CN111315672B - 用于介质处理装置的输出仓 - Google Patents

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Abstract

一种示例性公开的输出仓包括空腔，其从介质处理装置的输出接收介质单元，空腔造成介质单元在第一方向上形成堆叠；第一门，其能够在闭合位置和打开位置之间枢转运动，在位于闭合位置时，第一门将介质单元保持在空腔内；第二门，其能够在闭合位置和打开位置之间运动，在位于闭合位置时，第二门将介质单元保持在空腔内；其中第一门被构造成在大致平行于第一方向的第一轴线上枢转；并且第二门被构造成在大致平行于第一方向的第二轴线上枢转。

Description

用于介质处理装置的输出仓
技术领域
本申请涉及用于介质处理装置的输出仓。
背景技术
一些介质处理装置被构造成处理诸如身份卡片(例如驾驶证或员工卡)的介质单元。如本文使用，术语“介质单元”指的是离散介质单元。虽然本文公开的一些例子使用术语“卡片”来描述，卡片是介质单元的示例性类型，并且本文公开的示例性方法和设备适用于任何适当类型的介质单元。
介质处理装置例如通过将标记打印到介质单元的一个或多个表面和/或对介质单元编码有机器可读数据来处理介质。在介质单元处理之后，介质处理装置以如下方式分配介质单元，使得处理后的介质单元可以被用户接近。例如，介质处理装置将介质单元分配到被构造成接收和保持多个介质单元的空腔。空腔通过称为输出仓的结构限定。
发明内容
根据本申请的一个方面，提供一种输出仓，包括空腔，所述空腔从介质处理装置的输出接收介质单元，空腔造成介质单元在第一方向上形成堆叠；第一门，所述第一门能够在闭合位置和打开位置之间枢转运动，在位于闭合位置时，第一门将介质单元保持在空腔内；第二门，所述第二门能够在闭合位置和打开位置之间运动，在位于闭合位置时，第二门将介质单元保持在空腔内；其中：第一门被构造成在大致平行于第一方向的第一轴线上枢转；第二门被构造成在大致平行于第一方向的第二轴线上枢转；第一门朝着闭合位置偏置；以及第二门朝着闭合位置偏置。
在一个实施方案中，其中，第一方向延伸远离输出仓的底表面。
在一个实施方案中，其中，空腔被构造成使得介质单元静置在底表面上。
在一个实施方案中，其中，输出仓的底表面包括被构造成在底表面和介质单元中的最底部一个的表面之间提供空间。
在一个实施方案中，其中：
第一门枢转地安装在输出仓的第一侧上；以及
第二门枢转地安装在输出仓的第二侧上，第一侧与第二侧相对。
在一个实施方案中，其中：
第一门在第一转动方向上从闭合位置枢转到打开位置；以及
第二门在与第一转动方向相反的第二转动方向上从闭合位置枢转到打开位置。
在一个实施方案中，其中，在第一门和第二门位于闭合位置时，第一门的第一保持部分与第二门的第二保持部分间隔开第一距离。
在一个实施方案中，其中，在第一门和第二门位于打开位置时，第一保持部分与第二保持部分间隔开大于第一距离的第二距离。
在一个实施方案中，其中，第一介质保持部分被构造成在位于闭合位置时接合介质单元的次边缘。
在一个实施方案中，其中：
第一门包括位于第一门的第一顶边缘处的第一切口；
第二门包括位于第二门的第二顶边缘处的第二切口；以及
第一切口和第二切口允许介质单元在超过空腔容量时溢出第一顶边缘和第二顶边缘。
在一个实施方案中，其中，第一轴线与介质单元之一的表面限定的介质单元平面交叉。
根据本申请的另一个方面，还提供一种介质处理装置，包括：介质单元输送组件，所述介质单元输送组件被构造成将处理后的介质单元引导到介质单元输出；以及输出仓，所述输出仓接收处理后的介质单元，输出仓包括：第一门，所述第一门枢转地安装到介质处理装置的壳体，第一门包括第一保持部分；第二门，所述第二门枢转地安装到介质处理装置的壳体，第二门包括第二保持部分，其中：在第一门和第二门位于闭合位置时，第一保持部分与第二保持部分间隔开第一距离；以及在第一门和第二门位于打开位置时，第一保持部分与第二保持部分间隔开大于第一距离的第二距离；第一门朝着闭合位置偏置；以及第二门朝着闭合位置偏置。
在一个实施方案中，其中：
第一距离小于处理后的介质单元的边缘的长度；以及
第二距离大于处理后的介质单元的边缘的长度。
在一个实施方案中，还包括在介质单元上产生标记的打印头。
在一个实施方案中，其中，第一门围绕第一轴线在第一转动方向上运动到打开位置。
在一个实施方案中，其中，第一轴线大致平行于介质单元在输出仓的空腔内堆叠的方向。
在一个实施方案中，其中，第一轴线与处理后的介质单元的表面限定的介质单元平面交叉。
在一个实施方案中，其中，输出仓被构造成允许处理后的介质单元在超过输出仓的容量时离开输出仓。
附图说明
图1示出具有根据本公开的教导构造的输出仓的示例性介质处理装置。
图2示出通过图1的示例性介质处理装置处理的示例性介质单元。
图3示出图1的示例性介质处理装置的横截面视图。
图4是输出仓的前视图。
图5示出位于闭合位置的输出仓。
图6示出位于打开位置的输出仓。
图7示出从输出仓移除介质单元堆叠的示例性方法。
图8示出从输出仓移除介质单元的示例性方法。
图9示出从输出仓移除介质单元的另一示例性方法。
图10示出介质单元的溢流。
具体实施方式
图1示出根据本公开教导构造的示例性介质处理装置100。示例性介质处理装置100被构造成处理诸如卡片(例如身份卡片)的介质单元。通过示例性介质处理装置100处理的示例性介质单元200在图2中示出。示例性介质单元200包括第一次边缘202、第二次边缘204和第一主边缘206和第二主边缘208。次边缘202和204的长度短于主边缘206和 208。示例性介质单元200包括第一表面210和与第一表面相对的第二表面(图2中未示出)。示例性介质单元200在第一表面210和第二表面之间具有厚度。在所示例子中，第一表面210限定本文称为“介质单元平面”的平面。虽然第一表面210用来在本文中称为“介质单元平面”，第二表面可以用来称为“介质单元平面”。从第一表面210延伸的示例性中线212在图2中示出。换言之，图2的示例性中线212远离介质单元平面垂直地延伸。随着介质单元彼此叠置，堆叠沿着示例性中线212 形成。
回来参考图1，介质处理装置100包括通过多个面板限定的壳体 104。介质处理装置100在输入仓中储存未处理介质单元的供应。在此例子中，输入仓是定位在壳体104内的用户可接近空腔。图1的输入仓可从介质处理单元100的外部经由输入仓门108由用户接近。介质单元的供应通过打开输入仓门108并将介质单元插入暴露空腔来放置在输入仓内。图1的示例性介质处理装置100包括用于将单个介质单元插入输入仓的辅助输入狭槽112。
图1的介质处理装置100使介质单元从输入仓运动到处理元件，其通过例如在介质单元的一个或多个表面上产生标记来处理介质单元。介质单元的处理将在下面结合图3详细描述。施加到介质单元的标记来源于支承在壳体104内的匣盒(例如带盒)。匣盒可以经由匣盒接近门124 从介质处理装置100外部接近。
在一些例子中，在出现与介质单元和/或其处理相关的问题时，介质被弹出。在此例子中，弹出的介质单元被安排到临近匣盒接近门124的内表面的弹出区域。弹出区域在下面结合图3详细描述。
如果介质单元没有问题地处理，介质处理装置100将介质单元分配到处理后的介质输出。在此例子中，处理后的介质输出是输出仓116，其使得用户可以经由输出开口120接近处理后的介质单元。图1的示例性输出仓116(下面详细描述)根据本公开的教导构造。注意到，与处理后的介质(即没有弹出的卡片)的输出仓116与临近匣盒接近门124 的内表面的弹出区域分开。
转向图3，描述图1的示例性介质处理装置100的横截面视图。如图3所示，介质处理装置100在壳体104内包括未处理介质输入，为输入仓300的形式。输入仓300被构造成储存以堆叠304为形式的多个介质单元200，诸如身份卡片。图3的输入仓300可储存具有多种厚度的介质单元。在所示例子中，输入仓300加载具有大约0.2mm和大约1mm 之间厚度的介质单元200。通常，在给定时间，介质单元在输入仓300 的整个供应具有相同厚度。但是，在一些例子中，介质处理装置100还被构造成处理具有不同厚度的介质单元。
拾取辊308布置在输入仓300的出口312处并被构造成将单个介质单元200从输入仓300分配到被构造成沿着介质处理路径316引导介质单元200的介质输送组件。介质处理装置100还包括位于狭槽112处的输入辊320，其被构造成将馈送到狭槽112内的单个介质单元200驱动到输入仓内已经存在的堆叠304(如果有的话)下方。馈送到狭槽112 内的单个介质单元200介质从输入仓300分配，以便沿着介质处理路径 316行进。换言之，介质处理装置100被构造成处理从输入仓300内的堆叠304取出的介质单元200以及经由输入狭槽112接收的单个馈送介质单元200。
输入仓300还容纳布置在介质单元堆叠304上方的偏置组件324。拾取辊308通过摩擦接合底部介质单元200来从堆叠304分配底部介质单元200。如果在拾取辊308上不足的力通过底部介质单元200施加，拾取辊308和介质单元200之间的摩擦接合会太弱，而使拾取辊308不能分配介质单元200。在输入仓300充满时，介质单元堆叠304的重量会单独施加足够的力以便在底部介质单元200和拾取辊308之间接合。偏置组件324被构造成随着堆叠304的尺寸减小而将逐渐变大的力施加到堆叠304的顶部，因此在底部介质单元200保持大致恒定的力。偏置组件324在当前例子中是朝着打开位置偏置的Sarrus连杆，在打开位置，偏置组件324通过诸如螺旋弹簧组合的一个或多个偏置元件在介质单元堆叠304施加力(连杆在图3中示出位于闭合或缩回位置)。
介质输送组件包括多个辊和引导表面。介质处理路径316如图3所示从输入仓300延伸到处理头328，诸如打印头，其被构造成通过将墨从墨带转移到介质单元200来有助于标记在介质单元200上产生。在此例子中，介质处理装置100是热转移打印机，并且打印头328从可移除地支承在壳体104内的匣盒332的墨带供应。壳体104包括允许接近匣盒332的开口(图3未示出)。所述匣盒接近门124具有用于堵住开口以防止接近匣盒332的闭合位置(图3所示)和允许匣盒332放置到介质处理装置100和从中移除的打开位置。
在打印操作期间，墨带(未示出)从匣盒332的供应辊336行进到打印头328，并且接着到匣盒332的拾取辊340。随着墨带和介质单元 200经过打印头328，墨带接触介质单元200。为了产生所示标记，打印头328的某些元件(例如打印头点)根据机器可读指令(例如打印线数据或位图)被选择性激励(例如加热)。在激励时，打印头328的元件将能量(例如热量)施加到墨带，以便将墨转移到接着单元200的特定部分。
在一些例子中，介质单元200的处理包括在集成电路中编码数据，诸如嵌入介质单元200内的射频识别(RFID)标签、磁条或其组合。编码可出现在所述打印头328的位置，或者位于沿着介质处理路径316的打印头328的上游或下游的不同的二次处理元件处。
已经经过打印头328，介质单元200被输送到介质单元转向器344，其能够被控制以便通过接收介质单元200、转动大约180度并排出介质单元200来颠倒或翻转介质单元200。在所示例子中，转向器344被构造成在通过单个来源(诸如马达)供应的动能下进行所述功能(接收、翻转和排出介质单元304)。
因此，介质输送组件被构造成沿着介质处理路径316(双线所示) 的至少一部分在两个相反方向上操作。特别是，介质处理路径316在返回方向(与如上所述从输入仓300到打印头328和转向器344的向外方向相反)上从转向器344到打印头328。由于介质单元200在转向器344 处翻转，在打印头328的返回路径上，与打印头328的向外路径相反，介质单元200的相对侧暴露于打印头328。换言之，介质处理装置100 能够在介质单元200沿着介质处理路径316的剩余部分输送到示出仓 116之前将标记施加到介质单元20的两侧。
在进入转向器344之前，介质单元200通过所述输送组件驱动辊346 和347输送，以经过一个或多个对准组件。对准组件的至少一个被构造成在介质单元200进入转向器344之前将介质单元200与沿着介质处理路径316的行进方向对准。在一些例子中，对准组件被构造成随着介质单元200在返回方向上离开转向器344从介质处理路径316缩回。
沿着介质处理路径316行进的介质单元304可以替代地从介质处理路径316转向到辅助处理路径348，还称为介质弹出路径。在所示例子中，转向器344能够响应于打印头328处施加的不对准标记、介质单元 20内嵌入的电路中失效数据写入操作或其他缺陷的检测来控制，以便从图3的静置位置转动到处于180度之外的角度的弹出位置。在转动到弹出位置之后，转向器344被构造成将沿着弹出路径348输送的介质单元 200排出到限定用于弹出介质单元的存储区域的介质单元保持器350。
如上所述，在介质单元200被适当处理(即，未被弹出)时，介质单元200在朝着示出仓116的返回方向上沿着介质处理路径316继续。图3示出在多个介质单元进入示出仓116时形成在示出仓116内的介质单元堆叠。
图4是输出仓116的前视图。输出仓116包括限定被构造成在特定取向上接收介质单元200的空腔400的表面。在所示例子中，空腔400 通过后表面402、第一侧表面404和第二侧表面406(图5)、底表面408 和第一门410和第二门412限定。介质单元200的第一次边缘202在第二次边缘204之前进入输出仓116。即，介质单元200落入空腔400内，其中第一次边缘202在第二次边缘204之前。因此，在介质单元200落入空腔400内时，介质单元的第一次边缘202临近第一门410和第二门 412定位(例如邻接)，并且第二次边缘204临近后表面402定位，第一主边缘206临近第一侧表面404定位，并且第二主边缘208临近第二侧表面406定位。换言之，在介质单元200静置在空腔400内时，第二次边缘204沿着后表面402从第一侧表面404延伸到第二侧表面406。另外，在介质单元200静置在空腔内时，第一主边缘206和第二主边缘 208分别沿着第一侧表面404和第二侧表面406从后表面402分别朝着第一门410和第二门412延伸。
在所示例子中，底表面408的前部在远离后表面402的方向上向下倾斜。另外，前表面408包括凹部(例如碗形表面)414，以使用户将例如手指或拇指放置在空腔400内的最底部介质单元下方，以移除介质单元。介质单元的移除和凹部414将在下面进一步详细说明。
随着介质单元304落入输出仓116，介质单元的堆叠在垂直于介质单元平面的方向上形成。即，堆叠在对应于从以上结合图2描述的第一表面210延伸的中线212的方向上形成。换言之，介质单元在空腔400 内的堆叠在远离底表面408并朝着输出仓116的天花板的方向上形成。
如图4所示，第一门410和第二门412位于闭合位置。在闭合位置，第一门410和第二门412保持定位在空腔400内的介质单元。特别是，第一门410包括第一保持部分416，并且第二门412包括第二保持部分 418。每个保持部分416和418包括被构造成在门410和412位于闭合位置时接合定位在空腔400内的介质单元200的第一次边缘202的一部分的面。通道或空间将第一门410的第一保持部分416与第二门412的第二保持部分418分开。由于通道，第一次边缘202的中间部分不通过第一保持部分416和第二保持部分418接合。即，定位在空腔400内的介质单元的一部分能够甚至在第一门410和第二门412位于闭合位置时通过通道被用户接近。在第一门410和第二门412位于闭合位置时，其之间的通道小于介质单元200的第一次边缘22的长度，并因此介质单元 200通过第一门410和第二门412的第一保持部分416和第二保持部分 418保持在空腔400内。
第一门410包括位于顶边缘处的第一切口420，并且第二门412包括位于顶边缘处的第二切口422。第一切口420和第二切口422分别在保持部分416和418的最上部边缘和空腔400的顶部之间提供空间。如下面结合图9所述，通过第一切口420和第二切口422提供的空间提供使一个或多个介质单元200从空腔400移除的方法。即，用户可在空腔 400内向上滑动介质单元，直到达到通过切口420和422形成的空间，并且接着将介质单元拉出空腔400，而不运动第一切口420和第二门 412。此外，如下面结合图10进一步描述，第一切口420和第二切口422 允许介质单元在超出输出仓116的容量的情况下溢出空腔400，由此防止例如介质处理装置100的卡住。
图5示出第一转动方向500，在该方向上，第一门410从闭合位置运动到打开位置。另外，图5示出第二转动方向502，在该方向上，第二门412从闭合位置运动到打开位置。第一门410枢转地安装到壳体104 的第一侧，并且第二门412枢转地安装到壳体104的第二侧。在所示例子中，每个第一门410和第二门412沿着壳体104的第一侧和第二侧的多个位置安装。第一门410和第二门412的安装在下面结合图6进一步描述。
为了在第一转动方向500上运动第一门410，用户在第一门410上施加力。为了在第二转动方502上转动第二门412，用户在第二门412 上施加力。注意到，第一门410独立于第二门412运动，并且反之亦然。例如，第一门410可以在第一转动方向500上枢转，而第二门412保持不动。另外，第二门12可以在第二转动方向502上枢转，而第一门410 保持不动。另外，第一门410和第二门412可以都同时运动。
在所示例子中，第一门410和第二门412被偏置到闭合位置，并且因此，运动第一门410和第二门412所需施加的力足够大，以克服第一门410和第二门412的偏置。力可以直接施加(例如，经由手指接触第一门410)。另外或替代地，力可以例如通过拉动定位在空腔400内的一个或多个介质单元来间接施加，由此造成一个或多个介质单元迫使第一门410在第一转动方向500上运动，并迫使第二门412在第二转动方向502上运动。
如图5所示，第一门410在第一转动方向500上围绕第一轴线枢转，并且第二门412在第二转动方向502上围绕第二轴线枢转。注意到，第一门410和第二门412绕其枢转的第一轴线和第二轴线大致平行于介质单元在空腔400内堆叠的方向。换言之，第一门和第二门分别绕其枢转的第一轴线和第二轴线大致平行于图2的示例性中线212。换言之，第一门410和第二门412分别绕其枢转的相关第一轴线和第二轴线大致对准介质单元在空腔400内堆叠的方向。换言之，第一轴线和第二轴线在相应介质单元定位在空腔400内时与介质单元平面交叉。
图6示出位于打开位置的第一门410和第二门412。随着第一门410 在第一转动方向500上运动(图5)和/或第二门412在第二转动方向502 上运动(图5)，第一门410和第二门412之间的通道的尺寸增加。即，第一保持部分416和第二保持部分418之间的空间随着第一门410和第二门412之一或两者运动到打开位置而增加。第一门410和第二门412 被构造成通过在第一转动方向500和第二转动方向502上枢转将通道增大到足够大以允许定位在空腔400内的介质单元经过通道离开示出仓 116的尺寸。介质单元从空腔的示例性移除在下面结合图7-9描述。
在造成第一门410和第二门412运动到打开位置的力被移除(或减小到不能克服到闭合位置的偏置的程度)时，第一门410和第二门412 由于第一门410和第二门412偏置到闭合位置而返回到闭合位置。为了返回到闭合位置，第一门410和第二门412在与第二转动方向502相反的第四转动方向602上运动。
如图6所示，第二门412通过第一安装臂604、第二安装臂606和第三安装臂608枢转地安装到壳体104。在所示例子中，第一臂604和第三臂608联接到壳体104的安装元件(例如，由于通过臂上的开口接收的壳体104的柱)。在所示例子中，第二臂606是将第二门412偏置到闭合位置的偏置元件。在所示例子中，第二臂606是抵抗框架作用以将门412闭合的柔曲梁。可以使用任何适当类型的偏置元件将第二门412 偏置到闭合位置。虽然在图6中未示出，第一门410枢转地安装到壳体 104，并以与第二门412类似的方式偏置到闭合位置。
图7-9示出可以从输出仓116移除的介质单元的示例性方法。在图 7中，介质单元的堆叠(例如图3的堆叠304)已经形成在空腔400内。堆叠304在图7中通过例如抓握堆叠304的顶部和堆叠34的底部并在远离输出仓116的后表面的离开方向700上拉动来移除。为了抓握堆叠 304，用户经由底表面408内的凹部414接近最底部介质单元的表面。凹部414形成底表面408的前部，并且通过相对于底表面408的后部下降来提供间隙。随着用户在离开方向700上拉动堆叠304，堆叠304通过在第一保持部分416和第二保持部分418上施加力来迫使第一门410和第二门412打开到打开位置。在堆叠304移除(即，第二次表面204在离开方向700行进经过第一保持部分416和第二保持部分418)时，第一门410和第二门412返回到闭合位置。
在图8中，单个介质单元200以与图7的堆叠304类似的方式从空腔400移除。单个介质单元200通过用户抓握并在离开方向700上拉动，使得第一门410和第二门412被迫从闭合位置运动到打开位置。在介质单元200离开第一保持部分416和第二保持部分418时，第一门410和第二门412返回到闭合位置。
在图9中，不是在单个介质单元200拉动以迫使第一门410和第二门412打开，介质单元200在向上方向900上提升，直到介质单元位于第一切口420和第二切口422之上。一旦介质单元200位于第一切口420 和第二切口422之上，介质单元200远离空腔400拉动到第一门410和第二门412之上。
图10示出示例性介质处理装置100的示例性溢流保护特征。如果空腔400内的堆叠304变得过大，包括第一切口420和第二切口422的第一门410和第二门412被构造成允许分配到输出仓116内的介质单元 200溢出第一门410和第二门412。不是完全封装，空腔400经由第一切口420和第二切口422设置出口，如果在指令介质处理100处理超过输出仓116的容量的一个或多个介质单元之前，例如用户不能清空输出仓 116，使得介质单元可溢出输出仓116。通过溢出输出仓116，介质单元例如不卡住介质处理装置100。
在以上说明书中，描述了特定实施方式。但是，本领域的普通技术人员理解到可以进行多种变型和改变，而不偏离下面权利要求中提出的本发明的范围。因此，说明书和附图被认为是示例性的，而没有限制含有，并且所有这些变型旨在包括在本发明教导的范围内。
此外，在本文中，诸如第一和第二、顶部和底部和类似用语的相对术语可以单独使用，以区分一个实体或动作与另一实体或动作，而不必须要求或暗示这些实体或动作之间的任何实际相对关系或顺序。术语“包括”、“包含”、“具有”、“有”、“含有”或其任何其他变型旨在覆盖非排他含有，使得包括、具有、包括、含有一系列元件的过程、方法、物品或设备不唯一地包括这些元件，而是可以包括没有明确列举或这些过程、方法、物品或设备所固有的其他元件。元件之前的“包括一个”、“具有一个”、“包括一个”、“含有一个”不(没有更多限制) 排除包括、具有、包含这些元件的过程、方法、物品或设备中附加相同元件的存在。术语“一个”和“一种”限定为一个或多个，除非本文另外明确说明。术语“大致”、“基本上”、“大约”或任何其他形式如本领域普通技术人员所理解那样限定为接近，并且在一种非限定性实施方式中，术语限定为在10％内，在另一实施方式中，在5％内，在另一实施方式中，在1％内，并且在另一实施方式中，在0.5％内。
将理解到一些实施方式可包括一个或多个通用或专用处理器(或“处理装置”)，诸如微型处理器、数字信号处理器、定制处理器和场编程门阵列(FPGA)和独特存储程序指令(包括软件和固件两者)，其控制一个或多个处理器与一些非处理器电路相结合执行本文描述的方法和/或设备的一些、大多数或所有的功能。替代地，一些或所有功能可以通过没有存储程序指令的状态机或一个或多个特定应用集成电路 (ASIC)执行，其中每种功能或某些功能的组合作为定制逻辑执行。当然，可以使用两种方法的组合。

Claims (18)

1.一种输出仓，包括：
空腔，所述空腔从介质处理装置的输出接收介质单元，空腔造成介质单元在第一方向上形成堆叠；
第一门，所述第一门能够在闭合位置和打开位置之间枢转运动，在位于闭合位置时，第一门将介质单元保持在空腔内；
第二门，所述第二门能够在闭合位置和打开位置之间运动，在位于闭合位置时，第二门将介质单元保持在空腔内；其中：
第一门被构造成在大致平行于第一方向的第一轴线上枢转；
第二门被构造成在大致平行于第一方向的第二轴线上枢转；
第一门朝着闭合位置偏置；以及
第二门朝着闭合位置偏置。
2.根据权利要求1所述的输出仓，其中，第一方向延伸远离输出仓的底表面。
3.根据权利要求2所述的输出仓，其中，空腔被构造成使得介质单元静置在底表面上。
4.根据权利要求2所述的输出仓，其中，输出仓的底表面包括被构造成在底表面和介质单元中的最底部一个的表面之间提供空间。
5.根据权利要求1所述的输出仓，其中：
第一门枢转地安装在输出仓的第一侧上；以及
第二门枢转地安装在输出仓的第二侧上，第一侧与第二侧相对。
6.根据权利要求1所述的输出仓，其中：
第一门在第一转动方向上从闭合位置枢转到打开位置；以及
第二门在与第一转动方向相反的第二转动方向上从闭合位置枢转到打开位置。
7.根据权利要求1所述的输出仓，其中，在第一门和第二门位于闭合位置时，第一门的第一保持部分与第二门的第二保持部分间隔开第一距离。
8.根据权利要求7所述的输出仓，其中，在第一门和第二门位于打开位置时，第一保持部分与第二保持部分间隔开大于第一距离的第二距离。
9.根据权利要求7所述的输出仓，其中，第一介质保持部分被构造成在位于闭合位置时接合介质单元的次边缘。
10.根据权利要求1所述的输出仓，其中：
第一门包括位于第一门的第一顶边缘处的第一切口；
第二门包括位于第二门的第二顶边缘处的第二切口；以及
第一切口和第二切口允许介质单元在超过空腔容量时溢出第一顶边缘和第二顶边缘。
11.根据权利要求1所述的输出仓，其中，第一轴线与介质单元之一的表面限定的介质单元平面交叉。
12.一种介质处理装置，包括：
介质单元输送组件，所述介质单元输送组件被构造成将处理后的介质单元引导到介质单元输出；以及
输出仓，所述输出仓接收处理后的介质单元，输出仓包括：
第一门，所述第一门枢转地安装到介质处理装置的壳体，第一门包括第一保持部分；
第二门，所述第二门枢转地安装到介质处理装置的壳体，第二门包括第二保持部分，其中：
在第一门和第二门位于闭合位置时，第一保持部分与第二保持部分间隔开第一距离；以及
在第一门和第二门位于打开位置时，第一保持部分与第二保持部分间隔开大于第一距离的第二距离；
第一门朝着闭合位置偏置；以及
第二门朝着闭合位置偏置。
13.根据权利要求12所述的介质处理装置，其中：
第一距离小于处理后的介质单元的边缘的长度；以及
第二距离大于处理后的介质单元的边缘的长度。
14.根据权利要求12所述的介质处理装置，还包括在介质单元上产生标记的打印头。
15.根据权利要求12所述的介质处理装置，其中，第一门围绕第一轴线在第一转动方向上运动到打开位置。
16.根据权利要求15所述的介质处理装置，其中，第一轴线大致平行于介质单元在输出仓的空腔内堆叠的方向。
17.根据权利要求15所述的介质处理装置，其中，第一轴线与处理后的介质单元的表面限定的介质单元平面交叉。
18.根据权利要求12所述的介质处理装置，其中，输出仓被构造成允许处理后的介质单元在超过输出仓的容量时离开输出仓。
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