CN113683625B - 用于有机发光二极管的金属辅助延迟荧光发射体 - Google Patents

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Abstract

本申请涉及用于有机发光二极管的金属辅助延迟荧光发射体。通式I化合物可以通过金属辅助延迟荧光MADF收获电生成的激子。所述化合物用于发光二极管和发光装置中。

Description

用于有机发光二极管的金属辅助延迟荧光发射体
相关申请的交叉引用
本申请要求于2020年5月19日提交的美国临时申请第63/026,806号的优先权，所述美国临时申请以全文引用的方式并入本文中。
关于联邦资助的研究或开发的声明
本发明是根据美国能源部授予的DE-EE0008721在政府支持下进行的。政府拥有本发明的某些权利。
技术领域
本申请总体上涉及金属辅助延迟荧光发射体。
背景技术
出于多种原因，利用有机材料的光电装置变得越来越令人期望。用于制造此类装置的许多材料相对便宜，因此有机光电装置具有优于无机装置的成本优势的潜力。另外，有机材料的固有性质(如其柔性)可以使其非常适合于特定应用，如在柔性基材上的制造。有机光电装置的实例包含有机发光二极管(OLED)、有机光电晶体管、有机光伏电池和有机光电检测器。对于OLED，有机材料可以具有优于常规材料的性能优势。举例来说，有机发射层发光的波长通常可以容易地用适当的掺杂剂调节。
近年来，由于有机发光二极管(OLED)的突出优点，如高颜色质量、宽视角、低成本制造、低功耗、快速响应速度和高电子到光子转换效率，其已在学术领域和工业领域两者引起极大关注。大多数有机发光二极管(OLED)是使用铱(Ir)、钯(Pd)和铂(Pt)络合物的磷光OLED，因为这些金属络合物具有强的自旋轨道耦合，其可以从三重激发态有效地发光并且达到几乎100％的内部效率。
本领域中仍需要有效且稳定的OLED组件。本发明解决了这种未满足的需求。
发明内容
一方面，本公开涉及通式I化合物；
其中：
M表示Pt(II)或Pd(II)；
R1、R2、R3、R4、R5和R6中的每一个独立地不存在或在化合价允许的情况下以单个取代基或多个取代基的形式存在，并且R1、R3、R4、R5、R6和R8中的每一个独立地表示氢、氘、卤素、羟基、硫醇、硝基、氰基、腈、异腈、亚磺酰基、巯基、磺基、羧基、肼基；经取代的或未经取代的：芳基、环烷基、环烯基、杂环基、杂芳基、烷基、烯基、炔基、氨基、单烷基氨基、二烷基氨基、单芳基氨基、二芳基氨基、烷氧基、芳氧基、卤代烷基、芳烷基、酯、烷氧基羰基、酰氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、磺酰基氨基、氨磺酰基、氨基甲酰基、烷硫基、脲基、磷酰胺、硅烷基、聚合物；或其任何缀合物或组合；
其中存在两个相邻的取代基R2，与基团R2结合的基团Y4a、Y4b、Y4c或Y4d各自为C，并且所述两个相邻的基团R2由式A表示：
其中*表示通式I的键；
X表示单键、O、S、Se、P＝O、As＝O、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7，或X不存在，其中当X不存在时，L4与包括Z2的环之间不存在键；
X1表示单键、O、S、Se、P＝O、As＝O、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7；
R7和R8的每次出现独立地不存在或在化合价允许的情况下以单个取代基或多个取代基的形式存在，并且R7和R8中的每一个独立地表示氢、氘、卤素、羟基、硫醇、硝基、氰基、腈、异腈、亚磺酰基、巯基、磺基、羧基、肼基；经取代的或未经取代的：芳基、环烷基、环烯基、杂环基、杂芳基、烷基、烯基、炔基、氨基、单烷基氨基、二烷基氨基、单芳基氨基、二芳基氨基、烷氧基、芳氧基、卤代烷基、芳烷基、酯、烷氧基羰基、酰氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、磺酰基氨基、氨磺酰基、氨基甲酰基、烷硫基、脲基、磷酰胺、硅烷基、聚合物；或其任何缀合物或组合；或R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8中的任何两个表示共价键；
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、X和X1中的任何两个可以一起形成稠环；
A、B、C和D各自独立地表示C、N、O或S；
Y1和Y2各自独立地表示氢、氘、卤素、羟基、硫醇、硝基、氰基、腈、异腈、亚磺酰基、巯基、磺基、羧基、肼基；经取代的或未经取代的：芳基、环烷基、环烯基、杂环基、杂芳基、烷基、烯基、炔基、氨基、单烷基氨基、二烷基氨基、单芳基氨基、二芳基氨基、烷氧基、芳氧基、卤代烷基、芳烷基、酯、烷氧基羰基、酰氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、磺酰基氨基、氨磺酰基、氨基甲酰基、烷硫基、脲基、磷酰胺、硅烷基、聚合物；或其任何缀合物或组合；其中Y1和Y2可以任选地一起形成稠合的芳香族环或杂芳香族环；
Y3a、Y3b、Y4a、Y4b、Y4c、Y4d、Y4e、Y4f、Y4g、Y4h各自独立地表示C或N；
Z1、Z2、Z3和Z4各自独立地表示C或N；
L4、L5和L6各自独立地表示5元到10元芳基、杂芳基、稠合芳基或稠合杂芳基；
L5存在或不存在；
V1和V2独立地存在或不存在；其中V1和V2中的每一个，如果存在的话，独立地表示共价键、O、S、Se、P＝O、As＝O、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7；其中当V1不存在时，那么L4不与L5结合；并且当V2不存在时，那么L6不与L5结合；
V3存在或不存在，其中V3，如果存在的话，表示共价键、C、N、Si、O、S、Ge、P、As、Se、B、Al或Bi，或者如果化合价允许，则各自独立地表示CR7、SiR7、GeR7、NR7、P＝O、As＝O、B、BR7、AlR7、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7；其中当V3不存在时，那么Y2a直接与Y2b结合；并且
在化合价允许的情况下，每个n独立地为整数。
在一个实施例中，提供了一种包含所述化合物的有机发光二极管(OLED)。根据另一个实施例，提供了包括所述发光二极管的发光装置。
附图说明
当结合附图阅读时，将更好地理解对以下本公开的优选实施例的详细描述。出于说明本发明的目的，在附图中示出了当前优选的实施例。然而，应当理解，本发明不限于在附图中示出的实施例的精确布置以及手段。
图1是有机发光装置的示意图。
图2是描绘延迟荧光过程的示意图。
图3描绘了示范性化合物。
图4是示范性化合物Pd3O8-cz56的光致发光的图。
图5是示范性化合物PtON2-Cz56的光致发光的图。
图6是示范性化合物PtON2-Sz56的光致发光的图。
图7是使用PtON2-Cz56-tbu作为发射体的装置的电致发光光谱(a)和EQE相对于亮度(b)的图。通用装置结构为HATCN(10nm)/NPD(40nm)/BCN34(10nm)/6％PtON2-Cz56-tbu:mCBP(20nm)/BAlq(10nm)/BPyTP(40nm)/Liq(2nm)/Al。
具体实施方式
本公开部分地涉及以下意外发现：增加的缀合增加了MADF效率。
定义
应当理解，为了清楚起见，已经简化本公开中的附图和描述以展示与清楚理解本发明相关的元件，同时消除了在本领域中发现的与磷光有机发光装置等有关的许多其它元件。本领域普通技术人员可以认识到，其它元件和/或步骤是实施所公开的实施例所期望的和/或要求的。然而，因为此类元件和步骤是本领域中众所周知的，并且因为此类元件不利于更好地理解本公开，所以本文未提供对此类元件和步骤的讨论。本文中的本公开涉及本领域技术人员已知的对此类元件和方法的所有此类变型和修改。
除非另外定义，否则本文所使用的所有技术术语和科学术语具有与本公开所属领域的普通技术人员通常所理解的含义相同的含义。尽管可以在所公开的实施例的实践或测试中使用类似于或等同于本文所述的方法、材料和组件的任何方法、材料和组件，但描述了优选的方法和材料。
如本文所使用的，以下术语中的每个术语在此部分中具有与其相关联的含义。
冠词“一个/一种(a/an)”在本文中指代冠词的一个/种或多于一个/种(即，至少一个/种)语法宾语。举例来说，“一个/一种元件”意指一个元件或多于一个元件。
如本文所使用的，当提及如量、持续时间等可测量值时，“约”意味着涵盖偏离指定值±20％、±10％、±5％、±1％或±0.1％的变化，因为这些变化是适当的。
贯穿本公开，可以以范围格式呈现本发明的各个方面。应当理解的是，采用范围格式的描述仅为了方便和简洁起见，并且不应当解释为是对本发明的范围的硬性限制。因此，对范围的描述应当被认为是具有确切公开的所有可能的子范围以及所述范围内的单独数值。例如，对1到6的范围的描述应被视为具有具体公开的子范围，如1到3、1到4、1到5、2到4、2到6、3到6等，以及所述范围内的单独数字，例如1、2、2.7、3、4、5、5.3、6和其之间的任何全部和部分增量。无论范围的宽度为多少，这都适用。
公开了用于制备本公开的组合物的组分以及在本文所公开的方法中使用的组合物本身。本文中公开了这些材料和其它材料，并且应理解，当公开了这些材料的组合、子集、相互作用、组等时，虽然无法明确公开对这些化合物的每种各种单独和集体组合和排列的具体引用，但在本文中具体地考虑并描述了每种组合和排列。例如，如果公开和讨论了特定化合物，并且讨论了可能对包含所述化合物的多个分子进行的许多修饰，则除非具体地相反地指明，否则具体地涵盖所述化合物中的每个组合和排列以及可能的修饰。因此，如果公开了一类分子A、B和C以及一类分子D、E和F并公开了组合分子A-D的实例，则即使每个分子并未单独地叙述，但单独地和共同地考虑每个分子，这意味着视为公开了组合A-E、A-F、B-D、B-E、B-F、C-D、C-E和C-F。同样，还公开了这些的任何子集或组合。因此，例如，被认为公开了A-E、B-F和C-E的子组。此概念适用于本申请的所有方面，包含但不限于制备和使用本发明的组合物的方法中的步骤。因此，如果存在可以执行的各种另外的步骤，应理解，这些另外的步骤中的每个步骤可以用本发明的方法的任何具体实施例或实施例的组合来执行。
如本文中所指代的，连接原子或连接基团可以连接两个基团，例如N和C基团。如果化合价允许，则所述连接原子可以任选地具有所连接的其它化学部分。例如，一方面，一旦氧键合到两个基团(例如，N和/或C基团)，由于满足化合价，氧将不具有所连接的任何其它化学基团。另一方面，当碳是连接原子时，两个另外的化学部分可以连接到碳。合适的化学部分包含但不限于氢、羟基、烷基、烷氧基、＝O、卤素、硝基、胺、酰胺、硫醇、芳基、杂芳基、环烷基和杂环基。
本文所使用的术语“环状结构”或类似术语是指任何环状化学结构，所述环状化学结构包含但不限于芳基、杂芳基、环烷基、环烯基和杂环基。
如本文所使用的，设想术语“经取代的”包含有机化合物的所有可允许的取代基。在广泛的方面，可允许的取代基包含有机化合物的无环和环状、支链和无支链、碳环和杂环以及芳香族和非芳香族取代基。说明性取代基包含例如以下描述的那些取代基。对于适当的有机化合物，可允许的取代基可以是一或多个并且可以是相同或不同的。出于本公开的目的，杂原子(如氮)可以具有本文描述的有机化合物的氢取代基和/或任何可允许的取代基，这些取代基将满足杂原子的化合价。本公开不旨在以任何方式受限于有机化合物的可允许的取代基。而且，术语“取代”或“被……取代”包含隐含条件：此类取代与经取代的原子和取代基的所允许化合价一致，并且所述取代导致稳定的化合物，例如不会自发地经历转化(如通过重排、环化、消除等)的化合物。还设想的是，在某些方面，除非明确相反地指明，否则单独的取代基可以进一步任选地被取代(即，进一步被取代或未被取代)。
如本文所使用的，术语“烷基”是具有1到24个碳原子的支链或无支链的饱和烃基，如甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、仲戊基、新戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十二烷基、十四烷基、十六烷基、二十烷基、二十四烷基等。烷基可以是环状或非环状的。烷基可以是支链或无支链的。烷基还可以是经取代的或未经取代的。例如，烷基可以被一或多个基团取代，所述一或多个基团包含但不限于如本文所描述的烷基、环烷基、烷氧基、氨基、醚、卤化物、羟基、硝基、硅烷基、磺基-氧代或硫醇。“低级烷基”是含有一到六个(例如，一到四个)碳原子的烷基。
贯穿本说明书，“烷基”通常用于指未经取代的烷基和经取代的烷基两者；然而，经取代的烷基在本文中还通过鉴定烷基上的一或多个特定取代基而被具体提及。例如，术语“卤化烷基”或“卤代烷基”具体地是指被一或多个卤离子(例如，氟离子、氯离子、溴离子或碘离子)取代的烷基。术语“烷氧基烷基”具体地是指被一或多个烷氧基取代的烷基，如下文所述。术语“烷基氨基”具体地是指如下所述被一或多个氨基等取代的烷基。当在一种情况下使用“烷基”并且在另一种情况下使用特定术语如“烷基醇”时，这并不意味着暗示术语“烷基”也未指特定术语如“烷基醇”等。
这种实践也用于本文所述的其它组。也就是说，尽管术语如“环烷基”是指未经取代和经取代的环烷基部分两者，但是所述经取代的部分可以另外在本文中具体地鉴定；例如，特定的经取代的环烷基可以被称为例如“烷基环烷基”。类似地，经取代的烷氧基可以具体地被称为例如“卤化烷氧基”，特定的经取代的烯基可以为例如“烯基醇”等。再次，使用通用术语如“环烷基”和特定术语如“烷基环烷基”的实践不意味着暗示通用术语也不包含特定术语。
如本文所使用的，术语“环烷基”是由至少三个碳原子构成的非芳香族碳基环。环烷基的实例包含但不限于环丙基、环丁基、环戊基、环己基、降冰片基等。术语“杂环烷基”是如以上定义的环烷基的一种类型，并且包含在术语“环烷基”的含义内，其中环的碳原子中的至少一个碳原子被杂原子替代，所述杂原子如但不限于氮、氧、硫或磷。环烷基和杂环烷基可以是经取代的或未经取代的。环烷基和杂环烷基可以被一或多个基团取代，所述一或多个基团包含但不限于如本文所描述的烷基、环烷基、烷氧基、氨基、醚、卤化物、羟基、硝基、硅烷基、磺基-氧代或硫醇。
如本文所使用的，术语“聚亚烷基”是具有两个或两个以上彼此连接的CH2基团的基团。聚亚烷基可以由式-(CH2)a-表示，其中“a”是2到500的整数。
如本文所使用的，术语“烷氧基(alkoxy)”和“烷氧基(alkoxyl)”指通过醚键键合的烷基或环烷基；也就是说，“烷氧基”可以被定义为-OA1，其中A1是如以上定义的烷基或环烷基。“烷氧基”还包含刚刚描述的烷氧基的聚合物；也就是说，烷氧基可以是聚醚，如-OA1-OA2或-OA1-(OA2)a-OA3，其中“a”是1到200的整数，并且A1、A2和A3是烷基和/或环烷基。
如本文所使用的，术语“烯基”是具有2到24个碳原子的烃基，其结构式含有至少一个碳-碳双键。如(A1A2)C＝C(A3A4)等不对称结构旨在包含E和Z异构体两者。这可以在本文中存在不对称烯烃的结构式中假定，或者可以用键符号C＝C表示。烯基可以被一或多个基团取代，所述一或多个基团包含但不限于如本文所描述的烷基、环烷基、烷氧基、烯基、环烯基、炔基、环炔基、芳基、杂芳基、醛、氨基、羧酸、酯、醚、卤化物、羟基、酮、叠氮化物、硝基、硅烷基、磺基-氧代或硫醇。
如本文所使用的，术语“环烯基”是由至少三个碳原子构成并且含有至少一个碳-碳双键(即，C＝C)的非芳香族碳基环。环烯基的实例包含但不限于环丙烯基、环丁烯基、环戊烯基、环戊二烯基、环己烯基、环己二烯基、降冰片烯基等。术语“杂环烯基”是如以上定义的环烯基的一种类型，并且包含在术语“环烯基”的含义内，其中环的碳原子中的至少一个碳原子被杂原子替代，所述杂原子如但不限于氮、氧、硫或磷。环烯基和杂环烯基可以是经取代的或未经取代的。环烯基和杂环烯基可以被一或多个基团取代，所述一或多个基团包含但不限于如本文所描述的烷基、环烷基、烷氧基、烯基、环烯基、炔基、环炔基、芳基、杂芳基、醛、氨基、羧酸、酯、醚、卤化物、羟基、酮、叠氮化物、硝基、硅烷基、磺基-氧代或硫醇。
如本文所使用的，术语“炔基”是具有2到24个碳原子的烃基，其结构式含有至少一个碳-碳三键。炔基可以是未经取代的或被一或多个基团取代，所述一或多个基团包含但不限于如本文所描述的烷基、环烷基、烷氧基、烯基、环烯基、炔基、环炔基、芳基、杂芳基、醛、氨基、羧酸、酯、醚、卤化物、羟基、酮、叠氮化物、硝基、硅烷基、磺基-氧代或硫醇。
如本文所使用的，术语“环炔基”是由至少七个碳原子构成并且含有至少一个碳-碳三键的非芳香族碳基环。环炔基的实例包含但不限于环庚炔基、环辛炔基、环壬炔基等。术语“杂环炔基”是如以上定义的环炔基的一种类型，并且包含在术语“环炔基”的含义内，其中环的碳原子中的至少一个碳原子被杂原子替代，所述杂原子如但不限于氮、氧、硫或磷。环炔基和杂环炔基可以是经取代的或未经取代的。环炔基和杂环炔基可以被一或多个基团取代，所述一或多个基团包含但不限于如本文所描述的烷基、环烷基、烷氧基、烯基、环烯基、炔基、环炔基、芳基、杂芳基、醛、氨基、羧酸、酯、醚、卤化物、羟基、酮、叠氮化物、硝基、硅烷基、磺基-氧代或硫醇。
如本文所使用的，术语“芳基”是含有任何碳基芳香族基团的基团，所述碳基芳香族基团包含但不限于苯、萘、苯基、联苯基、苯氧基苯等。术语“芳基”还包含“杂芳基”，其被定义为含有芳香族基团的基团，所述芳香族基团具有并入芳香族基团的环内的至少一个杂原子。杂原子的实例包含但不限于氮、氧、硫和磷。同样，也包含在术语“芳基”中的术语“非杂芳基”定义了含有未含有杂原子的芳香族基团的基团。芳基可以是经取代的或未经取代的。芳基可以被一或多个基团取代，所述一或多个基团包含但不限于如本文所描述的烷基、环烷基、烷氧基、烯基、环烯基、炔基、环炔基、芳基、杂芳基、醛、氨基、羧酸、酯、醚、卤化物、羟基、酮、叠氮化物、硝基、硅烷基、磺基-氧代或硫醇。术语“联芳基”是特定类型的芳基并且包含在“芳基”的定义中。联芳基是指如在萘中通过稠环结构结合在一起或如在联苯基中通过一或多个碳-碳键连接的两个芳基。
如本文所使用的，术语“醛”由式-C(O)H表示。贯穿本说明书，“C(O)”是羰基(即，C＝O)的简化符号。
如本文所使用的，术语“胺”或“氨基”由式-NA1A2表示，其中A1和A2可以独立地是如本文所描述的氢或烷基、环烷基、烯基、环烯基、炔基、环炔基、芳基或杂芳基。
如本文所使用的，术语“烷基氨基”由式-NH(-烷基)表示，其中烷基如本文所描述的。代表性实例包含但不限于甲基氨基、乙基氨基、丙基氨基、异丙基氨基、丁基氨基、异丁基氨基、(仲丁基)氨基、(叔丁基)氨基、戊基氨基、异戊基氨基、(叔戊基)氨基、己基氨基等。
如本文所使用的，术语“二烷基氨基”由式-N(-烷基)2表示，其中烷基如本文所描述的。代表性实例包含但不限于二甲基氨基、二乙基氨基、二丙基氨基、二异丙基氨基、二丁基氨基、二异丁基氨基、二(仲丁基)氨基、二(叔丁基)氨基、二戊基氨基、二异戊基氨基、二(叔戊基)氨基、二己基氨基、N-乙基-N-甲基氨基、N-甲基-N-丙基氨基、N-乙基-N-丙基氨基等。
如本文所使用的，术语“羧酸”由式-C(O)OH表示。
如本文所使用的，术语“酯”由式-OC(O)A1或-C(O)OA1表示，其中A1可以是如本文所描述的烷基、环烷基、烯基、环烯基、炔基、环炔基、芳基或杂芳基。如本文所使用的，术语“聚酯”由式-(A1O(O)C-A2-C(O)O)或-(A1O(O)C-A2-OC(O))a-表示，其中A1和A2可以独立地是本文所描述的烷基、环烷基、烯基、环烯基、炔基、环炔基、芳基或杂芳基，并且“a”是1到500的整数。“聚酯”是如用于描述通过具有至少两个羧酸基团的化合物与具有至少两个羟基的化合物之间的反应而产生的基团的术语。
如本文所使用的，术语“醚”由式A1OA2表示，其中A1和A2可以独立地是本文所描述的烷基、环烷基、烯基、环烯基、炔基、环炔基、芳基或杂芳基。如本文所使用的，术语“聚醚”由式-(A1O-A2O)a-表示，其中A1和A2可以独立地是本文所描述的烷基、环烷基、烯基、环烯基、炔基、环炔基、芳基或杂芳基，并且“a”是1到500的整数。聚醚的实例包含聚环氧乙烷、聚环氧丙烷和聚环氧丁烷。
如本文所使用的，术语“卤化物”是指卤素氟、氯、溴和碘。
如本文所使用的，术语“杂环基”是指单环和多环非芳香族环体系，并且如本文所使用的，“杂芳基”是指单环和多环芳香族环体系：其中环成员中的至少一个环成员不是碳。术语“杂环基”包含氮杂环丁烷、二噁烷、呋喃、咪唑、异噻唑、异噁唑、吗啉、噁唑(包含1,2,3-噁二唑、1,2,5-噁二唑和1,3,4-噁二唑)、哌嗪、哌啶、吡嗪、吡唑、哒嗪、吡啶、嘧啶、吡咯、吡咯烷、四氢呋喃、四氢吡喃、四嗪(包含1,2,4,5-四嗪)、四唑(包含1,2,3,4-四唑和1,2,4,5-四唑)、噻二唑(包含1,2,3-噻二唑、1,2,5-噻二唑和1,3,4-噻二唑)、噻唑、噻吩、三嗪(包含1,3,5-三嗪和1,2,4-三嗪)、三唑(包含1,2,3-三唑、1,3,4-三唑)等。
如本文所使用的，术语“羟基”由式-OH表示。
如本文所使用的，术语“酮”由式A1C(O)A2表示，其中A1和A2可以独立地是如本文所描述的烷基、环烷基、烯基、环烯基、炔基、环炔基、芳基或杂芳基。
如本文所使用的，术语“叠氮化物”由式-N3表示。
如本文所使用的，术语“硝基”由式-NO2表示。
如本文所使用的，术语“腈”由式-CN表示。
如本文所使用的，术语“脲基”是指式-NHC(O)NH2或-NHC(O)NH-的尿素基团。
如本文所使用的，术语“磷酰胺”是指式-P(O)(NA1A2)2的基团，其中A1和A2可以独立地是氢或如本文所描述的烷基、环烷基、烷氧基、烯基、环烯基、炔基、环炔基、芳基或杂芳基。
如本文所使用的，术语“氨基甲酰基”是指式-CONA1A2的酰胺基，其中A1和A2可以独立地是氢或如本文所描述的烷基、环烷基、烷氧基、烯基、环烯基、炔基、环炔基、芳基或杂芳基。
如本文所使用的，术语“氨磺酰基”是指式-S(O)2NA1A2的基团，其中A1和A2可以独立地是氢或如本文所描述的烷基、环烷基、烷氧基、烯基、环烯基、炔基、环炔基、芳基或杂芳基。
如本文所使用的，术语“硅烷基”由式-SiA 1A2A3表示，其中A1、A2和A3可以独立地是氢或如本文所描述的烷基、环烷基、烷氧基、烯基、环烯基、炔基、环炔基、芳基或杂芳基。
如本文所使用的，术语“磺基-氧代”由式-S(O)A1、-S(O)2A1、-OS(O)2A1或-OS(O)2OA1表示，其中A1是氢或如本文所描述的烷基、环烷基、烯基、环烯基、炔基、环炔基、芳基或杂芳基。贯穿本说明书，“S(O)”是S＝O的简化符号。本文使用的术语“磺酰基”是指由式-S(O)2A1表示的磺基-氧代基团，其中A1是氢或如本文所描述的烷基、环烷基、烯基、环烯基、炔基、环炔基、芳基或杂芳基。如本文所使用的，术语“砜”由式A1S(O)2A2表示，其中A1和A2可以独立地是如本文所描述的烷基、环烷基、烯基、环烯基、炔基、环炔基、芳基或杂芳基。如本文所使用的，术语“亚砜”由式A1S(O)A2表示，其中A1和A2可以独立地是如本文所描述的烷基、环烷基、烯基、环烯基、炔基、环炔基、芳基或杂芳基。
如本文所使用的，术语“硫醇”由式-SH表示。
术语“聚合物”包含聚亚烷基、聚醚、聚酯和具有重复单元的其它基团，如但不限于-(CH2O)n-CH3、-(CH2CH2O)n-CH3、-[CH2CH(CH3)]n-CH3、-[CH2CH(COOCH3)]n-CH3、-[CH2CH(COOCH2CH3)]n-CH3和-[CH2CH(COOtBu)]n-CH3，其中n是整数(例如，n>1或n>2)。
如本文所使用的，“R”、“R1”、“R2”、“R3”、“Rn”(其中n是整数)可以独立地包含氢或以上列出的基团中的一或多个基团。例如，如果R1是直链烷基，则烷基的氢原子之一可以任选地被羟基、烷氧基、烷基、卤化物等取代。根据所选择的基团，第一基团可以并入第二基团内，或可替代地，第一基团可以是第二基团的侧基(即，与所述第二基团连接)。例如，对于短语“包括氨基的烷基”，氨基可以并入烷基的主链内。可替代地，氨基可以与烷基的主链连接。所选择的一或多个组的性质将确定第一组是嵌入第二组还是与第二组连接。
如本文所使用的，本公开的化合物可以含有“任选地经取代的”部分。通常，无论前面是否有术语“任选地”，术语“经取代的”都意味着指定部分的一或多个氢被合适的取代基替代。除非另有指示，否则“任选地经取代的”基团可以在所述基团的每个可取代位置处具有合适的取代基，并且当任何给定结构中的多于一个位置可以被多于一个选自指定组的取代基取代时，在每个位置处，取代基可以相同或不同。本公开所设想的取代基组合优选地是导致形成稳定或化学上可行的化合物的取代基组合。还设想的是，在某些方面，除非明确相反地指明，否则单独取代基可以进一步被任选地取代(即，进一步被取代或未被取代)。
在一些方面，化合物的结构可以由下式表示：
其被理解为等效于下式：
其中n通常是整数。也就是说，Rn应理解为表示五个独立的取代基，Rn(a)、Rn(b)、Rn (c)、Rn(d)、Rn(e)。“独立的取代基”意指每个R取代基可以被独立地定义。例如，如果在一种情况下Rn(a)为卤素，则在所述情况下Rn(b)不一定为卤素。
在本文中公开和描述的化学结构和部分中对R、R1、R2、R3、R4、R5、R6等进行了多次引用。本说明书中对R、R1、R2、R3、R4、R5、R6等的任何描述均适用于分别引用R、R1、R2、R3、R4、R5、R6等的任何结构或部分。
化合物
本文所公开的化合物适用于多种光学和电光装置，包含但不限于如太阳能和光敏装置等光吸收装置、有机发光装置(OLED)、发光装置或既能吸收光又能发射光并且作为生物应用的标志物的装置。
本文所公开的化合物可用于多种应用中。作为发光材料，所述化合物可以用于有机发光装置(OLED)、发光装置和显示器以及其它发光装置中。
另一方面，与常规材料相比，所述化合物可以在照明装置(例如，有机发光装置)中提供改进的效率、改进的操作寿命或两者。
本公开的化合物可以使用多种方法制备，所述方法包含但不限于本文提供的实例中所述的那些方法。
本发明的化合物
一方面，本发明涉及一种通式I化合物：
其中：
M表示Pt(II)或Pd(II)；
R1、R2、R3、R4、R5和R6中的每一个独立地不存在或在化合价允许的情况下以单个取代基或多个取代基的形式存在，并且R1、R3、R4、R5、R6和R8中的每一个独立地表示氢、氘、卤素、羟基、硫醇、硝基、氰基、腈、异腈、亚磺酰基、巯基、磺基、羧基、肼基；经取代的或未经取代的：芳基、环烷基、环烯基、杂环基、杂芳基、烷基、烯基、炔基、氨基、单烷基氨基、二烷基氨基、单芳基氨基、二芳基氨基、烷氧基、芳氧基、卤代烷基、芳烷基、酯、烷氧基羰基、酰氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、磺酰基氨基、氨磺酰基、氨基甲酰基、烷硫基、脲基、磷酰胺、硅烷基、聚合物；或其任何缀合物或组合；
其中存在两个相邻的取代基R2，与基团R2结合的基团Y4a、Y4b、Y4c或Y4d各自为C，并且所述两个相邻的基团R2由式A表示：
其中*表示通式I的键；
X表示单键、O、S、Se、P＝O、As＝O、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7，或X不存在，其中当X不存在时，L4与包括Z2的环之间不存在键；
X1表示单键、O、S、Se、P＝O、As＝O、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7；
R7和R8的每次出现独立地不存在或在化合价允许的情况下以单个取代基或多个取代基的形式存在，并且R7和R8中的每一个独立地表示氢、氘、卤素、羟基、硫醇、硝基、氰基、腈、异腈、亚磺酰基、巯基、磺基、羧基、肼基；经取代的或未经取代的：芳基、环烷基、环烯基、杂环基、杂芳基、烷基、烯基、炔基、氨基、单烷基氨基、二烷基氨基、单芳基氨基、二芳基氨基、烷氧基、芳氧基、卤代烷基、芳烷基、酯、烷氧基羰基、酰氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、磺酰基氨基、氨磺酰基、氨基甲酰基、烷硫基、脲基、磷酰胺、硅烷基、聚合物；或其任何缀合物或组合；或R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8中的任何两个表示共价键；
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、X和X1中的任何两个可以一起形成稠环；
A、B、C和D各自独立地表示C、N、O或S；
Y1和Y2各自独立地表示氢、氘、卤素、羟基、硫醇、硝基、氰基、腈、异腈、亚磺酰基、巯基、磺基、羧基、肼基；经取代的或未经取代的：芳基、环烷基、环烯基、杂环基、杂芳基、烷基、烯基、炔基、氨基、单烷基氨基、二烷基氨基、单芳基氨基、二芳基氨基、烷氧基、芳氧基、卤代烷基、芳烷基、酯、烷氧基羰基、酰氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、磺酰基氨基、氨磺酰基、氨基甲酰基、烷硫基、脲基、磷酰胺、硅烷基、聚合物；或其任何缀合物或组合；其中Y1和Y2可以任选地一起形成稠合的芳香族环或杂芳香族环；
Y3a、Y3b、Y4a、Y4b、Y4c、Y4d、Y4e、Y4f、Y4g、Y4h各自独立地表示C或N；
Z1、Z2、Z3和Z4各自独立地表示C或N；
L4、L5和L6各自独立地表示5元到10元芳基、杂芳基、稠合芳基或稠合杂芳基；
L5存在或不存在；
V1和V2独立地存在或不存在；其中V1和V2中的每一个，如果存在的话，独立地表示共价键、O、S、Se、P＝O、As＝O、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7；其中当V1不存在时，那么L4不与L5结合；并且当V2不存在时，那么L6不与L5结合；
V3存在或不存在，其中V3，如果存在的话，表示共价键、C、N、Si、O、S、Ge、P、As、Se、B、Al或Bi，或者如果化合价允许，则各自独立地表示CR7、SiR7、GeR7、NR7、P＝O、As＝O、B、BR7、AlR7、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7；其中当V3不存在时，那么Y2a直接与Y2b结合；并且
在化合价允许的情况下，每个n独立地为整数。
在一个实施例中，两个另外的相邻基团R2一起由式B表示：
其中X2表示单键、O、S、Se、P＝O、As＝O、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7；
Y5a、Y5b、Y5c、Y5d各自独立地表示C或N；
R9表示氢、氘、卤素、羟基、硫醇、硝基、氰基、腈、异腈、亚磺酰基、巯基、磺基、羧基、肼基；经取代的或未经取代的：芳基、环烷基、环烯基、杂环基、杂芳基、烷基、烯基、炔基、氨基、单烷基氨基、二烷基氨基、单芳基氨基、二芳基氨基、烷氧基、芳氧基、卤代烷基、芳烷基、酯、烷氧基羰基、酰氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、磺酰基氨基、氨磺酰基、氨基甲酰基、烷硫基、脲基、磷酰胺、硅烷基、聚合物；或其任何缀合物或组合；或R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8和R9中的任何两个表示共价键；并且
在化合价允许的情况下，每个n独立地为整数。
在一个实施例中，所述化合物由通式II、通式III、通式IV、通式V、通式VI或通式VII表示：
其中：
Y1a、Y1b、Y1c、Y1d、Y2a、Y2b、Y3a、Y3b、Y4a、Y4b、Y4c、Y4d、Y4e、Y4f、Y4g和Y4h各自独立地表示C或N；
Z1、Z2、Z3和Z4各自独立地表示C或N；
C和D各自独立地表示C、N、O或S；
X表示单键、O、S、Se、P＝O、As＝O、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7，或X不存在，其中当X不存在时，L4与包括Z2的环之间不存在键；
X1表示单键、O、S、Se、P＝O、As＝O、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7；
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8中的每一个独立地不存在或在化合价允许的情况下以单个取代基或多个取代基的形式存在，并且R1、R3、R4、R5、R6和R7中的每一个独立地表示氘、卤素、羟基、硫醇、硝基、氰基、腈、异腈、亚磺酰基、巯基、磺基、羧基、肼基；经取代的或未经取代的：芳基、环烷基、环烯基、杂环基、杂芳基、烷基、烯基、炔基、氨基、单烷基氨基、二烷基氨基、单芳基氨基、二芳基氨基、烷氧基、芳氧基、卤代烷基、芳烷基、酯、烷氧基羰基、酰氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、磺酰基氨基、氨磺酰基、氨基甲酰基、烷硫基、脲基、磷酰胺、硅烷基、聚合物；或其任何缀合物或组合；或R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8中的任何两个表示共价键；
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、X和X1中的任何两个可以一起形成稠环；
L4、L5和L6各自独立地表示5元到10元芳基、杂芳基、稠合芳基或稠合杂芳基；
L5存在或不存在；
V1和V2独立地存在或不存在；其中V1和V2中的每一个，如果存在的话，独立地表示共价键、O、S、Se、P＝O、As＝O、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7；其中当V1不存在时，那么L4不与L5结合；并且当V2不存在时，那么L6不与L5结合；
V3存在或不存在，其中V3，如果存在的话，表示共价键、C、N、Si、O、S、Ge、P、As、Se、B、Al或Bi，或者如果化合价允许，则各自独立地表示CR7、SiR7、GeR7、NR7、P＝O、As＝O、B、BR7、AlR7、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7；其中当V3不存在时，那么Y2a直接与Y2b结合；并且
在化合价允许的情况下，每个n独立地为整数。
在一个实施例中，所述化合物由通式VIII、通式IX、通式X、通式XI、通式XII或通式XIII表示：
其中：
Y2a、Y2b、Y3a、Y3b、Y4a、Y4b、Y4c、Y4d、Y4e、Y4f、Y4g和Y4h各自独立地表示C或N；
Z1、Z2、Z3和Z4各自独立地表示C或N；
A、B、C和D各自独立地表示C、N、O或S；
X表示单键、O、S、Se、P＝O、As＝O、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7，或X不存在，其中当X不存在时，L4与包括Z2的环之间不存在键；
X1表示单键、O、S、Se、P＝O、As＝O、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7；
Y1和Y2各自独立地表示氢、氘、卤素、羟基、硫醇、硝基、氰基、腈、异腈、亚磺酰基、巯基、磺基、羧基、肼基；经取代的或未经取代的：芳基、环烷基、环烯基、杂环基、杂芳基、烷基、烯基、炔基、氨基、单烷基氨基、二烷基氨基、单芳基氨基、二芳基氨基、烷氧基、芳氧基、卤代烷基、芳烷基、酯、烷氧基羰基、酰氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、磺酰基氨基、氨磺酰基、氨基甲酰基、烷硫基、脲基、磷酰胺、硅烷基、聚合物；或其任何缀合物或组合；其中Y1和Y2可以任选地一起形成稠合的芳香族环或杂芳香族环；
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8中的每一个独立地不存在或在化合价允许的情况下以单个取代基或多个取代基的形式存在，并且R1、R3、R4、R5、R6、R7和R8中的每一个独立地表示氘、卤素、羟基、硫醇、硝基、氰基、腈、异腈、亚磺酰基、巯基、磺基、羧基、肼基；经取代的或未经取代的：芳基、环烷基、环烯基、杂环基、杂芳基、烷基、烯基、炔基、氨基、单烷基氨基、二烷基氨基、单芳基氨基、二芳基氨基、烷氧基、芳氧基、卤代烷基、芳烷基、酯、烷氧基羰基、酰氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、磺酰基氨基、氨磺酰基、氨基甲酰基、烷硫基、脲基、磷酰胺、硅烷基、聚合物；或其任何缀合物或组合；或R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8中的任何两个表示共价键；
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、X和X1中的任何两个可以一起形成稠环；
L4、L5和L6各自独立地表示5元到10元芳基、杂芳基、稠合芳基或稠合杂芳基；
L5存在或不存在；
V1和V2独立地存在或不存在；其中V1和V2中的每一个，如果存在的话，独立地表示共价键、O、S、Se、P＝O、As＝O、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7；其中当V1不存在时，那么L4不与L5结合；并且当V2不存在时，那么L6不与L5结合；
V3存在或不存在，其中V3，如果存在的话，表示共价键、C、N、Si、O、S、Ge、P、As、Se、B、Al或Bi，或者如果化合价允许，则各自独立地表示CR7、SiR7、GeR7、NR7、P＝O、As＝O、B、BR7、AlR7、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7；其中当V3不存在时，那么Y2a直接与Y2b结合；并且
在化合价允许的情况下，每个n独立地为整数。
在一个实施例中，所述化合物由通式XIV、通式XV、通式XVI或通式XVII表示：
其中：
Y1a、Y1b、Y1c、Y1d、Y2a、Y2b、Y3a、Y3b、Y4e、Y4f、Y4g、Y4h、Y5a、Y5b、Y5c和Y5d各自独立地表示C或N；
Z1、Z2、Z3和Z4各自独立地表示C或N；
C和D各自独立地表示C、N、O或S；
X表示单键、O、S、Se、P＝O、As＝O、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7，或X不存在，其中当X不存在时，L4与包括Z2的环之间不存在键；
X1和X2各自独立地表示单键、O、S、Se、P＝O、As＝O、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7；
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9和R10中的每一个独立地不存在或在化合价允许的情况下以单个取代基或多个取代基的形式存在，并且R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9和R10中的每一个独立地表示氢、氘、卤素、羟基、硫醇、硝基、氰基、腈、异腈、亚磺酰基、巯基、磺基、羧基、肼基；经取代的或未经取代的：芳基、环烷基、环烯基、杂环基、杂芳基、烷基、烯基、炔基、氨基、单烷基氨基、二烷基氨基、单芳基氨基、二芳基氨基、烷氧基、芳氧基、卤代烷基、芳烷基、酯、烷氧基羰基、酰氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、磺酰基氨基、氨磺酰基、氨基甲酰基、烷硫基、脲基、磷酰胺、硅烷基、聚合物；或其任何缀合物或组合；或R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9和R10中的任何两个表示共价键；
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、X、X1和X2中的任何两个可以一起形成稠环；
L4、L5和L6各自独立地表示5元到10元芳基、杂芳基、稠合芳基或稠合杂芳基；
L5存在或不存在；
V1和V2独立地存在或不存在；其中V1和V2中的每一个，如果存在的话，独立地表示共价键、O、S、Se、P＝O、As＝O、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7；其中当V1不存在时，那么L4不与L5结合；并且当V2不存在时，那么L6不与L5结合；
V3存在或不存在，其中V3，如果存在的话，表示共价键、C、N、Si、O、S、Ge、P、As、Se、B、Al或Bi，或者如果化合价允许，则各自独立地表示CR7、SiR7、GeR7、NR7、P＝O、As＝O、B、BR7、AlR7、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7；其中当V3不存在时，那么Y2a直接与Y2b结合；并且
在化合价允许的情况下，每个n独立地为整数。
在一个实施例中，所述化合物由通式XVIII、通式XIX、通式XX或通式XXI表示：
其中：
Y2a、Y2b、Y3a、Y3b、Y4e、Y4f、Y4g、Y4h、Y5a、Y5b、Y5c和Y5d各自独立地表示C或N；
Z1、Z2、Z3和Z4各自独立地表示C或N；
A、B、C和D各自独立地表示C、N、O或S；
X表示单键、O、S、Se、P＝O、As＝O、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7，或X不存在，其中当X不存在时，L4与包括Z2的环之间不存在键；
X1和X2各自独立地表示单键、O、S、Se、P＝O、As＝O、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7；
Y1和Y2各自独立地表示氢、氘、卤素、羟基、硫醇、硝基、氰基、腈、异腈、亚磺酰基、巯基、磺基、羧基、肼基；经取代的或未经取代的：芳基、环烷基、环烯基、杂环基、杂芳基、烷基、烯基、炔基、氨基、单烷基氨基、二烷基氨基、单芳基氨基、二芳基氨基、烷氧基、芳氧基、卤代烷基、芳烷基、酯、烷氧基羰基、酰氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、磺酰基氨基、氨磺酰基、氨基甲酰基、烷硫基、脲基、磷酰胺、硅烷基、聚合物；或其任何缀合物或组合；其中Y1和Y2可以任选地一起形成稠合的芳香族环或杂芳香族环；
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8和R9中的每一个独立地不存在或在化合价允许的情况下以单个取代基或多个取代基的形式存在，并且R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8和R9中的每一个独立地表示氢、氘、卤素、羟基、硫醇、硝基、氰基、腈、异腈、亚磺酰基、巯基、磺基、羧基、肼基；经取代的或未经取代的：芳基、环烷基、环烯基、杂环基、杂芳基、烷基、烯基、炔基、氨基、单烷基氨基、二烷基氨基、单芳基氨基、二芳基氨基、烷氧基、芳氧基、卤代烷基、芳烷基、酯、烷氧基羰基、酰氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、磺酰基氨基、氨磺酰基、氨基甲酰基、烷硫基、脲基、磷酰胺、硅烷基、聚合物；或其任何缀合物或组合；或R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8和R9中的任何两个表示共价键；
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、X、X1和X2中的任何两个可以一起形成稠环；
L4、L5和L6各自独立地表示5元到10元芳基、杂芳基、稠合芳基或稠合杂芳基；
L5存在或不存在；
V1和V2独立地存在或不存在；其中V1和V2中的每一个如果存在的话，则独立地表示共价键、O、S、Se、P＝O、As＝O、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7；其中当V1不存在时，那么L4不与L5结合；并且当V2不存在时，那么L6不与L5结合；
V3存在或不存在，其中V3如果存在的话，则表示共价键、C、N、Si、O、S、Ge、P、As、Se、B、Al或Bi，或者如果化合价允许，则各自独立地表示CR7、SiR7、GeR7、NR7、P＝O、As＝O、B、BR7、AlR7、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7；其中当V3不存在时，那么Y2a直接与Y2b结合；并且
在化合价允许的情况下，每个n独立地为整数。
在一个实施例中，
由以下结构之一表示：
其中：
M表示Pt(II)或Pd(II)；
Y1a、Y1b、Y1c、Y1d、Y3a、Y3b、Y4e、Y4f、Y4g、Y4h、Y5a、Y5b、Y5c和Y5d各自独立地表示C或N；
X1和X2各自独立地表示单键、O、S、Se、P＝O、As＝O、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7；
R1、R6、R7、R8、R9和R10中的每一个独立地不存在或在化合价允许的情况下以单个取代基或多个取代基的形式存在，并且R1、R6、R9和R10中的每一个独立地表示氢、氘、卤素、羟基、硫醇、硝基、氰基、腈、异腈、亚磺酰基、巯基、磺基、羧基、肼基；经取代的或未经取代的：芳基、环烷基、环烯基、杂环基、杂芳基、烷基、烯基、炔基、氨基、单烷基氨基、二烷基氨基、单芳基氨基、二芳基氨基、烷氧基、芳氧基、卤代烷基、芳烷基、酯、烷氧基羰基、酰氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、磺酰基氨基、氨磺酰基、氨基甲酰基、烷硫基、脲基、磷酰胺、硅烷基、聚合物；或其任何缀合物或组合；或R1、R6、R9和R10中的任何两个表示共价键；
R1、R6、R9和R10中的任何两个可以一起形成稠环；
在化合价允许的情况下，每个n独立地为整数。
在一个实施例中，
由以下结构之一表示：
其中：
Y1a、Y1b、Y1c、Y1d、Y2a、Y2b、Y2c、Y2d、Y3a、Y3b和Y3c各自独立地表示C或N；
R1、R2、R3、R4、R5中的每一个独立地不存在或在化合价允许的情况下以单个取代基或多个取代基的形式存在，并且R1、R3、R4、R5、R6和R7中的每一个独立地表示氘、卤素、羟基、硫醇、硝基、氰基、腈、异腈、亚磺酰基、巯基、磺基、羧基、肼基；经取代的或未经取代的：芳基、环烷基、环烯基、杂环基、杂芳基、烷基、烯基、炔基、氨基、单烷基氨基、二烷基氨基、单芳基氨基、二芳基氨基、烷氧基、芳氧基、卤代烷基、芳烷基、酯、烷氧基羰基、酰氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、磺酰基氨基、氨磺酰基、氨基甲酰基、烷硫基、脲基、磷酰胺、硅烷基、聚合物；或其任何缀合物或组合。
在一个实施例中，
由以下结构之一表示：
其中：
Y1a、Y1b、Y1c、Y1d、Y1e、Y1f和Y1g各自独立地表示C或N；
R1和R2中的每一个独立地不存在或在化合价允许的情况下以单个取代基或多个取代基的形式存在，并且R1和R2中的每一个独立地表示氘、卤素、羟基、硫醇、硝基、氰基、腈、异腈、亚磺酰基、巯基、磺基、羧基、肼基；经取代的或未经取代的：芳基、环烷基、环烯基、杂环基、杂芳基、烷基、烯基、炔基、氨基、单烷基氨基、二烷基氨基、单芳基氨基、二芳基氨基、烷氧基、芳氧基、卤代烷基、芳烷基、酯、烷氧基羰基、酰氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、磺酰基氨基、氨磺酰基、氨基甲酰基、烷硫基、脲基、磷酰胺、硅烷基、聚合物；或其任何缀合物或组合；并且R1和R2中的任何两个可以一起接合以形成环；
Y1、Y2、Y3和Y4中的每一个独立地不存在或存在，并且Y1、Y2、Y3和Y4中的每一个独立地表示氢、氘、卤素、羟基、硫醇、硝基、氰基、腈、异腈、亚磺酰基、巯基、磺基、羧基、肼基；经取代的或未经取代的：芳基、环烷基、环烯基、杂环基、杂芳基、烷基、烯基、炔基、氨基、单烷基氨基、二烷基氨基、单芳基氨基、二芳基氨基、烷氧基、芳氧基、卤代烷基、芳烷基、酯、烷氧基羰基、酰氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、磺酰基氨基、氨磺酰基、氨基甲酰基、烷硫基、脲基、磷酰胺、硅烷基、聚合物；或其任何缀合物或组合；并且
Y1、Y2、Y3和Y4中的任何两个可以一起接合以形成环。
在一个实施例中，所述化合物选自以下结构：
本发明的组合物和装置
本文还公开了包括本文所公开的一或多种化合物和/或组合物的有机发光二极管或发光装置。
一方面，所述装置是电光装置。电光装置包含但不限于如太阳能和光敏装置等光吸收装置、有机发光装置、发光装置或既能吸收光又能发射光并且作为生物应用的标志物的装置。例如，所述装置可以是OLED。
当在装置两端施加电压时，OLED利用发射光的薄有机膜。OLED成为用于在如平板显示器、照明和背光等应用中使用的越来越有趣的技术。若干OLED材料和配置描述于美国专利第5,844,363号、第6,303,238号和第5,707,745号中，所述文献以全文引用的方式并入本文中。
OLED通常包括安置在阳极与阴极之间并电连接到阳极和阴极的至少一个有机层。当施加电流时，阳极注入空穴，而阴极将电子注入到一或多个有机层中。注入的空穴和电子各自朝带相反电荷的电极迁移。当电子和空穴在相同分子上局域化时，形成作为具有激发能态的局域化电子-空穴对的“激子”。当激子通过光发射机制松弛时，则会发射光。在一些情况下，激子可以在准分子或激基复合物上局域化。如热辐射等非辐射机制也可能发生，但其通常被视为是不希望的。
初始OLED使用的发射分子从其单重态(“荧光”)发出光，例如在美国专利第4,769,292号中所公开的，所述文献以全文引用的方式并入。荧光发射通常发生在小于10纳秒的时间帧内。
最近，已经展示了具有从三重态(“磷光”)发射光的发射材料的OLED。巴尔多(Baldo)等人,“来自有机电致发光装置的高效磷光发射(Highly EfficientPhosphorescent Emission from Organic Electroluminescent Devices)”,自然(Nature),第395卷,151-154,1998；(“巴尔多-I”)和巴尔多等人,“基于电致磷光的极高效绿色有机发光装置(Very high-efficiency green organic light-emitting devicesbased on electrophosphorescence)”,应用物理快报(Appl.Phys.Lett.),第75卷,第3、4-6期(1999)(“巴尔多-II”)，所述文献以全文引用的方式并入。在美国专利第7,279,704号第5-6专栏处更详细地描述了磷光，所述文献以引用的方式并入。
磷光发射分子的一种应用是全色显示器。此类显示器的行业标准要求适合于发射特定颜色(被称为“饱和”颜色)的像素。具体地，这些标准要求饱和的红色、绿色和蓝色像素。可以使用本领域众所周知的CIE坐标来测量颜色。本文公开了此类装置，所述装置包括本文所公开的一或多种化合物或组合物。
可以通过本领域的技术人员已知的方法产生OLED。通常，通过将单独层连续气相沉积到合适的基材上来产生OLED。合适的基材包含例如玻璃、如ITO或IZO等无机材料或聚合物膜。对于气相沉积，可以使用惯用技术，如热蒸发、化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)等。
在替代性过程中，可以由在合适的溶剂中的溶液或分散体涂覆有机层，在所述情况下采用本领域技术人员已知的涂覆技术。合适的涂覆技术为例如旋涂、流延方法、朗穆尔-柏拉盖(Langmuir-Blodgett，“LB”)方法、喷墨印刷方法、浸涂、凸版印刷、丝网印刷、刮片印刷、狭缝涂覆、滚筒印花、反向滚筒印花、平版胶印印刷、柔性版印刷、卷筒纸印刷、喷涂、通过刷涂或移印进行的涂覆等。在所提及的方法中，除了上述气相沉积之外，优选的是旋涂、喷墨印刷方法和流延方法，因为所述方法执行起来特别简单且便宜。在通过旋涂方法、流延方法或喷墨印刷方法获得OLED的层的情况下，可以使用通过将浓度为0.0001到90重量％的组合物溶解在合适的有机溶剂中而制备的溶液来获得涂层，所述合适的有机溶剂如苯、甲苯、二甲苯、四氢呋喃、甲基四氢呋喃、N,N-二甲基甲酰胺、丙酮、乙腈、苯甲醚、二氯甲烷、二甲基亚砜、水以及其混合物。
本文所描述的化合物可以用于如OLED等发光装置中。图1描绘了OLED 100的横截面视图。OLED 100包含基材102、阳极104、一或多种空穴传输材料(HTL)106、光处理材料108、一或多种电子传输材料(ETL)110和金属阴极层112。阳极104典型地是透明材料，如铟锡氧化物。光处理材料108可以是包含发射体和主体的发射材料(EML)。
在各个方面，图1所描绘的一或多个层中的任何层可以包含铟锡氧化物(ITO)、聚(3,4-乙烯二氧噻吩)(PEDOT)、聚磺苯乙烯(PSS)、N,N'-二-1-萘基-N,N-二苯基-1,1'-联苯基-4,4'二胺(NPD)、1,1-双((二-4-甲苯基氨基)苯基)环己烷(TAPC)、2,6-双(N-咔唑基)吡啶(mCpy)、2,8-双(二苯基磷酰基)二苯并噻吩(PO15)、LiF、Al或其组合。
光处理材料108可以包含一或多种本公开的化合物连同任选地主体材料。主体材料可以是本领域已知的任何合适的主体材料。OLED的发射颜色由光处理材料108的发射能量(光能隙)决定，可以通过调节发射化合物、主体材料或两者的电子结构来调节所述发射能量。HTL层106中的空穴传输材料和ETL层110中的一或多种电子传输材料两者都可以包含本领域已知的任何合适的空穴传输器。
本文所描述的化合物可以表现出磷光。与其它OLED(如荧光OLED)相比，磷光OLED(即，具有磷光发射体的OLED)通常具有更高的装置效率。在授予巴尔多等人的WO2000/070655中更详细地描述了基于电致磷光发射体的发光装置，所述文献以其OLED以及具体地磷光OLED的教导通过此引用并入本文中。
如本文设想的，本发明的OLED可以包含阳极、阴极以及安置在所述阳极与所述阴极之间的有机层。所述有机层可以包含主体和磷光掺杂剂。所述有机层可以包含本发明的化合物以及如本文所描述的其变体。
在一些实施例中，OLED具有选自由以下组成的组的一或多个特性：柔性、可卷曲、可折叠、可拉伸和弯曲。在一些实施例中，OLED是透明的或半透明的。在一些实施例中，OLED进一步包括包含碳纳米管的层。
在一些实施例中，OLED进一步包括包含延迟荧光发射体的层。在一些实施例中，OLED包括RGB像素布置或白色加彩色滤波器像素布置。在一些实施例中，OLED是移动装置、手持装置或可穿戴装置。在一些实施例中，OLED是具有小于10英寸对角线或50平方英寸面积的显示面板。在一些实施例中，OLED是具有至少10英寸对角线或50平方英寸面积的显示面板。在一些实施例中，OLED是照明面板。
在一个实施例中，消费性产品选自由以下组成的组：平板显示器、计算机显示器、医疗监测器、电视、广告牌、用于内部或外部照明和/或信号传递的灯、平视显示器、完全或部分透明的显示器、柔性显示器、激光打印机、电话、手机、平板计算机、平板手机、个人数字助理(PDA)、可穿戴装置、膝上型计算机、数码相机、便携式摄像机、取景器、小于2英寸对角线的微型显示器、3D显示器、虚拟现实或增强现实显示器、车辆、包括拼接在一起的多个显示器的视频墙、剧院或体育场的屏幕以及指示牌。
在发射区域的一些实施例中，发射区域进一步包括主体，其中所述主体包括选自由以下组成的组的至少一种：金属络合物、苯并菲、咔唑、二苯并噻吩、二苯并呋喃、二苯并硒吩、氮杂-苯并菲、氮杂-咔唑、氮杂-二苯并噻吩、氮杂-二苯并呋喃和氮杂-二苯并硒吩。
有机层也可以包含主体。在一些实施例中，优选两个或两个以上主体。在一些实施例中，所使用的主体可以是：a)双极材料；b)电子传输材料；c)空穴传输材料；或d)在电荷传输中起很小作用的宽带隙材料。在一些实施例中，主体可以包含金属络合物。主体可以是含有苯并稠合的噻吩或苯并稠合的呋喃的苯并菲。主体中的任何取代基可以是独立地选自由以下组成的组的未稠合取代基：CnH2n+1、OCnH2n+1、OAr1、N(CnH2n+1)2、N(Ar1)(Ar2)、CH＝CH-CnH2n+1、C≡C-CnH2n+1、Ar1、Ar1-Ar2和CnH2n-Ar1，或者主体不具有取代基。在前述取代基中，n可以在1到10的范围内；并且Ar1和Ar2可以独立地选自由以下组成的组：苯、联苯基、萘、苯并菲、咔唑以及其杂芳香族类似物。主体可以是无机化合物。例如，含有Zn的无机材料，例如，ZnS。
合适的主体可以包含但不限于：mCP(1,3-双(咔唑-9-基)苯)、mCPy(2,6-双(N-咔唑基)吡啶)、TCP(1,3,5-三(咔唑-9-基)苯)、TCTA(4,4',4”-三(咔唑-9-基)三苯胺)、TPBi(1,3,5-三(1-苯基-1-H-苯并咪唑-2-基)苯)、mCBP(3,3-二(9H-咔唑-9-基)联苯基)、pCBP(4,4'-双(咔唑-9-基)联苯基)、CDBP(4,4'-双(9-咔唑基)-2,2'-二甲基二苯基)、DMFL-CBP(4,4'-双(咔唑-9-基)-9,9-二甲基芴)、FL-4CBP(4,4'-双(咔唑-9-基)-9,9-双(9-苯基-9H-咔唑)芴)、FL-2CBP(9,9-双(4-咔唑-9-基)苯基)芴(也缩写为CPF)、DPFL-CBP(4,4'-双(咔唑-9-基)-9,9-二甲苯基芴)、FL-2CBP(9,9-双(9-苯基-9H-咔唑)芴)、螺-CBP(2,2',7,7'-四(咔唑-9-基)-9,9'-螺二芴)、ADN(9,10-二(萘-2-基)蒽)、TBADN(3-叔丁基-9,10-二(萘-2-基)蒽)、DPVBi(4,4'-双(2,2-二苯基乙烯-1-基)-4,4'-二甲基苯基)、p-DMDPVBi(4,4'-双(2,2-二苯基乙烯-1-基)-4,4'-二甲基苯基)、TDAF(叔(9,9-二芳基芴))、BSBF(2-(9,9'-螺二芴-2-基)-9,9'-螺二芴)、TSBF(2,7-双(9,9'-螺二芴-2-基)-9,9'-螺二芴)、BDAF(双(9,9-二芳基芴))、p-TDPVBi(4,4'-双(2,2-二苯基乙烯-1-基)-4,4'-二-(叔丁基)苯基)、TPB3(1,3,5-三(芘-1-基)苯、PBD(2-(4-联苯基)-5-(4-叔丁基苯基)-1,3,4-噁二唑)、BCP(2,9-二甲基-4,7-二苯基-1,10-邻二氮杂菲)、BP-OXD-Bpy(6,6'-双[5-(联苯基-4-基)-1,3,4-噁二唑-2-基]-2,2'-联吡啶基)、NTAZ(4-(萘-1-基)-3,5-二苯基-4H-1,2,4-三唑)、Bpy-OXD(1,3-双[2-(2,2'-联吡啶-6-基)-1,3,4-噁二唑-5-基]苯)、BPhen(4,7-二苯基-1,10-邻二氮杂菲)、TAZ(3-(4-联苯基)-4-苯基-5-叔丁基苯基-1,2,4-三唑)、PADN(2-苯基-9,10-二(萘-2-基)蒽)、Bpy-FOXD(2,7-双[2-(2,2'-联吡啶-6-基)-1,3,4-噁二唑-5-基]-9,9-二甲基芴)、OXD-7(1,3-双[2-(4-叔丁基苯基)-1,3,4-噁二唑-5-基]苯)、HNBphen(2-(萘-2-基)-4,7-二苯基-1,10-邻二氮杂菲)、NBphen(2,9-双(萘-2-基)-4,7-二苯基-1,10-邻二氮杂菲)、3TPYMB(三(2,4,6-三甲基-3-吡啶-3-基)苯基)硼烷)、2-NPIP(1-甲基-2-(4-(萘-2-基)苯基)-1H-咪唑并[4,5-f]-[1,10]邻二氮杂菲)、Liq(8-羟基喹啉锂)和Alq(双(2-甲基-8-喹啉)-4-(苯酚根合)铝)以及前述物质的混合物。
本文所描述的可用于有机发光装置中的特定层的材料可以与所述装置中存在的多种其它材料组合使用。例如，本文所公开的发光掺杂剂可以与可能存在的多种主体、传输层、阻挡层、注入层、电极和其它层组合使用。以下描述或提及的材料是可以与本文所公开的化合物组合使用的材料的非限制性实例，并且本领域技术人员可以容易地查阅文献以鉴定可以组合使用的其它材料。
电荷传输层可以掺杂有传导性掺杂剂，以基本上改变所述电荷传输层的电荷载流子的密度，这进而将改变所述电荷传输层的传导性。通过在基质材料中产生电荷载流子来提高传导性，并且根据掺杂剂的类型，还可以实现半导体费米能级的变化。空穴传输层可以由p型传导性掺杂剂掺杂，并且在电子传输层中使用n型传导性掺杂剂。
可以在OLED中与本文所公开的材料组合使用的传导性掺杂剂的非限制性示例在下面与公开这些材料的参考文献一起进行例示：EP01617493、EP01968131、EP2020694、EP2684932、US20050139810、US20070160905、US20090167167、US2010288362、WO06081780、WO 2009003455、WO 2009008277、WO 2009011327、WO 2014009310、US2007252140、US2015060804、US20150123047和US2012146012。
本发明中使用的空穴注入/传输材料不受特别限制，并且可以使用任何化合物，只要所述化合物通常用作空穴注入/传输材料。所述材料的实例包含但不限于：酞菁或卟啉衍生物；芳香族胺衍生物；吲哚并咔唑衍生物；含有氟代烃的聚合物；具有传导性掺杂剂的聚合物；导电聚合物，如PEDOT/PSS；衍生自如膦酸和硅烷衍生物等化合物的自组装单体；金属氧化物衍生物，如MoOx；p型半导体有机化合物，如1,4,5,8,9,12-六氮杂苯并菲六甲腈(1,4,5,8,9,12-Hexaazatriphenylenehexacarbonitrile)；金属络合物和可交联化合物。
电子阻挡层(EBL)可以用于减少离开发射层的电子和/或激子的数量。与缺乏阻挡层的类似装置相比，装置中存在此阻挡层可以产生实质上更高的效率和/或更长的寿命。而且，阻挡层可以用于将发射限定在OLED的期望区域。在一些实施例中，与最接近EBL界面的发射体相比，EBL材料具有更高的LUMO(更接近真空水平)和/或更高的三重态能级。在一些实施例中，与最接近EBL界面的主体中的一或多个主体相比，EBL材料具有更高的LUMO(更接近真空水平)和/或更高的三重态能级。一方面，在EBL中使用的化合物含有与以下所描述的主体之一中使用的分子或官能团相同的分子或官能团。
本发明的有机EL装置的发光层优选地至少含有作为发光材料的金属络合物，并且可以含有使用所述金属络合物作为掺杂剂材料的主体材料。主体材料的实例不受特别限制，并且可以使用任何金属络合物或有机化合物，只要主体的三重态能级大于掺杂剂的三重态能级。只要满足三重态标准，任何主体材料都可以与任何掺杂剂一起使用。
一或多种另外的发射体掺杂剂可以与本公开的化合物结合使用。另外的发射体掺杂剂的实例不受特别限制，并且可以使用任何化合物，只要所述化合物通常用作发射体材料。合适的发射体材料的实例包含但不限于可以通过磷光、荧光、热活化延迟荧光(即TADF(也被称为E型延迟荧光))、三重态-三重态湮灭或这些过程的组合产生发射的化合物。
空穴阻挡层(HBL)可以用于减少离开发射层的空穴和/或激子的数量。与缺乏阻挡层的类似装置相比，装置中存在此阻挡层可以产生实质上更高的效率和/或更长的寿命。而且，阻挡层可以用于将发射限定在OLED的期望区域。在一些实施例中，与最接近HBL界面的发射体相比，HBL材料具有更低的HOMO(距真空水平更远)和/或更高的三重态能级。在一些实施例中，与最接近HBL界面的主体中的一或多个主体相比，HBL材料具有更低的HOMO(距真空水平更远)和/或更高的三重态能级。
电子传输层(ETL)可以包含能够传输电子的材料。电子传输层可以是固有的(未掺杂)或掺杂的。可以使用掺杂来增强传导性。ETL材料的实例不受特别限制，并且可以使用任何金属络合物或有机化合物，只要其通常用于传输电子。
在串联或堆叠式OLED中，CGL在性能中起着至关重要的作用，其由分别用于注入电子和空穴的n掺杂层和p掺杂层构成。电子和空穴由CGL和电极供应。CGL中消耗的电子和空穴分别由从阴极和阳极注入的电子和空穴再填充；然后，双极电流逐渐达到稳态。典型的CGL材料包含在传输层中使用的n和p传导性掺杂剂。
在OLED装置的每层中使用的任何上述化合物中，氢原子可以部分或完全氘化。因此，任何具体列出的取代基，如但不限于甲基、苯基、吡啶基等，可以是其未氘化、部分氘化和完全氘化的形式。类似地，取代基的种类，如但不限于烷基、芳基、环烷基、杂芳基等，也可以是其未氘化、部分氘化和完全氘化的形式。
在本公开的又另一方面，描述了包括本文所公开的新型化合物的调配物。所述调配物可以包含一或多种选自由本文所公开的以下组成的组的组分：溶剂、主体、空穴注入材料、空穴传输材料和电子传输层材料。
实验实例
参考以下实验实例进一步详细描述本发明。提供这些实例仅仅是为了说明的目的，并且不旨在进行限定，除非另作说明。因此，本发明决不应解释为限于以下实例，而是应解释为涵盖由于本文所提供的教导而变得明显的任何和所有变化。
在不作进一步描述的情况下，相信本领域的普通技术人员可以使用前面的描述和以下说明性实例来制造和利用本发明的复合材料并实践所要求保护的方法。因此，以下工作实例具体指出了本发明的优选实施例，并且不应被解释为以任何方式限制本公开的其余部分。
实例1：在MADF过程中增加缀合
金属辅助延迟荧光(MADF)发射过程能够收获所有电生成的激子。如图2所展示的，当最低三重激发态(T1)和最低单重激发态(S1)的能级接近时，三重态激子可以通过系统间交叉(T1→S1)和延迟荧光(S1→S0)过程的组合而辐射地衰减。当使得能量S1能级接近T1能级时，金属辅助延迟荧光过程更有效。
根据此方案设计的配体集中在8碱基或2碱基配体上。T1能级保持相对恒定，而缀合的扩展降低了S1能级(图3)。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物。在图4中呈现了所述化合物的PL数据。
将A0(10mmol，1.0当量)、B0(12mmol，1.2当量)、Pd(dppf)Cl2(0.8mmol，0.08当量)和K2CO3(30mmol，3.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克(Shlenck)管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂THF/H2O(5/3，80mL)。将混合物在油浴中在回流下搅拌过夜，并且然后冷却至环境温度。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为95％的期望产物C0。
将C0(8mmol，1.0当量)、D0(8mmol，1.0当量)、45mL的DMF和5mL的蒸馏水添加到配备有磁力搅拌棒的烧瓶中。将混合物在90℃下在油浴中搅拌2天，并且然后冷却至环境温度。将200mL蒸馏水添加到混合物中。然后过滤系统并使用乙酸乙酯和丙酮洗涤，以获得产率为86％的期望产物E0。
将E0(1mmol，1.0当量)、Pd(OAc)2(0.1mmol，0.1当量)、Xphos(0.2mmol，0.2当量)、K2CO3(3mmol，3.0当量)和15mL的DMF添加到配备有磁力搅拌棒的烧瓶中。将烧瓶排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。将混合物在160℃下在油浴中搅拌2天，并且然后冷却至环境温度。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为43％的期望产物F0。
将F0(0.4mmol，1.0当量)以及6mL的HOAc和2mL的HBr添加到配置有磁力搅拌棒的烧瓶中。将混合物在油浴中在回流下搅拌若干天，并且然后冷却至环境温度。用K2CO3中和溶剂，并且然后过滤并用蒸馏水洗涤，以获得产率为95％的期望产物7-苯基-7H-苯并[4,5]咪唑并[1,2-f]吲哚并[2,3-c]菲啶-2-醇。
将7-苯基-7H-苯并[4,5]咪唑并[1,2-f]吲哚并[2,3-c]菲啶-2-醇(1mmol，1.0当量)、2-(3-溴苯基)吡啶(1.2mmol，1.2当量)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为70％的期望产物3O8-Cz56。
将3O8-Cz56(0.20mmol，1.0当量)、Pd(OAc)2(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物Pd3O8-Cz56。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将7-苯基-7H-苯并[4,5]咪唑并[1,2-f]吲哚并[2,3-c]菲啶-2-醇(1mmol，1.0当量)、2-(3-溴苯基)-4-(叔丁基)吡啶(1.2mmol，1.2当量)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为30％到70％的期望产物L1。
将L1(0.20mmol，1.0当量)、Pd(OAc)2(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC1。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将7-苯基-7H-苯并[4,5]咪唑并[1,2-f]吲哚并[2,3-c]菲啶-2-醇(1mmol，1.0当量)、2-(3-溴-5-(叔丁基)苯基)-4-(叔丁基)吡啶(1.2mmol，1.2当量)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为30％到70％的期望产物L2。
将L2(0.20mmol，1.0当量)、Pd(OAc)2(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC2。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将7-苯基-7H-苯并[4,5]咪唑并[1,2-f]吲哚并[2,3-c]菲啶-2-醇(1mmol，1.0当量)、11-溴二苯并[f,h]喹啉(1.2mmol，1.2当量)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为30％到70％的期望产物L3。
将L3(0.20mmol，1.0当量)、Pd(OAc)2(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC3。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将7-苯基-7H-苯并[4,5]咪唑并[1,2-f]吲哚并[2,3-c]菲啶-2-醇(1mmol，1.0当量)、2-溴-7-苯基-7H-苯并[4,5]咪唑并[1,2-f]吲哚并[2,3-c]菲啶(1.2mmol，1.2当量)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为30％到70％的期望产物L4。
将L4(0.20mmol，1.0当量)、Pd(OAc)2(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC4。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将L4(0.20mmol，1.0当量)、K2PtCl4(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC5。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将7-苯基-7H-苯并[4,5]咪唑并[1,2-f]吲哚并[2,3-c]菲啶-2-醇(1mmol，1.0当量)、2-溴-9-(吡啶-2-基)-9H-咔唑(1.2mmol，1.2当量)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为30％到70％的期望产物L6。
将L6(0.20mmol，1.0当量)、Pd(OAc)2(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC6。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将7-苯基-7H-苯并[4,5]咪唑并[1,2-f]吲哚并[2,3-c]菲啶-2-醇(1mmol，1.0当量)、2-溴-9-(4-(叔丁基)吡啶-2-基)-9H-咔唑(1.2mmol，1.2当量)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为30％到70％的期望产物L7。
将L7(0.20mmol，1.0当量)、Pd(OAc)2(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC7。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将7-苯基-7H-苯并[4,5]咪唑并[1,2-f]吲哚并[2,3-c]菲啶-2-醇(1mmol，1.0当量)、2-溴-6-(叔丁基)-9-(4-(叔丁基)吡啶-2-基)-9H-咔唑(1.2mmol，1.2当量)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为30％到70％的期望产物L8。
将L8(0.20mmol，1.0当量)、Pd(OAc)2(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC8。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将7-苯基-7H-苯并[4,5]咪唑并[1,2-f]吲哚并[2,3-c]菲啶-2-醇(1mmol，1.0当量)、3-溴-9,9-二甲基-10-(吡啶-2-基)-9,10-二氢吖啶(1.2mmol，1.2当量)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为30％到70％的期望产物L9。
将L9(0.20mmol，1.0当量)、Pd(OAc)2(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC9。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将7-苯基-7H-苯并[4,5]咪唑并[1,2-f]吲哚并[2,3-c]菲啶-2-醇(1mmol，1.0当量)、3-溴-10-(4-(叔丁基)吡啶-2-基)-9,9-二甲基-9,10-二氢吖啶(1.2mmol，1.2当量)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为30％到70％的期望产物L10。
将L10(0.20mmol，1.0当量)、Pd(OAc)2(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC10。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将7-苯基-7H-苯并[4,5]咪唑并[1,2-f]吲哚并[2,3-c]菲啶-2-醇(1mmol，1.0当量)、3-溴-9,9-二苯基-10-(吡啶-2-基)-9,10-二氢吖啶(1.2mmol，1.2当量)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为30％到70％的期望产物L11。
将L11(0.20mmol，1.0当量)、Pd(OAc)2(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC11。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将7-苯基-7H-苯并[4,5]咪唑并[1,2-f]吲哚并[2,3-c]菲啶-2-醇(1mmol，1.0当量)、3-溴-10-(4-(叔丁基)吡啶-2-基)-9,9-二苯基-9,10-二氢吖啶(1.2mmol，1.2当量)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为30％到70％的期望产物L12。
将L12(0.20mmol，1.0当量)、Pd(OAc)2(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC12。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将7-苯基-7H-苯并[4,5]咪唑并[1,2-f]吲哚并[2,3-c]菲啶-2-醇(1mmol，1.0当量)、11-溴-8,8-二甲基-8H-吡啶并[3',2':4,5]吡咯并[3,2,1-de]吖啶(1.2mmol，1.2当量)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为30％到70％的期望产物L13。
将L13(0.20mmol，1.0当量)、Pd(OAc)2(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC13。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将7-苯基-7H-苯并[4,5]咪唑并[1,2-f]吲哚并[2,3-c]菲啶-2-醇(1mmol，1.0当量)、11-溴-8,8-二苯基-8H-吡啶并[3',2':4,5]吡咯并[3,2,1-de]吖啶(1.2mmol，1.2当量)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为30％到70％的期望产物L14。
将L14(0.20mmol，1.0当量)、Pd(OAc)2(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC14。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将7-苯基-7H-苯并[4,5]咪唑并[1,2-f]吲哚并[2,3-c]菲啶-2-醇(1mmol，1.0当量)、11-溴-5,5-二甲基-5H-[1,8]萘啶并[3,2,1-jk]咔唑(1.2mmol，1.2当量)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为30％到70％的期望产物L15。
将L15(0.20mmol，1.0当量)、Pd(OAc)2(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC15。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将7-苯基-7H-苯并[4,5]咪唑并[1,2-f]吲哚并[2,3-c]菲啶-2-醇(1mmol，1.0当量)、11-溴-5,5-二苯基-5H-[1,8]萘啶并[3,2,1-jk]咔唑(1.2mmol，1.2当量)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为30％到70％的期望产物L16。
将L16(0.20mmol，1.0当量)、Pd(OAc)2(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC16。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将5,20-二苯基-5,20-二氢苯并[4,5]咪唑并[1,2-f]二吲哚并[2,3-a:2',3'-c]菲啶-8-醇(1mmol，1.0当量)、2-(3-溴苯基)吡啶(1.2mmol，1.2当量)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为30％到70％的期望产物L17。
将L17(0.20mmol，1.0当量)、Pd(OAc)2(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC17。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将5,20-二苯基-5,20-二氢苯并[4,5]咪唑并[1,2-f]二吲哚并[2,3-a:2',3'-c]菲啶-8-醇(1mmol，1.0当量)、8-溴-5,20-二苯基-5,20-二氢苯并[4,5]咪唑并[1,2-f]二吲哚并[2,3-a:2',3'-c]菲啶(1.2mmol，1.2eq)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为30％到70％的期望产物L18。
将L18(0.20mmol，1.0当量)、Pd(OAc)2(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC18。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将L18(0.20mmol，1.0当量)、K2PtCl4(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC19。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将5,20-二苯基-5,20-二氢苯并[4,5]咪唑并[1,2-f]二吲哚并[2,3-a:2',3'-c]菲啶-8-醇(1mmol，1.0当量)、11-溴二苯并[f,h]喹啉(1.2mmol，1.2当量)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为30％到70％的期望产物L20。
将L20(0.20mmol，1.0当量)、Pd(OAc)2(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC20。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将5,20-二苯基-5,20-二氢苯并[4,5]咪唑并[1,2-f]二吲哚并[2,3-a:2',3'-c]菲啶-8-醇(1mmol，1.0当量)、2-溴-9-(吡啶-2-基)-9H-咔唑(1.2mmol，1.2当量)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为30％到70％的期望产物L21。
将L21(0.20mmol，1.0当量)、Pd(OAc)2(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC21。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将5,20-二苯基-5,20-二氢苯并[4,5]咪唑并[1,2-f]二吲哚并[2,3-a:2',3'-c]菲啶-8-醇(1mmol，1.0当量)、11-溴-5,5-二甲基-5H-[1,8]萘啶并[3,2,1-jk]咔唑(1.2mmol，1.2当量)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为30％到70％的期望产物L22。
将L22(0.20mmol，1.0当量)、Pd(OAc)2(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC22。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将5,20-二苯基-5,20-二氢苯并[4,5]咪唑并[1,2-f]二吲哚并[2,3-a:2',3'-c]菲啶-8-醇(1mmol，1.0当量)、3-溴-9,9-二甲基-10-(吡啶-2-基)-9,10-二氢吖啶(1.2mmol，1.2当量)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为30％到70％的期望产物L23。
将L23(0.20mmol，1.0当量)、Pd(OAc)2(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC23。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将5,20-二苯基-5,20-二氢苯并[4,5]咪唑并[1,2-f]二吲哚并[2,3-a:2',3'-c]菲啶-8-醇(1mmol，1.0当量)、11-溴-8,8-二甲基-8H-吡啶并[3',2':4,5]吡咯并[3,2,1-de]吖啶(1.2mmol，1.2当量)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为30％到70％的期望产物L24。
将L24(0.20mmol，1.0当量)、Pd(OAc)2(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC24。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将13-苯基-13H-咪唑并[1,2-f]吲哚并[3,2-b]菲啶-5-醇(1mmol，1.0当量)、2-(3-溴苯基)吡啶(1.2mmol，1.2当量)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为30％到70％的期望产物L25。
将L25(0.20mmol，1.0当量)、Pd(OAc)2(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC25。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将L25(0.20mmol，1.0当量)、K2PtCl4(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC26。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将13-苯基-13H-咪唑并[1,2-f]吲哚并[3,2-b]菲啶-5-醇(1mmol，1.0当量)、11-溴咪唑并[1,2-f]菲啶(1.2mmol，1.2当量)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为30％到70％的期望产物L27。
将L27(0.20mmol，1.0当量)、Pd(OAc)2(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC27。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将L27(0.20mmol，1.0当量)、K2PtCl4(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC28。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将13-苯基-13H-咪唑并[1,2-f]吲哚并[3,2-b]菲啶-5-醇(1mmol，1.0当量)、5-溴-13-苯基-13H-咪唑并[1,2-f]吲哚并[3,2-b]菲啶(1.2mmol，1.2当量)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为30％到70％的期望产物L29。
将L29(0.20mmol，1.0当量)、Pd(OAc)2(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC29。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将L29(0.20mmol，1.0当量)、K2PtCl4(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC30。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将13-苯基-13H-咪唑并[1,2-f]吲哚并[3,2-b]菲啶-5-醇(1mmol，1.0当量)、2-溴-9-(吡啶-2-基)-9H-咔唑(1.2mmol，1.2当量)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为30％到70％的期望产物L31。
将L31(0.20mmol，1.0当量)、Pd(OAc)2(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC31。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将L31(0.20mmol，1.0当量)、K2PtCl4(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC32。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将13-苯基-13H-咪唑并[1,2-f]吲哚并[3,2-b]菲啶-5-醇(1mmol，1.0当量)、11-溴-5,5-二甲基-5H-[1,8]萘啶并[3,2,1-jk]咔唑(1.2mmol，1.2当量)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为30％到70％的期望产物L33。
将L33(0.20mmol，1.0当量)、Pd(OAc)2(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC34。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将L33(0.20mmol，1.0当量)、K2PtCl4(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC34。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将13-苯基-13H-咪唑并[1,2-f]吲哚并[3,2-b]菲啶-5-醇(1mmol，1.0当量)、3-溴-9,9-二甲基-10-(吡啶-2-基)-9,10-二氢吖啶(1.2mmol，1.2当量)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为30％到70％的期望产物L35。
将L35(0.20mmol，1.0当量)、Pd(OAc)2(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC35。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将L35(0.20mmol，1.0当量)、K2PtCl4(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC36。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将13-苯基-13H-咪唑并[1,2-f]吲哚并[3,2-b]菲啶-5-醇(1mmol，1.0当量)、11-溴-8,8-二甲基-8H-吡啶并[3',2':4,5]吡咯并[3,2,1-de]吖啶(1.2mmol，1.2当量)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为30％到70％的期望产物L37。
将L37(0.20mmol，1.0当量)、Pd(OAc)2(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC37。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将L37(0.20mmol，1.0当量)、K2PtCl4(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC38。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将7-苯基-7H-咪唑并[1,2-f]吲哚并[2,3-c]菲啶-2-醇(1mmol，1.0当量)、2-(3-溴苯基)吡啶(1.2mmol，1.2当量)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为30％到70％的期望产物L39。
将L39(0.20mmol，1.0当量)、Pd(OAc)2(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC39。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将7-苯基-7H-咪唑并[1,2-f]吲哚并[2,3-c]菲啶-2-醇(1mmol，1.0当量)、2-溴-9-(吡啶-2-基)-9H-咔唑(1.2mmol，1.2当量)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为30％到70％的期望产物ON2-Cz56。
将ON2-Cz56(0.20mmol，1.0当量)、Pd(OAc)2(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物PdON2-CZ56。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物。在图5中呈现了此化合物的光致发光光谱。
将ON2-CZ56(0.20mmol，1.0当量)、K2PtCl4(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物PtON2-CZ56。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将7-苯基-7H-咪唑并[1,2-f]吲哚并[2,3-c]菲啶-2-醇(1mmol，1.0当量)、2-溴-9-(4-(叔丁基)吡啶-2-基)-9H-咔唑(1.2mmol，1.2当量)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为30％到70％的期望产物ON2-Cz56-tbu。
将ON2-Cz56-tbu(0.20mmol，1.0当量)、K2PtCl4(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物PtON2-CZ56-tbu。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将苯并[4,5]咪唑并[1,2-f]苯并[4,5]噻吩并[2,3-c]菲啶-2-醇(1mmol，1.0当量)、2-(3-溴苯基)吡啶(1.2mmol，1.2当量)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为56％的期望产物L40。
将L40(0.20mmol，1.0当量)、K2PtCl4(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为59％的期望产物MC40。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将苯并[4,5]咪唑并[1,2-f]苯并[4,5]噻吩并[2,3-c]菲啶-2-醇(1mmol，1.0当量)、2-(3-溴苯基)-4-(叔丁基)吡啶(1.2mmol，1.2当量)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为30％到70％的期望产物L41。
将L41(0.20mmol，1.0当量)、K2PtCl4(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC41。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将苯并[4,5]咪唑并[1,2-f]苯并[4,5]噻吩并[2,3-c]菲啶-2-醇(1mmol，1.0当量)、2-溴苯并[4,5]咪唑并[1,2-f]苯并[4,5]噻吩并[2,3-c]菲啶(1.2mmol，1.2当量)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为30％到70％的期望产物L42。
将L42(0.20mmol，1.0当量)、K2PtCl4(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC42。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将L42(0.20mmol，1.0当量)、K2PtCl4(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC43。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将苯并[4,5]噻吩并[2,3-c]咪唑并[1,2-f]菲啶-2-醇(1mmol，1.0当量)、2-溴-9-(吡啶-2-基)-9H-咔唑(1.2mmol，1.2当量)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为30％到70％的期望产物L44。
将L44(0.20mmol，1.0当量)、K2PtCl4(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物MC44。
在一个实施例中，可以根据以下方案制备示范性化合物：
将苯并[4,5]噻吩并[2,3-c]咪唑并[1,2-f]菲啶-2-醇(1mmol，1.0当量)、2-溴-9-(4-(叔丁基)吡啶-2-基)-9H-咔唑(1.2mmol，1.2当量)、CuI(0.2mmol，0.2当量)、皮考啉酸(0.4mmol，0.4当量)和K3PO4(2mmol，2.0当量)添加到配备有磁力搅拌棒的干燥的舒伦克管中。将管排空并且用氮气回填。重复排空和回填程序总共三次。然后在氮气保护下添加溶剂DMSO(10mL)。将混合物在100℃的温度下在油浴中搅拌3天，并且然后冷却至环境温度，用乙酸乙酯稀释。用水洗涤混合物三次，并且然后经过硫酸钠干燥并且过滤。在减压下除去溶剂，并且通过硅胶柱色谱使用己烷/乙酸乙酯作为洗脱剂来对残余物进行纯化，以获得产率为30％到70％的期望产物ON2-Sz56-tbu。
将ON2-Sz56-tbu(0.20mmol，1.0当量)、K2PtCl4(0.24mmol，1.2当量)和n-Bu4NBr(0.02mmol，0.1当量)添加到干燥的三颈烧瓶中。然后使烧瓶经受排空并用氮气回填的程序三次。在氮气保护下添加HOAc(10mL)溶剂。然后将混合物在油浴中在回流下搅拌3天，然后冷却至环境温度。然后通过硅胶柱色谱使用二氯甲烷作为洗脱剂来对固体进行纯化，以获得产率为10％到50％的期望产物PtON2-Sz56-tbu。
本文所引用的每个和所有专利、专利申请和出版物的公开内容均通过全文引用的方式并入本文中。尽管已经参照特定实施例公开了本发明，但是显而易见的是，在不偏离本发明的真实精神和范围的情况下，所属领域的其它技术人员可以设计出其它实施例和本发明的变体。所附权利要求旨在被理解为包含所有此类实施例以及等同变体。

Claims (20)

1.一种通式I化合物
其中：
M表示Pt(II)或Pd(II)；
R1、R3、R4、R5和R6中的每一个独立地不存在或在化合价允许的情况下以单个取代基或多个取代基的形式存在，并且R1、R3、R4、R5、R6和R8中的每一个独立地表示氢、氘、卤素、羟基、硫醇、硝基、氰基、腈、异腈、亚磺酰基、巯基、磺基、羧基、肼基；经取代的或未经取代的：芳基、环烷基、环烯基、杂环基、杂芳基、烷基、烯基、炔基、氨基、单烷基氨基、二烷基氨基、单芳基氨基、二芳基氨基、烷氧基、芳氧基、卤代烷基、芳烷基、酯、烷氧基羰基、酰氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、磺酰基氨基、氨磺酰基、氨基甲酰基、烷硫基、脲基、磷酰胺、硅烷基、聚合物；或其任何缀合物或组合；
R2在化合价允许的情况下以多个取代基的形式存在；
其中存在两个相邻的取代基R2，与基团R2结合的基团Y4a、Y4b、Y4c或Y4d各自为C，并且所述两个相邻的基团R2由式A表示：
其中*表示通式I的键；
X表示单键、O、S、Se、P＝O、As＝O、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、
NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7，或X不存在，其中当X不存在时，L4与包括Z2的环之间不存在键；
X1表示单键、O、S、Se、P＝O、As＝O、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、
NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7；
R7和R8的每次出现独立地不存在或在化合价允许的情况下以单个取代基或多个取代基的形式存在，并且R7和R8中的每一个独立地表示氢、氘、卤素、羟基、硫醇、硝基、氰基、腈、异腈、亚磺酰基、巯基、磺基、羧基、肼基；经取代的或未经取代的：芳基、环烷基、环烯基、杂环基、杂芳基、烷基、烯基、炔基、氨基、单烷基氨基、二烷基氨基、单芳基氨基、二芳基氨基、烷氧基、芳氧基、卤代烷基、芳烷基、酯、烷氧基羰基、酰氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、磺酰基氨基、氨磺酰基、氨基甲酰基、烷硫基、脲基、磷酰胺、硅烷基、聚合物；或其任何缀合物或组合；或R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8中的任何两个表示共价键；
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、X和X1中的任何两个可一起形成稠环；
A、B、C和D各自独立地表示C、N、O或S；
Y1和Y2各自独立地表示氢、氘、卤素、羟基、硫醇、硝基、氰基、腈、异腈、亚磺酰基、巯基、磺基、羧基、肼基；经取代的或未经取代的：芳基、环烷基、环烯基、杂环基、杂芳基、烷基、烯基、炔基、氨基、单烷基氨基、二烷基氨基、单芳基氨基、二芳基氨基、烷氧基、芳氧基、卤代烷基、芳烷基、酯、烷氧基羰基、酰氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、磺酰基氨基、氨磺酰基、氨基甲酰基、烷硫基、脲基、磷酰胺、硅烷基、聚合物；或其任何缀合物或组合；其中Y1和Y2可任选地一起形成稠合的芳香族环或杂芳香族环；
Y3a、Y3b、Y4a、Y4b、Y4c、Y4d、Y4e、Y4f、Y4g、Y4h各自独立地表示C或N；
Z1、Z2、Z3和Z4各自独立地表示C或N；
L4、L5和L6各自独立地表示5元到10元芳基、杂芳基、稠合芳基或稠合杂芳基；
L5存在或不存在；
V1和V2独立地存在或不存在；其中V1和V2中的每一个如果存在的话，则独立地表示共价键、O、S、Se、P＝O、As＝O、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、
NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、
AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7；其中当V1不存在时，那么L4不与L5结合；并且
当V2不存在时，那么L6不与L5结合；
V3存在或不存在，其中V3如果存在的话，则表示共价键、C、N、Si、O、S、Ge、P、As、Se、B、Al或Bi，或者如果化合价允许，则各自独立地表示CR7、SiR7、
GeR7、NR7、P＝O、As＝O、B、BR7、AlR7、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、
NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、
AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7；其中当V3不存在时，那么Y2a直接与Y2b结合；并且
在化合价允许的情况下，每个n独立地为整数。
2.根据权利要求1所述的化合物，其中两个另外的相邻基团R2一起由式B表示：
其中X2表示单键、O、S、Se、P＝O、As＝O、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、
NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、
AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7；
Y5a、Y5b、Y5c、Y5d各自独立地表示C或N；
R9表示氢、氘、卤素、羟基、硫醇、硝基、氰基、腈、异腈、亚磺酰基、巯基、磺基、羧基、肼基；经取代的或未经取代的：芳基、环烷基、环烯基、杂环基、杂芳基、烷基、烯基、炔基、氨基、单烷基氨基、二烷基氨基、单芳基氨基、二芳基氨基、烷氧基、芳氧基、卤代烷基、芳烷基、酯、烷氧基羰基、酰氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、磺酰基氨基、氨磺酰基、氨基甲酰基、烷硫基、脲基、磷酰胺、硅烷基、聚合物；或其任何缀合物或组合；或R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8中的任何两个表示共价键；并且
在化合价允许的情况下，每个n独立地为整数。
3.根据权利要求1所述的化合物，其中所述化合物由通式II、通式III、通式IV、通式V、通式VI或通式VII表示：
其中：
Y1a、Y1b、Y1c、Y1d、Y2a、Y2b、Y3a、Y3b、Y4a、Y4b、Y4c、Y4d、Y4e、Y4f、Y4g和Y4h各自独立地表示C或N；
Z1、Z2、Z3和Z4各自独立地表示C或N；
C和D各自独立地表示C、N、O或S；
X表示单键、O、S、Se、P＝O、As＝O、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、
NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7，或X不存在，其中当X不存在时，L4与包括Z2的环之间不存在键；
X1表示单键、O、S、Se、P＝O、As＝O、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、
NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7；
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8中的每一个独立地不存在或在化合价允许的情况下以单个取代基或多个取代基的形式存在，并且R1、R3、R4、R5、R6和R7中的每一个独立地表示氘、卤素、羟基、硫醇、硝基、氰基、腈、异腈、亚磺酰基、巯基、磺基、羧基、肼基；经取代的或未经取代的：芳基、环烷基、环烯基、杂环基、杂芳基、烷基、烯基、炔基、氨基、单烷基氨基、二烷基氨基、单芳基氨基、二芳基氨基、烷氧基、芳氧基、卤代烷基、芳烷基、酯、烷氧基羰基、酰氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、磺酰基氨基、氨磺酰基、氨基甲酰基、烷硫基、脲基、磷酰胺、硅烷基、聚合物；或其任何缀合物或组合；或R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8中的任何两个表示共价键；
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、X和X1中的任何两个可一起形成稠环；
L4、L5和L6各自独立地表示5元到10元芳基、杂芳基、稠合芳基或稠合杂芳基；
L5存在或不存在；
V1和V2独立地存在或不存在；其中V1和V2中的每一个如果存在的话，则独立地表示共价键、O、S、Se、P＝O、As＝O、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7；其中当V1不存在时，那么L4不与L5结合；并且
当V2不存在时，那么L6不与L5结合；
V3存在或不存在，其中V3如果存在的话，则表示共价键、C、N、Si、O、S、Ge、P、As、Se、B、Al或Bi，或者如果化合价允许，则各自独立地表示CR7、SiR7、
GeR7、NR7、P＝O、As＝O、B、BR7、AlR7、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、
NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、
AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7；其中当V3不存在时，那么Y2a直接与Y2b结合；并且
在化合价允许的情况下，每个n独立地为整数。
4.根据权利要求1所述的化合物，其中所述化合物由通式VIII、通式IX、通式X、通式XI、通式XII或通式XIII表示：
其中：
Y2a、Y2b、Y3a、Y3b、Y4a、Y4b、Y4c、Y4d、Y4e、Y4f、Y4g和Y4h各自独立地表示C或N；
Z1、Z2、Z3和Z4各自独立地表示C或N；
A、B、C和D各自独立地表示C、N、O或S；
X表示单键、O、S、Se、P＝O、As＝O、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、
NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7，或X不存在，其中当X不存在时，L4与包括Z2的环之间不存在键；
X1表示单键、O、S、Se、P＝O、As＝O、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、
NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7；
Y1和Y2各自独立地表示氢、氘、卤素、羟基、硫醇、硝基、氰基、腈、异腈、亚磺酰基、巯基、磺基、羧基、肼基；经取代的或未经取代的：芳基、环烷基、环烯基、杂环基、杂芳基、烷基、烯基、炔基、氨基、单烷基氨基、二烷基氨基、单芳基氨基、二芳基氨基、烷氧基、芳氧基、卤代烷基、芳烷基、酯、烷氧基羰基、酰氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、磺酰基氨基、氨磺酰基、氨基甲酰基、烷硫基、脲基、磷酰胺、硅烷基、聚合物；或其任何缀合物或组合；其中Y1和Y2可任选地一起形成稠合的芳香族环或杂芳香族环；
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8中的每一个独立地不存在或在化合价允许的情况下以单个取代基或多个取代基的形式存在，并且R1、R3、R4、R5、R6、R7和R8中的每一个独立地表示氘、卤素、羟基、硫醇、硝基、氰基、腈、异腈、亚磺酰基、巯基、磺基、羧基、肼基；经取代的或未经取代的：芳基、环烷基、环烯基、杂环基、杂芳基、烷基、烯基、炔基、氨基、单烷基氨基、二烷基氨基、单芳基氨基、二芳基氨基、烷氧基、芳氧基、卤代烷基、芳烷基、酯、烷氧基羰基、酰氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、磺酰基氨基、氨磺酰基、氨基甲酰基、烷硫基、脲基、磷酰胺、硅烷基、聚合物；或其任何缀合物或组合；或R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8中的任何两个表示共价键；
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、X和X1中的任何两个可一起形成稠环；
L4、L5和L6各自独立地表示5元到10元芳基、杂芳基、稠合芳基或稠合杂芳基；
L5存在或不存在；
V1和V2独立地存在或不存在；其中V1和V2中的每一个如果存在的话，则独立地表示共价键、O、S、Se、P＝O、As＝O、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、
NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、
AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7；其中当V1不存在时，那么L4不与L5结合；并且
当V2不存在时，那么L6不与L5结合；
V3存在或不存在，其中V3如果存在的话，则表示共价键、C、N、Si、O、S、Ge、P、As、Se、B、Al或Bi，或者如果化合价允许，则各自独立地表示CR7、SiR7、
GeR7、NR7、P＝O、As＝O、B、BR7、AlR7、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、
NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、
AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7；其中当V3不存在时，那么Y2a直接与Y2b结合；并且
在化合价允许的情况下，每个n独立地为整数。
5.根据权利要求2所述的化合物，其中所述化合物由通式XIV、通式XV、通式XVI或通式XVII表示：
其中：
Y1a、Y1b、Y1c、Y1d、Y2a、Y2b、Y3a、Y3b、Y4e、Y4f、Y4g、Y4h、Y5a、Y5b、Y5c和Y5d各自独立地表示C或N；
Z1、Z2、Z3和Z4各自独立地表示C或N；
C和D各自独立地表示C、N、O或S；
X表示单键、O、S、Se、P＝O、As＝O、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、
NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7，或X不存在，其中当X不存在时，L4与包括Z2的环之间不存在键；
X1和X2各自独立地表示单键、O、S、Se、P＝O、As＝O、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7；
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9和R10中的每一个独立地不存在或在化合价允许的情况下以单个取代基或多个取代基的形式存在，并且R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9和R10中的每一个独立地表示氢、氘、卤素、羟基、硫醇、硝基、氰基、腈、异腈、亚磺酰基、巯基、磺基、羧基、肼基；经取代的或未经取代的：芳基、环烷基、环烯基、杂环基、杂芳基、烷基、烯基、炔基、氨基、单烷基氨基、二烷基氨基、单芳基氨基、二芳基氨基、烷氧基、芳氧基、卤代烷基、芳烷基、酯、烷氧基羰基、酰氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、磺酰基氨基、氨磺酰基、氨基甲酰基、烷硫基、脲基、磷酰胺、硅烷基、聚合物；或其任何缀合物或组合；或R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9和R10中的任何两个表示共价键；
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、X、X1和X2中的任何两个可一起形成稠环；
L4、L5和L6各自独立地表示5元到10元芳基、杂芳基、稠合芳基或稠合杂芳基；
L5存在或不存在；
V1和V2独立地存在或不存在；其中V1和V2中的每一个如果存在的话，则独立地表示共价键、O、S、Se、P＝O、As＝O、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、
NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、
AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7；其中当V1不存在时，那么L4不与L5结合；并且
当V2不存在时，那么L6不与L5结合；
V3存在或不存在，其中V3如果存在的话，则表示共价键、C、N、Si、O、S、Ge、P、As、Se、B、Al或Bi，或者如果化合价允许，则各自独立地表示CR7、SiR7、
GeR7、NR7、P＝O、As＝O、B、BR7、AlR7、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、
NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、
AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7；其中当V3不存在时，那么Y2a直接与Y2b结合；并且
在化合价允许的情况下，每个n独立地为整数。
6.根据权利要求2所述的化合物，其中所述化合物由通式XVIII、通式XIX、通式XX或通式XXI表示：
其中：
Y2a、Y2b、Y3a、Y3b、Y4e、Y4f、Y4g、Y4h、Y5a、Y5b、Y5c和Y5d各自独立地表示C或N；
Z1、Z2、Z3和Z4各自独立地表示C或N；
A、B、C和D各自独立地表示C、N、O或S；
X表示单键、O、S、Se、P＝O、As＝O、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、
NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7，或X不存在，其中当X不存在时，L4与包括Z2的环之间不存在键；
X1和X2各自独立地表示单键、O、S、Se、P＝O、As＝O、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7；
Y1和Y2各自独立地表示氢、氘、卤素、羟基、硫醇、硝基、氰基、腈、异腈、亚磺酰基、巯基、磺基、羧基、肼基；经取代的或未经取代的：芳基、环烷基、环烯基、杂环基、杂芳基、烷基、烯基、炔基、氨基、单烷基氨基、二烷基氨基、单芳基氨基、二芳基氨基、烷氧基、芳氧基、卤代烷基、芳烷基、酯、烷氧基羰基、酰氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、磺酰基氨基、氨磺酰基、氨基甲酰基、烷硫基、脲基、磷酰胺、硅烷基、聚合物；或其任何缀合物或组合；其中Y1和Y2可任选地一起形成稠合的芳香族环或杂芳香族环；
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8和R9中的每一个独立地不存在或在化合价允许的情况下以单个取代基或多个取代基的形式存在，并且R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8和R9中的每一个独立地表示氢、氘、卤素、羟基、硫醇、硝基、氰基、腈、异腈、亚磺酰基、巯基、磺基、羧基、肼基；经取代的或未经取代的：芳基、环烷基、环烯基、杂环基、杂芳基、烷基、烯基、炔基、氨基、单烷基氨基、二烷基氨基、单芳基氨基、二芳基氨基、烷氧基、芳氧基、卤代烷基、芳烷基、酯、烷氧基羰基、酰氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、磺酰基氨基、氨磺酰基、氨基甲酰基、烷硫基、脲基、磷酰胺、硅烷基、聚合物；或其任何缀合物或组合；或R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8和R9中的任何两个表示共价键；
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、X、X1和X2中的任何两个可一起形成稠环；
L4、L5和L6各自独立地表示5元到10元芳基、杂芳基、稠合芳基或稠合杂芳基；
L5存在或不存在；
V1和V2独立地存在或不存在；其中V1和V2中的每一个如果存在的话，则独立地表示共价键、O、S、Se、P＝O、As＝O、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、
NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、
AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7；其中当V1不存在时，那么L4不与L5结合；并且
当V2不存在时，那么L6不与L5结合；
V3存在或不存在，其中V3如果存在的话，则表示共价键、C、N、Si、O、S、Ge、P、As、Se、B、Al或Bi，或者如果化合价允许，则各自独立地表示CR7、SiR7、
GeR7、NR7、P＝O、As＝O、B、BR7、AlR7、Bi＝O、CR7R8、C＝O、SiR7R8、GeR7R8、
NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、SeO2、BR7、BR7R8、
AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7；其中当V3不存在时，那么Y2a直接与Y2b结合；并且
在化合价允许的情况下，每个n独立地为整数。
7.根据权利要求1所述的化合物，其中
由以下结构之一表示：
其中：
M表示Pt(II)或Pd(II)；
Y1a、Y1b、Y1c、Y1d、Y3a、Y3b、Y4e、Y4f、Y4g、Y4h、Y5a、Y5b、Y5c和Y5d各自独立地表示C或N；
X1和X2各自独立地表示单键、O、S、Se、P＝O、As＝O、Bi＝O、CR7R8、C＝O、
SiR7R8、GeR7R8、NR7、PR7、PR7R8、R7P＝O、AsR7、R7As＝O、S＝O、SO2、Se＝O、
SeO2、BR7、BR7R8、AlR7、AlR7R8、R7Bi＝O或BiR7；
R1、R6、R7、R8、R9和R10中的每一个独立地不存在或在化合价允许的情况下以单个取代基或多个取代基的形式存在，并且R1、R6、R9和R10中的每一个独立地表示氢、氘、卤素、羟基、硫醇、硝基、氰基、腈、异腈、亚磺酰基、巯基、磺基、羧基、肼基；经取代的或未经取代的：芳基、环烷基、环烯基、杂环基、杂芳基、烷基、烯基、炔基、氨基、单烷基氨基、二烷基氨基、单芳基氨基、二芳基氨基、烷氧基、芳氧基、卤代烷基、芳烷基、酯、烷氧基羰基、酰氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、磺酰基氨基、氨磺酰基、氨基甲酰基、烷硫基、脲基、磷酰胺、硅烷基、聚合物；或其任何缀合物或组合；或R1、R6、R9和R10中的任何两个表示共价键；
R1、R6、R9和R10中的任何两个可一起形成稠环；
在化合价允许的情况下，每个n独立地为整数。
8.根据权利要求1所述的化合物，其中
由以下结构之一表示：
其中：
Y1a、Y1b、Y1c、Y1d、Y2a、Y2b、Y2c、Y2d、Y3a、Y3b和Y3c各自独立地表示C或N；
R1、R2、R3、R4、R5中的每一个独立地不存在或在化合价允许的情况下以单个取代基或多个取代基的形式存在，并且R1、R3、R4、R5、R6和R7中的每一个独立地表示氘、卤素、羟基、硫醇、硝基、氰基、腈、异腈、亚磺酰基、巯基、磺基、羧基、肼基；经取代的或未经取代的：芳基、环烷基、环烯基、杂环基、杂芳基、烷基、烯基、炔基、氨基、单烷基氨基、二烷基氨基、单芳基氨基、二芳基氨基、烷氧基、芳氧基、卤代烷基、芳烷基、酯、烷氧基羰基、酰氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、磺酰基氨基、氨磺酰基、氨基甲酰基、烷硫基、脲基、磷酰胺、硅烷基、聚合物；或其任何缀合物或组合。
9.根据权利要求1所述的化合物，其中
由以下结构之一表示：
其中：
Y1a、Y1b、Y1c、Y1d、Y1e、Y1f和Y1g各自独立地表示C或N；
R1和R2中的每一个独立地不存在或在化合价允许的情况下以单个取代基或多个取代基的形式存在，并且R1和R2中的每一个独立地表示氘、卤素、羟基、硫醇、硝基、氰基、腈、异腈、亚磺酰基、巯基、磺基、羧基、肼基；经取代的或未经取代的：芳基、环烷基、环烯基、杂环基、杂芳基、烷基、烯基、炔基、氨基、单烷基氨基、二烷基氨基、单芳基氨基、二芳基氨基、烷氧基、芳氧基、卤代烷基、芳烷基、酯、烷氧基羰基、酰氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、磺酰基氨基、氨磺酰基、氨基甲酰基、烷硫基、脲基、磷酰胺、硅烷基、聚合物；或其任何缀合物或组合；并且R1和R2中的任何两个可一起接合以形成环；
Y1、Y2、Y3和Y4中的每一个独立地不存在或存在，并且Y1、Y2、Y3和Y4中的每一个独立地表示氢、氘、卤素、羟基、硫醇、硝基、氰基、腈、异腈、亚磺酰基、巯基、磺基、羧基、肼基；经取代的或未经取代的：芳基、环烷基、环烯基、杂环基、杂芳基、烷基、烯基、炔基、氨基、单烷基氨基、二烷基氨基、单芳基氨基、二芳基氨基、烷氧基、芳氧基、卤代烷基、芳烷基、酯、烷氧基羰基、酰氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、磺酰基氨基、氨磺酰基、氨基甲酰基、烷硫基、脲基、磷酰胺、硅烷基、聚合物；或其任何缀合物或组合；并且
Y1、Y2、Y3和Y4中的任何两个可一起接合以形成环。
10.根据权利要求1所述的化合物，其中所述化合物选自以下结构：
11.一种有机发光二极管，其包括根据权利要求1所述的化合物。
12.一种有机发光二极管，其包括根据权利要求3所述的化合物。
13.一种有机发光二极管，其包括根据权利要求4所述的化合物。
14.一种有机发光二极管，其包括根据权利要求5所述的化合物。
15.一种有机发光二极管，其包括根据权利要求6所述的化合物。
16.一种发光装置，其包括根据权利要求11所述的发光二极管。
17.一种发光装置，其包括根据权利要求12所述的发光二极管。
18.一种发光装置，其包括根据权利要求13所述的发光二极管。
19.一种发光装置，其包括根据权利要求14所述的发光二极管。
20.一种发光装置，其包括根据权利要求15所述的发光二极管。
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