen mit Startcharge an einem absolut reinen Werkstück
Fig. 9 ist eine graphische Darstellung des Zonenschmelzens mit Startcharge, wobei von einem absolut
reinen Ausgangsstoff ausgegangen wird und wobei die ganze Menge des Gelösten als Startcharge zugeführt
wird. Wenn, eine solche Charge von der Konzentration C1 der ersten. Schmelzzone zugegeben wird
und man, dann die Zone von konstanter Länge L reines Lösungsmittel in Form eines Werkstücks von gleichbleibendem
Querschnitt mit völlig gleichbleibender Geschwindigkeit durchqueren läßt, so· ist das Verfahren
ein. Zonenschmelzen mit »reiner Startcharge«. ίο Wenn die Schmelzzone von der Länge L einen Stab
gemäß Fig. 9 durchläuft, fällt die Konzentration des Gelösten in allen Zonen mit Ausnahme der letzten
nach folgender Exponentialgleichung ab:
C = vC e~vXIL (3)
In Fig. 10 ist die Konzentration am Gelösten als Funktion der Stablänge für verschiedene Werte dargestellt
für Werkstücke, die nach dem obengenannten Verfahren behandelt worden sind. In der halblogaritihmischen
Darstellung nach Fig. 10 werden Konzentrationsverteilungskurven gerade Linien. In diesem
Diagramm veranschaulichen die Kurven A1 B1 C1 D1
F und G für eine Startcharge von dier Konzentration
C1 = 1 die entsprechenden /-Werte von 5, 2, 1, 0,5,
0,2 und 0,1 bei Ausführung der Zonenschmelzung in reinem Lösungsmittel, Kurve E gilt für eine Startcharge von C1 = 10 für / = 0,01. Aus diesen Kurven
ist ersichtlich, daß
a) die Konzentration mit wachsendem XIL für alle /-Werte -exponentiell abfällt im Gegensatz zu
Fig. 3 und 6, in denen die Konzentration für /-Werte kleiner als 1 mit der Entfernung wächst;
b) daß kleine /-Werte einem hohen Grad von Gleichförmigkeit entsprechen; für / = 0,01 beispielsweise,
was der Größenordnung für Antimon in Germanium entspricht, fällt die Konzentration von
ihrem Anfangswert nur um 10% auf der neunfachen Zonenlänge; somit ist die Konzentration
von 90%; des· zehn Zonen langen Kristallstabes
innerhalb einer Toleranz von + 5% konstant;
c) daß ein /-Wert, der sich 1 nähert, keine verbesserte
Gleichförmigkeit der Seigerung bewirkt, wie dies bei normalem Erstarren der Fall ist.
Es wurde bereits erörtert, daß das Vorwärts-Rückwärts-Zonenschmelzen
in einem System, in dem der /-Wert des Gelösten von der Größenordnung 0,01 ist, eine völlig gleichmäßige Verteilung der gelösten
Legierungskomponenten bewirkt. Betrachtet mandlem-
gegenüber die Kurve G in Fig. 6 für einfaches Zonenschmelzen,
so sieht man, daß bei / = 0,01 · C0 = 1 etwas weniger als ein Zehntel der gesamten gelösten
Substanz, die im Ausgangsmaterial zugegen ist, in den ersten neun Zehnteln des einfach zonengeschmolzenen
Werkstücks auskristallisiert, während mehr als neun Zehntel des Gelösten erst in der letzten Schmelzzone
ausseigern. Demgegenüber ist das Vorwärts-Rückwärts-Zonenschmelzen eine Annäherung an das
Zonenschmelzen mit »reiner Startcharge« für Legierungen mit /=0,01, und die für die Umkehrung gültige
Kurve ist fast identisch mit der Kurve £ der Fig. 10. Bei den beiden eben genannten Verfahren wird somit
für 7 = 0,01 gleichförmige Verteilung des Gelösten bewirkt.
So ergeben alle diejenigen gelösten Substanzen, die beim einfachen einstufigen Zonenschmelzen [Gleichung
(2) ] sehr stark seigern, also diejenigen mit kleinen /-Werten — (von der Größenordnung der
/-Werte für Germaniumhalbleitersysteme mit Gallium, Arsen und Antimon) — die geringsten Schwierig-
809 557/390
6. Seigerung beim Zonenschmelzen mit stetig
geändertem Schmelzzonenvolumen
geändertem Schmelzzonenvolumen
Eine etwas größere Gleichförmigkeit der Verteilung kann auch für y-Werte kleiner als 0,2 durch Zonenschmelzen,
am Werkstück mit reinem Ausgangsstoff erzielt werden, wenn das Volumen V während des
Durchganges durch das Werkstück verringert wird. Ein solches Verfahren, bei welchem V durdh Änderung
des Schmelzzonenquerschnitts beeinflußt wird, ist in Fig. 11 dargestellt. Dabei befindet sich das zu
behandelnde Material in der geneigten Form 2. Die Schmelzzone ist durch das gestrichelte Gebiet 3 wiedergegeben.
Das Verfahren ist eine Variante des Verfahrens nach Fig. 9 und 10. Durch Verkleinerung von V
mit fortschreitender Erstarrung ist es möglich, eine gleichförmige Verteilung des Gelösten in einem einzigen
Verfahrensgang zu erreichen. Obwohl die Schmelzzone ständig an gelöster Substanz verliert,
hält doch die ständige Volumenverringerung ihre Konzentration auf einem konstanten Wert, und darum
hat die ausgefrorene Substanz konstante Zusammensetzung. Die Änderung von V wird ausgedrückt durch
die Gleichung
V= V0-γ \XA{x)äx
(4A)
worin V0 das Anfangsvolumen der Schmelzzone bedeutet
und A die Größe der Querschnittsfläche, längs welcher die Erstarrung vor sich geht.
Für ein Werkstück mit konstantem Querschnitt A
wird 'demgegenüber
yx
(4B)
c-ycx
(5)
45
wobei L die Länge der Sdhmelzzone und1 L0 die anfängliche
Schmelzzonenlänge ist.
Die Konzentration im festen Anteil ist hier
wobei C1 = SIV ist, S die Gesamtmenge des Gelösten
(alles in der ersten Schmelzzone) und V das Volumen der Schmelzzone bezeichnet.
Die Änderung des Schmelzzonenvolumens V wird folgendermaßen durchgeführt:
a) Die Schmelzzonenlänge bleibt konstant, und die Größe des Querschnitts wird geändert, z. B. nach
Fig. U;
b) für ein Werkstück mit gleichbleibendem Querschnitt wird die Länge der Sdhmelzzone verringert,
indem man die Heizung verringert, die Kühlgeschwindigkeit der Erstarrumgsfront oder
die Durchlaufgesdhwindigkeit vergrößert.
Für ein Werkstück mit konstantem Querschnitt ist der Grenzwert von X, bis zu dem die Zonenschmelzunig
im reinen Lösungsmittel bei veränderlichem
keiten, wenn "das Zonenschmelzen mit Startcharge am absolut reinen Werkstück-durchgeführt wird. Demgegenüber
ergeben gelöste Stoffe mit γ- Wer ten größer
als 1, die beim einfachen Zonenschmelzen rasch die
Gleiöhgewichtskonzentration erreichen, eine Legierung
mit einem steilen Konzentrationsgradienten. Stoffe mit γ-Werten von 0,1 bis 0,3 sind von keinem der
beiden Verfährensarten besonders begünstigt; für solche Substanzen werden die Verfahren nach Fig. 7 a
und 7 b bevorzugt.
Zonenvolumen befolgt werden kann, durch die Bedingung V = O gegeben, die bei Xumit auftritt, wobei
limit
Für γ = 0,01 ist Xumu gleich 100 Zonenvolumina
in Einheiten anfänglichen Zonenvolumens, für welches die Werte gelten:
y = 0,l
X Umit =10 Zonenvolumiina.
7. Seigerung beim mehrstufigen Zonenschmelzen
in einer Richtung
in einer Richtung
Fig. 12 ist eine schematische Wiedergabe einer schnellen Methode, um mehrstufiges Zonenschmelzen
durchzuführen. Dabei hat das Werkstück die Form eines geschlossenen Ringes 4, der in der Ringebene
um seinen eigenen Mittelpunkt rotiert. Eine oder mehrere Heizquelleni 5, von denen drei z. B. als Induktionsspulen,
induktiv geheizte Ringe oder Widerstands-Drahtspulen
dargestellt sind, bilden eine entsprechende Anzahl von Schmelzzonen 6. Wenn der Ring rotiert, wandern die Schmelzzonen rund durch
den Ring.
Für jede anfängliche Verteilung des Gelösten hat nach einer Anzahl Umdrehungen der Teil, der in
irgendeinem Augenblick fest ist, eine gleichförmige Konzentration Cf, während die Schmelzzone oder die
Sdhmelzzonen eine Konzentration Cfly haben. Die Erhitzung
kann durch Lichtbogen, Ionen- oder Elektronenentladung oder Brenner erfolgen oder durch unmittelbares
Eintauchen des Heizelementes in das geschmolzene Material.
Bei gleichförmigem Querschnitt läuft dieses Verfahren nadh der Gleichung
40
Τγ
ab; daran bedeutet T die Gesamtlänge des Kristalls, L die Gesamtlänge der Schmelzzonen, Q die mittlere
Anfangskonzentration.
Aus der obigen Gleichung ist ersichtlich, daß dieses Verfahren eine Raffinationsmethode darstellt, wenn
γ ziemlich klein ist. Beispielsweise ist für γ = 0,007,
T = 20, L = 2, wobei T als auch L in den gleichen
Einheiten ausgedrückt werden.
R =
2(1-0,007)
= 15,2.
So ist die Endikonzentration des Gelösten in allen Zonen außer der bzw. den Endzonen unter diesen Bedingungen
auf ein Fünfzehntel der Konzentration des Gelösten im Ausgangsmaterial zurückgeführt.
8. Reinigen und gleichmäßige Verteilung der in festet.
Lösung enthaltenen Verunreinigungen
Fig. 15 ist das Sohaubrld für die Konzentration in Abhängigkeit von der Entfernung in Schmelzzonienlängen
für einen y-Wert von 0,01. Sie veranschaulicht das Verfahren des Vorwärts-Rückwärts-Zonenschmelzens,
wobei aber die ganze oder ein Teil der Endzone nach dem ersten Verfahrensgang entfernt wird. Die
Kurvet entspricht dem ersten Verfahrensgang in
Vorwärtsrichtung, während die Kurven B, C, D1 G
vier zusätzliche Verfahrensgänge bei einem Material darstellen, das bereits die Eigenschaften gemäß
Kurve A besitzt und von welchem Teile der letzten Zone mit Gehalten von 0 bzw. 50, 90 und 100% des
Gelösten nach dem ersten. Verfalhrensgang entfernt worden sind. Dieses Verfahren ist besonders wirksam
für Lösungsmittel, in denen das Gelöste einen y-Wert von 0,1 oder weniger hat und für Werkstücke von
etwa zehnfacher Schmelzzonenlänge. Das Ausgangsmaterial, für das eine gleichförmige Konzentration
C0 = 100 im Makro-Maßstab vorausgesetzt wird, soll
in einer Richtung zonengeschmolzen werden. Die gelöste Substanz befindet sich dann vorwiegend in der
letzten Schmelzzone, wo es gemäß der normalen Erstarrungsgleiehung
[Gleichung (1) ] ausfriert. Wird das Werkstück nun in entgegengesetzter Richtung
zonengeschmolzen, so besitzt alles mit Ausnahme der letzten rückwärts zu durchlaufenden Zone eine gleichförmige
Konzentration (vgl. Fig. 7 a), wobei die mittlere Konzentration kleiner ist als C0.
Wie aus den in Fig. 15 zusammengestellten Kurven ersichtlich, beeinträchtigt eine Entfernung von wenigstens
50% des Gelösten in der letzten Zone die Gleichförmigkeit der Verteilung der gelösten Stoffe nicht,
während zur gleichen Zeit eine Raffinationswirkung erzielt wird. Die Entfernung bis zu 90% des Gelösten
in der letzten Zone ergibt immer noch eine recht gleichförmige Verteilungskurve des Gelösten, während
man gleichzeitig 90% der in dem gesamten Ausgangskristall enthaltenen Verunreinigung entfernt. Ein
exakteres Verfahren zur Erzielung eines gewünschten Konzentrationspegels unter gleichzeitiger Aufredhterhaltung
der konstanten Verteilung des Gelösten ist die völlige Entfernung der letzten Zone des Werkstücks
und ihr Ersatz durch ein Werkstück mit der gewünschten Konzentration, bevor die rückläufige
Zonenschmelzung durchgeführt wird.
Ganz ähnliche Ergebnisse erhält man durch Erzeugung eines Werkstücks mittels normaler Abkühlung,
wobei ein Teil des zuletzt erstarrten Stababsdhnitts entfernt wird, der die Seigerungen enthält, wonach
entgegen der Richtung des vorangegangenen Verfahrensschrittes zonengesdhmolzen wird.
9. Gezieltes Verteilen der im Grundstoff in fester
Lösung enthaltenen Stoffkomponenten
Lösung enthaltenen Stoffkomponenten
Die Fig. 16 a und 16b sind schematische und graphische
Darstellungen eines Erzeugnisses bei Anwendung des Zonenschmelzverfahrens auf ein System mit
zwei gelösten Substanzen. Es 'handelt sich um eine Germaniumlegierung mit einer Borkonzentration γΒ CB
und eine Antimonkonzentration ySb C^. Durch ein
Werkstück mit gleichmäßiger Konzentration wird die Schmelzzone von der Länge L, die die Konzentration
CB und CSb hat, durchgeführt. Diese Bedingungen
lassen sich entweder dadurch verwirklichen, daß die Söhmelzzone durch ein genügend langes Werkstück
geführt wird, um die Konzentration der Schmelzzone auf die gewünschte Konzentration an gelösten Stoffen
zu bringen, oder dadurch, daß das Verfahren des umgekehrten Zonensohmelzens (Fig. 7 a) oder des Zonenschmelzen«
mit Startdharge (Fig. 7 b, 8) oder wiederholtes Zonenschmelzen (Fig. 12) anwendet.
9 a) Gezielte Verteilung durch scharfe Änderung des
Schmelzzonenvolumens und. der
Durdhlaufgesdhwindigkeit
Durch scharfe Änderung der Sehmelzzonenlänge L
oder der Schmelzzone können Konzentrationsstörungen hervorgerufen werden. Wenn die gewählte Legierung
einen Halbleitergrundstoff, z. B. Germanium, enthält und die beiden gelösten Stoffe unterschiede
Mdhen Leitfähigkeitstyp haben, wie z. B. Bor und Antimon, so äußert sidh die Störung als Wechsel des Leitfähigkeitstyps.
In dem gewählten Beispiel, wo ysbC$b
größer ist als yB CB, besitzt der Kristallstab N-Typ
und bleibt von diesem Typ, wenn die Schmelzzone mit konstantem L wandert. Eine plötzliche Zunahme von
L bei X1 verursacht einen Weohesl zum P-Typ, da Cg
ίο größer als Csb wird, wie es in Fig. 16 b gezeigt ist. In
dieser Figur stellt die ausgezogene Kurve α die Konzentration
des Antimons im fertigen Kristall dar, während die gestrichelte Kurve b die Borkonzentration
an den entsprechenden Punkten des fertigen Kristalls veranschaulicht. Wenn die Erstarrungsfront bis
zum Punkt X2 vorgerückt ist, wird die Sehmelzzonenlänge
plötzlich verkürzt. Hierdurch wird wieder Konzentrationswechsel erzeugt, und diese Kristallzone
wird zum N-Typ. Mit dieser Arbeitsweise können in einem Einkristallstab mit anfangs gleichförmiger Verunreinigungsverteilung
P-N- oder N-P-N-Zonen geschaffen werden, ohne daß Zugabe von Stoffen erforderlich
ist.
Durdh wiederholte Verlängerung und Verkürzung der Sdhmelzzone bei ihrem Durchgang durch den
Einkristallstab kann eine Vielzahl von P-N- oder N-P-N-Schichten geschaffen werden. Solche Zonen
werden auch, dadurch erzeugt, daß die Temperatur der Schmelzzone scharf geändert wird, was eine Änderung
des Schmelzzonenvolumens bewirkt und. gleichzeitig auf die Vorschubgeschwindigfceit der Erstarrungsfront
einwirkt, und ferner, daß die Wanderungsgesdhwindigkeit der Schmelzzone beeinflußt wird.
Auch unter Aufrechterhaltung konstanter Werte für die Schmelzzonenlänge und die Durchlaufgeschwindigkeit
können P-N- oder N-P-N-Zonen durch Änderung des Querschnitts im Ausgangskristall eingewachsen
werden.
In dem angegebenen Beispiel sind Bor als Elektronenempfänger
mit einem y-Wert in Germanium oder Silizium größer als 1 und Antimon als Elektronengeber
mit einem y-Wert in Germanium oder Silizium kleiner als 1 gewählt worden. Dies ist für starke
Wechsel oder Störungen der Konzentration günstig.
Es ist jedoch nur notwendig, daß die beiden γ sich im Wert unterscheiden (beide mögen größer oder
kleiner als 1 sein), solange eine der beiden gelösten Substanzen in dem gewählten Halbleiter ein Elektronenempfänger
und die andere gelöste Substanz ein Elektronengeber ist, um eine P-N-Umwandlung zu
erhalten. Wenn beide y-Werte kleiner als 1 sind,
. nimmt die Konzentration beider gelöster Substanzen
ab, wenn die Länge L der Schmelzzone zunimmt; die
Zunahme muß aber mit verschiedener Geschwindigkeit vor sich gehen, um eine Umkehrung des Leitfähigkeitstyps
zu ermöglichen.
9b) Gezieltes Verteilen durdh das Startchargenverfahren
Es ist auch möglich, P-N-Verbindungen durch eine Abänderung des oben beschriebenen Startchargenverfahrens
mit reiner Startdharge nach Fig. 7 b zu erzeugen, indem zwei gelöste Stoffe, und zwar ein Geber
und ein Empfänger, mit verschiedenen ^-Werten als Startcharge verwendet wird.
Fig.. 10 zeigt, daß für γ = 5 (Näherungswert für
Bor in Germanium) C rasch abfällt, und daß für γ = 0,01 (Antimon in Germanium) C langsam abfällt.
Demgemäß ergibt ein Ausgangsmaterial, für welches YßCiß größer als ysbdsb isi>
em'e P-N-Schicht.
Für zwei gelöste Substanzen 1 und 2 liegt die Schicht bei
PS
nach der Gleichung
2,303
Y2-Y1
Y2-Y1
(7)
wobei
rigen Wert abfällt, weil für γ Bor in Germanium = 5
ist. Auf diese Weise entstehen beim vorherigen Anbringen von Borpastillen an dem Ausgangskristall
eine Reihe von N-P-N-Verbindungen, wenn eine 5 Schmelzzone durchgeführt wird. N-Typ-Werkstücke
werden erhalten, wenn die Schmelzzone eine ausreichende Menge Antimon in Germanium enthält.
Wenn dabei eine Borpastille erreicht wird, so erhalt das erstarrende Material P-Typ; es stellt sich jedoch
ίο infolge der raschen Abnahme von Bor in Germanium γ Qi schnell wieder N-Typ ein. So kann eine Reihe von
k — N-P-N-Verbindungen in einem Kristallstab her--
Vi ι gestellt werden, ohne daß an einzelnen Punkten
ist und log k dem Zehnerlogarithmus entspricht. größere Zusätze von Geber- und Empfängermaterial
Der Vorteil dieses Verfahrens besteht darin, daß 15 erforderlich sind.. Die Geschwindigkeit der Konzender
Wert des Konzentrationsgradienten an der trationsabnahme für ein Gelöstes mit einem 7-Wert
P-N-Schicht sehr leicht steuerbar ist. Wenn L kon- von 5 in einem System Lösungsmittel—Gelöstes ist
stant ist und Lösungsmittel 1 einen sehr kleinen in Fig. 10, Kurvet, graphisch dargestellt, woraus «ry-Wert
hat, z. B. den von Antimon in Germanium, sichtlich ist, daß C auf 0,1 Schmelzzonenlänge von 5
wird C1 langsam von seinem Anfangswert absinken. 20 auf 3 absinkt, d. h. um rund 40% abfällt.
Daher werden die Konzentrationsgradienten solcher ΛΓ. ™. .. „ _n. 1
ΛΤ , . j . ,,. , ., °, , j « ..,. 10. liegelloses Zonenschmelzen
Verbindungen im wesentlichen konstant und verhalt- °
nismäßig unabhängig von der Stelle in dem Kristall Eine Abänderung des Zonenschmelzens besteht
sein, an welcher sich die Übergangsstelle bildet. Die darin, daß man den Querschnitt eines Stabes nur teil-Lage
dieser Stelle wird sich gemäß Gleichung (7) 25 weise schmilzt und anschließend den Stab mit einer
ändern. Schmelzzone durchquert. Auf diese Weise kann eine
P-N-Schicht, die sich über die Länge des Stabes erstreckt, hergestellt werden. Diese Methode ist auch
bei der Raffination in solchen Fällen zu empfehlen, in denen keine geeigmete Form und kein Tiegel für das
zu reinigende Material verfügbar ist. So kann beispielsweise ein Stab mit einem rechteckigen Querschnitt
von etwa 6,25 · 25 mm, der der Länge nach mit der 25-mm-Abmessung auf einer HorizontalfLäche
liegt, in- der oberen Hälfte zonenraffiniert werden,
wobei die festen Teile als Unterlage für die geschmolzenen Teile dienen. Danach wird der Stab umgedreht,
um die bisher untere Hälfte zu raffinieren.
Der Konzentrationsgradient der Differenzkonzentration C ist
d[A C) C1
dx L
wobei C=C2-C1 ist.
Das oben beschriebene Verfahren kann für die Erzeugung
von N-P-N-Verbindungen verfügbar gemacht werden, indem man drei Verunreinigungen mit verschiedenen
y-Werten verwendet.
9 c) Gezieltes Verteilen durch Impfen
P-N- und/ N-P-N-Verbindungen können durch jedes der oben beschriebenen Zonenschmelzverfahren hergestellt
werden, wenn geimpft wird. Dieses Einimpfen wird, auf folgende Weise vorgenommen:
a) Zugabe von Geber- und Empfängerstoffen zur Schmelzzone in fester, flüssiger oder dampfförmi-
11. Zuchten von Einkristallen durch Zonenschmelzen
Wenn Einkristalle aus Germanium hergestellt werden
sollen, werden für die Schmelzzone Wanderungsgeschwindigkeiten bis zu etwa 0,15 mm je Sekunde
angewendet. Bei höheren Geschwindigkeiten als
ger Form, wobei die Stoffe~legiert oder'beliebig 45 0,15 mm je Sekunde kann Zwillingsbildung oder eine
zusammengesetzt sein können, aber sie müssen andere kristalline Deformation, eintreten, die im allgesich
in der Schmelze auflösen und unter Misch- meinen in Germanium-Einkristallen für Halbleiterkristallbildung
erstarren; vorrichtungen unerwünscht ist. Vorzugsweisie hält man
b) vorherige Anbringung einer Pastille, Ablagerung die Geschwindigkeit, mit der die Schmelzzorae das
oder Schicht, welche Elektronengeber und/oder 50 Germanium durchwandert, bei 0 bis 0,07 mm je
Elektronenempfänger enthält, auf dem Werkstück, Sekunde, wenn ein Einkristall erzeugt werden soll.
so daß die gelöste Substanz an irgendeinem ge- Die Atmosphäre, die in der Apparatur aufrecht-
wünschten Punkt zugesetzt wird. Wenn die Pa- erhalten wird, kann beliebig gewählt werden und
stille am vorderen Ende der Schmelzzone ein- hängt von dem zu behandelnden Material und der geschmilzt,
so macht sich ihre Wirkung in der 55 wünschten Wirkung ab. Wenn die Atmosphäre den
festen Substanz am rückwärtigen Ende der zu behandelnden Stoff nicht beeinflussen soll, wird
ein inertes Gas oder Vakuum angewendet. Wo d<em Werkstück ein gasförmiger Stoff eingeimpft werden
soll, wird die Atmosphäre entsprechend gewählt. Es
c) das Ausgangsmaterial kann aus aneinanderstoßen- 60 hat sich ferner gezeigt, daß die Wasiserdampfmeöge
den Stäben bestehen, die abwechselnd P- und in: der Atmosphäre gleichfalls einen Einfluß auf die
tatsächliche Konzentration der gelösten Substanz in machen Systemen hat und damit ein weiteres Steuerungsmittel geboten wird. Bei Germanium wirdi dtft
Eine andere Art der Impfung mittels Pastille wird 65 Temperatur der Schmelzzone auf 940 bis 1000° C
so vorgenommen, daß eine Borpastille in eine verhält- gehalten.
nismäßig kleine Schmelzzone eines N-Typ-Werkstücks Bei Benutzung der vorstehend beschriebenen Vereingeführt
wird und bei sofortiger Erstarrung eine fahren sind Einkristalle von Germanium von völlig ,
hohe Konzentration CBor liefert, welche beim Weiter- gleichförmiger Verteilung der gelösten Substanz is
wandern der Schmelzzone schnell auf einen sehr nied- 70 Längs- und Querrichtung und mit offensichtlich gleich-
Schmelzzone bemerkbar; man kann eine Reihe von Pastillen anbringen, um jede gewünschte Ausbildung
der P-N-Bereiche zu verwirklichen;
N-Typ besitzen;
d) die flüssige Zone wird mittels eines Trägergases geimpft, das den Zusatzstoff enthält.
d) die flüssige Zone wird mittels eines Trägergases geimpft, das den Zusatzstoff enthält.
förmigen physikalischen Eigenschaften erzeugt worden. Solche Kristalle hatten Durchmesser von 6,2
bis 25,4 mm und eine Länge bis 30 cm. Die einzige Begrenzung der Größe ist durch die Konstruktion der
Apparatur und die Menge des Ausgangsmaterials gegeben. Bei Verwendung einer Einrichtung gemäß
Fig. 13 b werden Kristalle von 3,1 bis mehr als 25 mm Durchmesser und praktisch jeder Länge schnell hergestellt.
Wenn Einkristalle von völlig gleichförmiger Verteilung des Gelösten mit einem Minimum von
Verfahrensgängen gewonnen werden sollen, liegt die Hauptbeschränkung abgesehen von der Konstruktion
der Einrichtung im Rohmaterial. Aus einem Ausgangswerkstück mit ziemlich gleichförmigem Verunreinigungsspiegel
von gewünschtem spezifischem Widerstand im Makromaßstab kann ein Fertigerzeugnis,
z. B. ein Einkristall, im kontinuierlichen Betrieb hergestellt werden, indem das Werkstück durch einen
oder mehrere Öfen durchläuft und nacheinander den entsprechenden, oben beschriebenen Zonenschmelzverfahren
unterworfen wird.
Beim Zonenschmelzen von Werkstücken, insbesondere aus Germanium u. a., zum Beispiel in der Vorrichtung
nach Fig. 13 b, wo der Spiegel an Gelöstem niedrig liegt und kritisch ist, ist es bisweilen vorteilhaft, die Oberfläche zu behandeln, z. B. durch Sandstrahlen
odför durch Ätzen.
12. Zonenraffinieren
Beim Reinigen durch Zonenschmelzen, wo im allgemeinen
der Endzustand des Werkstücks polykristallin sein kann, z. B. bei dem Verfahren nach Fig. 14 a.
kann die Schmelzzone mit größerer Geschwindigkeit durchlaufen als wenn der Endzustand einkristallin
sein soll. Verwendet man die für das Zonenschmelzen vor Germanium erläuterte Einrichtung, so sind Geschwindigkeiten
bis zu 0,25 mm je Sekunde anwendbar, wei?n es auch vorzuziehen ist, Geschwindigkeiten
von 0,012 bis 0,13 mm zu benutzen. Die obere Grenze für die Geschwindigkeit, mit der die Schmelzzone das
Material durchwandert, ist, wenn die kristalline Struktur des Endprodukts unerheblich ist, die Min.imalgesdhwindigkeit,
bei welcher Dendritenbildung eintritt. DendritenbiMung führt zu Einschlüssen von geschmolzenem
Material und verhindert das Ausweichen der gelösten Substanz (für γ-Werte kleiner als 1) zu
dem Hauptteil der Schmelze. Auch bei glatten Grenzflächen zwischen Schmelze und vorrückender fester
Substanz erhöht eine Zunahme der Geschwindigkeit den effektiven Wert von γ bei »/-Werten kleiner als 1
und verringert den Wert von ;· für y-Werte größer als 1, so daß die Wirksamkeit der Raffination kleiner
wird. Die Abnahme der Geschwindigkeit auf einen zu kleinen Wert bewirkt einerseits die Annäherung von
γ an den Wert 1 infolge der Diffusion im festen Anteil und andererseits eine kleinere Ausbeute an gereinigtem
Material in der Zeiteinheit. Für ein gegebenes Verfahren besteht daher eine optimale Geschwindigkeit,
welche die größte. Raffination in einer gegebenen Zeit liefert. Diese Betrachtungen gelten in
gleicher Weise für den Fall, wo es mehr um die gelöste Substanz als um das Lösungsmittel geht, d. h.
wenn bei dem Verfahren mehr die Konzentration als die Raffination im Mittelpunkt steht.
Andere Faktoren, die einen wesentlichen Einfluß auf die prozentuale Ausbeute r\n Material oberhalb
oder unterhalb einer bestimmten Konzentration an gelöster Substanz haben, sind die Größe unel· die Anzahl
der Schmelzzonen, wie oben erörtert worden ist.
Eine Berechnung nach Gleichung (7) zeigt schnell, daß die Miniimalkonzentration an gelöster Substanz
am Startende für γ kleiner als 1 bei gegebener Länge T des Ausgangsmaterials deutlich abfällt, wenn
die LängeL der Sohmelzzone kleiner wird; für γ
größer als 1 wächst die Maximalkonzentration, wenn L abfällt. Somit wird die Reinigung eines Lösungsmittels
oder die Konzentration: einer gewünschten gelösten Substanz durch kleines L begünstigt. Es ist
ίο außerdem klar, daß für eine kleine Zahl — e,twa 1
bis 10 — von Verfahrensgängen der Grad der Trennung von gelöster Substanz und Lösungsmittel geringer
ist, als für den durch Gleichung (7) gegebenen Idealfall. Der Grad der Trennung nähert sich aber
dem Idealfall mit jedem nachfolgendien Durchgang der Schmelzzone durch das Material.
Bei der Betrachtung ei nies gegebenen Raffinationsverfährens
ergeben sich somit drei bedeutungsvolle Einflüsse, welche so eingerichtet werden können, daß
sich eine optimale Ausbeute ergibt. Es sind dies die Größe, die Zahl der Schmelzzonen und die Durchlaufgeschwindigkeit
der Schmelzzonen.
Die vorstehendien. Erläuterungen und Folgerungen beruhen großenteils auf der Annahme, daß keine
Diffusion, des Gelösten im festen Zustand stattfindet. Wo eine leichte Diffusion im festen Zustand stattfindet,
sind- folgende Wirkungen zu beobachten:
1. Wenn mit dem Zonenschmelzverfahren eine gleichförmige Verteilung des Gelösten erzielt werden
soll, so trägt im allgemeinen eine Diffusion im festen Zustand zur Nivellierung etwaiger Gradienten des
Gelösten im festen Zustand bei.
2. Da bei der Zonenraffination die Diffusion im festen Zustand eine Vergrößerung von γ bewirkt, wenn
γ kleiner als 1 ist, und. eine Verkleinerung, wenn die »/-Werte größer als 1 sind, so verringert diese Abweichung
die Wirkung der Zonenraffination bei der Trennung des Gelösten vom Lösungsmittel und. verkleinert
damit die Wirksamkeit der Schmelzzone wie ein Kollektor in Systemen mit γ-Werten kleiner als 1.
Es wurde experimentell nachgewiesen, daß eine Mehrfachraffination oder -umkristallisation die
Lebensdauer eingeführter Ladungsträger erhöht.
Gewinnung von seltenen im Festkörper gelösten
Stoffen durch Anreichern im Werkstücksende
Stoffen durch Anreichern im Werkstücksende
Lebensdauer von 400 bis über 1000 Mikrosekunden sind in Germanium, das nach dem Mehrfachzonenschmelzverfahren
gemäß Fig. 14a und 14b behandelt wurde, erhalten worden. Obgleich der überwiegende
Teil der vorstehenden Überlegungen zum Zonenschmelzen die Gewinnung reinen Lösungsmittels betraf,
so ist doch noch eine andere Möglichkeit zu beachten. Das Mehrfachzonenschmelzverfahren beseitigt
nicht gelöste Substanz aus dem Ausgangsmaterial, sondern bewirkt vielmehr einen steilen Konzentrationsgradienten
über die Länge des Kristallstabs oder des Ausgangsmaterials. Es besteht jedoch die
Möglichkeit, daß das Hauptinteresse in der Wiedergewinnung der gelösten Verunreinigung liegt. Auch
hierfür gelten alle angestellten Betrachtungen; der Teil des Materials, der bei der Zonenraffination verworfen
würde, d. h. das eine oder andere Ende des fertigen Materials, bildet das Enderzeugnis.
13. Weitere Anwendungen des Zonenschmelzen
1-3 a) Sicherheitsvorrichtungen
1-3 a) Sicherheitsvorrichtungen
In einem System Lösungsmittel—Gelöstes mit γ
kleiner als 1 ist die Schmelzzone reicher an Gelöstem als die feste Substanz. Nach Durchführen der Schmelz-
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zone durch die Legierung und Aufnehmen des größten Teils des Gelösten kann die Schmelzzone an
irgendeiner Stelle des Stabes angehalten werden und erstarren. Wenn das Legierungssystem vom eutektischen
Typ mit begrenzter Löslichkeit im festen Zustand ist, wie es für z. B. Blei—Antimon gilt, so bildet
sich die eutektische Mischung dort, wo die Schmelzzone erstarrt.
Eine solche Zone bildet eine Stelle mit niedrigerem Schmelzpunkt und geringerer Festigkeit als sie für
den übrigen Kristallstab gelten, und kann daher ein solcher Stab als Sicherheitsventil Verwendung finden,
das bei kritischer vorbestimmter Beanspruchung an der schwachen Stelle bricht.
15 13 b) Magnetische Körper
In ähnlicher Weise kann bei entsprechender Behandlung einer magnetischen Legierung einen Bezirk
hoher oder niedriger Permeabilität oder Koerzitivkraft erzeugen, wenn die Eigenschaften der Legierung
eine Funktion der Konzentration von gelösten Stoffen sind.
13 c) Anwendung auf andere Mehrstoffsysteme
Wenn auch die vorstehende Erläuterung des Zonenschmelzen
sich vorwiegend auf dessen Anwendung bei Halbleitersystemen wie Germanium in Verbindung
mit den Leitfähigkeitscharakter bestimmenden gelösten Stoffen bezieht, so kann das Zonenschmelzen
auch bei jedem anderen Mehrstoff system angewandt werden, bei welchem die Diffusionsgeschwindigkeit im
Festkörper vernachlässigbar gegenüber der Diffusion in der Schmelze ist. Beispiele solcher Systeme sind:
1. Gemische von Salzen und Metallen;
2. feste Lösungen von Salzen oder Oxyden mit oder ohne Kristall wasser, z. B. Natriumchlorid, das
Kupfer und Kalium als Verunreinigung enthält;
3. feste Lösungssysteme einschließlich wäßriger Lösungen, die dann beim Einfrieren hergestellt
werden;
4. feste Gemische, in denen im festen Zustand ein Phasenwechsel mit Änderung der Konzentration
des Gelösten eintritt, vorausgesetzt, daß die Diffusionsfähigkeit einer gelösten Substanz in einer
Phase bedeutend größer ist als in der andern. In solchen Systemen entspricht die feste Phase mit
hoher Diffusionsfähigkeit des Gelösten der flüssigen Phase in Systemen Fest—Flüssig.
14. Für Halbleiter geeignete Legierungskomponenten
Wie bereits festgestellt wurde, ist das Zonenschmelzen
für die Herstellung von Legierungen für Halbleitervorrichtungen besonders geeignet. Beispiele
elektrisch wirksamer Legierungskomponenten zu Halbleitern der IV. Gruppe des Periodischen Systems,
wie z. B. Germanium und Silizium, sind Bor, Gallium, Indium, Thalium und Aluminium, die der III. Gruppe
angehören, und Antimon, Arsen, Wismut und Phosphor aus der V. Gruppe.
15. Zonenschmelzvorrichtungen
Fig. 13 a zeigt im Querschnitt ein Gerät, welches sich zum Zonenschmelzen von stabförmigen Werkstücken
eignet. Das Ausgangsmaterial 37 befindet sich in einer feststehenden Graphitform 7, welche
etwa 30 cm lang ist, eine innere Breite von etwa 9,5 mm hat und von einer beweglichen Induktionsspule
8 umgeben ist. Diese Spule ist mit einer geeigneten Hochfrequenzquelle verbunden. Es sind außerdem
Vorrichtungen vorgesehen, um die Spule 8 mit jeder gewünschten Geschwindigkeit längs des Rohres9
zu bewegen. Innerhalb dieser Apparatur liegt die aus Graphit hergestellte Form eines Rohres 9, das aus geschmolzenem
Quarz bestehen kann und einen Einlaß 10 und einen Auslaß 11 für die Durchleitung von
Wasserstoff oder einem anderen geeigneten Gas aufweist. Der jeweils von der Spule 8 umgebene Teil der
Form 7 wird durch diese Spule induktiv auf eine Temperatur erwärmt, die ausreicht, um das Material
38 zu schmelzen. Die Natur des Gases und die Wirkungen, die es auf das System hat, sowie die Art, in
der die Wanderungsgeschwindigkeit und die Größe der Schmelzzone variiert werden können, werden noch
ausführlicher besprochen. Zur Herstellung von Einkristallen eignet sich die Vorrichtung nach Fig. 13 b
besser.
Hier wird ein Ringerhitzer von etwa 2,5 mm Länge verwendet. Der Ringerhitzer 12 wird induktiv durch
die Induktionsspule 13 erhitzt, die mit einer Hochfrequenzquelle verbunden ist. Der Erhitzer 12 lind
Induktionsspule 13 sind feststehend angeordnet, und das Ausgangsmaterial wird durch den Erhitzer in dem
Rohr oder Schiffchen 16 aus Quarz oder anderem geeignetem Material hindurchbewegt. Der von den Induktionsströmen
erhitzte Ring strahlt seine Wärme auf eine schmale Zone des Werkstücks und bildet so
die Schmelzzone. Der Kühlring 14 schließt sich an den Erhitzerring 12 an und umschließt das Rohr 16
so, daß das Werkstück nach dem Passieren des Ringes 12 abgekühlt wird. Eine Wasserstoff- oder andere geeignete
Gasatmosphäre wird innerhalb der Apparatur aufrechterhalten. Die Kühlung wird dadurch bewirkt,
daß dieses Gas durch den Einlaß 20 und durch den Kühlring 14 auf das Werkstück geblasen wird.
Am inneren Umfang des Ringes 14 ist ein Schlitz
39 vorgesehen, durch den das Gas austritt und dabei auf das Rohr 16 auftrifft. Das Gas strömt dann in die
Kammer 40, von wo ein Teil durch den Auslaß 21 und der Rest nach Durchströmung des Rohres 16 durch
Auslaß 22 entweicht. An der Stirnseite des Werkstücks ist ein Keimkristall 41 angeordnet und wird
an dem Halter 42 befestigt. Beim Zonenschmelzen von Germaniumlegierungen können in dieser Vorrichtung
Schmelzzonen von nur 1,25 cm Länge erhalten werden. Die gesamte Vorrichtung ist im Quarzbehälter 18
angeordnet, und die Verbindung zwischen dem beweglichen Rohr 16 und dem festen Rohr 18 wird durch
den Gummiverschluß 19 bewirkt. Das Rohr 16 wird stetig durch den Heizring 12 gezogen. Im Bedarfsfall
können voneinander unabhängige Atmosphären innerhalb eines Schiffchens 16 und der Heizkammer 18 aufrechterhalten
werden, um einen steilen Temperaturgradienten an der Grenzfläche fest—flüssig zu erzielen.
In Verbindung mit einem Gerät nach Fig. 13 b hat es sich beim Reinigen von Werkstücken aus Germanium
als vorteilhaft erwiesen, den Wasserstoff durch den Kühlring mit einer Geschwindigkeit von etwa
18 l/Minute und mit einer geringeren Geschwindigkeit über das Werkstück selbst zu leiten. Durch den über
das Germanium geleiteten Wasserstoffstrom werden Lufteinbrüche vermieden. Eine Strömungsgeschwindigkeit von 1 oder 2 l/Minute in einem Rohr von 1,25
bis 3,8 cm Weite reicht für diesen Zweck aus.
Bei Verwendung der Apparatur nach Fig. 13 b sind Einkristalle aus Germanium des N-Typs von etwa
30 cm Länge und über 300 g Gewicht erzeugt wordeaa,::i;
Bei in Muster aus solchem Material eingeführten Ladungsträgern ist eine Lebensdauer bis zu 1000 Mikrosekunden
beobachtet worden.
Vorrichtungen zum Zonenraffinieren
Wenn auch jedes der beschriebenen Verfahren eine Raffinationswirkung hat, deren Effekt mit abnehmenden
γ-Werten für γ kleiner als 1 und zunehmenden
7-Werten für γ größer als 1 zunimmt, so wird doch
eine wirksamere Raffinationswirkung durch ein auf diesen Zweck abgestelltes Zonenschmelzverfahren erhalten.
Zwei solche Verfahren sind in Fig. 14a und 14b veranschaulicht. Nach Fig. 14 a hat das Ausgangsmaterial
23 die Form eines Stabes, welcher durch einen oder mehrere Ringerhitzer 24 geführt
wird. Die Ringerhitzer können ähnlich wie in Fig. 13 b ausgebildet sein. Bei Verwendung mehrerer Ringerhitzer
entstehen entsprechend viele Schmelzzonen 25, welche den Kristall durchwandern. Wenn γ kleiner
als 1 ist, so nimmt jede Schmelzzone Gelöstes auf und lagert es am oder nahe am Stabende ab.
Ein Zonenraffinationsverfahren, das in derselben Beziehung zu Fig. 14 a steht wie Fig. 12 zu Fig. 4, ist
in Fig. 14b veranschaulicht. Dabei dreht sich ein offener Ring 26 um seine eigene Achse und durchwandert
eine gewünschte Anzahl von Ringerhitzern 27, welche Schmelzzonen 28 erzeugen. Es handelt sich
um eine Art mehrstufiges Zonenschmelzen, welches sich durch geringsten Aufwand und größte Einfachheit
auszeichnet.
Die mit den beiden genannten Vorrichtungen erzielbare
Raffinationswirkung kann aus folgender Gleichung errechnet werden:
C = AeP* '
KL
„KL
-1
(8)
A =
TC0K
40
worin L die Länge der Schmelzzone, C0 die mittlere
Konzentration des Gelösten in dem Ausgangskristall, die nicht notwendigerweise als gleichförmig vorausgesetzt
werden muß, T die Gesamtlänge des Ausgangskristalls bedeutet; K ist mathematisch durch Gleichung
(8) definiert. Der Querschnitt soll als gleichbleibend angenommen werden.
Für γ = 0,1 und L=I wird K = Z,6. Hiernach ist
es klar, daß ein sehr steiler Konzentrationsabfall stattfindet und daß sich in einem großen Teil des Kristallstabes
extrem niedrige Konzentrationen ergeben.
55
Claims (44)
1. Verfahren zum Züchten von Einkristallen aus polykristallinen Stäben durch fraktioniertes
Umkristallisieren in einer hocherhitzten Zone des Stabes, die kontinuierlich in Längsrichtung durch
den Stab geführt wird, gekennzeichnet durch die Ausbildung der Erhitzungszone als Schmelzzone
mit Einschmelz- und Erstarrungsfront.
2. Anwendung des Verfahrens nach Anspruch 1 zum Reinigen von Stoffen, die in der Grundmasse
die Verunreinigungen in fester Lösung enthalten.
3. Anwendung des Verfahrens nach Anspruch 1 zum gezielten Verteilen der vom Grundstoff in
feste Lösung aufgenommenen Fremdstoffkomponenten.
4. Verfahren nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Schmelzzone einmal in
Längsrichtung des Stabes geführt wird, und zwar so, daß die Konzentration des Nebenbestandteils
in der Schmelzzone vor Beendigung des Durchgangs den Wert — erreicht, wobei C1 die gleichförmige
Konzentration des Nebenbestandteils und γ den Löslichkeitskoeffizienten, der das Verhältnis
der Konzentration des Nebenbestandteils im festen Anteil zu dem im flüssigen Anteil darstellt,
bedeutet.
5. Verfahren nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Schmelzzone mehrere
Male oder mehrere mit Abstand hintereinanderliegende Schmelzzonen einmal oder mehrmals in
einer Längsrichtung durch das stabförmige Werkstück geführt werden.
6. Verfahren nach Anspruch 1 und 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Schmelzzone einmal vorwärts
und anschließend rückwärts in der Längsrichtung eines Stabes geführt wird.
7. Verfahren nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Schmelzzone erst nur
durch einen Bruchteil des Stabquerschnitts in Stablängsrichtung geführt wird, wonach der Stab
gewendet wird, und dann der Restquerschnitt zonengeschmolzen wird.
8. Verfahren nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß zum Raffinieren von Werkstücken
aus Legierungen mit einem Löslichkeitskoeffizienten (γ), der größer oder kleiner als 1 ist,
eine Schmelzzone mehrere Male oder mehrere im Werkstück mit Abstand hintereinander angeordnete
Schmelzzonenabschnitte einmal oder mehrere Male mit gleichem Vorschub gleichzeitig durch
den Stab geführt werden.
9. Verfahren nach Anspruch 1, 2 und 8, dadurch gekennzeichnet, daß ein offener Ring durch
mehrere in Ringrichtung angeordnete Heizquellen um den Ringmittelpunkt gedreht wird.
10. Verfahren nach Anspruch 1 und 3, dadurch gekennzeichnet, daß mehrere Schmelzzonen durch
einen geschlossenen Ring geführt werden.
11. Verfahren nach Anspruch 1 und 3, dadurch gekennzeichnet, daß die startende Schmelzzone
mit Sejgerungsstoffen angereichert wird und durch einen Stab aus einer Legierung geführt wird,
deren Löslichkeitskoeffizient (γ) zweckmäßig von 0,1 bis 0,3 reicht.
12. Verfahren nach Anspruch 1, 3 und 11, dadurch
gekennzeichnet, daß die Schmelzzone durch einen Stab aus einer binären Legierung (A, B)
mit einem Löslichkeitskoeffizienten (γ) bis 0,01 geführt wird, wobei die startende Schmelzzone auf
eine solche Konzentration der gelösten Legierungskomponente (B) angereichert wird, die durch den
Schnittpunkt der Liquidus mit einer Isothermen im Zustandsschaubild bestimmt ist, die durch den
Schnittpunkt der Durchschnittskonzentration der Legierungskomponenten (A und B) mit derSolidus
gelegt wird.
13. Verfahren nach Anspruch 1, 3 und 11, dadurch
gekennzeichnet, daß die Schmelzzone durch einen Stab aus einer ternären Legierung (A, B, C)
mit einem Löslichkeitskoeffizienten (γ) bis 0,01 geführt wird, wobei in der startenden Schmelzzone
der Spiegel an Gelöstem von jeder der beiden
Legierungskomponenten (B, C) auf den durch Anspruch 12 bestimmten Wert angereichert wird.
14. Verfahren nach Anspruch 1, 3, 11 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß die angereicherte
Schmelzzone vorwärts und anschließend rückwärts durch den Stab geführt wird.
15. Verfahren nach Anspruch 1 und 3, dadurch gekennzeichnet, daß für Legierungen mit einem
Löslichkeitskoeffizienten (γ) von 0,1 bis 0,2 das Volumen der Schmelzzone während des Durchlaufs
geändert wird.
16. Verfahren nach Anspruch 1, 3 und 15, dadurch
gekennzeichnet, daß der Stab in Zonenschmelzrichtung keilförmig ausläuft.
17. Verfahren nach Anspruch 1, 3 und 15, dadurch gekennzeichnet, daß die Beheizung in Durchlaufrichtung
stetig verringert wird.
18. Verfahren nach Anspruch 1 und 3, dadurch gekennzeichnet, daß die der Erstarrungsfront
nachlaufende Kühlung stetig vermehrt wird.
19. Verfahren nach Anspruch 1, 3 und 15, dadurch gekennzeichnet, daß die Durchlaufgeschwindigkeit
der Schmelzzone stetig vergrößert wird.
20. Verfahren nach Anspruch 1 und 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Zonenschmelzen an einem
geschlossenen Ring aus einer Legierung mit einem Löslichkeitskoeffizienten (γ) von etwa 0,007 durchgeführt
wird, der in der Ringebene um den Ringmittelpunkt gedreht wird, wobei mehrere Beheizungsvorrichtungen
in Ringrichtung ortsfest hintereinander angeordnet sind.
21. Verfahren nach Anspruch 1, 2, 3 und 20, dadurch gekennzeichnet, daß die Beheizung induktiv,
durch Lichtbogen, durch Ionen oder Elektronenentladung oder auch durch Brenner erfolgt.
22. Verfahren nach Anspruch 1 und 3, dadurch gekennzeichnet, daß ein Stab aus einer Legierung
mit einem Löslichkeitskoeffizienten (γ) von etwa 0,01 vorwärts und rückwärts zonengeschmolzen
wird und daß die beim Vorwärtsgang zuletzt erstarrte Schmelzzone vom Werkstück abgetrennt
wird.
23. Verfahren nach Anspruch 1 und 3, dadurch gekennzeichnet, daß ein Stab aus einer ternären
Legierung (A, B, C) mit gleichmäßiger Konzentrationsverteilung
der gelösten Komponenten (B, C) zonengeschmolzen wird, wobei eine gelöste Komponente
(S) einen Löslichkeitskoeffizienten (γ) größer als 1 und die andere (C) kleiner als 1
hat, und daß die Schmelzzonenlänge während des Schmelzzonendurchlaufs scharf geändert
wird.
24. Verfahren nach Anspruch 1, 3 und 23, dadurch gekennzeichnet, daß zur Herstellung von
p-n-p-Schichten in einem Werkstück aus einer Legierung aus Germanium, Bor und Antimon die
Schmelzzone mehrfach scharf verkürzt und verlängert wird.
25. Verfahren nach Anspruch 1, 3, 11 und 12, dadurch gekennzeichnet, daß bei einem Stab aus
hochreinem Grundstoff die startende Schmelzzone mit Stoffen angereichert wird, die von dem Grundstoff
mit einem Löslichkeitskoeffizienten (γ) größer als 1 und kleiner als 1 in fester Lösung aufgenommen
werden.
26. Anwendung des Verfahrens nach Anspruch 1, 3 und 25 auf das Dreistoffsystem Germanium,
Bor, Antimon zur Erzeugung von p-n-Schichten.
27. Verfahren nach Anspruch 1 und 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Schmelzzone feste, flüssige
oder gasförmige, als Elektronengeber und -empfänger wirkende Stoffe enthält, welche der
Schmelzzone zweckmäßig an bestimmten Punkten ihres Durchlaufs durch den Stab eingeimpft
werden.
28. Verfahren nach Anspruch 1, 3 und 27, dadurch gekennzeichnet, daß die Zusatzstoffe in
Pastillenform auf dem Werkstück vor dem Zonenschmelzen angeordnet werden.
29. Anwendung des Verfahrens nach Anspruch 1, 3, 7, 10, 11, 12 bis 20, 23 bis 28 auf hochreines
Germanium und Silizium zum Züchten von Transistorkristallen mit eingewachsenen p-n-Zonen,
wobei Elemente der III. und V. Gruppe des Periodischen Systems, z. B. B und Sb, als in die
Grundmasse in feste Lösung gehende Stoffkomponenten verwendet werden.
30. Verfahren nach Anspruch 1, 3 und 28, dadurch gekennzeichnet, daß auf einem n-Typ-Stab
Borpastillen angeordnet werden und anschließend zonengeschmolzen wird.
31. Verfahren nach Anspruch 1 und 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Stab au? Scheiben von
P-Typ-Germanium und N-Typ-Silizium zusammengesetzt
wird und anschließend znnetigeschmolzen wird.
32. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß am Ende eines Stabes aus polykristallinen! Germanium ein Keimkristall aus Germanium
angeordnet wird und vom Keimkristall ausgehend zonengeschmolzen wird.
33. Verfahren nach Anspruch 1 und 32, dadurch gekennzeichnet, daß die Vorschubgeschwindigkeit
der Schmelzzone kleiner als 0,07 mm/Sek. ist.
34. Verfahren nach Anspruch 1 und 32, 33, dadurch gekennzeichnet, daß Keimkristalle von Germanium
von 3,1 his 25 mm Durchmesser und der Kriistallorientierung 1-0-0 in Vorschubrichtung
der Sohmelzzone verwendet werden.
35. Verfahren nach Anspruch 1 und; 2, dadurch gekennzeichnet, daß beim Zonenraffxnieren Vorsdhubgeschwindigkeiten
für die Sohmelzzone bis zu 0,25 mm/Sek. angewendet werden.
36. Verfahren nach Anspruch 1 und 3, dadurch gekennzeichnet, daß ein Stab aus einer eutektischen
Legierung mit begrenzter Mischkristallbildung (A', B) mit einem Löslichkeitskoeffizienten
(γ) der gelösten Legierungskomponente (B) kleiner
als 1 zonengeschmolzen und die Sdhmelzzone an einer beliebigen Stelle des Stabes angehalten
und dort zum Erstarren gebracht wird.
37. Anwendung des Verfahrens nach Anspruch 36 zur Herstellung von vorbestimmbaren
Bruchstellen bei Sicherheits\*entilen.
38. Anwendung des Verfahrens nach Anr
spruch 36 zur Herstellung von Werkstücken mit abwechselnden Bezirken hoher und niedriger
Permeabilität oder hoher und niedriger Koerzitivkraft.
39. Anwendung des Verfahrens nach Anspruch 1 und 2 auf Mehr stoff sy sterne aus Salzen und Metallen,
z. B. auf feste Lösungen von Salzen oder Oxyden- mit oder ohne Kristall wasser, wie
Natriumchlorid, das Kupfer und Kalium als Verunreinigung enthält, und auf feste Lösungen, die
durch Einfrieren hergestellt werden. ■"■ ■··
40. Verfahren nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß das zuletzt erstarrte, die Sei-
gerungen enthaltende Ende dies Stabes abgetrennt
wird und nur der verbleibende Teil des Stabes weiterverarbeitet wird.
41. Verfahren nach Anspruch 40, dadurch gekennzeichnet, daß der mit den Seigerungen angereicherte
abgetrennte Teil des Stabes weiterverarbeitet wird.
42. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet,
daß das Werkstück in einem Graphittiegel (7) angeordnet ist, der sich in einem Quarz-
rdhr (9) befindet, das mit einem Einlaß (10) und einem Auslaß (11) für die Durohleitung von
Schutzgas, insbesondere Wasserstoff, versehen ist, wobei die Schmelzzone durch eine außerhalb des
Rohres angeordnete, in Axial richtung des Rohres
mit regelbarer Vorschubgeschwindigkeit bewegliche Induktionsspule (8) erfolgt.
43. Vorrichtung nach. Anspruch 42, dadurch gekennzeichnet, daß der Tiegel als einseitig offenes
axial bewegliches Rohr (16) ausgebildet ist, das
durch eine Gummibalgdichtung (9) mit dem ortsfest angeordneten, nach außen abgedichteten Beheizungsrohr
(18) verbunden ist, wobei um das Tiegelrohr (16) ein Ring (12) aus elektrisch leitendem
Stoff angeordnet ist, der von einer außerhalb des äußeren Rohres (18) angeordneten Induktionsspule
mit Strom versorgt ist und wobei vor dem Beheizungsring (12) ein Kühlring (14) mit Schlitz (39) ebenfalls ortsfest angeordnet
ist, der an die Schutzgaszuleitung (20) angeschlossen ist.
44. Vorrichtung nach Anspruch 43, dadurch gekennzeichnet, daß durch einen Halter (42) ein
Keimkristall (41) an eine Stirnseite des Werkstücks (17) angedrückt ist.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Patentschrift Nr. 375 823;
Haller, Kristallchemie und Kristallphysik met. Werkstoffe, 1939, S. 38, Abs. 2.
Deutsche Patentschrift Nr. 375 823;
Haller, Kristallchemie und Kristallphysik met. Werkstoffe, 1939, S. 38, Abs. 2.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen
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